JPWO2013141374A1 - 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途 - Google Patents

光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2013141374A1
JPWO2013141374A1 JP2013541094A JP2013541094A JPWO2013141374A1 JP WO2013141374 A1 JPWO2013141374 A1 JP WO2013141374A1 JP 2013541094 A JP2013541094 A JP 2013541094A JP 2013541094 A JP2013541094 A JP 2013541094A JP WO2013141374 A1 JPWO2013141374 A1 JP WO2013141374A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
light
light transmissive
conductive film
optical adjustment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013541094A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5425351B1 (ja
Inventor
守雄 滝沢
守雄 滝沢
白木　真司
真司 白木
哲郎 澤田石
哲郎 澤田石
田中　治
治 田中
林　秀樹
秀樹 林
中谷　康弘
康弘 中谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Sekisui Nano Coat Tech Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Sekisui Nano Coat Tech Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd, Sekisui Nano Coat Tech Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP2013541094A priority Critical patent/JP5425351B1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5425351B1 publication Critical patent/JP5425351B1/ja
Publication of JPWO2013141374A1 publication Critical patent/JPWO2013141374A1/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/0074—Production of other optical elements not provided for in B29D11/00009- B29D11/0073
    • B29D11/00788—Producing optical films
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/0073—Optical laminates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/02—Input arrangements using manually operated switches, e.g. using keyboards or dials
    • G06F3/0202—Constructional details or processes of manufacture of the input device
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/13338—Input devices, e.g. touch panels

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本発明は、（Ａ）光透過性支持層、（Ｂ）光学調整層及び（Ｃ）酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層を含有し、前記光学調整層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも光学調整層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記光学調整層（Ｂ）が、ジルコニアを含有し、かつ厚さ０．４〜３μｍであり、かつ薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８?付近のピークの、酸化インジウムスズに由来する（２２２）面のピークに対する比が０．１〜１．０であることを特徴とする、光透過性導電性フィルムに関する。

