JPWO2010016551A1 - ジベンゾフルベンの除去方法 - Google Patents

Abstract

Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物を窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物と反応させることにより脱保護して得られる、ジベンゾフルベンアミン付加体を含む反応混合物を、二酸化炭素と接触させ、ジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を除去することにより、ジベンゾフルベンアミン付加体を除去する。またはＦｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物の脱保護反応中または反応後の反応混合物に、窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物を混合してジベンゾフルベンアミン付加体を含む混合物を得、該混合物を二酸化炭素と接触させ、ジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を除去することにより、ジベンゾフルベンアミン付加体を除去する。

Description

本発明は、Ｆｍｏｃ（９−フルオレニルメトキシカルボニル）基で保護されたアミノ酸化合物の脱保護の際に副生するジベンゾフルベンアミン付加体を効率的に除去する方法等に関する。

Ｆｍｏｃ基はアミノ基の保護基であり、保護された化合物に適度な脂溶性を付与し取り扱いが容易になる、ＵＶ吸収が付与されるため反応の追跡が容易になる、中性〜酸性域で安定である、アミンとの緩和な反応条件で容易に脱保護できるなど利点が多いため、広く使用されている。特に、ペプチド合成におけるアミノ酸やペプチドのアミノ基の重要な保護基である。

Ｆｍｏｃ基を脱保護する際には、ジベンゾフルベンと脱保護試薬であるアミンとの付加体（以下、本明細書において「ジベンゾフルベンアミン付加体」と称する場合がある。）が副生するが、特にペプチド合成においては、該ジベンゾフルベンアミン付加体が残留したまま次工程に進めると、９−フルオレニルメチル化などの副反応を引き起こす恐れがあるため効率的に除去する必要がある。しかしながら、ジベンゾフルベンアミン付加体は脂溶性が高いため、反応混合物の水洗などでは除去することができない。

ペプチド合成においてＦｍｏｃ基は、固体支持体の洗浄によりジベンゾフルベンアミン付加体を容易に除去することができる固相合成法の保護基として主に利用されている。しかし、固相法は反応が固体支持体表面に限定されるためスケールアップや反応性に課題がある。

一方、ペプチドの液相合成法では、ジベンゾフルベンアミン付加体の除去が容易ではないため、脱保護の副生物を気体（イソブテン、二酸化炭素）として除去できるＢｏｃ基（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）が主に利用されている。しかし、システインやメチオニンなどの含硫アミノ酸を含むペプチドを合成する際には、Ｎ末端にＢｏｃ基を使用し、アミノ酸側鎖の官能基の保護やＣ末端の保護にＺ基を組み合わせて使用する、いわゆるＢｏｃ法は、含硫アミノ酸により触媒が被毒されて接触還元によりＺ基を脱保護することができないので採用することはできず、Ｎ末端保護基としてＦｍｏｃ基の使用が望まれる場合がある。
このような背景から、スケールアップが容易であり、ペプチド医薬品などの工業的生産に適した液相法において、保護基としてＦｍｏｃ基を使用した場合に、ジベンゾフルベンアミン付加体を効率的に除去できる方法の開発が望まれている。

非特許文献１には、ペプチドの液相合成においてジベンゾフルベンアミン付加体を除去するために、反応抽出物を濃縮乾固した残渣にヘキサンなどの炭化水素溶媒を加えてトリチュレートすることによりジベンゾフルベンアミン付加体を溶媒に溶解させ、脱保護されたペプチドを結晶として単離する方法が記載されている。
しかし、この方法は操作性が悪く、大スケールでは再現性が得られない場合もあり、工業的生産には不向きである。また、目的の脱保護されたペプチドが油状物の場合にはこの方法は用いることができず、該ペプチドが結晶化することが必要である。さらに、ペプチド鎖が短い段階ではペプチド自体が炭化水素溶媒に溶解してしまい回収率が低下するなどの問題もある。

実験化学講座第５版、（日本国）、丸善出版社、平成１７年３月３１日発行、第１６巻、２７２頁

本発明の目的は、Ｆｍｏｃ基を保護基として使用した場合において、脱保護後に副生するジベンゾフルベンアミン付加体の効率的な除去方法を提供し、特にペプチドの液相合成において工業的製造に適用可能な方法、さらにはワンポット合成を可能とする方法に繋げる操作法を提供することである。

本発明者らは上記課題を解決するため、ジベンゾフルベンアミン付加体の除去方法を鋭意検討した結果、ジベンゾフルベンアミン付加体を含む混合物を二酸化炭素と接触させて炭酸塩とすることにより、簡便にジベンゾフルベンアミン付加体が除去できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下を包含する。

［１］Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物を、窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物と反応させることにより脱保護して得られる反応混合物からジベンゾフルベンアミン付加体を除去する方法であって、
該反応混合物を二酸化炭素と接触させる工程、およびジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を除去する工程
を含むことを特徴とする方法。
［２］Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物の脱保護により生成するジベンゾフルベンを除去する方法であって、
脱保護反応中または反応後の反応混合物に、窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物を混合してジベンゾフルベンアミン付加体を含む混合物を得る工程、該混合物を二酸化炭素と接触させる工程、およびジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を除去する工程
を含むことを特徴とする方法。
［３］ジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を、酢酸エステル、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、アセトンおよびエーテルから選ばれる少なくとも一種を含む溶媒中で析出させる、上記［１］または［２］記載の方法。
［４］ジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を濾過により除去する、上記［３］記載の方法。
［５］窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物が、ジアミン類である上記［１］〜［４］のいずれかに記載の方法。
［６］窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物が、４−アミノメチルピペリジン、４−ジメチルアミノピペリジン、１，５−ジアミノペンタンおよび１，２−ジアミノシクロヘキサンから選ばれる、上記［５］記載の方法。
［７］Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物が、Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸エステル、Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸アミド又はＦｍｏｃ基で保護されたペプチドである、上記［１］〜［６］のいずれかに記載の方法。
［８］上記［７］記載の方法を含む、液相合成法によるペプチドの製造方法。
［９］（１）Ｃ−保護ペプチド、Ｃ−保護アミノ酸またはＣ−保護アミノ酸アミドを、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸と、縮合剤の存在下縮合させる工程、および／または
（２）Ｃ−保護ペプチド、Ｃ−保護アミノ酸またはＣ−保護アミノ酸アミドを、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸活性エステルと縮合させる工程
を含む上記［８］記載の方法。
［１０］上記［９］の（１）記載の工程において、さらに活性化剤を存在させる、上記［９］記載の方法。
［１１］上記［１］記載の工程で得られた中間体ペプチドを固体として単離せずに上記［９］記載の工程に供することを含む、上記［９］または［１０］記載の方法。
［１２］ワンポット合成で行う、上記［８］〜［１１］のいずれかに記載の方法。

本発明により、Ｆｍｏｃ基を脱保護した際に副生するジベンゾフルベンアミン付加体を簡便に除去する方法が提供される。該方法は、結晶のトリチュレートなどの煩雑な操作を要せず、大スケール反応にも容易に適用可能である。したがって、Ｆｍｏｃ基の工業的生産への利用が容易になり、アミノ基の保護が必要である化合物の製造法の選択肢を格段に広げることができる。
特に、本発明の方法をペプチドの液相合成法に適用した場合、ジベンゾフルベンアミン付加体を濾過のみで簡便に除去し、さらに必要に応じて塩酸塩などにすることにより、脱保護により得られるＮ末端無保護のペプチドを簡便に精製することができる。したがって、次工程のペプチド伸長反応へそのまま繋ぐことができるので、ペプチドのワンポット合成が可能となり、工業的生産に特に好適である。

本明細書において使用される記号、略号の意味を以下に示す。
（１）Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
（２）Ｚ：ベンジルオキシカルボニル
（３）Ｆｍｏｃ：９−フルオレニルメトキシカルボニル
（４）Ｂｓｍｏｃ：１，１−ジオキソベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメトキシカルボニル
（５）Ａｌｌｏｃ：アリルオキシカルボニル
（６）Ａｃ：アセチル
（７）Ｐｂｆ：２，２，４，６，７−ペンタメチルジヒドロベンゾフラン−５−スルホニル
（８）Ｍｅ：メチル
（９）Ｅｔ：エチル
（１０）ｉＰｒ：イソプロピル
（１１）ｔＢｕ：ｔｅｒｔ−ブチル
（１２）Ｂｚｌ：ベンジル
（１３）Ｆｍ：９−フルオレニルメチル
（１４）Ｔｒｔ：トリチル
（１５）Ｄｐｍ：ジフェニルメチル
（１６）Ｂｐｒ：１，１−ジメチル−２−フェニル−エチル
（１７）Ｄｍｂ：２，４−ジメトキシベンジル
（１８）ＨＯＢｔ：１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
（１９）６−Ｃｌ−ＨＯＢｔ（ＨＯＣｔ）：６−クロロ−１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
（２０）ＨＯＡｔ：１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール
（２１）ＨＯＯＢｔ（ＨＯＤｈｂｔ）：３−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロ−４−オキソ−１．２．３−ベンゾトリアジン
（２２）ＨＯＳｕ：Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド
（２３）ＨＯＰｈｔ：Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
（２４）ＨＯＮｂ：Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド
（２５）Ｂｔ：ベンゾトリアゾール−１−イル
（２６）Ｃｔ：６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル
（２７）Ａｔ：７−アザベンゾトリアゾール−１−イル
（２８）Ｄｈｂｔ：３，４−ジヒドロ−４−オキソ−１．２．３−ベンゾトリアジン−３−イル
（２９）Ｓｕ：スクシンイミドイル
（３０）Ｐｈｔ：フタルイミドイル
（３１）Ｎｂ：５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミドイル
（３２）ＤＣＣ：ジシクロヘキシルカルボジイミド
（３３）ＥＤＣ：１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）−カルボジイミド
（３４）ＥＤＣ．ＨＣｌ：１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）−カルボジイミド塩酸塩
（３５）ＤＩＰＣ：ジイソプロピルカルボジイミド
（３６）ＢＯＰ：１−ベンゾトリアゾリルオキシ−トリス−ジメチルアミノ−ホスホニウム ヘキサフルオロホスフェート
（３７）ＰｙＢＯＰ：１−ベンゾトリアゾリルオキシ−トリス−ピロリジノ−ホスホニウム ヘキサフルオロホスフェート
（３８）ＰｙＢｒｏＰ：ブロモ−トリス−ピロリジノ−ホスホニウム ヘキサフルオロホスフェート
（３９）ＨＢＴＵ：Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロホスフェート
（４０）ＴＢＴＵ：Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート
（４１）ＨＣＴＵ：Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロホスフェート
（４２）ＨＡＴＵ：Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロホスフェイト
（４３）ＣＤＩ：カルボニルジイミダゾール
（４４）ＤＢＵ：１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン
（４５）ＤＭＴ−ＭＭ：４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４−メチルモルホニウム クロリド
（４６）ＡＡ_ｎ：アミノ酸残基（下付のｎは１以上の任意の整数であり、ペプチドＣ末端からの順番を示す。）
（４７）ＰＧ_０：ペプチドのＣ末端カルボキシル基またはＣ末端アミド基の保護基
（４８）ＰＧ_ｎ：アミノ基の保護基（下付のｎは１以上の任意の整数であり、ＡＡ_ｎのアミノ基の保護基であることを示す。）
（４９）ＨＯＥ：活性化剤
（５０）Ｅ：活性エステル基
（５１）Ｇｌｙ：グリシン
（５２）Ａｌａ：アラニン
（５３）Ｖａｌ：バリン
（５４）Ｌｅｕ：ロイシン
（５５）Ｉｌｅ：イソロイシン
（５６）Ｍｅｔ：メチオニン
（５７）Ｐｈｅ：フェニルアラニン
（５８）Ｔｙｒ：チロシン
（５９）Ｔｒｐ：トリプトファン
（６０）Ｈｉｓ：ヒスチジン
（６１）Ｌｙｓ：リジン
（６２）Ａｒｇ：アルギニン
（６３）Ｓｅｒ：セリン
（６４）Ｔｈｒ：トレオニン
（６５）Ａｓｐ：アスパラギン酸
（６６）Ｇｌｕ：グルタミン酸
（６７）Ａｓｎ：アスパラギン
（６８）Ｇｌｎ：グルタミン
（６９）Ｃｙｓ：システイン
（７０）Ｐｒｏ：プロリン
（７１）Ｏｒｎ：オルニチン
（７２）Ｓａｒ：サルコシン
（７３）β−Ａｌａ：β−アラニン
（７４）ＧＡＢＡ：γ−アミノ酪酸
（７５）Ｄａｐ：２，３−ジアミノプロパン酸

