JPWO2011013323A1 - 走査電子顕微鏡 - Google Patents

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Abstract

本発明が解決しようとする課題は、電子顕微鏡本体,排気系,電源および空冷ファンを含む制御系が一つの底板の上に設置される卓上型の電子顕微鏡において、より高分解能の画像を取得することを目的とする。本発明は、電子顕微鏡本体と、電子顕微鏡本体の内部を排気する排気系と、前記電子顕微鏡本体の制御系が底板およびカバーで囲われた空間内部に配置される電子顕微鏡であって、前記制御系は、前記底板に配置され、前記底板には開口部があり、前記電子顕微鏡本体は、前記底板が設置される床上に前記開口部を通るダンパーを介して設置されることを特徴とする。空冷ファンなど装置内部から発生する振動が電子顕微鏡本体に伝わるのを防ぐことで、より高分解能の観察画像を得ることが可能になる。

Description

本発明は、走査電子顕微鏡の防振技術に関し、特に卓上型の走査電子顕微鏡に関する防振技術に関する。
従来から高倍率が得られる走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)は、試料を集束された電子ビ−ムで走査し、それによって試料から出てきた電子を検出して、その検出された信号を用いて画像表示装置に試料の走査電子像を表示することができる。これら電子顕微鏡は、電子線を発生させるのに用いられる電子銃の性質から、数十キロボルトの高電圧が必要である。また、安定した電子線のため、電子顕微鏡内は、真空に保たれていなければならない。したがって、高電圧の発生装置や真空ポンプ、電子顕微鏡自体は耐圧構造でなければならないなど、装置が大がかりになりがちで専用の部屋が必要なこともある。このため、クリーンルームや測定室などに設置される大型のものが一般的であった。また、電子顕微鏡で試料を観察する場合、試料像の劣化を防止する防振技術は必須となる。
従来の電子顕微鏡の防振構造を図2に示す。電子顕微鏡は、通常かなり大型の装置であり、電子顕微鏡本体と、電子顕微鏡本体を制御する制御装置や観察画像を表示するモニタとが別々の架台に保持される。図2に示す構成では、電子銃201,レンズ系203,試料室202および試料ステージ204を含む電子顕微鏡本体205が荷重板206に固定されており、それら荷重板206を含む全体の系が、ダンパー207を介して第1架台208の上に搭載される。このような構造にすることで、床からの振動が電子顕微鏡本体205に伝わりにくくしている。
また、電子顕微鏡本体内を真空排気するためのメインポンプ209は試料室202下部に接続され、試料室202を真空排気する。一方、メインポンプ209からの排気経路は、配管210を介して電子銃201にも接続され、電子銃201およびレンズ系203の内部も真空排気する。メインポンプ209と試料室202の間には、防振用のダンパー211が介してある。本構造により、ポンプから発生する振動の電子顕微鏡本体205への伝播を軽減できる。特許文献1には、このような構造の一例が開示されている。
一方、観察画像が表示されるモニタ212は第2架台213上に保持される。第2架台213の内部には、電子顕微鏡本体205の制御部214やモニタ212に表示される観察画像の画像処理を実行するコンピュータ215が保持される。制御部214やコンピュータ215には冷却用のファンが設けられる場合が多く、電子顕微鏡本体205にとってはこれらも振動源となる。振動源となるメインポンプ209と、制御部214およびコンピュータ215とを分離して異なる架台で保持することにより、電子顕微鏡本体205へ伝播される振動量を低減し、結果として、振動によるノイズがない良好な観察画像を取得することができる。
近年の小型化技術により、テーブルや作業台に設置して使用可能な小型の電子顕微鏡装置が提案されている。このような卓上型の電子顕微鏡は、机上設置という性格上、振動源となる電子顕微鏡本体の制御部や真空ポンプを別々の架台に分離して設置することはできず、同一の筐体内に配置せざるを得ない。図3には、電子顕微鏡本体の制御部や真空ポンプを単純に同一筐体内に設置した卓上型の電子顕微鏡の構造例を示す。電子顕微鏡本体305は、電子銃301,レンズ系303,試料室302および試料ステージ304などを含んで構成される。電子顕微鏡本体305は、系全体を支える底板312に固定され、その間には、防振用のダンパー313が配置される。底板312自身は脚部317によって支持される。また、電子顕微鏡本体内を真空排気するメインポンプ309はレンズ系303の上部と接続され、その間には、防振用のダンパー314が設けられる。また、全体を支えている底板312の上には、電源および基板を含む制御系315が搭載される。制御系315の中には空冷用のファン等が備えられる。電子銃301,レンズ系303,試料室302および試料ステージ304を含む電子顕微鏡本体305および制御系315は全てカバー316によって覆われている。
