JPWO2014192950A1 - 縮合フルオランテン化合物、これを含む有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、並びにこれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]少なくとも1つの下記一般式(1)で表される構造を有する、縮合フルオランテン化合物。
[3]陰極と陽極との間に、少なくとも発光層を含む一層又は複数層からなる有機薄膜層が挟持されている有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機薄膜層の少なくとも1層が、上記[1]に記載の縮合フルオランテン化合物を含有する、有機エレクトロルミネッセンス素子。
[4]上記[3]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える、電子機器。
また、「置換もしくは無置換の原子数XX〜YYのZZ基」という表現における「原子数XX〜YY」は、ZZ基が無置換である場合の原子数を表すものであり、置換されている場合の置換基の原子数は含めない。
なお、「YY」は「XX」よりも大きく、「XX」と「YY」はそれぞれ1以上の整数を意味する。
また、隣接する置換基同士で環を形成する場合は、一方の置換基の炭素数がXX〜YYの範囲内で最小となる箇所で当該環を切り離して、他方の置換基の炭素数もXX〜YYの範囲内となる構造が含まれる。
また、本明細書中において、「ヘテロアリール基」、「ヘテロアリーレン基」、「複素環基」、「芳香族複素環」、及び「縮合芳香族複素環基」は、環形成原子として、少なくとも1つのヘテロ原子を含む基であり、該へテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子及びセレン原子から選ばれる1種以上であることが好ましい。
さらに、本明細書において、「窒素含有複素環基」は、環形成原子として、少なくとも1つの窒素原子を含む基である。
なお、当該置換カルバゾリル基は、任意の置換基同士が互いに結合して縮環してもよく、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子及びセレン原子等のヘテロ原子を含んでもよく、また、結合位置は1位〜9位のいずれであってもよい。このような置換カルバゾリル基の具体例として、例えば、下記に示す基が挙げられる。
なお、当該置換ジベンゾフラニル基及び置換ジベンゾチオフェニル基は、任意の置換基同士が互いに結合して縮環してもよく、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子及びセレン原子等のヘテロ原子を含んでもよく、また、結合位置は1位〜8位のいずれであってもよい。
このような置換ジベンゾフラニル基及び置換ジベンゾチオフェニル基の具体例として、例えば、下記に示す基が挙げられる。
これらの置換基は、さらに上述の任意の置換基により置換されていてもよい。また、これらの置換基は、複数の置換基が互いに結合して環を形成していてもよい。
さらに、「置換もしくは無置換」との記載における「無置換」とは、これらの置換基で置換されておらず、水素原子が結合していることを意味する。
なお、後述の一般式(1)〜(24)中のR1〜R15およびR20〜R23として選択され得る置換基については、後述の(A)群、(B)群、及び(C)群から選択される基がより好ましい。
本発明の一実施態様の縮合フルオランテン化合物は、少なくとも1つの下記一般式(1)で表される構造を有する。
R1b〜R6b、R9b〜R15bは、それぞれ独立に、水素原子、置換基、又は*b1、*b2との結合手を示し、R1b〜R6b、R9b〜R15bのうち隣接する2つは、互いに結合して飽和または不飽和の環構造を形成してもよい。
Lbは、単結合または、2価の連結基を示す。]
Lbで表される2価の連結基の具体例としては、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリーレン基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜60のヘテロアリーレン基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキレン基等が挙げられる。
R1d〜R6d、R9d〜R15dは、それぞれ独立に、水素原子、置換基、又は*dとの結合手を示し、R1d〜R6d、R9d〜R15dのうち隣接する2つは、互いに結合して飽和または不飽和の環構造を形成してもよい。
Ldは、3価の有機基を示す。]
Ldで表される3価の連結基の具体例としては、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60の芳香族炭化水素環から水素原子を3つ取り除いた3価の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜60の芳香族複素環から水素原子を3つ取り除いた3価の芳香族複素環基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキリジン基等が挙げられる。
「R1d〜R6d、R9d〜R15dのうち隣接する2つ」の具体的な組み合わせとしては、例えば、R1dとR2d、R2dとR3d、R3dとR4d、R4dとR5d、R5dとR6d、R9dとR10d、R10dとR1d、R11dとR12d、R12dとR13d、R13dとR14d、およびR11dとR15d等が挙げられる。
R1c〜R6c、R9c〜R15cは、それぞれ独立に、水素原子、置換基又は*cとの結合手を示し、R1c〜R6c、R9c〜R15cのうち隣接する2つは、互いに結合して飽和または不飽和の環構造を形成してもよい。
Ycは、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のp価の芳香族炭化水素基、または、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜60のp価の複素環基を示す。
Lcは、単結合、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリーレン基、置換もしくは無置換の環形成原子数3〜60のヘテロアリーレン基、または、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキレン基を示す。
pは、1〜6の整数を示す。]
「R1c〜R6c、R9c〜R15cのうち隣接する2つ」の具体的な組み合わせとしては、例えば、R1cとR2c、R2cとR3c、R3cとR4c、R4cとR5c、R5cとR6c、R9cとR10c、R10cとR1c、R11cとR12c、R12cとR13c、R13cとR14c、およびR11cとR15c等が挙げられる。
なお、「R1〜R6およびR9〜R15から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせとしては、例えば、R1とR2、R2とR3、R3とR4、R4とR5、R5とR6、R9とR10、R10とR1、R11とR12、R12とR13、R13とR14、およびR11とR15等が挙げられる。これらの2つの基は、互いに結合して飽和または不飽和の環構造を形成してもよいが、当該環構造を複数形成してもよい。