ＰＧ_０で示されるＣ末端カルボキシル基の保護基としては、Ｍｅ、Ｅｔ、ｉＰｒ、ｔＢｕなどのアルキル基、Ｚ、Ｆｍ、Ｔｒｔ、Ｄｐｍ、Ｂｐｒ、1−１−ジメチルベンジル、ジメチルフェニル等が挙げられる。
ＰＧ_０で示されるＣ末端アミド基の保護基としては、Ｄｍｂ、ビス（４−メトキシフェニル）メチル、トリチル等が挙げられる。
ＰＧ_ｎで示されるアミノ基の保護基としては、Ｂｏｃ、Ｚ、Ｆｍｏｃ、Ｂｓｍｏｃ、Ａｌｌｏｃ、Ａｃ等が挙げられる。
Ｅで示される活性エステル基とは、アミノ基による求核攻撃を受けて「ＥＯ⁻」として容易に脱離し、アミド結合を生成させ得る基を意味し、Ｂｔ、Ｃｔ、Ａｔ、ＯＢｔ、Ｓｕ、Ｐｈｔ、Ｎｂ、ペンタフルオロフェニル等が挙げられる。

１．ジベンゾフルベンアミンの除去方法
本発明のジベンゾフルベンアミンの除去方法は、Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物を窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物と反応させることにより脱保護して得られる反応混合物を、二酸化炭素と接触させ、ついで生成するジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を除去する工程を含むことを特徴とする。また、Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物を窒素原子が水素原子を含まないＤＢＵなどと反応させることにより脱保護して得られる反応混合物に、反応中もしくは反応後に窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物を加えることによりジベンゾフルベンアミン付加体を生成させ、続く二酸化炭素との接触により生成するジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を除去する工程を採ることもできる。
かかる操作により、意外なことに脱保護されたアミノ酸化合物が有機溶媒に溶解し、かつ、ジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩は有機溶媒にほとんど溶解することなく固体として取り扱うことが可能となるため、濾過等の簡便な固液分離手段で分離することにより、ジベンゾフルベンアミン付加体を除去することができる。したがって、結晶化やクロマトグラフィーなどの操作によることなく、所望のアミノ酸化合物を簡便に精製または単離することができる。

ジベンゾフルベンとは、Ｆｍｏｃ基が脱保護する際に生成する副生成物であり、ジベンゾフルベンアミン付加体とは、アミン化合物の少なくとも一つの水素原子を有する窒素原子がジベンゾフルベンに付加した化合物を意味する。

「Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物」の「アミノ酸化合物」とは、分子内に、１級アミノ基および／または２級アミノ基、並びにカルボキシル基および／またはエステル化、チオエステル化またはアミド化されたカルボキシル基を有する化合物である。かかるアミノ酸化合物の好適な例としては、ペプチド（Ｃ末端がアミド化、エステル化されたものを含む）、アミノ酸エステル、アミノ酸アミド等が挙げられる。
ここで、ペプチド、アミノ酸エステル、アミノ酸アミドは、Ｎ末端としての１級アミノ基または２級アミノ基の他に、アミン性の側鎖官能基（アミノ基、インドール、グアニジン等）を有していてもよく、これらアミン性の側鎖官能基は保護基で保護されていても良い。またペプチドのＣ末端のカルボキシル基、アミド基も保護されていても、保護されていなくてもよい。またペプチド、アミノ酸エステル、アミノ酸アミドがカルボキシル基、アミド基及びアミノ基以外の側鎖官能基を有する場合、該側鎖官能基は保護されていても、保護されていなくてもよい。
カルボキシル基が保護されている場合、好ましいカルボキシル基の保護基としてはメチル、エチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜６のアルキル、ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、Ｄｐｍ、アリル、Ｂｐｒ等が挙げられる。
アミド基が保護されている場合、好ましいアミド基の保護基としてはＤｍｂ、ビス（４−メトキシフェニル）メチル等が挙げられる。

「Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物」は、アミノ酸化合物が有する第１級アミノ基および／または第２級アミノ基並びにアミン性側鎖官能基の少なくとも一つがＦｍｏｃ基で保護されていればよい。Ｆｍｏｃ基で保護されていない第１級アミノ基および／または第２級アミノ基並びにアミン性側鎖官能基は、無保護であっても、Ｆｍｏｃ基以外のアミノ基の保護基（アミン保護基）（例えば、Ｂｏｃ、Ｚ、Ｂｓｍｏｃ、Ａｌｌｏｃ、Ａｃ等）で保護されていてもよい。
「Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物」は、Ｎ末端アミノ基がＦｍｏｃ基で保護されており、アミン性の側鎖官能基がある場合、該アミン性の側鎖官能基はＦｍｏｃ基以外のアミノ保護基で保護されている態様が好ましい。

「窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物」としては、Ｆｍｏｃ基を脱保護させる程度の求核性を有し、少なくとも一つの水素原子を有する窒素原子がジベンゾフルベンと付加体を形成するものであれば特に限定されず、例えば、モノアミン類（例、ジエチルアミン、ジメチルアミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、プロピルアミン等）、多価アミン類（４−アミノメチルピペリジン、４−ジメチルアミノピペリジン、１，５−ジアミノペンタン、１，８−ジアミノオクタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，６−ジアミノヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン、アミノメチルピリジン、１，２−ジアミノシクロヘキサン等のジアミン類、ジエチレントリアミン等のトリアミン類）が挙げられる。
該窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物は、ジベンゾフルベンアミン付加体が炭酸塩を良好に形成し、該炭酸塩の溶媒中での良好な結晶性の観点から、多価アミン類が好ましく、特に、４−アミノメチルピペリジン、４−ジメチルアミノピペリジン、１，５−ジアミノペンタン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、ジエチレントリアミン等が好ましい。

「ジベンゾフルベンアミンの除去」とは、脱保護によって得られるＮ−無保護アミノ酸化合物とジベンゾフルベンアミンを含む反応混合物から、ジベンゾフルベンアミンを除くことを意味し、ジベンゾフルベンアミン付加体を除去する場合も含む。

本発明のジベンゾフルベンアミンの除去方法の第一の態様としては、
（ａ）Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物と窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物を、有機溶媒中で混合し、アミノ酸化合物とジベンゾフルベンアミン付加体を含む反応混合物を得る工程、
（ｂ）該反応混合物を二酸化炭素と接触させて、ジベンゾフルベンアミン付加体を炭酸塩にする工程、および
（ｃ）ジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を反応混合物から除去する工程
により行うことができる。
また、本発明のジベンゾフルベンアミンの除去方法の第二の態様としては、
（ａ’）Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物と窒素原子が水素原子を有さないアミン化合物を、有機溶媒中で混合し、アミノ酸化合物とジベンゾフルベンを含む反応混合物を得る工程、
（ｂ’）工程（ａ’）の反応中または反応終了後の反応混合物と窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物を、有機溶媒中で混合し、アミノ酸化合物とジベンゾフルベンアミン付加体を含む反応混合物を得る工程、
（ｃ’）該反応混合物を二酸化炭素と接触させて、ジベンゾフルベンアミン付加体を炭酸塩にする工程、および
（ｄ’）ジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を反応混合物から除去する工程
により行うこともできる。

窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物の使用量は、Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物に対して、通常２〜１００当量、好ましくは５〜２０当量である。この範囲より少ないと、未反応のＦｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物が残りやすく、多いと過剰のアミン化合物の除去が困難になりやすい。

工程（ａ）の脱保護反応の溶媒としては、脱保護反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、脱保護の対象となるＦｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物にもよるが、例えば、ＤＭＦ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、クロロホルムなどまたはそれらの混合溶媒が挙げられる。混合溶媒とする場合は、任意の割合で混合することができる。溶媒の使用量は、Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物に対して、通常３〜１００倍重量であり、好ましくは５〜２０倍重量である。

工程（ａ）の反応温度は、脱保護の対象となるＦｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物にもよるが、通常０〜４０℃、好ましくは５〜３０℃の範囲内である。反応時間は、上記温度範囲内で、通常１〜２０時間である。

工程（ａ’）は、「窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物」の代わりに「窒素原子が水素原子を有さないアミン化合物」を用いて、工程（ａ）と同様に行うことができる。
「窒素原子が水素原子を有さないアミン化合物」としては、ＤＢＵなどが挙げられる。
工程（ｂ’）は、工程（ａ’）の反応中または反応終了後の反応混合物に窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物を加え、攪拌することにより行うことができる。窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物の使用量、その他の条件は、工程（ａ）と同様である。

工程（ａ）または工程（ｂ’）の反応終了後、得られるアミノ酸化合物とジベンゾフルベンアミン付加体を含む反応混合物に二酸化炭素を接触させる。
二酸化炭素を接触させる方法としては、特に限定されず、例えば、二酸化炭素の気体を、管を通して吹き込む方法、炭酸水を加える方法、ドライアイスを加える方法等が挙げられ、操作性の観点から、二酸化炭素の気体を管を通して吹き込む方法が好ましい。

工程（ａ）の脱保護反応が、ジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を溶解しやすい溶媒中（例えば、ＤＭＦ、ＮＭＰ）で行われた場合は、反応混合物にジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を溶解しにくい溶媒を加えた後に、二酸化炭素と接触させることが好ましい。かかる溶媒としては、酢酸エチル、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、アセトン、エーテル等が挙げられる。当該溶媒の使用量は、特に限定されないが、脱保護反応に用いた溶媒に対して５〜５０倍容量の範囲から選択すればよい。

工程（ｂ）の反応温度は、通常０〜４０℃、好ましくは５〜３０℃の範囲内である。反応時間は、上記温度範囲内で、通常５分〜１時間である。

工程（ｂ）終了後、アミノ酸化合物が溶媒に溶解し、かつジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩が析出した混合物を得ることができ、該炭酸塩を通常の固液分離手段により、混合物から除去することにより、ジベンゾフルベンアミン付加体を除去することができる。
固液分離手段としては、濾過、遠心分離、デカントなどの通常の方法を制限なく採用することができ、操作性の観点から濾過が好ましい。