以上のように、従来の電子顕微鏡の構成要素を単純に同一筐体内に集約した場合、床からの振動およびポンプから発生している振動をダンパーで吸収する構成が採用されることが多い。
実開昭61−79450号公報
図3に示した構造の卓上型の電子顕微鏡では、制御系315が底板312上に固定されている。従って、空冷用ファンから発生する、ダンパー313では防振しきれない振動が電子顕微鏡本体に伝播される場合がある。この結果、画像障害となって観察画像に表れてくることもある。
本発明が解決しようとする課題は、電子顕微鏡本体,排気系,電源あるいは空冷ファンを含む制御系が同一底板上に設置される卓上型の電子顕微鏡において、従来よりも防振機能を向上させた卓上型の電子顕微鏡を実現することを目的とする。
本発明に係る技術思想の一側面によれば、電子顕微鏡本体を支持するダンパーを、電子顕微鏡本体と制御系が支持される底板の高さ方向の位置よりも、電子顕微鏡が設置される設置面側に伸ばすことにより、上記の課題を解決する。より具体的には、底板に開口を設け、上記ダンパーを当該開口よりも下側に伸ばすことにより、従来よりも防振機能を向上させる。ダンパーは、設置面と直接接していてもよいし、何らかの部材を介して設置面と接触していてもよい。
ダンパーの長さを従来よりも長く取ることができるため、電子顕微鏡本体のサイズ(特に高さ)が同じであれば、固有振動数を従来よりも低くすることができる。従って、振動周波数における除振帯域を従来よりも広く取ることが可能となり、その結果、防振性能が従来に比べて向上する。
実施例1の電子顕微鏡の防振構造。 従来の電子顕微鏡の構造。 従来の卓上型電子顕微鏡の構造。 実施例1の電子顕微鏡の電子光学カラムの内部構成図。 実施例1の電子顕微鏡の防振構造の変形例。 実施例2の電子顕微鏡の防振構造。 実施例2の電子顕微鏡の上面図。 ダンパーと脚部を兼用しない場合の走査電子顕微鏡のレイアウトの上面図。
以下、実施形態について説明する。
本実施例では、底板に設けた開口を介して、ダンパーを直接床面と接触させる構成の卓上型走査電子顕微鏡の構成例について説明する。
先ず、電子顕微鏡本体の構造について、図4を用いて以下に説明する。本実施例の走査電子顕微鏡本体は、電子銃1,レンズ系3および試料室2などの構成要素により構成される。図示されてはいないが、試料室2の内部には試料ステージも格納されている。装置使用時には、装置内部は所定の真空度以上となるように真空排気される。電子源17に高圧を印加すると、電子線18が放出される。放出された電子線18はウェネルト電極19の電位により収束作用を受け、軌道を曲げられてウェネルト電極19とアノード電極20の間に第一のクロスオーバー21を作る。電子線18は更に、ウェネルト電極19とアノード電極20の間の電位差(加速電圧)により加速された状態でアノード電極20を通過し、第一のコンデンサレンズ22により収束作用を受ける。この結果、第一のコンデンサレンズ22と第二のコンデンサレンズ23の間に第二のクロスオーバー24が形成される。24のクロスオーバー位置を通過した電子線18は、第二のコンデンサレンズ23により収束作用を受け、第二のコンデンサレンズ23と対物レンズ25の間に第三のクロスオーバー26を形成する。26のクロスオーバー位置を通過した電子線18は、ある広がりをもった状態で対物絞り27を通過し、この結果、一部の電子線のみが対物レンズ25に入射する。対物レンズ25に入射した電子線は収束され、試料台28の表面に照射される。試料表面に照射された電子線18は試料表面で跳ね返ってくる反射電子および試料表面から飛び出てくる二次電子等を発生させる。図示は省略しているが、試料室2内(対物レンズの下面)には検出器が設置されており、これら反射電子および二次電子を検出して検出信号として信号出力する機能を有する。検出信号は、増幅回路およびAD変換器を経た後、画像信号としてモニタに伝送され、画像として表示される。表示される画像の画質は、装置の振動,ノイズあるいは汚れなどの因子に影響を受ける。