なお、「R1〜R6およびR9〜R15から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせ等の説明は、上述の一般式(3)、(4)での説明と同じである。
なお、「R1〜R6およびR9〜R14から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせとしては、例えば、R1とR2、R2とR3、R3とR4、R4とR5、R5とR6、R9とR10、R10とR1、R11とR12、R12とR13、およびR13とR14等が挙げられる。これらの2つの基は、互いに結合して飽和または不飽和の環構造を形成してもよいが、当該環構造を複数形成してもよい。
なお、「R1〜R6およびR9〜R14から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせ等の説明は、上述の一般式(7)、(8)での説明と同じである。
「R1〜R6およびR9〜R14から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせ等の説明は、上述の一般式(7)、(8)での説明と同じである。
また、「R17〜R19から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせとしては、例えば、X4がC(R19)である場合のR19とR17もしくはR19とR18、X5がC(R19)である場合のR19とR17、X6がC(R19)である場合のR19とR18等が挙げられる。これらの2つの基は、互いに結合して飽和または不飽和の環構造を形成してもよいが、当該環構造を複数形成してもよい。
なお、一般式(11)、(12)において、R17及びR18は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、または置換もしくは無置換の環形成原子数5〜30の含窒素複素環基であることが好ましい。
「R1〜R6およびR9〜R14から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせ等の説明は、上述の一般式(7)、(8)での説明と同じであり、「R17〜R19から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせ等の説明は、上述の一般式(11)、(12)での説明と同じである。
なお、一般式(13)、(14)において、R17及びR18は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、または置換もしくは無置換の環形成原子数5〜30の含窒素複素環基であることが好ましい。
「R1〜R6およびR9〜R14から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせ等の説明は、上述の一般式(7)、(8)での説明と同じである。
また、「R17〜R19から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせとしては、例えば、X4がC(R19)である場合のR19とR17もしくはR19とR18等が挙げられる。これらの2つの基は、互いに結合して飽和または不飽和の環構造を形成してもよいが、当該環構造を複数形成してもよい。
なお、一般式(15)、(16)において、R17及びR18は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、または置換もしくは無置換の環形成原子数5〜30の含窒素複素環基であることが好ましい。
「R1〜R6、R9〜R14、およびR20〜R23から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせとしては、例えば、R1とR2、R2とR3、R3とR4、R4とR5、R5とR6、R9とR10、R10とR1、R11とR12、R12とR13、R13とR14、R20とR21、R21とR22、およびR22とR23等が挙げられる。これらの2つの基は、互いに結合して飽和または不飽和の環構造を形成してもよいが、当該環構造を複数形成してもよい。
なお、一般式(17)、(18)において、R17は、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、または置換もしくは無置換の環形成原子数5〜30の含窒素複素環基であることが好ましい。
「R1〜R6およびR9〜R14から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせ等の説明は、上述の一般式(7)、(8)での説明と同じであり、「R17〜R19から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせ等の説明は、上述の一般式(15)、(16)での説明と同じである。
なお、一般式(19)、(20)において、R17及びR18は、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、または置換もしくは無置換の環形成原子数5〜30の含窒素複素環基であることが好ましい。
なお、「R1〜R6、R9〜R14、およびR20〜R23から選ばれる隣接する2つ」の具体的な組み合わせ等の説明は、上述の一般式(17)、(18)での説明と同じである。
また、一般式(21)、(22)において、R17は、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、または置換もしくは無置換の環形成原子数5〜30の含窒素複素環基であることが好ましい。
当該ヘテロアリール基としては、例えば、ピロリル基、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピラゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、ベンゾフラニル基、イソベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、イソベンゾチオフェニル基、インドリジニル基、キノリジニル基、キノリル基、イソキノリル基、シンノリル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズオキサゾリル基、ベンズチアゾリル基、インダゾリル基、ベンズイソキサゾリル基、ベンズイソチアゾリル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチオフェニル基、カルバゾリル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェノチアジニル基、フェノキサジニル基、アザトリフェニレニル基、ジアザトリフェニレニル基、キサンテニル基、アザカルバゾリル基、アザジベンゾフラニル基、アザジベンゾチオフェニル基、ベンゾフラノベンゾチオフェニル基、ベンゾチエノベンゾチオフェニル基、ジベンゾフラノナフチル基、ジベンゾチエノナフチル基、及びジナフトチエノチオフェニル基などが挙げられる。
Yは、それぞれ独立に、単結合、C(R101)(R102)、酸素原子、硫黄原子又はN(R103)を表し、