Description

本発明は、光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途に関する。
タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとして、プラスチック等からなる光透過性支持層の少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介して、酸化インジウムを含有する光透過性導電層を配置した光透過性導電性フィルムが数多く用いられている。
これら光透過性導電性フィルムを電極として用いてタッチパネルを構成する場合には、種々の要求特性を同時に満たす必要がある。そのような要求特性としては、次のようなものが知られている。
光透過性導電層を格子状の電極として配置することがあるが、ユーザーから見てその格子状構造が視認できる場合は、タッチパネルとしての視認性が損なわれるので好ましくない。なお、そのような現象が解消されていることを「インデックス・マッチングが良い」ということがある。
また、光透過性導電性フィルムを組み込んでタッチパネルを製造する過程においては、光透過性導電性フィルムが所定の薬品処理に晒されることになる。したがって、耐薬品性が良好でない光透過性導電性フィルムは、製造工程における薬品処理によりダメージを受けてしまうという問題がある。
さらに、例えば上記の格子状等を有する電極として成形する際に、光透過性導電層を薬品処理によって所定の領域のみについて光透過性導電層を除去する、いわゆるエッチング処理を行い、結果として所望の形状の電極を形成することが行われている。したがって、エッチング処理によりエッチングされにくい（すなわち、所望の領域において光透過性導電層が除去されにくい）光透過性導電性フィルムは、タッチパネルを製造する過程において生産効率が悪くなり、過度にエッチングされやすい（すなわち、所望の領域とは異なる領域においても意図に反して光透過性導電層が除去されてしまう）光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層を所望の形状に成形することが困難である等の問題がある。
このように、タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとしては、（１）インデックス・マッチング、（２）耐薬品性、及び（３）エッチング性のいずれにおいても優れている光透過性導電性フィルムが求められている。
特開２０１０−６６４７号公報 特開２００７−４２２８４号公報
本発明は、（Ａ）光透過性支持層、（Ｂ）光学調整層及び（Ｃ）酸化インジウムを含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、（１）インデックス・マッチング、（２）耐薬品性、及び（３）エッチング性のバランスを改善することを課題とする。
本発明者らは、鋭意検討を重ね、光学調整層（Ｂ）としてジルコニアを含有し、かつ厚さ０．４〜３μｍであるものを採用し、かつ、フィルム全体が、薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比が０．１〜１．０となるようにすることによって、上記課題を解決できることを新たに見出した。本発明は、この新たな知見に基づいてさらに種々の検討を重ねることにより完成されたものであり、次に掲げるものである。
項１
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）光学調整層；及び
（Ｃ）酸化インジウムを含有する光透過性導電層
を含有し、
前記光学調整層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも光学調整層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記光学調整層（Ｂ）が、ジルコニアを含有し、かつ厚さ０．４〜３μｍであり；かつ
薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比が０．１〜１．０であることを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
項２
前記光学調整層（Ｂ）の、光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面の平均表面粗さＲａが、０．４〜２．０ｎｍである、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３
前記ジルコニアの平均粒子径が、１０〜４０ｎｍである、項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
項４
前記光透過性導電層（Ｃ）が、酸化インジウムを含有する粒子を含有し、当該粒子の平均粒子径が、３．０〜８．０ｎｍである、項１〜３のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項５
前記光透過性導電層（Ｃ）が、酸化インジウムを含有する層を大気中９０〜１６０℃で１０〜１２０分間加熱することにより得られうる、項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項６
光透過性導電層（Ｃ）が、酸化インジウムスズを含有する、項１〜５のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項７
項１〜６のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含有する、タッチパネル。
本発明によれば、（１）インデックス・マッチング、（２）耐薬品性、及び（３）エッチング性のバランスが改善された、（Ａ）光透過性支持層、（Ｂ）光学調整層及び（Ｃ）酸化インジウムを含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムを提供できる。
光透過性支持層（Ａ）の片面に、光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。 光透過性支持層（Ａ）の両面に、光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。 光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、第一の光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されており、かつ、他方の面に、第二の光学調整層（Ｂ）が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。 光透過性支持層（Ａ）の片面に、光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。 光透過性支持層（Ａ）の両面に、光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。 光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、第一の光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されており、かつ、他方の面に、第二の光学調整層（Ｂ）が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
１． 光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）光学調整層；及び
（Ｃ）酸化インジウムを含有する光透過性導電層
を含有し、