図1は、本実施例の走査電子顕微鏡の全体構造を示す断面図である。本実施例の卓上型電子顕微鏡では、電子銃1,レンズ系3,試料室2および試料ステージ4を含む電子顕微鏡本体5は、全体を支える底板12には固定されず、防振用のダンパー13といった振動吸収性を持つ支持部材を介して、装置設置面である床の上に直接設置される。このため、底板12には開口部108が設けられており、ダンパー13はこの開口部を通過して床面と接触する。図示はされていないが、ダンパー13は底板のコーナー4箇所設けられており、電子顕微鏡本体5は設置面に対して4点で支持される。また、底板12自身は、設置面に対しては脚部106により支持される。
電子顕微鏡本体5内を真空排気するメインポンプ9は、防振用のダンパー14を介してレンズ系3の上部と接続される。底板12の上には、電子顕微鏡本体5やメインポンプ9の電源や制御基板、あるいは空冷用ファンなどを含む制御系15が設置される。空冷用ファンは電源,基板を含む制御系15の冷却およびメインポンプ9の冷却のために必須となるものである。電子銃1,レンズ系3,試料室2および試料ステージ4を含む電子顕微鏡本体5および制御系15はカバー16で覆われている。カバー16も底板12により支持されるが、電子顕微鏡本体5とは接触しないように構成される。
図3に示した従来構造では、本実施例の開口部108が無く、ダンパー13は全て底板12上に設置されている。従って従来構造では、ダンパー13の長さは試料室2の底面から底板12の上面107(一点鎖線で示した)までの長さしか取れなかった。それに対し、本実施例の場合には、上面107を超えて設置面側にダンパーの長さを延ばすことができるため、ダンパーの固有振動数を小さくすることができる。従って、従来技術に比べて除振帯域を広くすることができる。
本実施例の電子顕微鏡のもう一つの構造的な特徴は、電子顕微鏡本体5を底板12から切り離して、設置面で直接支持することにより、装置内部で発生する振動をダンパー13から切り離すことができるという点にある。装置内部の主要な振動源は、メインポンプ9と制御系15に設けられた空冷用ファンである。真空排気する必要上、メインポンプ9を電子顕微鏡本体5から切り離すことは困難であるが、制御系15であれば、電気配線を除けば電子顕微鏡本体5と切り離しても差し支えない。
振動源の一つとなる制御系15については、図2に示すように電子顕微鏡本体5とは完全に別ユニットにするという手段もある。しかしながら、卓上型電子顕微鏡の場合には、装置小型化の必要上、電子顕微鏡本体5と制御系15は、同一筐体内に一体配置することが要求される。従って、卓上型電子顕微鏡の場合には本実施例の構造が有効である。
図1の構造では、振動源となる制御系15は底板12から切り離されているため、従来よりも防振性能は向上している。しかしながら、電子顕微鏡本体5が底板12には全く固定されない状態であるため、装置を移動する際に、電子顕微鏡本体5が移動に追従できず、引きずられる格好になってしまう。また、何らかの衝撃を受けることで、電子顕微鏡本体5がダンパーごと飛び上がって底板12上に乗り上げてしまう可能性もある。そこで本実施例では、上記の問題を解決するために、底板の動きに対して電子顕微鏡本体を追従させるための追従機構を底板下部に設けた。以下、この追従機構の構成例について説明する。
図5には本実施例の電子顕微鏡を試料室側から見た正面図を示す(筐体の図示は省略している)。説明の便宜上、主要な構成要素は大きさを強調して記載しているが、各構成要素のサイズは実際には図1に示した電子顕微鏡とほぼ同一である。
本実施例の追従機構は、基本的には、ばねを用いて追従のための張力を発生させる点を特徴としている。図5の構成例では、電子顕微鏡本体5を支持しているダンパー13は途中で分離され、間に板部材31が設けられる。従って、板部材31は、底板12の下側に底板とは離間されて配置されている。ダンパーを分離する構成ではなく、単に板部材31上にダンパーを載せ、ダンパーの下部に第2脚部500を設ける構成にしてもよい。ここで、第2脚部500は床に対して滑らかに動ける方が望ましいため、摩擦係数の小さいポリテトラフルオロエチレン等のフッ化炭素樹脂やデルリンで構成される。
底板12と板部材31の間の空間には、ばね29が設けられる。また、板部材31上には、ばね29の一端を固定するためのピン32が設けられる。一方、ばね29のもう一方の端は、底板12の底面に設けられたピン30に固定する。これにより、底板12と電子顕微鏡本体5を支持しているダンパー13との間に張力33が発生し、底板12の動きに電子顕微鏡本体5が追従するようになる。この際、ピン30,ピン32およびばね29の配置は、張力の釣り合い位置が、試料室2の底面の中心あるいは重心になるように配置する。これにより、ばねの釣り合いの位置では、ダンパー13は各開口部108の中心に位置することになるため、底板12と接触しない状態が保たれる。よって、底板からの振動の伝播を防止することができる。
