JPWO2011078070A1 - 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、
前記光源から入射した光に空間的な光変調を付与して、前記複数の光学要素の要素毎にその位置に応じた強度レベルの光束を入射させる空間光変調素子と、
前記複数の光学要素の各々に入射する光束の強度レベルに関する情報に基づいて前記複数の光学要素を個別に制御する制御部とを備えていることを特徴とする空間光変調ユニットを提供する。
第1形態の空間光変調ユニットと、
前記空間光変調ユニットを経た光に基づいて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系とを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
前記複数の光学要素の各々には離散的な強度レベルの光束が入射し、該離散的な強度レベルに関する情報に基づいて前記複数の光学要素を個別に制御することを特徴とする制御方法を提供する。
第5形態の方法をコンピュータにより実行させることを特徴とする制御プログラムを提供する。
4000/(32×32×π/4)≒4.9 (1)
2 ビーム送光部
3,3A,3B 空間光変調ユニット
30 反射型の回折光学素子(空間光変調素子)
31 空間光変調器
32 制御部
4,6 リレー光学系
7 マイクロフライアイレンズ
8 コンデンサー光学系
9 マスクブラインド
10 結像光学系
DT 瞳強度分布計測部
CR 主制御系
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
Claims (21)
- 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調ユニットであって、
所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、
前記光源から入射した光に空間的な光変調を付与して、前記複数の光学要素の要素毎にその位置に応じた強度レベルの光束を入射させる空間光変調素子と、
前記複数の光学要素の各々に入射する光束の強度レベルに関する情報に基づいて前記複数の光学要素を個別に制御する制御部とを備えていることを特徴とする空間光変調ユニット。 - 前記複数の光学要素の各々に入射する光束の強度レベルは、離散的であることを特徴とする請求項1に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調ユニットを経た光に基づいて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系と共に用いられることを特徴とする請求項1または2に記載の空間光変調ユニット。
- 前記制御部は、前記複数の光学要素の各々に入射する光束の強度レベルに関する前記情報と、前記照明瞳に形成する前記所定の光強度分布に関する情報とに基づいて、前記複数の光学要素を個別に制御することを特徴とする請求項3に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調素子と前記空間光変調器との間の光路中に配置されたリレー光学系を備えていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調素子は、回折光学素子を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記回折光学素子は、回折特性の異なる別の回折光学素子と交換可能であることを特徴とする請求項6に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調素子は、所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調素子は、前記所定面内で二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項8に記載の空間光変調ユニット。
- 前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的または離散的に変化させることを特徴とする請求項9に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調素子は、所定の空間的な透過率分布または所定の空間的な反射率分布を有するフィルタを有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調器は、前記所定面内で二次元的に配列された複数のミラー要素と、前記制御部からの信号に基づいて前記複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的または離散的に変化させることを特徴とする請求項12に記載の空間光変調ユニット。
- 光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
請求項1乃至13のいずれか1項に記載の空間光変調ユニットと、
前記空間光変調ユニットを経た光に基づいて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系とを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記分布形成光学系は、オプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータと前記空間光変調ユニットとの間の光路中に配置された集光光学系とを有することを特徴とする請求項14に記載の照明光学系。
- 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項14または15に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項14乃至16のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備えていることを特徴とする請求項17に記載の露光装置。
- 請求項17または18に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。 - 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系の光路中に配置されて、所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器の制御方法であって、
前記複数の光学要素の各々には離散的な強度レベルの光束が入射し、該離散的な強度レベルに関する情報に基づいて前記複数の光学要素を個別に制御することを特徴とする制御方法。 - 所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器における前記複数の光学要素の駆動を制御する制御プログラムであって、
請求項20に記載の方法をコンピュータにより実行させることを特徴とする制御プログラム。
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WO2005026843A2 (en) * | 2003-09-12 | 2005-03-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system for a microlithography projection exposure installation |
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US8451427B2 (en) * | 2007-09-14 | 2013-05-28 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method |
JP5267029B2 (ja) * | 2007-10-12 | 2013-08-21 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
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WO2009087805A1 (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-16 | Nikon Corporation | 空間光変調器、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
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