前記光学調整層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも光学調整層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記光学調整層（Ｂ）が、ジルコニアを含有し、かつ厚さ０．４〜３μｍであり；かつ
薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比が０．１〜１．０であることを特徴とする、光透過性導電性フィルム
である。
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８７％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上の層」等といい、光透過性支持層（Ａ）からの距離が小さい他方の層を「下の層」等ということがある。
以下の各層についての説明箇所において特に明記されていない限り、本発明において、各層の厚さは、市販の反射分光膜厚計（大塚電子、ＦＥ−３０００、又はその同等品）を用いて求める。各層の厚さは、代替的に、市販の透過型電子顕微鏡を用いた観察により求めてもよい。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。
図１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている。
図２に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両方の面に、光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている。
１．１ 光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含有する層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、ガラス、及び各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、特にＰＥＴが好ましい。光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、特に限定されないが、例えば、２〜３００μｍの範囲が挙げられる。
１．２ 光学調整層（Ｂ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して光学調整層（Ｂ）が配置されている。光学調整層（Ｂ）は、好ましくは光透過性支持層（Ａ）の面に、直接配置されている。
光学調整層（Ｂ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
光透過性支持層（Ａ）の両方の面に、光学調整層（Ｂ）がそれぞれ、直接配置されていてもよい。
光学調整層（Ｂ）は、二層以上が互いに隣接して配置されている場合、上方に位置する光学調整層に比較して下方に位置する光学調整層がより高い屈折率を有していてもよい。
このような構成を採ることにより、屈折率の異なる二層間に光学干渉作用が生じ、これにより光透過性導電性フィルムの透過率が向上するので好ましい。
本発明において光学調整層とは、光学干渉作用により光透過性フィルムの透過率を向上させる役割を果たすものをいう。光学調整層（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光学調整層として通常用いられるものを用いることができる。
光学調整層（Ｂ）は、ジルコニアを含有する。光学調整層（Ｂ）が含有するジルコニアは、好ましくは粒子状であり、より好ましくは、平均粒子径が、１０〜４０ｎｍ、さらに好ましくは、平均粒子径が１０〜３０ｎｍである。ジルコニアの平均粒子経が４０ｎｍより小さいとエッチング性がより改善され、また、１０ｎｍより大きいと分散性がより改善され、加工性がより改善される。
本発明の光透過性導電性フィルムは、薄膜法によるＸＲＤ測定において、光学調整層（Ｂ）のジルコニアに由来する、２θ＝２８°付近のピークを示す。
本発明において、薄膜法によるＸＲＤ測定は、次のようにして行う。
Ｘ線回折装置はＲｉｇａｋｕ製 薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置ＳｍａｒｔＬａｂ、又はその同等品を用いて薄膜法にて測定する。平行ビーム光学配置を用い、光源にはＣｕＫα線（波長：１．５４１８６Å）を４０ｋＶ、３０ｍＡのパワーで用いる。入射側スリット系はソーラスリット５．０°、高さ制御スリット１０ｍｍ、入射スリット０．１ｍｍを用い、受光側スリットにはパラレルスリットアナライザー（ＰＳＡ）０．１１４ｄｅｇ．を用いる。検出器はシンチレーションカウンターを用いる。試料ステージは多孔質吸着試料ホルダを用いて、ポンプにより試料を吸着固定する。Ｘ線の入射角０．５０°で測定し、十分な検出感度が得られない場合には、入射角０．４０°、０．４５°、０．５５°及び０．６０°でそれぞれ測定し、目的とするピークが最も強くなる結果を採用する。ステップ間隔及び測定スピードはＸ線回折パターンを認識できる程度に適宜調整する。好ましくは、ステップ間隔０．０１°、測定スピード３．０°／ｍｉｎで測定する。測定範囲を１０°〜６０°で測定する。尚、得られたＸ線回折パターンについて単色化する必要はなく、各ピーク強度はバックグラウンドを差し引いた値を用いる。
本発明において、ジルコニアの平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察により求める。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムを薄く切断して、その断面を観察する。これにより、視認可能な無作為に選ばれた２０個の粒子から、長軸方向長さについて上位３個及び下位３個の粒子を除いて得られる１４個の粒子についての、長軸方向長さの数平均値を平均粒子径とする。透過型電子顕微鏡観察の結果、所定量の粒子が視認できない場合は、同じ試料の異なった領域で観察を行う。
また、ジルコニア粒子と他の粒子との区別がつかない場合は、ＥＤＸやＥＥＬＳにより、粒子の元素分析を行い、ジルコニア粒子を特定する。
光学調整層（Ｂ）の厚さは、０．４〜３μｍであり、好ましくは０．５〜２．５μｍ、より好ましくは１〜２μｍである。光学調整層（Ｂ）の厚さが３μmよりも小さいと、インデックス・マッチング性がより改善される。また、０．４μｍより大きいと、ジルコニアに由来するピークをより容易に確認でき、インデックス・マッチング性がより改善される。
本発明において、光学調整層（Ｂ）の厚さは、次のようにして測定する。透過型電子顕微鏡観察により求める。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムを薄く切断して、その断面を観察する。
光学調整層（Ｂ）は、エッチング性の点で、光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面の平均表面粗さＲａが、０．４〜２．０ｎｍであれば好ましく、０．５〜１．８ｎｍであればより好ましく、０．５〜１．５ｎｍであればさらに好ましい。
本発明において平均表面粗さＲａは、走査型プローブ顕微鏡を用いて測定される粗さの算術平均を意味する。本発明における平均表面粗さＲａは、詳細には、市販の走査型プローブ顕微鏡（株式会社島津製作所、ＳＰＭ−９７００、又はその同等品）を用いて、所定のコンタクトモードで１μｍ平方の測定面を探針（ＯＬＹＭＰＵＳ社製 ＯＭＣＬ−ＴＲ８００−ＰＳＡ−１ バネ定数０．１５ Ｎ／ｍ）で走査して得られる、平均線からの絶対偏差を平均した値である。