R101、R102及びR103は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表わし、mは、それぞれ独立に、0または1を表す。]
上記式中における置換基としては、上述のものと同様のものが挙げられる。
また、前記一般式(1)〜(24)における、R1〜R23から選ばれる隣接する2つが互いに結合して形成する不飽和の環としては、それぞれ、環形成炭素数6〜50(好ましくは6〜24、より好ましくは6〜18)の芳香族炭化水素環、又は環形成原子数5〜50(好ましくは5〜24、より好ましくは5〜13)の芳香族複素環が好ましい。
なお、前記一般式(1)における、R1〜R15のうち隣接する置換基同士が互いに結合して環を形成する場合には、本発明の一実施態様の縮合フルオランテン化合物は、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリーレン基、又は置換もしくは無置換の環形成原子数5〜60のヘテロアリーレン基を有していてもよい。
置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリーレン基としては、上記アリール基として挙げられる基から水素原子を1つ除いてなるものが挙げられる。
置換もしくは無置換の環形成原子数5〜60のヘテロアリーレン基としては、上記へテロアリール基として挙げられる基から水素原子を1つ除いてなるものが挙げられる。
縮合フルオランテン化合物が、アリール基(アリーレン基)又はヘテロアリール基(ヘテロアリーレン基)を有することにより、有機EL素子用材料として用いた場合に、該材料を含む有機薄膜の膜質が良好となるなどの効果を奏する。
R15が上記一般式(I)で表される基である化合物としては、上記一般式(7)又は(8)で表される縮合フルオランテン化合物が挙げられる。
R15が上記一般式(II)で表される基である化合物としては、上記一般式(9)又は(10)で表される縮合フルオランテン化合物が挙げられる。
なお、上記一般式(II)において、R16は、下記一般式(III)で表される基が好ましい。このような基を有する化合物としては、上記一般式(13)又は(14)で表される縮合フルオランテン化合物が挙げられる。
なお、上記一般式(III)において、X4がC(R19)であり、X5及びX6が窒素原子である基が好ましく、このような基を有する化合物として、上記一般式(15)又は(16)、及び上記一般式(19)又は(20)で表される縮合フルオランテン化合物が挙げられる。
R1Aは、それぞれ独立に、水素原子、又はAr1との結合手を表す。
Ar1は、それぞれ独立に、又は置換基を表し、好ましくは置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリール基、又は置換もしくは無置換の環形成原子数5〜60のヘテロアリール基である。nは、0〜5の整数を表す。*は結合位置を示す。]
R1Aは、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基を表す。
Ar2及びAr3は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、好ましくは置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリール基、又は置換もしくは無置換の環形成原子数5〜60のヘテロアリール基である。*は結合位置を示す。]
本発明の一実施態様の有機EL素子用材料は、上記縮合フルオランテン化合物を含む。本発明の一実施態様の有機EL素子用材料における縮合フルオランテン化合物の含有量は、特に制限されず、例えば、1質量%以上であればよく、10質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。
本発明の一実施態様の有機EL素子用材料は、有機EL素子における材料として有用であり、例えば、蛍光発光ユニットの発光層におけるホスト材料及びドーパント材料や、燐光発光ユニットの発光層におけるホスト材料として用いることができる。また、蛍光発光ユニット及び燐光発光ユニットのいずれにおいても、有機EL素子の陽極と発光層との間に設けられる陽極側有機薄膜層や、有機EL素子の陰極と発光層との間に設けられる陰極側有機薄膜層の材料、すなわち、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層、正孔阻止層、電子阻止層等の材料としても有用である。
ここで、「発光ユニット」とは、一層以上の有機層を含み、そのうちの一層が発光層であり、注入された正孔と電子が再結合することにより発光することができる最小単位をいう。
次に、本発明の一実施態様の有機EL素子について説明する。
本発明の一実施態様の有機EL素子は、陰極と陽極の間に発光層を含有する有機薄膜層を有し、この有機薄膜層のうちの少なくとも1層が、前述した本発明の一実施態様の化合物を含む。
前述の本発明の一実施態様の化合物が含まれる有機薄膜層の例としては、陽極と発光層との間に設けられる陽極側有機薄膜層(正孔輸送層、正孔注入層等)、発光層、陰極と発光層との間に設けられる陰極側有機薄膜層(電子輸送層、電子注入層等)、スペース層、障壁層等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
前述の本発明の一実施態様の化合物は、上記いずれの層に含まれていてもよく、例えば、蛍光発光ユニットの発光層におけるホスト材料やドーパント材料、燐光発光ユニットの発光層におけるホスト材料等として用いることが好ましい。また、発光ユニットの正孔輸送層や正孔注入層等の陽極側有機薄膜層、電子輸送層や電子注入層等の陰極側有機薄膜層に前述の本発明の一実施態様の化合物を含有してもよい。
(1)陽極/発光ユニット/陰極
また、上記発光ユニットは、燐光発光層や蛍光発光層を複数有する積層型であってもよく、その場合、各発光層の間に、燐光発光層で生成された励起子が蛍光発光層に拡散することを防ぐ目的で、スペース層を有していてもよい。発光ユニットの代表的な層構成を以下に示す。
(a)正孔輸送層/発光層(/電子輸送層)
(b)正孔輸送層/第一燐光発光層/第二燐光発光層(/電子輸送層)
(c)正孔輸送層/燐光発光層/スペース層/蛍光発光層(/電子輸送層)
(d)正孔輸送層/第一燐光発光層/第二燐光発光層/スペース層/蛍光発光層(/電子輸送層)
(e)正孔輸送層/第一燐光発光層/スペース層/第二燐光発光層/スペース層/蛍光発光層(/電子輸送層)
(f)正孔輸送層/燐光発光層/スペース層/第一蛍光発光層/第二蛍光発光層(/電子輸送層)
(g)正孔輸送層/電子障壁層/発光層(/電子輸送層)
(h)正孔輸送層/発光層/正孔障壁層(/電子輸送層)
(i)正孔輸送層/蛍光発光層/トリプレット障壁層(/電子輸送層)
なお、各発光層と正孔輸送層あるいはスペース層との間には、適宜、電子障壁層を設けてもよい。また、各発光層と電子輸送層との間には、適宜、正孔障壁層を設けてもよい。電子障壁層や正孔障壁層を設けることで、電子又は正孔を発光層内に閉じ込めて、発光層における電荷の再結合確率を高め、発光効率を向上させることができる。
(2)陽極/第一発光ユニット/中間層/第二発光ユニット/陰極
ここで、上記第一発光ユニット及び第二発光ユニットとしては、例えば、それぞれ独立に上述の発光ユニットと同様のものを選択することができる。