工程（ｃ）により得られたアミノ酸化合物を含む溶液（濾液）は、必要に応じて水洗、塩基性または酸性水溶液洗浄等を行うことにより、少量残存したジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩、過剰のアミン化合物、ＤＭＦ等の水溶性溶媒などを除去することができる。
このようにして得られた溶液を濃縮することにより、Ｆｍｏｃ基が脱保護されたアミノ酸化合物を単離することができ、また、アミノ酸化合物の溶液をそのまま、後述のペプチド液相合成法の原料として用いることもできる。
さらに、必要に応じて、該溶液に酸（塩化水素、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸等）を添加することにより、アミノ酸化合物を酸付加塩（塩酸塩、トルエンスルホン酸塩、メタンスルホン酸塩、臭化水素酸塩、トリフルオロ酢酸塩等）として単離してもよい。
工程（ｃ’）および（ｄ’）は、工程（ｂ）および（ｃ）とそれぞれ同様に行うことができる。

２．ペプチド液相合成法
アミノ酸化合物がペプチド、アミノ酸エステル又はアミノ酸アミドである場合、本発明のジベンゾフルベンアミンの除去方法は、ペプチドの液相合成法に好適に適用できる。以下、本発明のジベンゾフルベンアミンの除去方法をペプチドの液相合成法に適用した一態様（以下、本明細書において、「本発明のペプチド液相合成法」という。）について説明するが、本発明がこれに限定されないことはいうまでもない。

２−１．用語の説明
本発明のペプチド液相合成法に使用される用語の意義について説明する。
本発明のペプチド液相合成法において「ペプチド」とは、Ｃ末端がカルボキシル基またはアミド基である場合の両方が含まれる。
本発明のペプチド液相合成法において「Ｆｍｏｃ基で保護されたペプチド、アミノ酸エステル、アミノ酸アミド」の脱保護は、ペプチドの液相合成法に含まれるＦｍｏｃ基の脱保護であれば、特に限定されない。例えば、後掲のＮ末端脱保護工程であってもよいし、最終脱保護における側鎖アミノ基の脱保護であってもよい。好ましくは、後掲のペプチド伸長反応において、次工程のカップリングの対象となるアミノ基を生成させる脱保護である。

本発明のペプチド液相合成法においてアミノ酸を「Ｈ−ＡＡ−ＯＨ」と表示した場合は、左側がアミノ基、右側がカルボキシル基であることを意味し、アミノ基およびカルボキシル基がそれぞれ保護されていないことを意味する。
この場合において、例えば、カルボキシル基が保護されている場合は、「Ｈ−ＡＡ−ＯＰＧ_０」と表示され、アミノ基が保護されている場合は、「ＰＧ_ｎ−ＡＡ−ＯＨ」と表示される。
アミノ基が保護されたアミノ酸のカルボキシル基が活性エステル化されている場合は、「ＰＧ_ｎ−ＡＡ−ＯＥ」と表示される。
ＰＧ_ｎ−ＡＡ−ＯＨの対称酸無水物は、「（ＰＧ_ｎ−ＡＡ）_２−Ｏ」と表示される。

本発明のペプチド液相合成法においてアミノ酸アミドを「Ｈ−ＡＡ−ＮＨ_２」と表示した場合は、左側がアミノ基、右側がアミド基であることを意味し、アミノ基およびアミド基がそれぞれ保護されていないことを意味する。
この場合において、例えば、アミド基が保護されている場合は、「Ｈ−ＡＡ−ＮＨＰＧ_０」と表示され、アミノ基が保護されている場合は、「ＰＧ_ｎ−ＡＡ−ＮＨ_２」と表示される。

アミノ酸又はアミノ酸アミドが側鎖官能基を有する場合に、該官能基が保護されている場合は、「Ｈ−ＡＡ（ＰＧ）−（ＯＨｏｒ ＮＨ_２）」（ＰＧは側鎖官能基の保護基を示す）と表示される。

本発明のペプチド液相合成法においてペプチドを「Ｈ−ＡＡ_ｎ’−ＡＡ_ｎ’−１−・・・−ＡＡ_１−（ＯＨ ｏｒ ＮＨ_２）」（下付けのｎ’は２以上の任意の整数を示す。）と表示した場合は、左側がＮ末端、右側がＣ末端であり、Ｎ末端およびＣ末端がそれぞれ保護されていないアミノ酸残基をｎ’個有するペプチドであること意味する。ここで、Ｎ末端とはアミノ酸残基のα位アミノ基に限定されず、ペプチド伸長が側鎖アミノ基（例えば、Ｌｙｓのεアミノ基）を介して行われる場合は、当該側鎖アミノ基もＮ末端に含まれる。以下、同様。
この場合において、例えば、Ｃ末端が保護されている場合は、「Ｈ−ＡＡ_ｎ’−ＡＡ_ｎ’−１−・・・−ＡＡ_１−(ＯＰＧ_０ ｏｒ ＮＨＰＧ_０）」と表示し、さらにＮ末端が保護されている場合は、「ＰＧ_ｎ’−ＡＡ_ｎ’−ＡＡ_ｎ’−１−・・・−ＡＡ_１−(ＯＰＧ_０ ｏｒ ＮＨＰＧ_０）」と表示するものとする。

本発明のペプチド液相合成法により合成されるペプチドの構成単位となるアミノ酸残基としては、天然アミノ酸または非天然アミノ酸が特に限定されることなく含まれ、また、それらのＬ体またはＤ体あるいはラセミ体も包含される。
天然アミノ酸としては、Ｇｌｙ、Ａｌａ、Ｖａｌ、Ｌｅｕ、Ｉｌｅ、Ｓｅｒ、Ｔｈｒ、Ａｓｎ、Ｇｌｎ、Ａｓｐ、Ｇｌｕ、Ｌｙｓ、Ａｒｇ、Ｃｙｓ、Ｍｅｔ、Ｐｈｅ、Ｔｙｒ、Ｔｒｐ、Ｈｉｓ、Ｐｒｏ、Ｏｒｎ、Ｓａｒ、β−Ａｌａ、ＧＡＢＡ等又はそのアミド体が挙げられる。
非天然アミノ酸としては、Ｄａｐ等が挙げられる。
また、当該アミノ酸が側鎖に官能基を有する場合に、該官能基を保護基により保護したアミノ酸とすることもできる。かかる側鎖保護アミノ酸としては、例えば、Ｇｌｕのγ位又はＡｓｐのβ位のカルボキシル基をベンジル基で保護したγ-Ｂｚｌ−Ｇｌｕ又はβ−Ｂｚｌ−Ａｓｐ；Ｇｌｕのγ位又はＡｓｐのβ位のカルボキシル基をｔｅｒｔ−ブチル基で保護したγ-ｔＢｕ−Ｇｌｕ又はβ−ｔＢｕ−Ａｓｐ；Ｌｙｓのε位のアミノ基を保護したε−Ｚ−Ｌｙｓ、ε−Ｂｏｃ−Ｌｙｓ、ε−ｉＰｒ−ε−Ｂｏｃ−Ｌｙｓ；ＣｙｓのＳＨ基をフェニルカルバモイル基で保護したＳ−フェニルカルバモイル−Ｃｙｓ；ＣｙｓのＳＨ基をトリチル基で保護したＳ−Ｔｒｔ−Ｃｙｓ；Ｔｙｒ，Ｔｈｒ及びＳｅｒの水酸基をＢｚｌで保護した誘導体；Ｔｙｒ，Ｔｈｒ及びＳｅｒの水酸基をｔＢｕで保護した誘導体；Ａｒｇのグアニジル基をＰｂｆで保護した誘導体等が挙げられる。

本発明のペプチド液相合成法において「Ｎ−保護アミノ酸」とは、アミノ基が保護されており、カルボキシル基が無保護のアミノ酸を意味し、上記表記法によれば、「ＰＧ_ｎ−ＡＡ−ＯＨ」と表示される。
本発明のペプチド液相合成法において「Ｎ−保護アミノ酸アミド」とは、アミノ基が保護されており、アミド基が無保護のアミノ酸アミドを意味し、上記表記法によれば、「ＰＧ_ｎ−ＡＡ−ＮＨ_２」と表示される。
本発明のペプチド液相合成法において「Ｎ−保護アミノ酸活性エステル」とは、アミノ基が保護され、カルボキシル基がＥにより活性エステル化されたアミノ酸を意味し、上記表記法によれば、「ＰＧ_ｎ−ＡＡ−ＯＥ」と表示される。
なお、Ｎ−保護アミノ酸活性エステルとして単離可能なものは、Ｅがペンタフルオロフェニル、ＳｕまたはＮｂであるものであり、その他のＮ−保護アミノ酸活性エステルは、Ｎ−保護アミノ酸を縮合剤（例えば、ＥＤＣ）と活性化剤（例えば、ＨＯＢｔ）と反応させることにより、反応系中で生成される。

本発明のペプチド液相合成法において「Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸」とは、アミノ基がＦｍｏｃで保護されており、カルボキシル基が無保護のアミノ酸残基を意味し、上記表記法によれば、「Ｆｍｏｃ−ＡＡ−ＯＨ」と表示される。
本発明のペプチド液相合成法において「Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸アミド」とは、アミノ基がＦｍｏｃで保護されており、アミド基が無保護のアミノ酸残基を意味し、上記表記法によれば、「Ｆｍｏｃ−ＡＡ−ＮＨ_２」と表示される。
本発明のペプチド液相合成法において「Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸活性エステル」とは、アミノ基がＦｍｏｃで保護され、カルボキシル基がＥにより活性エステル化された任意のアミノ酸残基を意味し、上記表記法によれば、「Ｆｍｏｃ−ＡＡ−ＯＥ」と表示される。
Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸活性エステルとして単離可能なものは、Ｅがペンタフルオロフェニル、ＳｕまたはＮｂであるものであり、その他のＮ−Ｆｍｏｃアミノ酸活性エステルは、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸を縮合剤（例えば、ＥＤＣ）と活性化剤（例えば、ＨＯＢｔ）と反応させることにより、反応系中で生成される。

本発明のペプチド液相合成法において「Ｃ−保護ペプチド」とは、Ｃ末端が保護されており、Ｎ末端が保護されていない任意の個数のアミノ酸残基を有するペプチドを意味し、上記表記法によれば、「Ｈ−ＡＡ_ｎ’−ＡＡ_ｎ’−１−・・・−ＡＡ_１−(ＯＰＧ_０ ｏｒＮＨＰＧ_０）」（ｎ’は２以上の整数を示す）と表示される。
本発明において「Ｃ−保護アミノ酸」とは、カルボキシル基が保護されており、アミノ基が保護されていないアミノ酸を意味し、上記表記法によれば、「Ｈ−ＡＡ−ＯＰＧ_０」と表示される。
本発明において「Ｃ−保護アミノ酸アミド」とは、アミド基が保護されており、アミノ基が保護されていないアミノ酸を意味し、上記表記法によれば、「Ｈ−ＡＡ−ＮＨＰＧ_０」と表示される。
本発明のペプチド液相合成法において「Ｎ，Ｃ−ジ保護ペプチド」とは、Ｎ末端とＣ末端の両方が保護されている任意の個数のアミノ酸残基を有するペプチド意味し、上記表記法によれば、「ＰＧ_ｎ’−ＡＡ_ｎ’−ＡＡ_ｎ’−１−・・・−ＡＡ_１−(ＯＰＧ_０ ｏｒ ＮＨＰＧ_０）」（ｎ’は２以上の整数を示す）と表示される。また、例えば、Ｎ末端がＦｍｏｃで保護されていて、Ｃ末端が保護されているＮ，Ｃ−ジ保護ペプチドは「Ｎ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護ペプチド」と表示するものとする。
本発明のペプチド液相合成法において「中間体ペプチド」とは、ペプチド液相合成における各工程で得られる合成中間体であるペプチドであって、最終的に目的とするペプチドよりアミノ酸残基数が少ないものを意味する。好ましい中間体ペプチドは、後掲のＮ末端脱保護後に得られるＣ−保護ペプチドである。