光学調整層（Ｂ）は、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、ジルコニアに加えてその他の成分をさらに含有していてもよい。その他の成分としては、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂；並びにシリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等が挙げられる。光学調整層（Ｂ）は、ジルコニアに加えて、これらのうちいずれか単独をさらに含有していてもよいし、複数種をさらに含有していてもよい。
光学調整層（Ｂ）が、ジルコニアに加えてその他の成分をさらに含有する場合、全体におけるジルコニアの含有割合は、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、好ましくは２０重量％以上である。
光学調整層（Ｂ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、及び紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。
１．３ 光透過性導電層（Ｃ）
光透過性導電層（Ｃ）は、酸化インジウムを含有する。光透過性導電層（Ｃ）は、酸化インジウムに加えてドーパントをさらに含有していてもよい。ドーパントとしては特に限定されないが、例えば、スズ酸化物、亜鉛酸化物、セリウム酸化物、ガドリニウム酸化物、シリコン酸化物及びチタン酸化物等が挙げられる。光透過性導電層（Ｃ）は酸化インジウムに加えて、ドーパントとしてこれらを単独で含有していてもよいし、複数種を含有していてもよい。光透過性導電層（Ｃ）としては、現状では酸化インジウムスズ（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄｉｎｄｉｕｍｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ））を含有する層を好ましい一例として挙げることができるが、必要に応じて他のドーパントを含有する酸化インジウムを含有する層を用いることもできる。
酸化インジウムスズは、スズをドープした酸化インジウムである。酸化インジウムスズとしては、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）と酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）を用いて得られた酸化インジウムスズが好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、光透過性導電層（Ｃ）は、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを含有していてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えば亜鉛、セリウム、ガドリニウム、シリコン及びチタン等が挙げられる。
光透過性導電層（Ｃ）は、上記の各種酸化インジウムスズのうちいずれか単独を含有するものであってもよいし、複数種を含有するものであってもよい。
光透過性導電層（Ｃ）は、酸化インジウムを含有する粒子を含有していてもよい。この粒子の平均粒子径は、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、比抵抗が小さくなりやすいという点で、３．０〜８．０ｎｍであれば好ましく、３．５〜６．５ｎｍであればより好ましく、３．５〜６．０ｎｍであればさらに好ましい。酸化インジウムを含有する粒子としては、現状では酸化インジウムスズ粒子を好ましい一例として挙げることができるが、必要に応じて他のドーパントを含有する酸化インジウムの粒子を用いることもできる。
本発明において酸化インジウムを含有する粒子の平均粒子経は、市販の走査型プローブ顕微鏡（株式会社島津製作所、ＳＰＭ−９７００、又はその同等品）を用いて、所定のコンタクトモードで０.５μｍ平方の測定面を探針（ＯＬＹＭＰＵＳ 社製 ＯＭＣＬ−ＴＲ８００−ＰＳＡ−１ バネ定数０．１５ Ｎ／ｍ、又はその同等品）で走査して得られる画像より求める。具体的には、観察画像より１ｎｍ〜３０ｎｍの粒子に対して、１ｎｍ毎に粒子経を分類し、各粒子経において積算した粒子数を調べ、その粒度分布におけるＤ５０の粒子経を平均粒子経とする。
光透過性導電層（Ｃ）は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、薄膜法によるＸＲＤ測定において、光透過性導電層（Ｃ）に含有される酸化インジウムに由来する、（２２２）面のピークを２θ＝３０．５°付近に示す。このピークは、酸化インジウム自体に由来するものであるので、酸化インジウムにさらに上記の各種ドーパントが添加されている場合であっても当然に同様のピークが観察される。また、（２２２）面のピークが酸化インジウム（あるいはさらにドーパントが添加されている場合は酸化インジウム及びドーパントの混合物）に由来する全てのピークのうちで最も強いものである。
さらに、本発明の光透過性導電性フィルムは、薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比が０．１〜１．０である。このことに起因して、本発明の光透過性導電性フィルムは、（１）インデックス・マッチング、（２）耐薬品性、及び（３）エッチング性のバランスが改善されている。
上記の特性を有する光透過性導電層（Ｃ）は、加熱処理により酸化インジウム（あるいはさらにドーパントが添加されている場合は酸化インジウム及びドーパントの混合物；以下、この混合物と酸化インジウムを総称して「酸化インジウム等」ということがある。）を結晶化させることにより得ることができる。この加熱処理の条件としては、上記の特性を有する光透過性導電層（Ｃ）が得られる範囲内で適宜設定でき、特に限定されないが、例えば大気中９０〜１６０℃、１０〜１２０分間の加熱処理条件等が挙げられる。具体的には、大気中１４０℃、６０分間の加熱処理条件が挙げられる。酸化インジウム等からなる原料、又は酸化インジウム等を含有する原料を、大気中９０〜１６０℃、１０〜１２０分間で加熱処理することにより、酸化インジウム等の結晶化がより促進され、上記の特性を有する光透過性導電層（Ｃ）が、酸化インジウム等の結晶体、又は酸化インジウム等の結晶体及び酸化インジウム等の非晶質体の混合物を含有するものとして得られる。特に限定されないが、上記の特性を有する光透過性導電層（Ｃ）は、酸化インジウム等を含有する層をその下地となる層の上に形成した後で、大気中９０〜１６０℃、１０〜１２０分間で加熱処理することにより、得ることができる。
光透過性導電層（Ｃ）は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも光学調整層（Ｂ）を介して配置されている。
光透過性導電層（Ｃ）の厚さは、５〜２００ｎｍ、好ましくは１０〜１００ｎｍ、より好ましくは１５〜５０ｎｍである。また、静電容量タイプのタッチパネル用光透過性導電性フィルムとしては、光透過性導電層（Ｃ）の厚さは、１５〜４０ｎｍ、好ましくは１５〜３８ｎｍ、より好ましくは１７〜３５ｎｍである。
光透過性導電層（Ｃ）を形成する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよい。
光透過性導電層（Ｃ）を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、イオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。光透過性導電層（Ｃ）を形成する方法としては、スパッタリング法が好ましい。
スパッタリング法により、光透過性導電層（Ｃ）を形成する場合、特に限定されないが、例えば酸素分圧を７．０ｘ１０−３Ｐａ以上にして形成することにより、薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比を、０．１〜１．０に適宜調整できる。
