JPWO2015163365A1 - ブレード複合型開放流路装置およびその接合体 - Google Patents
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Abstract
Description
図4は、図1のブレード複合型開放流路装置1において、ブレード3の長さを変化させた際の水の上昇速度の指標D(mm2/s)および流路の表面積(cm2)を示したグラフである。本試験例において、ブレード3の幅は2μmであり、流路6の幅は25μmである。図4に示すように、ブレード3の長さが50μm以下の範囲においては、ブレード3の長さが長くなるにつれて流体4である水との接触表面積が大きくなるため、駆動力が増大し、それに従って速度の増加が認められた。なお、流路の幅を50μmとした開放流路装置においても、上記と同様の傾向が確認されている。
図6は、図5のブレード複合型開放流路装置1において、ブレード3の配列パターンを周期的にずらした変形例における水の上昇速度の指標D(mm2/s)および流路の表面積(cm2)を示したグラフである。
図5に示すブレード複合型開放流路装置1において、ブレード3の長さを50μm、ブレード3の幅を2μm、ブレード3の間隔5を10μm、流路6の幅を20μmとし、ずれパラメータλ=1およびλ=2のブレード複合型開放流路装置を作製した。このブレード複合型開放流路装置を用いて、基板を水の液面に対して垂直に着水させ、流路を移動する水の鉛直方向と水平方向の輸送速度を比較した。その結果、鉛直方向への水の輸送については、λ=2の配列が優位であり、水平方向については、λ=1の配列が優位であることが確認された。これより、ブレード3の配列によって、流体4の輸送方向を制御することができることがわかった。また、λ=2の場合には、水平方向への水の輸送においては、その配列パターンに伴って、毛細管現象の効果が十分に得られない場合があることが示唆された。
ブレードの長さ:25μm
ブレードの幅:2μm
ブレードの立設高さ:30μm
ブレードの間隔:50μm
流路の幅:50μm
ずれパラメータλ=5。
図8は、λ=1の配列(Sample 1)およびλ=2の配列(Sample 2)としたこと以外は図7に示した微小流路装置と同様の構成を有する微小流路装置を用いて、水の輸送挙動を観察した結果を示す写真である。各々の基板およびブレードの表面は、真空紫外線照射によって酸化処理(親水性処理)されている。図8に示すように、フナムシの脚部を模倣した突起構造を有する本実施形態に係る微小流路装置を用いることにより、流体の輸送が可能であることがわかる。
上記試験例4で用いたλ=1の配列を有する微小流路装置を用いて、水、ヘキサデカンおよびシリコンオイルの輸送挙動を分析した。シリコンウェハー基板およびブレード(SU−8)の表面を、無処理、親水性処理または疎水性処理によって均質に処理して、表面の化学的特性と流体挙動との関係性を分析した。
上記試験例4で用いたλ=1の配列を有する微小流路装置を用いて、シリコンウェハー基板およびブレード(SU−8)の表面を、エキシマ照射による親水性処理、およびTEMSもしくはFASを用いた化学蒸着(CVD)による疎水性処理を1サイクルとして、合計3サイクル繰り返し行い、各々の表面改質処理後の流体の輸送性を分析した。
上記試験例4で用いたλ=1の配列を有する微小流路装置において、シリコンウェハー基板およびブレード(SU−8)の表面を、以下の(A)〜(C)に示す方法を用いて部分的に処理して、流体の輸送挙動を解析した。結果を図9に示す。
上記試験例4で用いた微小流路装置と同様にして、エポキシ系レジスト材料(SU−8)を用いて、フォトリソグラフィによって、25mm×10mmのシリコンウェハー上に、複数のブレードが配設された微小流路装置を作製した。本試験例では、ブレードの長さ、流路の幅、ずれパラメータ(λ)を様々に変化させて、ブレードの数やサイズ、およびブレードの配列と、水およびシリコンオイルの輸送挙動との関係性を分析した。結果を図10に示す。
次に、上記試験例4で用いたλ=1およびλ=2の配列を有する微小流路装置を用いて、水の輸送に関して、上昇する水の上端部分に位置する気液固の三相が接する線(Three phase Contact Line:TCL)の様子を解析した。結果を図11に示す。
式1において、D(mm2/s)は実験から求めた上昇速度の指標、DBおよびDSはそれぞれ、DB=γ(l+w)h2/ηLW、DS=γ(l+w)w/ηLであり、DBは基板底面から流体に働く抵抗力と駆動力との競合から理論的に求めた上昇速度の指標、DSはブレード側面から流体に働く抵抗力と駆動力との競合から理論的に求めた上昇速度の指標である。ここで、γ(N/m)は流体4の表面張力、η(kg/m・s)は流体4の粘性を表している。α1はDBにつく数値係数、β1はDSにつく数値係数である。また、φはl/Lすなわち流体4の流れの上流側から下流側への方向に見たブレード3の割合を、(1−φ)はブレード3のない部分の割合を表している(図16(a)参照)。
2 基板
3 ブレード
3a 第1のブレード
3b 第2のブレード
4 流体
5 間隔
6、6a、6b 流路
7 最外部
8 中央部
9 境界部
10 流体循環システム
11 水(流体)
12 容器
13 滴下手段
14 微小流路装置
15 蒸発促進部
Claims (10)
- 複数の流路が隣接する流体流路装置であって、流路の底部を構成する基板と、
基板の表面に立設されて流路の側壁を構成する複数のブレードとを有し、
前記複数のブレードは、前記流体の流れの上流側から下流側への方向に間隔をあけて複数立設され、この間隔において隣接する流路間の流体の導通が可能にされており、
流路の一端が流体に接することで、流体の流れが可能とされている
ことを特徴とするブレード複合型開放流路装置。 - 前記流体の流れが、重力が関与しない水平方向の流れもしくは重力に反する方向の流れであることを特徴とする請求項1に記載のブレード複合型開放流路装置。
- 前記ブレードの流体の流れの上流側から下流側への方向における間隔が、微小な流路装置においては、0.1μmから100μmの範囲内であることを特徴とする請求項1または2に記載のブレード複合型開放流路装置。
- 前記複数のブレードが、第1ブレードと、第1ブレードよりも流体の流れの上流側から下流側への方向の長さの長い第2ブレードとの複合構造であることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のブレード複合型開放流路装置。
- 前記第1ブレードを複数の流路の最外部に配置し、前記第2ブレードを第1ブレードによって囲まれた中央部に設けられていることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のブレード複合型開放流路装置。
- 請求項5に記載のブレード複合型開放流路装置において、一定間隔ごとに第1ブレードを中央部に配置した境界部が設けられていることを特徴とするブレード複合型開放流路装置。
- 前記第1ブレードと第2ブレードの流体の流れの上流側から下流側への方向の長さが、微小な流路装置においては、10μmから100μmの範囲内であることを特徴とする請求項4から6のいずれか一項に記載のブレード複合型開放流路装置。
- 前記複数のブレードの形成方法が、フォトリソグラフィであることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載のブレード複合型開放流路装置。
- 前記基板やブレードの表面が親水性または疎水性処理されていることを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載のブレード複合型開放流路装置。
- 請求項1から9のいずれか一項に記載のブレード複合型開放流路装置を単位ブロックとして、複数の前記単位ブロックを接合させていることを特徴とするブレード複合型開放流路装置接合体。
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