図5では、紙面左右方向の追従機構を示しているが、紙面奥行き方向についてもピンとばねを設けて、追従のための張力を前後方向にも発生させる構造にする。これにより、底板底面内のXY方向に対して張力が作用するため、電子顕微鏡本体5も移動に追従できるようになる。
電子顕微鏡本体5の底板12上への乗り上げという問題に対しては、試料室2の下部側面にフランジ501を設けて、当該フランジ上にピン34を設置する。同時に、底板12上にシャーシ35を設けて、シャーシの上面がフランジ501に対向するような配置にする。シャーシ35にはピン34を挿入させるための穴36を設け、この際、穴36の大きさをピン34に接触しない程度の大きさにする。これにより、電子顕微鏡本体5が上に飛び上がろうとしたときにシャーシ35で受けとめられるため、乗り上げという問題も解決することができる。
なお、図5の説明では、ピン34は試料室2の下部側面に設けたフランジ501上に垂直に固定しているが、フランジを形成せずに試料室2の側面にピンを横向きに固定し、底板12上に穴の開いた板状部材を垂直に立てて、この穴に横向きにピンを挿入するよう構成しても良い。
実施例1では、電子顕微鏡本体を支持するダンパーを直接床面に接触させた卓上型電子顕微鏡の構成について説明した。しかしながら、単純にダンパーを装置設置面に設置する方式では、底板と電子顕微鏡本体との追従の問題が発生し、実施例2のような追従機構が必要となる。そこで本実施例では、ダンパーの長さを従来よりも長く取ることができるという本発明の利点を活かしつつ、実施例1のような追従の問題が発生しない構成について説明する。
初めに、本実施例の防振構造について説明する。なお、電子光学カラムの内部構成については実施例1と同様であるので説明は省略する。
図6には、本実施例の卓上型電子顕微鏡の断面構造を示した。電子銃601,レンズ系602,主排気ポンプ603,試料室605および試料ステージ605を含む電子顕微鏡本体606が底板611には固定されず、制御系613と筺体610のみが底板611に固定される構成は、実施例1と同じである。電子顕微鏡本体606の内部を真空排気する主排気ポンプ603は、防振用の緩衝器612を介してレンズ系602の上部に接続される。制御系613は、電子光学カラム(電子銃601とレンズ系602によって構成される)ないし主排気ポンプ603の電源や制御基板、あるいは空冷用ファンなどを含んで構成される。以上の電子顕微鏡本体606および制御系613は全て筐体614内に格納されている。
電子顕微鏡本体606は、4個の防振用緩衝器608によって支持される。ここで、底板611には、少なくとも4個の開口穴607が形成されており、上記4個の防振用緩衝器608がそれぞれ通される。一方、4個の開口穴607の下部には第2脚部609がそれぞれ設けられ、底板611とネジ止めされている。第2脚部609の底には、第2脚部受け部材629が取付けられる。第2脚部受け部材は、振動の影響を軽減できるような部材にすることで、外部振動の影響を受けにくくすることができる。
本実施例の防振構造の特徴は、防振用緩衝器608を直接床面とは接触させずに、底板611の下面に設けられた第2脚部609に固定した点にある。防振用緩衝器608と第2脚部609の固定面は、当然ながら底板611よりも下側に位置するので、防振用緩衝器608を底板611の上面で固定していた従来技術よりも防振用緩衝器608の長さを長くすることができる。本実施例の場合、第2脚部609の内面に凹部を設け、凹部の内壁面に防振用緩衝器608を固定しているため、凹部を作らずに第2脚部609の上面で防振用緩衝器608を固定するよりも、第2脚部609の長さを長く取ることができる。同時に、第2脚部609は底板611に固定され、かつ防振用緩衝器608も底板611に固定されているため、実施例1のような追従の問題が起きることはない。
また、上の説明では、第2脚部609は底板611とは別の部品として構成しネジで固定しているが、プレスなどの方法により底板から第2脚部を打ち出すことにより、底板と第2脚部を一体成型しても本実施例の作用効果を奏することができることは明らかである。但し、振動源である筺体10から完全ではないにしても切り離しができ、内部振動の影響を軽減できる効果が生まれるため、第2脚部609と底板611底板は別部材で構成する方がよい。
また、実施例1と同様、本実施例の構造でも内部振動は設置面へ分散して伝播される。つまり、冷却ファン等から発生する内部振動は、先ず、底板611から第2脚部609に伝播し、一部は第2脚部受け部材を経由して床面に伝播する。残りが防振用緩衝器608に伝播し、防振用緩衝器608にて減衰してから前記電子銃601,レンズ系602,主排気ポンプ603,試料室604および試料ステージ605を含む電子顕微鏡本体606に伝播する。