本発明のペプチド液相合成法において「縮合剤」としては、ＤＣＣ、ＥＤＣ（塩酸塩およびフリー体を含む。）、ＤＩＰＣ、ＢＯＰ、ＰｙＢＯＰ、ＰｙＢｒｏＰ、ＨＢＴＵ、ＨＣＴＵ、ＴＢＴＵ、ＨＡＴＵ、ＣＤＩ、ＤＭＴ−ＭＭ等が挙げられる。
本発明のペプチド液相合成法において「活性化剤」とは、縮合剤との共存化でカルボキシル基を活性エステル、対称酸無水物などに導いてアミド結合を形成させやすくする試薬であり、「ＨＯＥ」で示される。具体的には、ＨＯＢｔ、ＨＯＣｔ、ＨＯＡｔ、ＨＯＯＢｔ、ＨＯＳｕ、ＨＯＰｈｔ、ＨＯＮＢ、ペンタフルオロフェノール等が挙げられる。

本発明のペプチド液相合成法において「ワンポット合成」とは、ペプチドの液相合成法において、各工程で得られる中間体ペプチドを反応容器から取り出さずに目的とするペプチドまで合成することを意味する。

２−２．ペプチド液相合成法
本発明のペプチド液相合成法により最終的に合成されるペプチドは特に限定されるものはないが、合成医薬ペプチド、化粧品、電子材料（有機ＥＬなど）、食品などの合成に好適に利用可能である。
該ペプチドの構成アミノ酸残基数は特に限定されないが、一般的な合成ペプチドにみられる２〜２０残基程度が好適である。
また、本発明のペプチド液相合成法は、アミノ酸側鎖官能基および／またはＣ末端保護基が酸で脱保護される保護基で保護されたＣ−保護ペプチド（例えば、ε−Ｂｏｃ−Ｌｙｓ、Ｓ−ｔＢｕ−Ｃｙｓなどを含むペプチド）を使用したペプチド液相合成法などに適している。

「ペプチドの液相合成法」とは、固相法ではないことを意味し、全ての試薬が溶媒に溶解している場合の他、試薬の全部または一部が溶媒に溶解せず、懸濁などしているいわゆる不均一反応も本発明の方法に含まれる。

ペプチドの液相合成法は、ペプチド合成化学で常用される一般的な方法を特に制限なく採用することができる。
具体的には、下記スキームに示す方法、すなわち、
（１）Ｃ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ’）（ｎ’は、２以上の任意の整数を示し、アミノ酸残基がｎ’個のペプチドであることを意味する。以下、同様。）または一回目のペプチド伸長においてはＣ−保護アミノ酸又はＣ−保護アミノ酸アミド（Ａ_１）（以下、本明細書において「Ｃ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等」（ｎは、１以上の任意の整数を示し、ｎが１の場合は、Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護アミノ酸アミド（Ａ_１）を意味する。以下、同様。）と総称する。）を、Ｎ−保護アミノ酸（ＰＡ_ｎ＋１）と、縮合剤（および好ましくは活性化剤）の存在下、縮合させるか、あるいは
（２）Ｃ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等を、Ｎ−保護アミノ酸活性エステル（ＰＡＥ_ｎ＋１）と縮合させて、
アミノ酸残基が一つ伸長したＮ，Ｃ−ジ保護ペプチド（ＰＰ_ｎ＋１）を得る工程（以下、本明細書においてそれぞれ「カップリング工程（１）」および「カップリング工程（２）」という。）、
得られたＮ，Ｃ−ジ保護ペプチド（ＰＰ_ｎ＋１）のアミノ保護基を脱保護してＣ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ＋１）を得る工程（以下、本明細書において「Ｎ末端脱保護工程」という。）を１サイクルとする反応（以下、本明細書において「ペプチド伸長反応」という。）の繰り返しからなる方法であり、
最終段階で、Ｃ−保護ペプチド（Ｐ_ｍ）のカルボキシ保護基又はアミド保護基および側鎖官能基が保護されている場合は当該保護基を脱保護することにより（以下、本明細書において「最終脱保護工程」という。）、目的のペプチド（Ｐ）が得られる。
本発明のペプチド合成法において、ｎ番目のペプチド伸長反応を「ペプチド伸長反応（ｎ）」、ペプチド伸長反応（ｎ）を構成する各工程をそれぞれ「カップリング工程（１−ｎ）」、「カップリング工程（２−ｎ）」および「Ｎ末端脱保護工程（ｎ）」と表示するものとする。

（式中、ｍは目的とするペプチドのアミノ酸残基数を示し、他の記号は上記で定義した通りである。）
本発明のペプチド液相合成法は、一連のペプチド伸長反応の少なくとも一回で、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸を使用してカップリング工程（１）を行うか、またはＮ−Ｆｍｏｃアミノ酸活性エステルを使用してカップリング工程（２）を行いＮ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護ペプチドを得、
続くＮ末端脱保護工程でＮ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護ペプチドを、本発明のジベンゾフルベンの除去方法、例えば第一態様においては、窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物と反応させることにより脱保護して、Ｃ―保護ペプチド（Ｐ_ｎ＋１）とジベンゾフルベンアミン付加体を含む混合物を得、その後のワークアップにおいて、該混合物を二酸化炭素と接触させてジベンゾフルベンアミン付加体を炭酸塩とし、該炭酸塩を除去することを特徴とする（以下、「本発明のペプチド伸長反応」といい、ｎ回目のペプチド伸長反応を「本発明のペプチド伸長反応（ｎ）」と表示する。）。以下、本発明のジベンゾフルベンの除去方法の第一態様を適用した場合を説明するが、第二態様も同様に行うことができることはいうまでもない。
本発明のペプチド液相合成法において、少なくとも１回、本発明のペプチド伸長反応が含まれていればよいが、全ての工程を本発明のペプチド伸長反応で行うことが好ましく、それにより目的のペプチドまでワンポットで合成することができる。
以下に、本発明のペプチド伸長反応（ｎ）のスキームを示す。

（式中、ＤＢＦＡはジベンゾフルベンアミン付加体を、ＤＢＦＡ−ＣＯ_２はジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を示し、ＨＮＲ^１Ｒ^２は、脱保護に使用したアミン化合物（第２級アミンの場合）に相当し、その他の記号は前記と同義である。）

Ｃ―保護ペプチド（Ｐ_ｎ＋１）とジベンゾフルベンアミン付加体を含む混合物を二酸化炭素と接触させることにより、意外なことにジベンゾフルベンアミン付加体炭酸塩のほとんどが固体として析出し、濾過などの簡便な手段でジベンゾフルベンアミン付加体を除去することができる。したがって、結晶化やクロマトグラフィーなどの単離精製操作をすることなく、得られたＣ―保護ペプチド（Ｐ_ｎ＋１）を次のペプチド伸長反応（ｎ＋１）に供することができ、ワンポット合成に繋げることができる。

以下に、本発明のペプチド液相合成法について詳述する。
２−２−１．カップリング工程（１）
本発明のペプチド伸長反応のカップリング工程（１）においては、例えば、溶媒中において、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸（ＦＡ_ｎ＋１）、Ｃ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等および縮合剤を（好ましくは、活性化剤と共に）混合することによって一つアミノ酸残基が伸長したＮ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護ペプチド（ＦＰ_ｎ＋１）が得られる。添加順序は特に限定はないが、Ｃ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等が一つ前のペプチド伸長反応（ｎ−１）によって得られたものである場合は、反応容器中のＣ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等の溶液にＮ−Ｆｍｏｃアミノ酸（ＦＡ_ｎ＋１）および縮合剤を添加すればよい。

Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸（ＦＡ_ｎ＋１）の使用量は、Ｃ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等に対して、通常０．９〜４．０当量、好ましくは１．０〜１．５当量である。この範囲より少ないと、未反応のＣ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等が残りやすく、多いと過剰のＮ−Ｆｍｏｃアミノ酸（ＦＡ_ｎ＋１）を除去しにくくなる。

Ｃ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等を酸付加塩として使用した場合には中和するため、塩基が添加される。該塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリンなどが挙げられる。該塩基の使用量は、Ｃ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等に対して、通常０．５〜２．０当量、好ましくは１．０〜１．５当量である。塩基の使用量がこの範囲より少ないと中和が不十分となり反応が進行しにくくなる。

縮合剤は上記で例示したものを特に制限なく使用することができ、ＥＤＣ（フリー体または塩酸塩）、ＤＩＰＣ、ＤＣＣ、ＰｙＢＯＰ、ＨＢＴＵ、ＨＣＴＵ、ＤＭＴ−ＭＭが挙げられ、ＥＤＣが、残留した縮合剤や縮合剤の分解物を洗浄により除去することが容易であるため好ましい。縮合剤の使用量は、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸（ＦＡ_ｎ＋１）に対して通常０．８〜４．０当量、好ましくは１．０〜１．５当量である。

カップリング工程（１）において、反応を促進し、ラセミ化などの副反応を抑制するために、好ましくは、活性化剤が添加される。活性化剤を存在させた場合は、反応系中で一時的にＮ−保護アミノ酸の活性エステルなどが生成する。
活性化剤は上記で例示したものを制限無く使用することができ、ＨＯＢｔ、ＨＯＯＢｔ、ＨＯＣｔ、ＨＯＡｔ、ＨＯＮｂ、ＨＯＳｕ等が好ましい。活性化剤の使用量は、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸（ＦＡ_ｎ＋１）に対して通常、０〜４．０当量、好ましくは０．１〜１．５当量である。

溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、酢酸エチル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレンなどまたはそれらの混合溶媒が挙げられ、酢酸エチルまたはＤＭＦが好ましい。溶媒の使用量は、Ｃ―保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等に対して、通常３〜１００倍重量であり、好ましくは５〜２０倍重量である。

反応温度は、通常−２０〜４０℃、好ましくは０〜３０℃の範囲内である。反応時間は、上記温度範囲内で、通常０．５〜３０時間である。

カップリング工程（１）反応終了後のワークアップは、カップリング工程（２）と同様であるので、後掲の２−２−３においてまとめて説明する。

２−２−２．カップリング工程（２）
本発明のペプチド伸長反応のカップリング工程（２）においては、例えば、溶媒中において、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸活性エステル（ＦＡＥ_ｎ＋１）およびＣ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等を混合することによってＮ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護ペプチド（ＦＰ_ｎ＋１）が得られる。添加順序は特に限定はないが、Ｃ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等が一つ前のペプチド伸長反応（ｎ−１）によって得られたものである場合は、反応容器中のＣ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等の溶液にＮ−Ｆｍｏｃアミノ酸活性エステル（ＦＡＥ_ｎ＋１）を添加すればよい。

Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸活性エステル（ＦＡＥ_ｎ＋１）の使用量はカップリング工程（１）におけるＮ−Ｆｍｏｃアミノ酸（ＦＡ_ｎ＋１）と同様である。
また、塩基、溶媒およびその使用量、反応温度、反応時間等のその他の反応条件は、カップリング工程（１）と同様である。