１．４ アンダーコート層（Ｄ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｃ）が配置されている面に、直接又は一以上の他の層を介してアンダーコート層（Ｄ）が配置されていてもよい。アンダーコート層（Ｄ）が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｃ）が、少なくとも前記アンダーコート層（Ｄ）及び光学調整層（Ｂ）を介して前記光透過性支持層（Ａ）の前記面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記アンダーコート層（Ｄ）に隣接して配置されていてもよい。また、この場合、アンダーコート層（Ｄ）は通常、光学調整層（Ｂ）よりも光透過性導電層（Ｃ）に近い側に配置されている。
図４に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されている。
図５に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両面に、光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されている。
図６に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、第一の光学調整層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されており、他方の面に、第二の光学調整層（Ｂ）が直接配置されている。
アンダーコート層（Ｄ）の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。アンダーコート層（Ｄ）の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、並びにポリシラザン等が挙げられる。アンダーコート層（Ｄ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含有する光透過性下地層が好ましく、酸化ケイ素からなる光透過性下地層がより好ましい。
アンダーコート層（Ｄ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
アンダーコート層（Ｄ）の一層あたりの厚さは、１５〜４０ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのアンダーコート層（Ｄ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。
アンダーコート層（Ｄ）を配置する方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、及び微粒子分散液若しくはコロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。アンダーコート層（Ｄ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法又はパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。
１．５ その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の光学調整層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）が配置されている側の面に、アンダーコート層（Ｄ）及び少なくとも１種のその他の層（Ｅ）からなる群より選択される少なくとも１種の層がさらに配置されていてもよい。
その他の層（Ｅ）としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。
接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。
１．６ 本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、タッチパネルのために好ましく用いられる。本発明の光透過性導電性フィルムは、特に、静電容量型タッチパネルのためにより好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率（シート抵抗）が１００〜１，０００Ω／ｓｑ程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。
２．本発明の静電容量型タッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
３． 本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムは、それぞれの層について説明した通りそれぞれの層を配置することにより製造することができる。例えば、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｃ）が配置されている側の面に、下層側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層（Ａ）ではない層（例えば、光透過性導電層（Ｃ））の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得て、これらの２種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
実施例１
厚さ１２５μｍのＰＥＴ樹脂基材（光透過性支持層）上に平均粒子径が１６ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ０．５μｍとなるように形成した。
なお、実施例及び比較例において、ジルコニア粒子の平均粒子径は、次のようにして透過型電子顕微鏡観察により求めた。具体的には、光透過性導電性フィルムを樹脂で被覆し、ミクロトームを用いて光透過性導電性フィルムをフィルムに垂直に薄く切断して、その断面を観察した。これにより、視認可能な無作為に選ばれた２０個の粒子から、長軸方向長さについて上位３個及び下位３個の粒子を除いて得られる１４個の粒子についての、長軸方向長さの数平均値を平均粒子径とした。
このとき、光学調整層のＲａは０．７ｎｍであった。スパッタリングによりこの光学調整層に、ＳｉＯ２層を２０ｎｍ形成し、さらに、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を２３ｎｍ製膜した。具体的にはターゲット材として、酸化インジウム：９５重量％及び酸化スズ：５重量％からなる焼結体材料を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、光透過性導電層を形成し、大気中で加熱処理し、最終的に本発明の光透過性導電性フィルムを得た。このとき、チャンバー内を５.０×１０−４Ｐａ以下となるまで真空排気した後に、かかるチャンバー内に酸素分圧が６.５×１０−3Ｐａになるよう酸素ガスとアルゴンガスを導入し、チャンバー内圧力を０．３〜０．４Ｐａとしてスパッタリング処理した。
その後、大気中、１４０℃で６０分加熱処理して、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。このフィルムをＸＲＤおよびＡＦＭにて評価した。