これに対し、図3に示される従来の卓上顕微鏡の構造では、電子顕微鏡本体303を搭載するダンパー313は、底板312上に固定されている。したがって、冷却ファン等から発生する内部振動は、底板312からダンパー313を介して電子顕微鏡本体303に伝播するため、本実施例における構造と比較して、内部から発生する振動の影響を受けやすくなる。よって、本実施例の構造では、内部で発生する振動の影響を従来よりも軽減できる。
また、本実施例によれば、電子顕微鏡本体606を底板611に載せたと想定したときよりも、防振用緩衝器608と電子顕微鏡本体606との固定面を低くすることができる。従って、装置全体の重心位置を従来よりも低くすることができる。電子顕微鏡本体606の高さが従来と変わらないのであれば、筐体614の高さ方向の寸法も、防振用緩衝器608と電子顕微鏡本体606との固定面の差分だけ小さくすることができる。
本実施例に係る防振構造を備えた電子顕微鏡のもう一つの特徴点として、電子顕微鏡本体を支える防振用緩衝器と底板を支持する脚部が同一の支持点を有する点があげられる。図7と図8には、第1脚部と第2脚部の配置を示す上面図を示した。図7が防振用緩衝器と底板を支持する脚部が同一の支持点を有する場合の配置、図8が有さない場合の配置に対応する。
図7において、参照番号701が示す矩形は底板を示し、当該底板701上に、電子銃を含む電子光学カラムと試料室が位置している。図示されていないが、筐体は、底板701の上に固定されている。点線で示される矩形703は電子顕微鏡本体の底面(ほとんど試料室)の底板701への投影面を示す。試料を試料室に搬出あるいは搬入する試料搬入出面は、資料室の正面側(図7の紙面下側)に設けられている。電子光学カラムは702の位置に存在する。制御系は、底板701上で電子顕微鏡本体の反対側に配置されている。706は冷却用ファンを示す。矩形705は制御手段の底面の底板701への投影面である。主排気ポンプは、底板701の概ね中心付近に位置する。
制御手段の投影面705の内部には、底板701の幅方向に渡って配置される一対の第1脚部708が一組配置されている。同じく電子顕微鏡本体の投影面703の内部には、一対の第2脚部707が2組配置されている。
図8の場合、底板701の四隅に第1脚部708と第2脚部707を配置しているが、電子顕微鏡本体の下部には必ず振動吸収性を持つ支持部材を配置する必要があり、本発明のように防振用緩衝器が底板を貫通して設置面まで延伸する構造の場合、防振用緩衝器と脚部とが干渉するため、図8に示されるように試料室の幅を大きくとれない。
一方、本実施例の場合、図6の一点鎖線で示されるように、防振用緩衝器608と第2脚部609とは同軸に固定されている。つまり、防振用緩衝器608が荷重を受ける位置と第2脚部60が荷重を受ける位置とは電子顕微鏡の設置面内で同一である。図7でいえば、防振用緩衝器608は一対の第2脚部707の位置に配置されており、防振用緩衝器と脚部が干渉することがない。従って、図8の構造に比べて試料室の幅を底板の幅一杯まで大きくすることができる。
また、実施例1〜3で示される各実施例の装置の構成要素では電子顕微鏡本体の重量が最も重いため、底板面内での装置全体の重心位置は、底板の中心(図7の一点鎖線の交点)よりも電子顕微鏡本体側に位置している。そこで各実施例では、底板を支える脚部の数を、制御系側よりも電子顕微鏡本体側で多くしている。図7の例では、一対の第1脚部708を制御系側に一組配置し、一対の第2脚部707を電子顕微鏡本体側に二組配置している。これにより、底板701を支える各脚部への荷重を平均化させている。
1,201,301,601 電子銃
2,202,302,604 試料室
3,203,303,602 レンズ系
4,204,304,605 試料ステージ
5,205,305,606 電子顕微鏡本体
9,209,309 メインポンプ
12,312,611,701 底板
13,14,207,211,313,314,612 ダンパー
17 電子源
18 電子線
19 ウェネルト電極
20 アノード電極
21 第一のクロスオーバー
22 第一のコンデンサレンズ
23 第二のコンデンサレンズ
24 第二のクロスオーバー
25 対物レンズ
26 第三のクロスオーバー
27 対物絞り
28 試料台
29 ばね
30,32,34 ピン
31 板
33 張力
35 シャーシ
36 シャーシに設けられた穴
106,317,616 脚部
107 底板の上面
108 開口部
206 荷重板
208 第1架台