２−２−３．カップリング工程（１）および（２）のワークアップ
カップリング工程（１）および（２）の反応終了後、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸活性エステル（ＦＡＥ_ｎ＋１）、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸のイソウレアエステル、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸の対称酸無水物などのアミン成分と縮合し得る反応混合物中の残留物や副生成物を除去するため、メルカプト基担持シリカゲル等の固相求核剤除去試薬（例えば、ＳＨシリカ（富士シリシア社製）など）を加え、攪拌後、濾去してもよい。また、洗浄工程にて、炭酸ナトリウムなど弱アルカリ性の水溶液で洗浄して、積極的に活性エステルを失活させてもよい。

カップリング工程（１）および（２）のワークアップでは、好ましくは、酸性水溶液洗浄および／または塩基性水溶液洗浄が行われる。酸性水溶液洗浄により、Ｃ―保護ペプチド、残留した縮合剤またはその分解物、塩基などを水層に除去することができる。塩基性水溶液洗浄により、添加剤、残留したＮ−Ｆｍｏｃアミノ酸などを水層に除去することができる。

酸性水溶液洗浄は、例えば、反応混合物を希塩酸水溶液（例えば、１Ｎ塩酸水溶液）、硫酸、ギ酸、クエン酸、リン酸などの水溶液と攪拌後、分液して水層を除去することにより行われる。

塩基性水溶液洗浄は、例えば、反応混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液（例えば、５％炭酸水素ナトリウム水溶液）、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液などの水溶液と攪拌後、分液して水層を除去することにより行われる。

必要に応じてさらに水洗し、有機層を濃縮することにより、Ｎ−Ｆｍｏｃ−Ｃ―保護ペプチド（ＦＰ_ｎ＋１）を得ることができ、そのまま容器から取り出すことなく、Ｎ末端脱保護工程に供することができる。また、濃縮することなく、Ｎ−Ｆｍｏｃ−Ｃ―保護ペプチド（ＦＰ_ｎ＋１）の溶液としてＮ末端脱保護工程に用いてもよい。

本発明のペプチド液相合成法において、Ｆｍｏｃ以外のアミン保護基を使用するカップリング工程が含まれる場合も、上記と同様に行えばよい。

２−２−４．Ｎ末端脱保護工程
本発明のペプチド伸長反応におけるＮ末端脱保護工程においては、Ｎ−Ｆｍｏｃ−Ｃ―保護ペプチド（ＦＰ_ｎ＋１）を、溶媒中、アミン化合物（窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物および窒素原子が水素原子を有さないアミン化合物を含む。）と反応させることによりＣ―保護ペプチド（Ｐ_ｎ＋１）が得られる。具体的には、カップリング工程で得られたＮ−Ｆｍｏｃ−Ｃ―保護ペプチド（ＦＰ_ｎ＋１）の溶液中にアミンを添加すればよい。
該脱保護反応によって得られる反応混合物を本発明のジベンゾフルベンの除去方法、例えば、Ｃ―保護ペプチド（Ｐ_ｎ＋１）とジベンゾフルベンアミン付加体の混合物を二酸化炭素と接触させて、ジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を析出させ、濾去することにより、ジベンゾフルベンアミン付加体を除去することができる。
伸長反応開始時はＣ−保護ペプチド（Ｐ_ｎ）等がＣ−保護アミノ酸又はＣ−保護アミノ酸アミドとなる。該Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護アミノ酸アミドの調製は以下のようにして行うことができる。すなわちＮ−Ｆｍｏｃアミノ酸のカルボキシル基を常法によりエステル化又はアミド化し、Ｎ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護アミノ酸又はＮ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護アミノ酸アミドを得る。上記と同様、得られたＮ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護アミノ酸又はＮ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護アミノ酸アミドを、溶媒中、アミン化合物と反応させることによりＣ−保護アミノ酸（アミノ酸エステル）又はＣ−保護アミノ酸アミド（アミノ酸アミド）が得られる。上記と同様に、該脱保護反応によって得られる、Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護アミノ酸アミドとジベンゾフルベンアミン付加体の混合物を二酸化炭素と接触させてジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を析出させ、濾去することにより、ジベンゾフルベンアミン付加体を除去することができる。かかるＮ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護アミノ酸又はＮ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護アミノ酸アミドのＦｍｏｃ基の脱保護も、ここでいうＮ末端脱保護工程に含まれる。

本発明のペプチド液相合成法におけるＮ末端脱保護工程は、上記１の「ジベンゾフルベンアミンの除去方法」において、「Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物」を「Ｎ−Ｆｍｏｃ−Ｃ―保護ペプチド（ＦＰ_ｎ＋１）」、「Ｎ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護アミノ酸」又は「Ｎ−Ｆｍｏｃ−Ｃ−保護アミノ酸アミド」に、「アミノ酸化合物」を「Ｃ―保護ペプチド（Ｐ_ｎ＋１）」、「Ｃ−保護アミノ酸」又は「Ｃ−保護アミノ酸アミド」にそれぞれ読み代えて、同様に行うことができる。
Ｎ末端脱保護工程により単離されたＣ―保護ペプチド（Ｐ_ｎ＋１）の溶液を濃縮するか、または濃縮することなく、次のペプチド伸長反応にそのまま用いることができる。

本発明のペプチド合成において、Ｆｍｏｃ以外のＮ末端保護基を使用したＮ末端脱保護工程が含まれる場合は、ペプチド合成化学で常用されるアミノ基保護基の種類に応じた一般的なＮ−末端脱保護方法により行えばよい。
以上のように、本発明の方法により、Ｎ末端脱保護工程において、Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物をアミン化合物と反応させることにより脱保護して得られる反応混合物からジベンゾフルベンアミン付加体を簡便に除去できるため、ペプチドの液相合成法において、次の縮合工程、すなわち次のペプチド伸長反応を、中間体ペプチドを反応容器から取り出すことなく行うことができる。すなわち、得られた中間体ペプチドを晶析等により固体として単離せずに次の縮合工程を行うことができる。このように、本発明の方法によれば、ペプチドの液相合成法により、目的とする最終ペプチドをワンポット合成することが可能である。

２−２−５．最終脱保護工程
本発明のペプチド合成で、目的のペプチドまで構築されたＣ−保護ペプチド（Ｐ_ｍ）のＰＧ_０や側鎖保護基を脱保護することにより、目的のペプチド（Ｐ）を得ることができる。
最終脱保護工程は、ＰＧ_０または側鎖保護基の種類に応じた自体公知の脱保護法を特に制限なく採用することができる。
例えば、Ｍｅ、Ｅｔなどの低級アルキル基の場合は、水又は水性有機溶媒などの溶媒中、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基と、−２０〜４０℃で、０．５〜１０時間反応させることができる。
ｔＢｕ、Ｐｂｆ、Ｄｍｂ、ビス（４−メトキシフェニル）メチル等の場合は、クロロホルム、塩化メチレン、酢酸エチル、ジオキサンなどの溶媒中、トリフルオロ酢酸、塩酸、メタンスルホン酸、トシル酸、ギ酸などの酸と、−２０〜４０℃で、０．５〜１０時間反応させることにより脱保護することができる。
Ｚの場合は、メタノール、ＤＭＦ、酢酸などの溶媒中、パラジウム炭素などの触媒を用いて、０〜４０℃で、０．５〜１００時間、水素化反応させるか、あるいはフッ化水素、トリフルオロメタンスルホン酸などの強酸と、−２０〜４０℃で、０．５〜１０時間反応させることにより脱保護することができる。
Ａｌｌｏｃ基の場合は、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等の０価パラジウム均一系触媒と反応させる。０価パラジウム均一系触媒は、０．０１〜１．０当量、好ましくは、０．０５〜０．５当量使用される。
最終脱保護工程において、Ｆｍｏｃ基で保護された側鎖アミノ基を脱保護する場合も、Ｎ末端脱保護工程と同様にワークアップにおいて本発明のジベンゾフルベンアミンの除去方法が適用できる。

本発明の方法により、合成されたペプチド（Ｐ）は、ペプチド化学で常用される方法に従って単離精製することができる。例えば、Ｃ末端脱保護工程のワークアップにおいて、反応混合物を抽出洗浄、晶析、クロマトグラフィーなどによって、ペプチド（Ｐ）を単離精製することができる。

以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。

実施例１：ジフェニルメチル（Ｄｐｍ）基を用いたペプチド酸の合成
フィブロネクチン活性フラグメント（Ｆｉｂｒｏｎｅｃｔｉｎ ａｃｔｉｖｅ ｆｒａｇｍｅｎｔ： Ｇｌｙ−Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−Ｓｅｒ）の合成

（１）Ｆｍｏｃ−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ
ベンゾフェノンヒドラゾン（３７．５ ｇ， ０．１９１ ｍｏｌ）の塩化メチレン（４５０ｍｌ）溶液に、脱水硫酸マグネシウム（３３．０ ｇ）と二酸化マンガン（７５．０ｇ， ０．８６３ ｍｏｌ）を加えて室温で２時間攪拌した。不溶物を濾去した後、濾液を減圧濃縮した。 得られた固体残渣をアセトン（３７５ｍｌ）に溶かし、Ｆｍｏｃ−Ｓｅｒ（ｔＢｕ） （３６．６ ｇ， ９５．５ ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２２時間攪拌した。反応液にヘキサンを加えて析出した固体を濾取し、ヘキサンで洗浄して、表題化合物を４１．５ ｇ得た。 母液を減圧濃縮し、ヘキサンで固化し、表題化合物を５．９７ ｇ得た。 収量４７．５ ｇ （８６．４％）。

（２）Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ・ＨＣｌ
Ｆｍｏｃ−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ （１６．５ ｇ， ３０．０ ｍｍｏｌ）のＤＭＦ （１５０ ｍｌ）溶液に、４−ジメチルアミノピペリジン（１８．０ ｍｌ， ０．１５０ｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。 反応液に酢酸エチル（１．００ｌ）を加え、室温で攪拌しながら二酸化炭素を１０分間導入した。 析出した固体を濾去し、濾液を２回水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。０．５ Ｎ ＨＣｌ/酢酸エチル（７２．０ ｍｌ， ３６．０ ｍｍｏｌ）を加え、酢酸エチル層を減圧濃縮した。 残渣にヘキサンを加え濾取し、ヘキサンで洗浄して表題化合物を９．１２ ｇ （８３．７％）得た。

（３）Ｆｍｏｃ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ
Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ・ＨＣｌ （９．１２ ｇ， ２５．１ ｍｍｏｌ）、Ｆｍｏｃ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ） （１０．３ ｇ， ２５．１ ｍｍｏｌ）および１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ） （３．５６ ｇ， ２６．４ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ （１００ｍｌ）に溶かし、氷冷攪拌下に１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）−カルボジイミド （ＥＤＣ） （４．６８ ｍｌ，２６．４ ｍｍｏｌ）を滴下した。 氷冷で３０分、室温で１８時間攪拌した後、反応液に水を加え析出した固体を濾取、水洗した。
これを酢酸エチルに溶かし、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水、１０％クエン酸水、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、残渣にヘキサンを加えて濾取して表題化合物を１７．７ｇ （９７．８％）得た。

（４）Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ・ＨＣｌ
Ｆｍｏｃ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ （１７．８ ｇ， ２４．７ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ （１２５ ｍｌ）に溶かし、４−アミノメチルピペリジン（１４．８ ｍｌ， ０．１２４ｍｏｌ）を加えて室温で３０分間攪拌した。 反応液に酢酸エチル（１．００ｌ）を加え、室温で攪拌しながら二酸化炭素を１０分間導入した。 析出した固体を濾去し、濾液を２回水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。０．５ Ｎ ＨＣｌ／酢酸エチル（５９．３ｍｌ， ２９．６ ｍｍｏｌ）を加え、酢酸エチル層を減圧濃縮した。油状残渣をヘキサンで洗浄して表題化合物を１２．５ ｇ （８３．７％）得た。