なお、実施例及び比較例において、薄膜法によるＸＲＤ測定は、次のようにして行った。Ｘ線回折装置はＲｉｇａｋｕ製 薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置ＳｍａｒｔＬａｂを用いて薄膜法にて測定した。平行ビーム光学配置を用い、光源にはＣｕＫα線（波長：１．５４１８６Å）を４０ｋＶ、３０ｍＡのパワーで用いた。入射側スリット系はソーラスリット５．０°、高さ制御スリット１０ｍｍ、入射スリット０．１ｍｍを用い、受光側スリットにはパラレルスリットアナライザー（ＰＳＡ）０．１１４ｄｅｇ．を用いた。検出器はシンチレーションカウンターを用いた。試料ステージは多孔質吸着試料ホルダを用いて、ポンプにより試料を吸着固定した。入射側を０．５０°で固定し、ステップ間隔０．０１°、測定スピード３．０°／ｍｉｎ、測定範囲を１０°〜６０°で測定した。
ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は０．１５であった。
また、実施例及び比較例において、酸化インジウムスズの平均粒子経は、次のようにして測定した。走査型プローブ顕微鏡（株式会社島津製作所、ＳＰＭ−９７００）を用いて、所定のコンタクトモードで０.５μｍ平方の測定面を探針（ＯＬＹＭＰＵＳ 社製 ＯＭＣＬ−ＴＲ８００−ＰＳＡ−１ バネ定数０．１５ Ｎ／ｍ）で走査して得られる画像より求めた。具体的には、観察画像より１ｎｍ〜３０ｎｍの酸化インジウムスズ粒子に対して、１ｎｍ毎に粒子経を分類し、各粒子経において積算した粒子数を調べ、その粒度分布におけるＤ５０の粒子経を平均粒子経とした。
酸化インジウムスズの平均粒子経は６．２ｎｍであった。
実施例２
平均粒子径が２５ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ１．０μｍとなるように形成した。それ以外は、実施例１と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は０．３０であった。また、酸化インジウムスズの平均粒子経は５．７ｎｍであった。
実施例３
平均粒子径が２５ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ２．０μｍとなるように形成した。それ以外は、実施例１と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は０．６５であった。また、酸化インジウムスズの平均粒子経は３．６ｎｍであった。
実施例４
平均粒子径が２５ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ２．９μｍとなるように形成した。それ以外は、実施例１と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は０．９４であった。また、酸化インジウムスズの平均粒子経は４．２ｎｍであった。
実施例５
平均粒子径が３４ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ１．０μｍとなるように形成した。このとき、光学調整層のＲａは１．８ｎｍであった。それ以外は、実施例１と同様とし、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は０．３２であった。また、酸化インジウムスズの平均粒子経は７．７ｎｍであった。
比較例１
平均粒子径が１６ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ０．２μｍとなるように形成した。それ以外は、実施例１と同様とし、光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来するピークは検出されなかった。また、酸化インジウムスズの平均粒子経は６．８ｎｍであった。
比較例２
平均粒子径が１６ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ５．０μｍとなるように形成した。それ以外は、実施例１と同様とし、光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は１.５であった。また、酸化インジウムスズの平均粒子経は４．９ｎｍであった。
比較例３
平均粒子径が４５ｎｍのジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂の光学調整層を厚さ２．８μｍとなるように形成した。このとき、光学調整層のＲａは２．５ｎｍであった。それ以外は、実施例１と同様とし、光透過性導電性フィルムを得た。ＸＲＤによる評価の結果、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比は１.５であった。また、酸化インジウムスズの平均粒子経は８．４ｎｍであった。
以上のようにして得られた実施例１〜５、及び比較例１〜３の光透過性導電性フィルムについて、次のようにしてインデックス・マッチング（ＩＭ）及びエッチング性を評価した。
インデックス・マッチングの評価は、次のようにして行った。幅５ｃｍ×長さ１０ｃｍにカットした光透過性導電性フィルムの中央部付近の幅方向にくし型パターン（２ｍｍ幅、１０ｍｍ長さ）を５ｃｍ形成するために、以下の操作を行った。
幅５ｃｍ×長さ５ｃｍのシリコンゴム板の４辺の一つをくし型パターン状に切断した。幅５ｃｍ×長さ１０ｃｍにカットした光透過性導電性フィルムのＩＴＯ側、かつ、くし型パターンが光透過性導電性フィルムの中央部付近に配置されるようにシリコンゴム板を光透過性導電性フィルムに貼り合わせた。シリコンゴムを貼り合わせた光透過性導電性フィルムのシリコンゴム側にエッチングレジストを塗布し、８０℃で３０分乾燥後、シリコンゴム板を剥がした。これにより、くし型パターンを境界としてＩＴＯ表面とエッチングレジスト表面が露出する光透過性導電性フィルムを得た。これを、２０％塩酸に２０分浸漬し、ＩＴＯを溶かした。その後、０．５ＭのＫＯＨ溶液に浸漬しながら１０分間超音波処理し、水洗することによりＩＴＯのくし型パターンフィルムを得た。
白色の紙および黒色の紙の上にくし型パターンフィルムを置き、それぞれＩＴＯパターンのエッジにおける視認性を確認した。
評価は次のようにして行った。白色紙上および黒色紙上でＩＴＯのパターンがほとんど確認できないときを「◎」、白色紙上および黒色紙上でＩＴＯのパターンがほとんど確認できないが、何れかの試料において観察角度を変えることによりパターンを確認できることがあるときを「○」、観察角度を変えることにより何れかの試料においてパターンを必ず確認できるときを「△」、両方の試料においてパターンを確認できるときを「×」とした。
エッチング性の評価は、次のようにして行った。
光透過性導電性フィルムを２０％塩酸に浸漬し、表面抵抗が計測不能になるまでの時間を求めた。光透過性導電性フィルムは１０秒〜９０秒までの１０秒間隔で浸漬時間を設定し、表面抵抗が計測不能になった時間をエッチング処理完了時間とした。
エッチング処理完了時間が４０秒、５０秒のときを「◎」、３０秒、６０秒、７０秒のときを「○」、２０秒、８０秒のときを「△」、１０秒、９０秒およびそれ以上を「×」として評価した。エッチング処理時間が短すぎても、また反対に長すぎてもエッチング処理を制御することが困難となり、好ましくない。
対薬品性の評価は、次のようにして行った。光透過性導電性フィルムを１％塩酸に３０分浸漬し、水洗した。このときの表面抵抗値Ｒと塩酸に浸漬前の表面抵抗値Ｒ０の比Ｒ／Ｒ０を求めた。このとき、Ｒ／Ｒ０が１．１未満であれば「◎」、Ｒ／Ｒ０が１．１以上かつ１．２未満であれば「○」、Ｒ／Ｒ０が１．２以上かつ１．３未満であれば「△」、Ｒ／Ｒ０が１．３以上であれば「×」とした。
評価結果を表１に示す。表１においては、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムに由来する（２２２）面のピークに対する比を単に「ピーク比」と表記する。
Figure 2013141374
１ 光透過性導電性フィルム
１１ 光透過性支持層（Ａ）
１２ 光学調整層（Ｂ）
１３ 光透過性導電層（Ｃ）
１４ アンダーコート層（Ｄ）