210 配管
212 モニタ
213 第2架台
214 制御部
215 コンピュータ
315,613 制御系
316,614 カバー
500,609 第2脚部
501 フランジ
603,704 主排気ポンプ
607 開口穴
608 防振用緩衝器
610 筺体
615 第1脚部
629 第2脚部受け部材
702 電子銃の位置
703 走査電子顕微鏡本体の底板への投影面
705 制御手段の底板への投影面
706 冷却用ファンの位置
707 一対の第2脚部
708,709 一対の第1脚部

Claims (14)

  1. 電子光学カラムと試料室とを含む走査電子顕微鏡本体と、当該走査電子顕微鏡本体の制御手段とが同一の筐体内に配置される走査電子顕微鏡において、
    前記筐体、前記走査電子顕微鏡本体および前記制御手段の下部に配置された底板と、
    前記底板の前記制御手段側の底面に設けられた第1脚部と、
    前記底板の前記走査電子顕微鏡側に設けられた開口と、
    前記走査電子顕微鏡本体の底面に固定され、かつ前記開口を貫通するよう配置されるダンパーとを備えることを特徴とする走査電子顕微鏡。
  2. 請求項1に記載の走査電子顕微鏡において、
    前記ダンパーが前記設置面に対して直接接触するように構成されたことを特徴とする走査電子顕微鏡。
  3. 請求項1に記載の走査電子顕微鏡において、
    前記開口の下部に設けられた第2脚部を備え、
    前記ダンパーが第2脚部の内壁面に固定されたことを特徴とする走査電子顕微鏡。
  4. 請求項1に記載の走査電子顕微鏡において、
    前記底板ないし前記筐体の動きに前記走査電子顕微鏡本体を追従させるための追従機構を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。
  5. 請求項4に記載の走査電子顕微鏡において、
    前記追従機構は、
    前記ダンパーと固定され、かつ前記底板の前記設置面側に当該底板とは離間して設けられる板部材と、
    前記板部材と底板の間に設けられたばねと、
    当該ばねを前記底板の底面および前記板部材の表面に固定する固定手段とを備えることを特徴とする走査電子顕微鏡。
  6. 請求項1に記載の走査電子顕微鏡において、
    前記底板の上面側に設けられ、かつ開口を有するシャーシと、
    前記試料室に取り付けられ、かつ前記開口に挿入されたピンとを備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。
  7. 電子光学カラムと試料室とを含む走査電子顕微鏡本体と、当該走査電子顕微鏡本体の制御手段とが同一の筐体内に配置される走査電子顕微鏡において、
    前記筐体、前記走査電子顕微鏡本体および前記制御手段の下部に配置された底板と、
    前記底板の前記制御手段側の底面に設けられた第1脚部と、
    前記底板の前記走査電子顕微鏡側の底面に設けられた第2脚部と、
    前記走査電子顕微鏡本体の底面に固定され、かつ前記第2脚部と同軸に固定されたダンパーとを備えることを特徴とする走査電子顕微鏡。
  8. 請求項7に記載の走査電子顕微鏡において、
    前記ダンパーが、前記底板に設けられた貫通孔を介して前記ダンパーの内壁面と固定されたことを特徴とする走査電子顕微鏡。
  9. 請求項7に記載の走査電子顕微鏡において、
    前記第2脚部は、前記底板とは別の部材により構成されることを特徴とする走査電子顕微鏡。
  10. 請求項7に記載の走査電子顕微鏡において、
    前記第2脚部は、前記底板と一体成型された部材であることを特徴とする走査電子顕微鏡。
  11. 請求項7に記載の走査電子顕微鏡において、
    前記第2脚部の底面に設けられた受け部材を更に備えることを特徴とする走査電子顕微鏡。
  12. 請求項7に記載の走査電子顕微鏡において、
    前記ダンパーは前記走査電子顕微鏡本体の下面に少なくとも4つ配置され、
    前記第1脚部は、前記底板の前記制御手段側下面に少なくとも2つ配置されることを特徴とする走査電子顕微鏡。
  13. 電子光学カラムと試料室とを含む走査電子顕微鏡本体と、当該走査電子顕微鏡本体の制御手段とが同一の筐体内に配置される走査電子顕微鏡において、
    前記走査電子顕微鏡本体および前記制御手段の下部に配置される底板と、
    前記底板の底面に配置された複数の脚部とを備え、
    当該複数の脚部のうち、前記走査電子顕微鏡本体の下面に配置される脚部は振動吸収性を備え、
    更に、前記脚部の数は、前記底板の前記走査電子顕微鏡本体側で前記制御手段側よりも多いことを特徴とする走査電子顕微鏡。