（５）Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ
Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ・ＨＣｌ （１２．５ ｇ， ２０．５ ｍｍｏｌ）、 Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ （６．０９ｇ， ２０．５ ｍｍｏｌ）およびＨＯＢｔ（２．９１ｇ， ２１．５ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（８０．０ ｍｌ）に溶かし、氷冷攪拌下にＥＤＣ （３．８１ ｍｌ， ２１．５ｍｍｏｌ）を滴下した。 氷冷で３０分、室温で１８時間攪拌した後、反応液に水を加え析出した固体を濾取、水洗した。これを酢酸エチルに溶かし、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水、１０％クエン酸水、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、固体残渣にヘキサンを加えて濾取し、表題化合物を１５．１ｇ （９５．０％）得た。

（６）Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ・ＨＣｌ
Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ （１５．１ ｇ， １９．３ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ （１００ ｍｌ）に溶かし、４−アミノメチルピペリジン（１１．６ ｍｌ， ９６．７ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間攪拌した。 反応液に酢酸エチル（８００ｍｌ）を加え、室温で攪拌しながら二酸化炭素を１０分間導入した。
析出した固体を濾去し、濾液を２回水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。０．５ Ｎ ＨＣｌ／酢酸エチル（４６．３ｍｌ， ２３．２ ｍｍｏｌ）を加え、酢酸エチル層を減圧濃縮した。油状残渣をヘキサンで洗浄して、表題化合物を１０．１ ｇ （８８．６％）得た。

（７）Ｆｍｏｃ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ
Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ・ＨＣｌ （１０．１ ｇ，１６．０ ｍｍｏｌ）、 Ｆｍｏｃ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ） （１０．４ ｇ， １６．０ ｍｍｏｌ）およびＨＯＢｔ （２．２７ ｇ， １６．８ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ （６０．０ｍｌ）に溶かし、氷冷攪拌下にＥＤＣ （２．９８ ｍｌ，１６．８ ｍｍｏｌ)を滴下した。
氷冷で３０分、室温で１８時間攪拌した後、反応液に水を加え析出した固体を濾取、水洗した。これを酢酸エチルに溶かし、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水、１０％クエン酸水、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、固体残渣にヘキサンを加えて濾取し、表題化合物を１８．２ g （９５．８％）得た。

（８）Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ・ＨＣｌ
Ｆｍｏｃ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ（１５．１ ｇ， １９．３ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ （１００ ｍｌ）に溶かし、４−アミノメチルピペリジン（１１．６ ｍｌ， ９６．７ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間攪拌した。 反応液に酢酸エチル（８００ｍｌ）を加え、室温で攪拌しながら二酸化炭素を１０分間導入した。 析出した固体を濾去し、濾液を２回水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。０．５ Ｎ ＨＣｌ／酢酸エチル（４６．３ｍｌ， ２３．２ ｍｍｏｌ）を加え、酢酸エチル層を減圧濃縮した。固体残渣を酢酸エチル/ヘキサンより再沈殿して、表題化合物を１１．３ｇ （７７．９％）得た。

（９）Ｂｏｃ−Ｇｌｙ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ
Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ・ＨＣｌ（１１．３ ｇ， １０．８ ｍｍｏｌ）、 Ｂｏｃ−Ｇｌｙ （１．８９ｇ， １０．８ ｍｍｏｌ）およびＨＯＢｔ（１．５３ ｇ， １１．３ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ （５０．０ ｍｌ）に溶かし、氷冷攪拌下にＥＤＣ（２．００ ｍｌ， １１．３ｍｍｏｌ）を滴下した。 氷冷で３０分、室温で１８時間攪拌した後、反応液に水を加え析出した固体を濾取、水洗した。これを酢酸エチルに溶かし、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水、１０％クエン酸水、飽和食塩水で順次洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、固体残渣にヘキサンを加えて濾取し、表題化合物を１０．６ ｇ （８７．６％）得た。

（１０）Ｇｌｙ−Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−Ｓｅｒ
Ｂｏｃ−Ｇｌｙ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ（１０．５ ｇ， ９．４０ ｍｍｏｌ）に９０％トリフルオロ酢酸水溶液(７４．４ｍｌ)を加え、室温で１時間攪拌した。 エーテルを加え析出した固体を濾取した。
この固体に９０％トリフルオロ酢酸水溶液（７４．４ ｍｌ）を加え、更に室温で１時間攪拌した。エーテルを加え析出した固体を濾取し、水に溶かして凍結乾燥した。 凍結乾燥粉末を０．１％トリフルオロ酢酸水溶液（１００ｍｌ)に溶かし、１／３量ずつをＹＭＣ−ＰａｋＯＤＳカラム[サイズ：３０ ｘ ２５０ ｍｍ，溶出条件：流速，２０ｍｌ／分；検出，２２０ ｎｍ；溶離液，１％アセトニトリル／０．１％トリフルオロ酢酸（３０ｐｕｎ)−１−８０％アセトニトリル／０．１％トリフルオロ酢酸（４０分：リニヤーグラジエント）］で精製し、凍結乾燥品６．５６ ｇ得た。凍結乾燥品の０．５ Ｎ酢酸（１５０ ｍｌ）溶液を強塩基性イオン交換樹脂ムロマック１ｘ４（２００ ｍｌ， 酢酸型)に適用し、０．５ Ｎ酢酸（４００ ｍｌ）で溶出した。 溶出液を集め、凍結乾燥し、表題化合物を４．５１ ｇ得た。 これを１％酢酸（４５ ｍｌ）／エタノール（２２５ ｍｌ）から再沈殿し、表題化合物を４．１２ ｇ得た。
アミノ酸分析（６Ｎ塩酸， １１０℃で２２時間加水分解)： Ａｓｐ １．００ （１），Ｓｅｒ ０．８８ （１），Ｇｌｙ １．９７ （２），Ａｒｇ ０．９９ （１）；
元素分析: 実測値 Ｃ， ３９．６３； Ｈ， ６．３９； Ｎ， １９．６９％ Ｃ_１９Ｈ_３０Ｎ_８Ｏ_９・１．４ Ｈ_２Ｏ・０．９ ＣＨ_３ＣＯ_２Ｈとしての計算値Ｃ， ３９．６３； Ｈ， ６．４４； Ｎ， １９．６７％
ＥＳＩ ＭＳ： ｍ／ｚ ４９１．２ （Ｍ＋Ｈ，４９１．２）

実施例２：１，１−ジメチル−２−フェニル−エチル（Ｂｐｒ）基を用いたペプチド酸の合成
Ｆｍｏｃ−Ｖａｌ−Ｇｌｙ−Ｐｒｏ−ＯＢｐｒの合成

（１）Ｚ−Ｐｒｏ−ＯＢｐｒ
Ｚ−Ｐｒｏ （１９．４ ｇ， ７７．７ ｍｍｏｌ）のＤＭＦ （２００ ｍｌ）溶液に、２−メチル−１−フェニル−プロパン−２−オール （１２．５ ｍｌ， ８１．５ｍｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン （ＤＭＡＰ） （２．８５ ｇ， ２３．３ ｍｍｏｌ）を加えた後、氷冷化にＥＤＣ・ＨＣｌ （１５．６ ｇ， ８１．５ ｍｍｏｌ）を加えた。 氷冷化に３０分、さらに室温で終夜攪拌した。 ＥＤＣ・ＨＣｌ （７．４５ ｇ，３８．９ ｍｍｏｌ）を追加し、室温で４時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル （４００ ｍｌ）に溶解した後、１０％クエン酸水溶液、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して、表題化合物を淡黄色油状物として２５．４ ｇ （８５．８％）得た。

（２）Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−Ｐｒｏ−ＯＢｐｒ
Ｚ−Ｐｒｏ−ＯＢｐｒ （３．２０ ｇ， ８．３９ ｍｍｏｌ）をメタノール（３０ ｍｌ）に溶かし、５％ Ｐｄ−炭素（５００ ｍｇ）を加えて、室温で水素ガスを１時間導入した。 触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮した。 残渣にトルエンを加え減圧濃縮する操作を５回繰り返した。 ＤＭＦ （２０ ｍｌ）に得られた残渣、Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ （２．４９ ｇ， ８．３９ ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ （１．１９ ｇ， ８．８１ ｍｍｏｌ）を溶かし、氷冷攪拌下にＥＤＣ・ＨＣｌ （１．６９ ｇ， ８．８１ ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で終夜攪拌した。 反応液を氷水（１００ ｍｌ）に注ぎ、酢酸エチル（７０ ｍｌ）で抽出した。 有機層を２．５％炭酸水素ナトリウム水溶液、水、０．５Ｎ塩酸水、水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 酢酸エチル層を減圧濃縮し、表題化合物の固体を４．１０ ｇ （９２．５％）得た。

（３）Ｆｍｏｃ−Ｖａｌ−Ｇｌｙ−Ｐｒｏ−ＯＢｐｒ
Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−Ｐｒｏ−ＯＢｐｒ （３．００ ｇ， ５．６９ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１７ ｍｌ）に溶かし、氷冷攪拌下に４−アミノメチルピペリジン（４．３６ｍｌ， ５６．９ ｍｍｏｌ）を滴下した。ＤＭＦ （２０ ｍｌ）を反応液に追加し、室温で３０分攪拌した。 酢酸エチル（３００ｍｌ）を反応液に加え、これに二酸化炭素を１０分間導入した。 析出した固体を濾去し、酢酸エチル（５０ｍｌ ｘ ２）で洗浄した。 濾液を集め、水（１５０ ｍｌ ｘ ２）で洗浄した。 水層に食塩を飽和した後、酢酸エチル（５０ ｍｌ ｘ ２)で抽出した。 有機層を集め、硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル層に４．７ Ｎ塩酸/ジオキサン（１．２１ ｍｌ， ５．６９ｍｍｏｌ）を加え、減圧濃縮し油状物（ＨＰＬＣでの検定で収率８５％）を得た。 ＤＭＦ（２５ ｍｌ）に得られた油状物（４．８４ ｍｍｏｌ）、Ｆｍｏｃ−Ｖａｌ （１．７２ ｇ， ５．０８ ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ （０．７１９ ｇ， ５．３２ ｍｍｏｌ）を溶かし、冷却（−１０℃）攪拌下にＥＤＣ （０．９７４ ｍｌ， ５．３２ ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で終夜攪拌した後、反応液を酢酸エチル（２００ ｍｌ）と水（２００ ｍｌ）に注ぎ、分配した。 酢酸エチル層を２．５％炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、残渣をエーテル-ヘキサンより結晶化して、表題化合物を２．４１ ｇ （８０．９％）得た。Ｆｍｏｃ−Ｖａｌ−Ｇｌｙ−Ｐｒｏ−ＯＢｐｒ（１．０ ｍｇ）をトリフルオロ酢酸（１００ μｌ）で処理すると、室温１５分でＢｐｒ基は完全に切断された。

実施例３：２，４−ジメトキシベンジル（Ｄｍｂ）を用いたペプチドカルボキサミドの合成
メラノサイト刺激ホルモン−放出阻害因子（ＭＩＦ： Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨ_２）の合成