Claims (6)

  1. （Ａ）光透過性支持層；
    （Ｂ）光学調整層；及び
    （Ｃ）酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層
    を含有し、
    前記光学調整層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
    前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも光学調整層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
    前記光学調整層（Ｂ）が、ジルコニアを含有し、かつ厚さ０．４〜３μｍであり；かつ
    薄膜法によるＸＲＤ測定において、ジルコニアに由来する２θ＝２８°付近のピークの、酸化インジウムスズに由来する（２２２）面のピークに対する比が０．１〜１．０であること
    を特徴とする、光透過性導電性フィルム。
  2. 前記光学調整層（Ｂ）の、光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面の平均表面粗さＲａが、０．４〜２．０ｎｍである、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム。
  3. 前記ジルコニアの平均粒子径が、１０〜４０ｎｍである、請求項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
  4. 前記酸化インジウムスズの平均粒子径が、３．０〜８．０ｎｍである、請求項１〜３のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
  5. 前記光透過性導電層（Ｃ）が、酸化インジウムスズを含有する層を大気中９０〜１６０℃で１０〜１２０分間加熱することにより得られうる、請求項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
  6. 請求項１〜５のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含有する、タッチパネル。
JP2013541094A 2012-03-23 2013-03-22 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途 Active JP5425351B1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013541094A JP5425351B1 (ja) 2012-03-23 2013-03-22 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012067070 2012-03-23
JP2012067070 2012-03-23
JP2012267511 2012-12-06
JP2012267511 2012-12-06
JP2013541094A JP5425351B1 (ja) 2012-03-23 2013-03-22 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途
PCT/JP2013/058337 WO2013141374A1 (ja) 2012-03-23 2013-03-22 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013241973A Division JP2014132440A (ja) 2012-03-23 2013-11-22 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP5425351B1 JP5425351B1 (ja) 2014-02-26
JPWO2013141374A1 true JPWO2013141374A1 (ja) 2015-08-03