上記中間層は、一般的に、中間電極、中間導電層、電荷発生層、電子引抜層、接続層、中間絶縁層とも呼ばれ、第一発光ユニットに電子を、第二発光ユニットに正孔を供給する、公知の材料構成を用いることができる。
本発明の一実施態様の有機EL素子は、透光性基板上に作製する。透光性基板は有機EL素子を支持する基板であり、400nm〜700nmの可視領域の光の透過率が50%以上で平滑な基板が好ましい。具体的には、ガラス板、ポリマー板等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を原料として用いてなるものを挙げられる。またポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を原料として用いてなるものを挙げることができる。
有機EL素子の陽極は、正孔を正孔輸送層又は発光層に注入する役割を担うものであり、4.5eV以上の仕事関数を有するものを用いることが効果的である。陽極材料の具体例としては、酸化インジウム錫合金(ITO)、酸化錫(NESA)、酸化インジウム亜鉛酸化物、金、銀、白金、銅等が挙げられる。陽極はこれらの電極物質を蒸着法やスパッタリング法等の方法で薄膜を形成させることにより作製することができる。発光層からの発光を陽極から取り出す場合、陽極の可視領域の光の透過率を10%より大きくすることが好ましい。また、陽極のシート抵抗は、数百Ω/□以下が好ましい。陽極の膜厚は、材料にもよるが、通常10nm〜1μm、好ましくは10nm〜200nmの範囲で選択される。
陰極は電子注入層、電子輸送層又は発光層に電子を注入する役割を担うものであり、仕事関数の小さい材料により形成するのが好ましい。陰極材料は特に限定されないが、具体的にはインジウム、アルミニウム、マグネシウム、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、アルミニウム−リチウム合金、アルミニウム−スカンジウム−リチウム合金、マグネシウム−銀合金等が使用できる。陰極も、陽極と同様に、蒸着法やスパッタリング法等の方法で薄膜を形成させることにより作製することができる。また、必要に応じて、陰極側から発光を取り出してもよい。
発光機能を有する有機層であって、ドーピングシステムを採用する場合、ホスト材料とドーパント材料を含んでいる。このとき、ホスト材料は、主に電子と正孔の再結合を促し、励起子を発光層内に閉じ込める機能を有し、ドーパント材料は、再結合で得られた励起子を効率的に発光させる機能を有する。
燐光素子の場合、ホスト材料は主にドーパントで生成された励起子を発光層内に閉じ込める機能を有する。
また、量子収率の高いドーパント材料を二種類以上入れることによって、それぞれのドーパントが発光するダブルドーパントを採用してもよい。具体的には、ホスト、赤色ドーパント及び緑色ドーパントを共蒸着することによって、発光層を共通化して黄色発光を実現する態様が挙げられる。
発光層への正孔の注入し易さと電子の注入し易さは異なっていてもよく、また、発光層中での正孔と電子の移動度で表される正孔輸送能と電子輸送能が異なっていてもよい。
発光層は、分子堆積膜であることが好ましい。分子堆積膜とは、気相状態の材料化合物から沈着され形成された薄膜や、溶液状態又は液相状態の材料化合物から固体化され形成された膜のことであり、通常この分子堆積膜は、LB法により形成された薄膜(分子累積膜)とは凝集構造、高次構造の相違や、それに起因する機能的な相違により区分することができる。
本発明の一実施態様の有機EL素子用材料とそれ以外の化合物を同一の発光層内の燐光ホスト材料として併用してもよいし、複数の発光層がある場合には、そのうちの一つの発光層の燐光ホスト材料として本発明の一実施態様の有機EL素子用材料を用い、別の一つの発光層の燐光ホスト材料として本発明の一実施態様の有機EL素子用材料以外の化合物を用いてもよい。また、本発明の一実施態様の有機EL素子用材料は発光層以外の有機層にも使用しうるものであり、その場合には発光層の燐光ホストとして、本発明の一実施態様の有機EL素子用材料以外の化合物を用いてもよい。
R81〜R88は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜50のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルコキシ基、置換もしくは無置換の炭素数7〜50のアラルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50のアリールチオ基、置換もしくは無置換の炭素数2〜50のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のシリル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基又はヒドロキシル基である。)
上記環形成炭素数6〜50のアリール基としては、いずれも、環形成炭素数6〜40のアリール基が好ましく、環形成炭素数6〜30のアリール基がより好ましい。
上記環形成原子数5〜50のヘテロアリール基としては、いずれも、環形成原子数5〜40のヘテロアリール基が好ましく、環形成原子数5〜30のヘテロアリール基がより好ましい。
上記炭素数1〜50のアルキル基としては、炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、炭素数1〜10のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜5のアルキル基がさらに好ましい。
上記炭素数1〜50のアルコキシ基としては、炭素数1〜30のアルコキシ基が好ましく、炭素数1〜10のアルコキシ基がより好ましく、炭素数1〜5のアルコキシ基がさらに好ましい。
上記炭素数7〜50のアラルキル基としては、炭素数7〜30のアラルキル基が好ましく、炭素数7〜20のアラルキル基がより好ましい。
上記環形成炭素数6〜50のアリールオキシ基としては、環形成炭素数6〜40のアリールオキシ基が好ましく、環形成炭素数6〜30のアリールオキシ基がより好ましい。
上記環形成炭素数6〜50のアリールチオ基としては、環形成炭素数6〜40のアリールチオ基が好ましく、環形成炭素数6〜30のアリールチオ基がより好ましい。
上記炭素数2〜50のアルコキシカルボニル基としては、炭素数2〜30のアルコキシカルボニル基が好ましく、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基がより好ましく、炭素数2〜5のアルコキシカルボニル基がさらに好ましい。
上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
特に、Ar31及びAr32は、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50のアリール基であることが好ましい。
また、式(100)で表されるアントラセン誘導体としては、下記式(100−1)で表されるアントラセン誘導体が好ましい。
R81〜R88は、好ましいものも前記同様である。また、R89の好ましいものも、R81〜R88と同様である。aは1〜3の整数が好ましく、1又は2がより好ましい。
Ar33が表す環形成炭素数6〜50のアリール基としては、環形成炭素数6〜40のアリール基が好ましく、環形成炭素数6〜30のアリール基がより好ましく、環形成炭素数6〜20のアリール基がさらに好ましく、環形成炭素数6〜12のアリール基が特に好ましい。