（１）Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−ＮＨＤｍｂ
２，４−ジメトキシベンジルアミン（４．５４ ｇ， ２７．１ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ （６０ ｍｌ）に溶かし、氷冷攪拌下に４．７ Ｎ塩酸/ジオキサン（５．７６ ｍｌ， ２７．１ ｍｍｏｌ）を加えた。これにＦｍｏｃ−Ｇｌｙ （８．０７ ｇ， ２７．１ ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ （３．６６ ｇ， ２７．１ ｍｍｏｌ）を加え、氷冷攪拌下にＥＤＣ （４．９５ ｍｌ，２７．１ ｍｍｏｌ）を滴下した。 室温で終夜攪拌した。 反応液を氷水（５００ ｍｌ）に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。 酢酸エチル層を減圧濃縮し、析出した結晶にイソプロピルエチルエーテルとヘキサンを加え濾取した。これを酢酸エチル／イソプロピルエチルエーテルから再結晶して、表題化合物を１１．３ ｇ （９３．５％）得た。

（２）Ｇｌｙ−ＮＨＤｍｂ・ＨＣｌ
Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−ＮＨＤｍｂ （５．００ｇ， １１．２ ｍｍｏｌ）のＤＭＦ （５０ｍｌ）溶液を氷冷し、４−アミノメチルピペリジン（１３．４ ｍｌ， ０．１１２ ｍｏｌ）を加えた後、３０分攪拌した。反応液にクロロホルム（４５０ ｍｌ）を加え、二酸化炭素を３０分間導入しながら室温で攪拌した。 析出した固体を濾去し、濾液を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。 氷冷した酢酸エチル層に４．７Ｎ塩酸/ジオキサン（４．７７ ｍｌ， ２２．４ ｍｍｏｌ）を加え、減圧濃縮した。残渣にイソプロピルエチルエーテルを加え結晶化し、表題化合物を２．８２ ｇ （９６．６％）得た。

（３）Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨＤｍｂ
Ｇｌｙ−ＮＨＤｍｂ・ＨＣｌ （２．６９ｇ， １０．３ ｍｍｏｌ）、Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ（３．８２ ｇ， １０．８ ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ （１．４６ ｇ， １０．８ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ／ＮＭＰ （１：１， ５０ ｍｌ）に溶かし、氷冷攪拌下にＥＤＣ（１．９８ ｍｌ， １０．８ｍｍｏｌ）を滴下した。 さらに室温で１．５時間攪拌した後、反応液を水（４００ ｍｌ）に注いだ。 遊離した油状物を酢酸エチル（５０ ｍｌ ｘ ２）で抽出し、これを飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、１０％クエン酸水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。 油状残渣にエーテルを加え結晶化して、表題化合物を２．９９ ｇ （５１．９％）得た。

（４）Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨＤｍｂ・ＨＣｌ
Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨＤｍｂ （２．００ ｇ， ３．６０ ｍｍｏｌ）のＤＭＦ （２０ ｍｌ）溶液を氷冷し、４−アミノメチルピペリジン（４．３０ｍｌ， ３６．０ ｍｍｏｌ）を加えて３０分攪拌した。反応液に酢酸エチル（２００ ｍｌ）を加え、室温で二酸化炭素を１時間導入した。 析出した固体を濾取し、濾液を水洗した。 濾取した固体をクロロホルムに懸濁し、濾取した。クロロホルム層を濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶かした。 酢酸エチル層を集め、水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、油状残渣にイソプロピルエチルエーテルを加え結晶化して、表題化合物を０．９５ ｇ （７０．４％）得た。

（５）Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨＤｍｂ
Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨＤｍｂ・ＨＣｌ （０．７０ ｇ， １．９ ｍｍｏｌ）、Ｂｏｃ−Ｐｒｏ （０．４５ ｇ， ２．１ ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ （０．２８ ｇ， ２．１ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ （１０ ｍｌ）に溶かし、氷冷攪拌下にＥＤＣ（０．３８ ｍｌ， ２．１ｍｍｏｌ）を加えた。 室温で終夜攪拌した後、水（８０ ｍｌ）に注ぎ、遊離した油状物を酢酸エチルで抽出した。 有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、１０％クエン酸水、水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、残渣にイソプロピルエチルエーテルを加え結晶化し、表題化合物を０．８４ｇ （８２％）得た。

（６）Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨ_２・ＣＨ_３ＣＯ_２Ｈ
Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨＤｍｂ （０．５０ ｇ， ０．９４ ｍｍｏｌ）をｍ−クレゾール（２．０ ｍｌ）存在下、１Ｍトリフルオロメタンスルホン酸−チオアニソール／トリフルオロ酢酸（２１ｍｌ）で、氷冷２時間処理した。 反応液にエーテル、イソプロピルエチルエーテルを加え、析出した沈殿を濾取した。この粉末を少量のトリフルオロ酢酸に溶かし、エーテル、イソプロピルエチルエーテルを加え再沈殿した。 粗ペプチドをＯＤＳカラム（３０ ｘ ２５０ ｍｍ）を用いてＨＰＬＣにより精製し（溶離液Ａ ＝ ０．１％ ＴＦＡ／水，Ｂ ＝ ０．１％ ＴＦＡ／アセトニトリル，溶出勾配Ａ ： Ｂ ＝ ９５．５ ： ０．５から８５ ： １５まで８０分の直線勾配)、表題化合物のフリー体を０．２７ g得た。 これを１％酢酸水溶液（１５ ｍｌ）に溶かし、強塩基性イオン交換樹脂ムロマック１ｘ４ （酢酸型，１５ ｍｌ）カラムに適用した。 さらに１％酢酸水溶液（８０ ｍｌ）で溶出し、溶出液を凍結乾燥して、表題化合物を０．２２ ｇ （６８．１％）得た。
ＥＳＩ ＭＳ： ｍ／ｚ ２８５．２ （Ｍ＋Ｈ，２８５．３）

実施例４：ビス（４−メトキシフェニル）メチル ［ＣＨ（ＰｈＯＭｅ）_２］基を用いたペプチドカルボキサミドの合成
メラノサイト刺激ホルモン-放出阻害因子（ＭＩＦ： Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨ_２）の合成

（１）Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−ＮＨＣＨ（ＰｈＯＭｅ）_２
Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ （６．４３ ｇ， ２１．６ ｍｍｏｌ）、ＨＣＴＵ （８．７９ ｇ，２１．２ ｍｍｏｌ）、６−Ｃｌ−ＨＯＢｔ （３．５９ ｇ， ２１．２ ｍｍｏｌ）を溶かしたＤＭＦ （４０ ｍｌ）溶液を−５℃で冷却攪拌した。 この溶液にＤＩＥＡ （７．００ ｍｌ，４１．２ ｍｍｏｌ）を加え、２分後にビス（４−メトキシフェニル）メチルアミン／ＤＭＦ（４０ ｍｌ）溶液を加えた。 反応液を室温で終夜攪拌した。 反応液に水を注ぎ、析出した固体を濾取し水で洗浄した。 固体をクロロホルム/メタノール（３：１， ｖ／ｖ）に溶かしエーテルを加え再沈殿して、表題化合物を９．８８ ｇ （９１．９％）得た。

（２）Ｇｌｙ−ＮＨＣＨ（ＰｈＯＭｅ）_２・ＨＣｌ
Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−ＮＨＣＨ（ＰｈＯＭｅ）_２（９．５３ ｇ， １８．２ ｍｍｏｌ）のＤＭＦ （８０ ｍｌ）溶液を氷冷し、４−アミノメチルピペリジン（２１．８ｍｌ，０．１８２ ｍｏｌ）を加えて３０分攪拌した。反応液に酢酸エチル（６００ ｍｌ）を加え、室温で攪拌しながら二酸化炭素を１０分間導入した。 析出した固体を濾去し、濾液を２回水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。 ４．７Ｎ ＨＣｌ／ジオキサン（７．７４ ｍｌ，３１．４ ｍｍｏｌ)を加え、酢酸エチル層を減圧濃縮した。 固体残渣にエーテルを加えて、濾取した。 酢酸エチル−イソプロピルエーテルより再結晶し、表題化合物を５．０２ ｇ （８１．９％）得た。

（３）Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨＣＨ（ＰｈＯＭｅ）_２
Ｇｌｙ−ＮＨＣＨ（ＰｈＯＭｅ）_２・ＨＣｌ （４．７２ ｇ， １４．０ ｍｍｏｌ）、Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ （５．２０ ｇ， １４．７ ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ （１．９９ ｇ， １４．７ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ （６０ ｍｌ）に溶かし、氷冷攪拌下にＥＤＣ（２．６９ ｍｌ， １４．７ｍｍｏｌ）を滴下した。 室温で３時間攪拌した後、反応液に水を注いだ。 析出した固体を濾取し、水で洗浄した。 固体を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶し、表題化合物を１０．５ ｇ^＊ （１１７％）得た。 （^＊溶媒が付着している。）

（４）Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨＣＨ（ＰｈＯＭｅ）_２・ＨＣｌ
Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨＣＨ（ＰｈＯＭｅ）_２（９．７４ ｇ， １３．０ ｍｍｏｌ）のＤＭＦ （６０ ｍｌ）溶液を氷冷し、４−アミノメチルピペリジン（１５．６ｍｌ， ０．１３０ ｍｏｌ）を加えて３０分攪拌した。反応液に酢酸エチル（５００ ｍｌ）を加え、室温で攪拌しながら二酸化炭素を１０分間導入した。 析出した固体を濾去し、濾液を２回水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。 ４．７Ｎ ＨＣｌ／ジオキサン（５．５３ ｍｌ，２６．０ ｍｍｏｌ）を加え、酢酸エチル層を減圧濃縮した。 油状残渣にエーテルを加えて、結晶化した。 酢酸エチル−エーテルより再結晶し、表題化合物を５．０９ ｇ （８７．０％）得た。

（５）Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨＣＨ（ＰｈＯＭｅ）_２
Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨＣＨ（ＰｈＯＭｅ）_２・ＨＣｌ （２．２５ ｇ， ５．００ ｍｍｏｌ）、Ｂｏｃ−Ｐｒｏ （１．１８ ｇ， ５．５０ ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ （０．７４０ ｇ， ５．５０ ｍｍｏｌ）をＤＭＦ （３０ ｍｌ）に溶かし、氷冷攪拌下にＥＤＣ（１．０１ ｍｌ， ５．５０ｍｍｏｌ）を滴下した。 室温で２時間攪拌した後、反応液に水を注いだ。 遊離した油状物を酢酸エチルで抽出した。 有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、１０％クエン酸水、水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、油状残渣にイソプロピルエーテルを加え結晶化し、表題化合物を２．７２ｇ （８９．２％）得た。

（６）Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−ＮＨ_２・ＣＨ_３ＣＯ_２Ｈ
Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ− ＮＨＣＨ（ＰｈＯＭｅ）_２（０．５０ ｇ， ０．８２ ｍｍｏｌ）をトリイソプロピルシラン（０．２５ ｍｌ）、水（０．２５ ｍｌ）存在下、トリフルオロ酢酸（９．５ ｍｌ）で、室温５時間処理した。反応液を減圧濃縮し、油状残渣にエーテルを加え、析出した沈殿を濾取した。 この粉末を水に溶かし、凍結乾燥し、粗ペプチドを得た（０．３５ｇ）。 粗ペプチドをＯＤＳカラム（３０ ｘ ２５０ ｍｍ）を用いてＨＰＬＣにより精製し（溶離液Ａ＝ ０．１％ ＴＦＡ／水，Ｂ ＝ ０．１％ ＴＦＡ／アセトニトリル，溶出勾配Ａ： Ｂ ＝ ９５．５ ： ０．５から８５ ： １５まで８０分の直線勾配）、表題化合物のフリー体を０．２６ ｇ得た。 これを１％酢酸水溶液（１０ ｍｌ）に溶かし、強塩基性イオン交換樹脂ムロマック（酢酸型，１０ ｍｌ）カラムに適用した。さらに１％酢酸水溶液（７０ ｍｌ）で溶出し、溶出液を凍結乾燥して、表題化合物を０．２３ ｇ （８１％）得た。
ＥＳＩ ＭＳ： ｍ／ｚ ２８５．２ （Ｍ＋Ｈ，２８５．３）