Family

ID=49222822

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013541094A Active JP5425351B1 (ja) 2012-03-23 2013-03-22 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途
JP2013241973A Pending JP2014132440A (ja) 2012-03-23 2013-11-22 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013241973A Pending JP2014132440A (ja) 2012-03-23 2013-11-22 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途

Country Status (5)

Country Link
JP (2) JP5425351B1 (ja)
KR (1) KR101454148B1 (ja)
CN (1) CN103858182B (ja)
TW (1) TWI447744B (ja)
WO (1) WO2013141374A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5564145B1 (ja) * 2013-06-21 2014-07-30 積水化学工業株式会社 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途
JP2015099580A (ja) * 2013-10-17 2015-05-28 日東電工株式会社 位置センサの製法およびそれによって得られた位置センサ
JP6422676B2 (ja) * 2014-06-04 2018-11-14 日東電工株式会社 透明導電性フィルム
TWI549030B (zh) * 2014-10-20 2016-09-11 Far Eastern New Century Corp Conductive transparent laminates, patterned conductive transparent laminates and touch panels
CN104535597A (zh) * 2014-12-15 2015-04-22 惠州Tcl移动通信有限公司 触摸屏镀层的检测方法及装置
JP6661335B2 (ja) * 2014-12-22 2020-03-11 日東電工株式会社 透明導電性フィルム
JP5860558B1 (ja) * 2015-03-20 2016-02-16 積水化学工業株式会社 光透過性導電性フィルム及びそれを有するタッチパネル
CN111338500B (zh) * 2020-02-08 2022-09-20 业成科技（成都）有限公司 改善单层触控感测装置视觉效果的堆栈结构及触控面板

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61183809A (ja) * 1985-02-08 1986-08-16 帝人株式会社 透明導電性積層体及びその製造方法
JPS61227945A (ja) * 1985-03-30 1986-10-11 Asahi Glass Co Ltd 電気伝導性ガラス
JP2948593B2 (ja) * 1988-08-22 1999-09-13 日東電工株式会社 透明導電性フイルム
JP4572507B2 (ja) * 2002-05-23 2010-11-04 日油株式会社 透明導電材料およびタッチパネル
TWI290328B (en) * 2002-05-23 2007-11-21 Nof Corp Transparent conductive laminated film and touch panel
JP2005071901A (ja) * 2003-08-27 2005-03-17 Teijin Dupont Films Japan Ltd 透明導電性積層フィルム
JP2005116515A (ja) 2003-09-17 2005-04-28 Teijin Ltd 透明導電性積層体及び透明タッチパネル
WO2005036565A1 (ja) * 2003-10-08 2005-04-21 Teijin Limited 透明導電性積層体及び透明タッチパネル
KR20070084121A (ko) * 2004-12-08 2007-08-24 아사히 가라스 가부시키가이샤 도전막 부착 기체 및 그 제조 방법
JP2008016698A (ja) 2006-07-07 2008-01-24 Sony Corp レーザ光源システムおよびレーザ光源の制御方法
JP2010006647A (ja) * 2008-06-27 2010-01-14 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 高屈折率透明粒子及びそれを用いた透明複合体
CN102043495B (zh) * 2009-10-21 2012-11-21 比亚迪股份有限公司 一种导电元件及其制备方法、一种触摸屏面板
JP5691279B2 (ja) * 2010-07-26 2015-04-01 日油株式会社 透明導電性フィルム
CN102157575A (zh) * 2011-03-28 2011-08-17 天津师范大学 新型多层膜结构的透明导电氧化物薄膜及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN103858182A (zh) 2014-06-11
JP2014132440A (ja) 2014-07-17
KR20140075816A (ko) 2014-06-19
KR101454148B1 (ko) 2014-10-22
TWI447744B (zh) 2014-08-01
JP5425351B1 (ja) 2014-02-26
TW201340122A (zh) 2013-10-01
WO2013141374A1 (ja) 2013-09-26
CN103858182B (zh) 2015-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5425351B1 (ja) 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途
KR101269316B1 (ko) 투명 도전성 필름의 제조 방법
KR101227752B1 (ko) 투명 도전성 필름, 그 제조 방법 및 그것을 구비한 터치 패널
JP6010078B2 (ja) 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途
JP5986981B2 (ja) 光透過性導電性フィルム及びそれを有する静電容量型タッチパネル
JP5987045B2 (ja) 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途
JP6134419B1 (ja) 光透過性導電性フィルム、及びハードコート付き光透過性フィルム
JP5564145B1 (ja) 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途
JP2015038842A (ja) 光透過性導電性フィルム及びそれを有する静電容量型タッチパネル
JP6637286B2 (ja) 光透過性導電性フィルム、およびハードコート付き光透過性フィルム
JP6666688B2 (ja) 光透過性導電性フィルム、およびハードコート付き光透過性フィルム
JP5845332B1 (ja) 光透過性導電性フィルム及びその評価方法
JP2015196258A (ja) 導電性フィルム、その製造方法及びそれを含有するタッチパネル
JP5727641B2 (ja) 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途
JP2016182814A (ja) 光透過性導電性フィルム及びその評価方法
JP2015173109A (ja) 光透過性導電性フィルムの製造方法
JP2016068428A (ja) 光透過性導電性フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131029

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131126

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5425351

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250