アリールジアミン誘導体としては、より具体的には、下記式(101)で表されるアリールジアミン誘導体が好ましい。
L21は、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50のアリーレン基又は置換もしくは無置換の環形成原子数5〜50のヘテロアリーレン基を表す。)
上記環形成炭素数6〜50のアリール基としては、環形成炭素数6〜30のアリール基が好ましく、環形成炭素数6〜20のアリール基がより好ましく、環形成炭素数6〜12のアリール基がさらに好ましく、フェニル基、ナフチル基が特に好ましい。
上記環形成原子数5〜60のヘテロアリール基としては、環形成原子数5〜40のヘテロアリール基が好ましく、環形成原子数5〜30のヘテロアリール基がより好ましく、環形成原子数5〜20のヘテロアリール基がさらに好ましい。ヘテロアリール基としては、カルバゾリル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチオフェニル基などが挙げられ、ジベンゾフラニル基が好ましい。該ヘテロアリール基の好ましい置換基としては、環形成炭素数6〜30(好ましくは6〜20、より好ましくは6〜12)のアリール基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
上記環形成炭素数6〜50のアリーレン基としては、環形成炭素数6〜40のアリーレン基が好ましく、環形成炭素数6〜30のアリーレン基がより好ましく、環形成炭素数6〜20のアリーレン基がさらに好ましく、ピレニル基が特に好ましい。
また、ダブルドーパントとしてもよい。発光層において、量子収率の高いドーパント材料を2種類以上入れることによって、それぞれのドーパントが発光する。例えば、ホストと赤色ドーパント、緑色のドーパントを共蒸着することによって、黄色の発光層を実現することがある。
さらに、発光層の膜厚は、好ましくは5〜50nm、より好ましくは7〜50nm、最も好ましくは10〜50nmである。5nm未満では発光層形成が困難となり、色度の調整が困難となる恐れがあり、50nmを超えると駆動電圧が上昇する恐れがある。
本発明の一実施態様の有機EL素子は、陰極と発光ユニットとの界面領域に電子供与性ドーパントを有することも好ましい。このような構成によれば、有機EL素子における発光輝度の向上や長寿命化が図られる。ここで、電子供与性ドーパントとは、仕事関数3.8eV以下の金属を含有するものをいい、その具体例としては、アルカリ金属、アルカリ金属錯体、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属錯体、アルカリ土類金属化合物、希土類金属、希土類金属錯体、及び希土類金属化合物等から選ばれた少なくとも一種類が挙げられる。
本発明の一実施態様の有機EL素子における、主成分と電子供与性ドーパントの割合は、モル比で主成分:電子供与性ドーパント=5:1〜1:5であると好ましく、2:1〜1:2であるとさらに好ましい。
電子輸送層は、発光層と陰極との間に形成される有機層であって、電子を陰極から発光層へ輸送する機能を有する。電子輸送層が複数層で構成される場合、陰極に近い有機層を電子注入層と定義することがある。電子注入層は、陰極から電子を効率的に有機層ユニットに注入する機能を有する。本発明の一実施態様の有機EL素子用材料は、電子輸送層に含有される電子輸送材料として用いることもできる。
この含窒素環誘導体としては、例えば、下記式(A)で表される含窒素環金属キレート錯体が好ましい。
置換されていてもよいアミノ基の例としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基が挙げられる。
アルキルアミノ基及びアラルキルアミノ基は−NQ1Q2と表される。Q1及びQ2は、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアラルキル基を表す。Q1及びQ2の一方は水素原子又は重水素原子であってもよい。
アリールアミノ基は−NAr1Ar2と表され、Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、炭素数6〜50の非縮合芳香族炭化水素基または縮合芳香族炭化水素基を表す。Ar1及びAr2の一方は水素原子又は重水素原子であってもよい。
アルコキシカルボニル基は−COOY’と表され、Y’は炭素数1〜20のアルキル基を表す。
Mは、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)又はインジウム(In)であり、Inであると好ましい。
Lは、下記式(A’)又は(A”)で表される基である。
HAr−L1−Ar1−Ar2 (D1)
前記式(D1)中、HArは、置換もしくは無置換の炭素数3〜40の含窒素複素環基であり、L1は単結合、置換もしくは無置換の炭素数6〜40の芳香族炭化水素基又は縮合芳香族炭化水素基又は置換もしくは無置換の炭素数3〜40の芳香族複素環基又は縮合芳香族複素環基であり、Ar1は置換もしくは無置換の炭素数6〜40の2価の芳香族炭化水素基であり、Ar2は置換もしくは無置換の炭素数6〜40の芳香族炭化水素基又は縮合芳香族炭化水素基又は置換もしくは無置換の炭素数3〜40の芳香族複素環基又は縮合芳香族複素環基である。
R1及びR2は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜60のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のハロアルキル基又は置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基である。
nは、0〜5の整数であり、nが2以上の整数であるとき、複数のR1は互いに同一でも異なっていてもよい。また、隣接する2つのR1同士が互いに結合して、置換もしくは無置換の炭化水素環を形成していてもよい。
Ar1は、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50のアリール基又は置換もしくは無置換の環形成原子数5〜60のヘテロアリール基である。
Ar2は、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のハロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50のアリール基又は置換もしくは無置換の環形成原子数5〜60のヘテロアリール基である。
但し、Ar1、Ar2のいずれか一方は、置換もしくは無置換の環形成炭素数10〜50の縮合芳香族炭化水素環基又は置換もしくは無置換の環形成原子数9〜50の縮合芳香族複素環基である。
Ar3は、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50のアリーレン基又は置換もしくは無置換の環形成原子数5〜50のヘテロアリーレン基である。
L1、L2及びL3は、それぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50のアリーレン基、又は置換もしくは無置換の環形成原子数9〜50の2価の縮合芳香族複素環基である。)