  14. 請求項13に記載の走査電子顕微鏡において、
    前記底板の前記走査電子顕微鏡本体の下面側に前記一対の脚部に対応して設けられた貫通孔と、
    前記走査電子顕微鏡本体の底面に固定された複数のダンパーとを備え、
    当該複数のダンパーが、前記貫通孔を介して前記脚部の内壁面と固定されることにより、当該脚部が振動吸収性を有することを特徴とする走査電子顕微鏡。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6246393B2 (ja) * 2015-04-28 2017-12-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置、設置方法
JP6633986B2 (ja) 2016-07-20 2020-01-22 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2106378C3 (de) * 1971-02-05 1974-06-20 Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V., 3400 Goettingen Korpuskularstrahlmikroskop, insbesondere Elektronenmikroskop, mit einem schwingungsfähigen Fundament
GB1400389A (en) * 1971-06-23 1975-07-16 Ass Elect Ind Arrangements for supporting a mass with vibration isolation
DE2540594C2 (de) * 1975-09-09 1977-11-03 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Korpuskularstrahlmikroskop, insbesondere Elektronenmikroskop, mit einem schwingungsgedämpften Sockel
JPS611U (ja) 1984-06-06 1986-01-06 フジタ工業株式会社 埋め込み金物測定ゲ−ジ
JPH0624124Y2 (ja) * 1989-06-09 1994-06-22 日本電子株式会社 走査電子顕微鏡
JPH0845462A (ja) * 1994-07-27 1996-02-16 Topcon Corp 搬送装置を備えた走査型電子顕微鏡
US5559329A (en) * 1994-08-31 1996-09-24 Touchstone Research Laboratory, Ltd. Scanning electron microscope fiber push-out apparatus and method
DE69631362T2 (de) * 1995-10-04 2004-11-04 Ebara Corp. Vorrichtung zur Schwingungsdämpfung
AU1691899A (en) * 1997-12-26 1999-07-19 Nikon Corporation Exposure apparatus, method of producing the apparatus, and exposure method, and device and method of manufacturing the device
US6246190B1 (en) * 1999-07-30 2001-06-12 Etec Systems, Inc. Integrated electron gun and electronics module
JP2004176851A (ja) * 2002-11-28 2004-06-24 Fujikura Rubber Ltd 除振台
CN1518049A (zh) * 2003-01-28 2004-08-04 ������������ʽ���� 电子显微镜
JP2004253374A (ja) 2003-01-28 2004-09-09 Hitachi Ltd 電子顕微鏡
JP2005010059A (ja) 2003-06-20 2005-01-13 Jeol Ltd 走査形プローブ顕微鏡
JP2005077498A (ja) 2003-08-28 2005-03-24 Ricoh Co Ltd 画像形成装置
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