本発明の方法は、ペプチド医薬品などの工業的製造に好適に利用できる。
本願は、日本で出願された特願２００８−２０３６３５を基礎としており、その内容は本明細書にすべて包含されるものである。

本明細書において使用される記号、略号の意味を以下に示す。
（１）Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
（２）Ｚ：ベンジルオキシカルボニル
（３）Ｆｍｏｃ：９−フルオレニルメトキシカルボニル
（４）Ｂｓｍｏｃ：１，１−ジオキソベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イルメトキシカルボニル
（５）Ａｌｌｏｃ：アリルオキシカルボニル
（６）Ａｃ：アセチル
（７）Ｐｂｆ：２，２，４，６，７−ペンタメチルジヒドロベンゾフラン−５−スルホニル
（８）Ｍｅ：メチル
（９）Ｅｔ：エチル
（１０）ｉＰｒ：イソプロピル
（１１）ｔＢｕ：ｔｅｒｔ−ブチル
（１２）Ｂｚｌ：ベンジル
（１３）Ｆｍ：９−フルオレニルメチル
（１４）Ｔｒｔ：トリチル
（１５）Ｄｐｍ：ジフェニルメチル
（１６）Ｂｐｒ：１，１−ジメチル−２−フェニル−エチル
（１７）Ｄｍｂ：２，４−ジメトキシベンジル
（１８）ＨＯＢｔ：１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
（１９）６−Ｃｌ−ＨＯＢｔ（ＨＯＣｔ）：６−クロロ−１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
（２０）ＨＯＡｔ：１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール
（２１）ＨＯＯＢｔ（ＨＯＤｈｂｔ）：３−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロ−４−オキソ−１．２．３−ベンゾトリアジン
（２２）ＨＯＳｕ：Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド
（２３）ＨＯＰｈｔ：Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
（２４）ＨＯＮｂ：Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド
（２５）Ｂｔ：ベンゾトリアゾール−１−イル
（２６）Ｃｔ：６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル
（２７）Ａｔ：７−アザベンゾトリアゾール−１−イル
（２８）Ｄｈｂｔ：３，４−ジヒドロ−４−オキソ−１．２．３−ベンゾトリアジン−３−イル
（２９）Ｓｕ：スクシンイミドイル
（３０）Ｐｈｔ：フタルイミドイル
（３１）Ｎｂ：５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミドイル
（３２）ＤＣＣ：ジシクロヘキシルカルボジイミド
（３３）ＥＤＣ：１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）−カルボジイミド
（３４）ＥＤＣ．ＨＣｌ：１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）−カルボジイミド塩酸塩
（３５）ＤＩＰＣ：ジイソプロピルカルボジイミド
（３６）ＢＯＰ：１−ベンゾトリアゾリルオキシ−トリス−ジメチルアミノ−ホスホニウム ヘキサフルオロホスフェート
（３７）ＰｙＢＯＰ：１−ベンゾトリアゾリルオキシ−トリス−ピロリジノ−ホスホニウム ヘキサフルオロホスフェート
（３８）ＰｙＢｒｏＰ：ブロモ−トリス−ピロリジノ−ホスホニウム ヘキサフルオロホスフェート
（３９）ＨＢＴＵ：Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロホスフェート
（４０）ＴＢＴＵ：Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート
（４１）ＨＣＴＵ：Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロホスフェート
（４２）ＨＡＴＵ：Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム ヘキサフルオロホスフェート
（４３）ＣＤＩ：カルボニルジイミダゾール
（４４）ＤＢＵ：１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン
（４５）ＤＭＴ−ＭＭ：４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリニウム クロリド
（４６）ＡＡ_ｎ：アミノ酸残基（下付のｎは１以上の任意の整数であり、ペプチドＣ末端からの順番を示す。）
（４７）ＰＧ_０：ペプチドのＣ末端カルボキシル基またはＣ末端アミド基の保護基
（４８）ＰＧ_ｎ：アミノ基の保護基（下付のｎは１以上の任意の整数であり、ＡＡ_ｎのアミノ基の保護基であることを示す。）
（４９）ＨＯＥ：活性化剤
（５０）Ｅ：活性エステル基
（５１）Ｇｌｙ：グリシン
（５２）Ａｌａ：アラニン
（５３）Ｖａｌ：バリン
（５４）Ｌｅｕ：ロイシン
（５５）Ｉｌｅ：イソロイシン
（５６）Ｍｅｔ：メチオニン
（５７）Ｐｈｅ：フェニルアラニン
（５８）Ｔｙｒ：チロシン
（５９）Ｔｒｐ：トリプトファン
（６０）Ｈｉｓ：ヒスチジン
（６１）Ｌｙｓ：リジン
（６２）Ａｒｇ：アルギニン
（６３）Ｓｅｒ：セリン
（６４）Ｔｈｒ：トレオニン
（６５）Ａｓｐ：アスパラギン酸
（６６）Ｇｌｕ：グルタミン酸
（６７）Ａｓｎ：アスパラギン
（６８）Ｇｌｎ：グルタミン
（６９）Ｃｙｓ：システイン
（７０）Ｐｒｏ：プロリン
（７１）Ｏｒｎ：オルニチン
（７２）Ｓａｒ：サルコシン
（７３）β−Ａｌａ：β−アラニン
（７４）ＧＡＢＡ：γ−アミノ酪酸
（７５）Ｄａｐ：２，３−ジアミノプロパン酸

（１）Ｆｍｏｃ−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ
ベンゾフェノンヒドラゾン（３７．５ｇ，０．１９１ｍｏｌ）の塩化メチレン（４５０ｍｌ）溶液に、無水硫酸マグネシウム（３３．０ｇ）と二酸化マンガン（７５．０ｇ，０．８６３ｍｏｌ）を加えて室温で２時間攪拌した。不溶物を濾去した後、濾液を減圧濃縮した。得られた固体残渣をアセトン（３７５ｍｌ）に溶かし、Ｆｍｏｃ−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）（３６．６ｇ，９５．５ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２２時間攪拌した。反応液にヘキサンを加えて析出した固体を濾取し、ヘキサンで洗浄して、表題化合物を４１．５ｇ得た。母液を減圧濃縮し、ヘキサンで固化し、表題化合物を５．９７ｇ得た。収量４７．５ｇ（８６．４％）。

（１０）Ｇｌｙ−Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−Ｓｅｒ
Ｂｏｃ−Ｇｌｙ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｓｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＤｐｍ（１０．５ｇ，９．４０ｍｍｏｌ）に９０％トリフルオロ酢酸水溶液(７４．４ｍｌ)を加え、室温で１時間攪拌した。エーテルを加え析出した固体を濾取した。
この固体に９０％トリフルオロ酢酸水溶液（７４．４ｍｌ）を加え、更に室温で１時間攪拌した。エーテルを加え析出した固体を濾取し、水に溶かして凍結乾燥した。凍結乾燥粉末を０．１％トリフルオロ酢酸水溶液（１００ｍｌ）に溶かし、１／３量ずつをＹＭＣ−ＰａｋＯＤＳカラム[サイズ：３０ｘ２５０ｍｍ，溶出条件：流速，２０ｍｌ／分；検出，２２０ｎｍ；溶離液，１％アセトニトリル／０．１％トリフルオロ酢酸（３０分)−１−８０％アセトニトリル／０．１％トリフルオロ酢酸（４０分：リニヤーグラジエント）］で精製し、凍結乾燥品６．５６ｇ得た。凍結乾燥品の０．５Ｎ酢酸（１５０ｍｌ）溶液を強塩基性イオン交換樹脂ムロマック１ｘ４（２００ｍｌ，酢酸型）に適用し、０．５Ｎ酢酸（４００ｍｌ）で溶出した。溶出液を集め、凍結乾燥し、表題化合物を４．５１ｇ得た。これを１％酢酸（４５ｍｌ）／エタノール（２２５ｍｌ）から再沈殿し，表題化合物を４．１２ｇ得た。
アミノ酸分析（６Ｎ塩酸，１１０℃で２２時間加水分解)：Ａｓｐ １．００ （１），Ｓｅｒ ０．８８ （１），Ｇｌｙ １．９７ （２），Ａｒｇ ０．９９ （１）；
元素分析：実測値 Ｃ， ３９．６３；Ｈ， ６．３９；Ｎ， １９．６９％ Ｃ_１９Ｈ_３０Ｎ_８Ｏ_９・１．４Ｈ_２Ｏ・０．９ＣＨ_３ＣＯ_２Ｈとしての計算値Ｃ， ３９．６３；Ｈ， ６．４４；Ｎ， １９．６７％
ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ ４９１．２ （Ｍ＋Ｈ，４９１．２）

Claims (12)

1. Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物を、窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物と反応させることにより脱保護して得られる反応混合物からジベンゾフルベンアミン付加体を除去する方法であって、
   該反応混合物を二酸化炭素と接触させる工程、およびジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を除去する工程
   を含むことを特徴とする方法。
2. Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物の脱保護により生成するジベンゾフルベンを除去する方法であって、
   脱保護反応中または反応後の反応混合物に、窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物を混合してジベンゾフルベンアミン付加体を含む混合物を得る工程、該混合物を二酸化炭素と接触させる工程、およびジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を除去する工程
   を含むことを特徴とする方法。
3. ジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を、酢酸エステル、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、アセトンおよびエーテルから選ばれる少なくとも一種を含む溶媒中で析出させる、請求項１または２記載の方法。
4. ジベンゾフルベンアミン付加体の炭酸塩を濾過により除去する、請求項３記載の方法。
5. 窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物が、ジアミン類である請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
6. 窒素原子が少なくとも一つの水素原子を有するアミン化合物が、４−アミノメチルピペリジン、４−ジメチルアミノピペリジン、１、５−ジアミノペンタンおよび１、２−ジアミノシクロヘキサンから選ばれる、請求項５記載の方法。
7. Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸化合物が、Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸エステル、Ｆｍｏｃ基で保護されたアミノ酸アミド又はＦｍｏｃ基で保護されたペプチドである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
8. 請求項７記載の方法を含む、液相合成法によるペプチドの製造方法。
9. （１）Ｃ−保護ペプチド、Ｃ−保護アミノ酸またはＣ−保護アミノ酸アミドを、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸と、縮合剤の存在下縮合させる工程、および／または
   （２）Ｃ−保護ペプチド、Ｃ−保護アミノ酸またはＣ−保護アミノ酸アミドを、Ｎ−Ｆｍｏｃアミノ酸活性エステルと縮合させる工程
   を含む請求項８記載の方法。
10. 請求項９の（１）記載の工程において、さらに活性化剤を存在させる、請求項９記載の方法。
11. 請求項１記載の工程で得られた中間体ペプチドを固体として単離せずに請求項９記載の工程に供することを含む、請求項９または１０記載の方法。
12. ワンポット合成で行う、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の方法。