環形成原子数5〜60のヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、シローリル基、ピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、べンゾフリル基、イミダゾリル基、ピリミジル基、カルバゾリル基、セレノフェニル基、オキサジアゾリル基、トリアゾリル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、キノキサリニル基、アクリジニル基、イミダゾ[1,2−a]ピリジニル基、イミダゾ[1,2−a]ピリミジニル基などが挙げられる。
炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基などが挙げられる。
炭素数1〜20のハロアルキル基としては、前記アルキル基の1又は2以上の水素原子をフッ素、塩素、ヨウ素および臭素から選ばれる少なくとも1のハロゲン原子で置換して得られる基が挙げられる。
炭素数1〜20のアルコキシ基としては、前記アルキル基をアルキル部位としては有する基が挙げられる。
環形成炭素数6〜50のアリーレン基としては、前記アリール基から水素原子1個を除去して得られる基が挙げられる。
環形成原子数9〜50の2価の縮合芳香族複素環基としては、前記ヘテロアリール基として記載した縮合芳香族複素環基から水素原子1個を除去して得られる基が挙げられる。
また、電子輸送層に隣接して設けることができる電子注入層の構成成分として、含窒素環誘導体の他に無機化合物として、絶縁体又は半導体を使用することが好ましい。電子注入層が絶縁体や半導体で構成されていれば、電流のリークを有効に防止して、電子注入性を向上させることができる。
発光層と陽極との間に形成される有機層であって、正孔を陽極から発光層へ輸送する機能を有する。正孔輸送層が複数層で構成される場合、陽極に近い有機層を正孔注入層と定義することがある。正孔注入層は、陽極から正孔を効率的に有機層ユニットに注入する機能を有する。本発明の一実施態様の有機EL素子用材料は、正孔輸送層に含有される正孔輸送材料として用いることもできる。
正孔輸送層を形成する他の材料としては、芳香族アミン化合物、例えば、下記式(H)で表される芳香族アミン誘導体が好適に用いられる。
また、前記式(H)において、Lは置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50の芳香族炭化水素基又は縮合芳香族炭化水素基、又は置換もしくは無置換の環形成原子数5〜50の芳香族複素環基又は縮合芳香族複素環基を表す。
正孔輸送層の膜厚は特に限定されないが、10〜200nmであるのが好ましい。
前記アクセプター材料としては下記式(K)で表される化合物が好ましい。
R27としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
アクセプター材料を含有する層の膜厚は特に限定されないが、5〜20nmであるのが好ましい。
上述の正孔輸送層や電子輸送層においては、特許第3695714号明細書に記載されているように、ドナー性材料のドーピング(n)やアクセプター性材料のドーピング(p)により、キャリア注入能を調整することができる。
nドーピングの代表例としては、電子輸送材料にLiやCs等の金属をドーピングする方法が挙げられ、pドーピングの代表例としては、正孔輸送材料にF4TCNQ(2,3,5,6-Tetrafluoro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane)等のアクセプター材料をドーピングする方法が挙げられる。
上記スペース層とは、例えば、蛍光発光層と燐光発光層とを積層する場合に、燐光発光層で生成する励起子を蛍光発光層に拡散させない、あるいは、キャリアバランスを調整する目的で、蛍光発光層と燐光発光層との間に設けられる層である。また、スペース層は、複数の燐光発光層の間に設けることもできる。
スペース層は発光層間に設けられるため、電子輸送性と正孔輸送性を兼ね備える材料であることが好ましい。また、隣接する燐光発光層内の三重項エネルギーの拡散を防ぐため、三重項エネルギーが2.6eV以上であることが好ましい。スペース層に用いられる材料としては、上述の正孔輸送層に用いられるものと同様のものが挙げられる。スペース層用の材料として、本発明の有一実施態様の機EL素子用材料を用いることもできる。
本発明の一実施態様の有機EL素子は、発光層に隣接する部分に、電子障壁層、正孔障壁層、トリプレット障壁層といった障壁層を有することが好ましい。ここで、電子障壁層とは、発光層から正孔輸送層へ電子が漏れることを防ぐ層であり、正孔障壁層とは、発光層から電子輸送層へ正孔が漏れることを防ぐ層である。正孔障壁層用の材料として、本発明の一実施態様の有機EL素子用材料を用いることもできる。
トリプレット障壁層は、発光層で生成する三重項励起子が、周辺の層へ拡散することを防止し、三重項励起子を発光層内に閉じ込めることによって三重項励起子の発光ドーパント以外の電子輸送層の分子上でのエネルギー失活を抑制する機能を有する。
トリプレット障壁層を設ける場合、燐光素子においては、発光層中の燐光発光性ドーパントの三重項エネルギーをET d、トリプレット障壁層として用いる化合物の三重項エネルギーをET TBとすると、ET d<ET TBのエネルギー大小関係であれば、エネルギー関係上、燐光発光性ドーパントの三重項励起子が閉じ込められ(他分子へ移動できなくなり)、該ドーパント上で発光する以外のエネルギー失活経路が断たれ、高効率に発光することができると推測される。ただし、ET d<ET TBの関係が成り立つ場合であってもこのエネルギー差ΔET=ET TB−ET dが小さい場合には、実際の素子駆動環境である室温程度の環境下では、周辺の熱エネルギーにより吸熱的にこのエネルギー差ΔETを乗り越えて三重項励起子が他分子へ移動することが可能であると考えられる。特に燐光発光の場合は蛍光発光に比べて励起子寿命が長いため、相対的に吸熱的励起子移動過程の影響が現れやすくなる。室温の熱エネルギーに対してこのエネルギー差ΔETは大きい程好ましく、0.1eV以上であるとさらに好ましく、0.2eV以上であると特に好ましい。一方、蛍光素子においては、国際公開WO2010/134350A1に記載するTTF素子構成のトリプレット障壁層用の材料として、本発明の一実施態様の有機EL素子用材料を用いることもできる。
電子注入層は、電界強度0.04〜0.5MV/cmの範囲において、10-6cm2/Vs以上であることが望ましい。これにより陰極からの電子輸送層への電子注入が促進され、ひいては隣接する障壁層、発光層への電子注入も促進し、より低電圧での駆動を可能にするためである。
アルゴン雰囲気下、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム1.29g、トリシクロヘキシルホスフィン1.51gを仕込み、ジオキサン45mLを加え、室温(25℃)で30分撹拌した。ビスピナコラートジボロン20.9g、既知の方法で合成した7−クロロフルオランテン17.7g、酢酸カリウム11.0gをフラスコに加え、80℃で、48時間攪拌をした。
室温(25℃)まで冷却後、水を加えた後、トルエンで抽出した。有機層を水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、フルオランテン−7−ボロン酸ピナコールエステルを15.2g得た。
アルゴン雰囲気下、フルオランテン−7−ボロン酸ピナコールエステル15.2g、2−ブロモニトロベンゼン10.3g、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)1.18g、DME200mL、2M炭酸ナトリウム水溶液100mLをフラスコに仕込み、24時間加熱還流しながら攪拌した。
室温(25℃)まで冷却後、反応溶液をトルエンで抽出した。水層を除去し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し7−(2−ニトロフェニル)フルオランテンを12.3g得た。
アルゴン雰囲気下、7−(2−ニトロフェニル)フルオランテン12.3g、トリフェニルホスフィン24.9g、o−ジクロロベンゼン400mLを仕込み、48時間加熱還流しながら撹拌した。
室温(25℃)まで冷却後、ヘキサン1Lを加え析出した結晶をろ過した。得られた結晶をトルエンで再結晶し、上記中間体(A)を5.54g得た。
アルゴン雰囲気下、7−クロロフルオランテン2.36g、アニリン0.93g、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム0.183g、トリ−t−ブチルホスホニウムテトラフルオロホウ酸塩0.15g、t−ブトキシナトリウム1.9g、無水トルエン50mLを順次加えて8時間加熱還流した。
室温(25℃)まで反応液を冷却した後、有機層を分離し、有機溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、N−(7−フルオランテニル)アニリンを2.2g得た。
N−(7−フルオランテニル)アニリン2.2g、酢酸パラジウム0.17g、炭酸カリウム1.1g、ピバル酸90mLを仕込み、空気下、120℃で24時間加熱撹拌した。
室温(25℃)まで冷却後、反応溶液をジクロロメタンで抽出し、飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、さらに有機層を水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、上記中間体(B)1.1gを得た。
室温(25℃)まで反応液を冷却した後、有機層を分離し、有機溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、上記化合物(1)を2.6g得た。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量367.14に対し、m/e=367であった。
25mm×75mm×厚さ1.1mmのITO透明電極付きガラス基板(ジオマテック株式会社製)をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を5分間行なった後、UVオゾン洗浄を30分間行った。
洗浄後の130nmの透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に前記透明電極を覆うようにして第1正孔輸送材料として下記化合物HT−1を蒸着し、膜厚45nmの第1正孔輸送層を成膜した。第1正孔輸送層の成膜に続けて、第2正孔輸送材料として下記化合物HT−2を蒸着し、膜厚10nmの第2正孔輸送層を成膜した。
さらに、この第2正孔輸送層上に、ホスト材料として前記実施例11で得た化合物(11)と、燐光発光材料として下記化合物RD−1とを共蒸着し、膜厚40nmの燐光発光層を成膜した。発光層中に含まれる化合物RD−1の濃度は5.0質量%であった。この共蒸着膜は発光層として機能する。
そして、この発光層成膜に続けて下記化合物ET−1を膜厚40nmで成膜した。この化合物ET−1膜は第1電子輸送層として機能する。
次に、LiFを電子注入性電極(陰極)として成膜速度0.01nm/secで成膜し、膜厚を1nmとした。このLiF膜上に金属Alを蒸着させ、金属陰極を膜厚80nmで形成し有機EL素子を作製した。
以下に、実施例および比較例で使用した化合物を示す。
(有機EL素子の発光特性評価)
得られた有機EL素子の室温及びDC定電流駆動(電流密度10mA/cm2)での外部量子効率を輝度計(ミノルタ社製分光輝度放射計CS−1000)を用いて測定した結果を表1に示す。
実施例19において、発光層のホスト材料として化合物(11)を用いる代わりに、表1に記載の化合物を用いて発光層を形成した以外は実施例19と同様にして有機EL素子を作製した。有機EL素子の外部量子効率の測定結果を表1に示す。
なお、表1中の、化合物(4)、(5)、(6)、(13)、(14)、(15)、および(17)は、それぞれ実施例4、5、6、13、14、15、および17で得た化合物である。
実施例19において、発光層のホスト材料として化合物(11)を用いる代わりに、上記の比較化合物1を用いて発光層を形成した以外は実施例19と同様にして有機EL素子を作製した。有機EL素子の外部量子効率の測定結果を表1に示す。
2 基板
3 陽極
4 陰極
5 発光層
6 陽極側有機薄膜層
7 陰極側有機薄膜層
10 発光ユニット
Claims (28)
- 少なくとも1つの下記一般式(1)で表される構造を有する、縮合フルオランテン化合物。
- 下記一般式(11)又は(12)で表される、請求項4に記載の縮合フルオランテン化合物。
- 下記一般式(13)又は(14)で表される、請求項5に記載の縮合フルオランテン化合物。
- 下記一般式(15)又は(16)で表される、請求項7に記載の縮合フルオランテン化合物。
- 下記一般式(17)又は(18)で表される、請求項7に記載の縮合フルオランテン化合物。
- 下記一般式(19)又は(20)で表される、請求項6に記載の縮合フルオランテン化合物。
- 下記一般式(21)又は(22)で表される、請求項6に記載の縮合フルオランテン化合物。
- R1〜R15で表される前記置換基が、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数3〜50のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数7〜51のアラルキル基、アミノ基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキル基及び置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリール基から選ばれる置換基を有するモノ置換又はジ置換アミノ基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜50のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキル基及び置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリール基から選ばれる置換基を有するモノ置換、ジ置換又はトリ置換シリル基、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜60のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のハロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキル基及び置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリール基から選ばれる置換基を有するスルフォニル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキル基及び置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリール基から選ばれる置換基を有するジ置換ホスフォリル基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、ホウ素含有基、亜鉛含有基、スズ含有基、ケイ素含有基、マグネシウム含有基、リチウム含有基、ヒドロキシ基、アルキル置換又はアリール置換カルボニル基、カルボキシル基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、及びオキセタニル基からなる群から選ばれる基である、請求項1〜12のいずれかに記載の縮合フルオランテン化合物。
- R15が、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜60のアリール基、または、置換もしくは無置換の環形成原子数5〜60のヘテロアリール基である、請求項1〜3及び12〜13のいずれかに記載の縮合フルオランテン化合物。
- R15が、フェニル基、ナフチル基、ナフチルフェニル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、アセナフチレニル基、アントリル基、ベンゾアントリル基、アセアントリル基、フェナントリル基、ベンゾフェナントリル基、フェナレニル基、フルオレニル基、9,9’−スピロビフルオレニル基、ベンゾフルオレニル基、ジベンゾフルオレニル基、ピセニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、ピレニル基、クリセニル基、ベンゾクリセニル基、s−インダセニル基、as−インダセニル基、フルオランテニル基、ベンゾフルオランテニル基、テトラセニル基、トリフェニレニル基、ベンゾトリフェニレニル基、ペリレニル基、コロニル基、及びジベンゾアントリル基からなる群より選ばれるアリール基、または、
ピロリル基、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピラゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、ベンゾフラニル基、イソベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、イソベンゾチオフェニル基、インドリジニル基、キノリジニル基、キノリル基、イソキノリル基、シンノリル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズオキサゾリル基、ベンズチアゾリル基、インダゾリル基、ベンズイソキサゾリル基、ベンズイソチアゾリル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチオフェニル基、カルバゾリル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェノチアジニル基、フェノキサジニル基、アザトリフェニレニル基、ジアザトリフェニレニル基、キサンテニル基、アザカルバゾリル基、アザジベンゾフラニル基、アザジベンゾチオフェニル基、ベンゾフラノベンゾチオフェニル基、ベンゾチエノベンゾチオフェニル基、ジベンゾフラノナフチル基、ジベンゾチエノナフチル基、及びジナフトチエノチオフェニル基からなる群より選ばれるヘテロアリール基である、請求項14に記載の縮合フルオランテン化合物。 - R16が、環形成炭素数6〜30のアリール基または環形成原子数5〜30のヘテロアリール基を置換基として有する、環形成原子数5〜30の含窒素複素環基である、請求項4又は5に記載の縮合フルオランテン化合物。
- R17及びR18が、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数6〜30のアリール基、または置換もしくは無置換の環形成原子数5〜30の含窒素複素環基である、請求項6〜11のいずれかに記載の縮合フルオランテン化合物。
- 前記環形成原子数5〜30の含窒素複素環基が、ピリジル基、ピリミジル基、トリアジニル基、ピラジニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、キナゾリル基、フェナントロリニル基、ジベンゾキノキサリニル基、ピロリル基、インドリル基、カルバゾリル基、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、イミダゾピリジニル基、インドリジニル基、ベンズカルバゾリル基、又はジベンズカルバゾリル基である、請求項4〜11のいずれかに記載の縮合フルオランテン化合物。
- 請求項1〜18のいずれかに記載の縮合フルオランテン化合物を含有する、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
- 陰極と陽極との間に、少なくとも発光層を含む一層又は複数層からなる有機薄膜層が挟持されている有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機薄膜層の少なくとも1層が、請求項1〜18のいずれかに記載の縮合フルオランテン化合物を含有する、有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記発光層が前記縮合フルオランテン化合物を含有する、請求項20に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記陽極と前記発光層との間に、さらに陽極側有機薄膜層を有し、該陽極側有機薄膜層が前記縮合フルオランテン化合物を含有する、請求項20に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記陰極と前記発光層との間に、さらに陰極側有機薄膜層を有し、該陰極側有機薄膜層が前記縮合フルオランテン化合物を含有する、請求項20に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記発光層が燐光発光材料を含有する、請求項20〜23のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記発光層が蛍光発光材料を含有する、請求項20〜23のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記燐光発光材料が、イリジウム(Ir)、オスミウム(Os)、白金(Pt)から選択される金属原子のオルトメタル化錯体である、請求項24に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 請求項20〜27のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える、電子機器。
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