JPWO2009144951A1 - 受光装置、受光装置の製造方法 - Google Patents

受光装置、受光装置の製造方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、少なくとも一以上の受光部11と、受光部11が設けられたベース基板12Aと、ベース基板12A及び受光部11に対向配置された透明基板13Aと、ベース基板12Aと透明基板13Aとの間に受光部11を囲むように配置された枠部材14Aと、を備える。枠部材14Aは樹脂組成物が硬化されてなるものである。樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、光重合性樹脂と、9重量%以下の無機充填材と、を含む。光重合性樹脂は、アクリル系多官能モノマーを含む。枠部材14Aは透湿率が12[g/m2・24h]以上であり、枠部材14Aの80℃における弾性率が100Pa以上である。

Description

本発明は、受光装置、その製造方法に関する。
従来、中空パッケージを採用した固体撮像装置として図10のようなものが知られている。図10は、ベース基板101と、透明基板102の基板面と直交する方向の断面図である。このような固体撮像装置は、マイクロレンズアレイが形成されたベース基板101と、透明基板102と、マイクロレンズアレイで形成される受光部104と、受光部104を取り囲むように形成された枠部材103とを有する。
このような固体撮像装置のプロセスとして、露光及び現像などのフォトリソグラフィ技術が利用されている。特許文献1はその一例である。特許文献1の技術によれば、枠部材103は、光硬化性樹脂を含む樹脂組成物から構成される。これにより、枠部材103に含まれる光硬化性樹脂の特性によってベース基板101および透明基板102にパターン形成することができ、高精度かつ微細なパターンの枠部材103を形成させることができる。
上記のような固体撮像装置においては、充填材を含ませた樹脂組成物から枠部材103を形成させることにより、透明基板102やベース基板101での結露の発生を防止することが一般的であった。また、樹脂組成物に熱硬化性樹脂を含ませることで枠部材103と透明基板102との密着性を高め、装置の信頼性を高めることが通常であった。
特開2004−296453号公報
しかしながら、上記文献記載の従来技術において、さらに装置の信頼性を高めるためには、(i)枠部材の強度が不十分であること、(ii)内部空間の残渣が歩留まりの原因になっていることが本発明者らによって明らかとなった。
まず、本発明者らの知見によれば、枠部材の強度の低下は、枠部材に発生するアンダーカットに起因することが明らかとなった。アンダーカットは、枠部材厚み方向のベース基板あるいは透明基板側の硬化が弱いため現像液が枠部材にしみこむことにより生じるものと考えられた。アンダーカットがひどいものは枠部材が剥がれてしまうこともあった。また、アンダーカットがひどいものは解像度を上げることが困難であった。
また、露光、現像後の内部空間の残渣は、無機充填材を含んでいることが本発明者らによって明らかとなった。これは、現像時に枠部材から無機充填材が脱離して、異物になったためと考えられた。この異物は透明基板やベース基板に付着し、撮像特性に悪影響を及ぼし、歩留まりを低下させていた。
そこで、無機充填材を含まない樹脂組成物から枠部材を形成したところ、内部空間に発生する異物が低減することが明らかとなった。
また、それだけでなく、無機充填材を含有しない枠部材により、枠部材のアンダーカットの現象が低減されることも明らかとなった。これは、枠部材中に無機充填材を含まないことにより、光透過性が向上し、光硬化性樹脂の硬化が強化されたためと考えられた。これにより、枠部材の強度が向上し、現像液のしみこみがなくなったものと考えられた。
一方、無機充填材を含まない枠部材は、露光後の中空パッケージの形状保持能を低下させることが明らかとなった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、中空パッケージを採用する受光装置において、形状保持能を維持しつつ、かつ、枠部材の無機充填材の含有量を一定量以下にして、内部空間における異物の発生および枠部材のアンダーカットを低減することにある。
本発明によれば、少なくとも一以上の受光部と、
前記受光部が設けられたベース基板と、
前記ベース基板及び前記受光部に対向配置された透明基板と、
前記ベース基板と前記透明基板との間に受光部を囲むように配置された枠部材と、
を備え、
前記枠部材は、樹脂組成物が硬化されてなるものであり、
前記樹脂組成物は、
アルカリ可溶性樹脂と、
光重合性樹脂と、
9重量%以下の無機充填材と、
を含み、
前記光重合性樹脂は、アクリル系多官能モノマーを含み、
前記枠部材は、以下の(a)及び(b)の条件を満たす受光装置
が提供される。
(a)JIS Z0208 B法により測定された前記枠部材の透湿率が12[g/m・24h]以上
(b)水銀ランプで全波長の光を露光し、その積算露光量が、i線(365nm)の光で700mJ/cmになるように露光した後の、前記枠部材の80℃における弾性率が100Pa以上。
また、本発明によれば、少なくとも一以上の受光部が設けられたベース基板、又は、透明基板上に、前記ベース基板又は前記透明基板を覆うように電子線硬化性の樹脂組成物からなる接着フィルムを貼り付ける工程と、
前記接着フィルムに対し、電子線を選択的に照射し、少なくとも前記ベース基板上の前記受光部を囲む領域、又は、前記透明基板を前記ベース基板と対向配置させた際に、前記透明基板の前記受光部を覆う各領域を囲む領域に前記接着フィルムを残す工程と、
前記ベース基板および前記透明基板を対向配置させて、前記接着フィルムにより接着する工程と、
前記ベース基板と、前記透明基板と、前記ベース基板および前記透明基板との間に設けられるとともに、前記接着フィルムにより構成され、前記受光部を囲むように配置された枠部材と、を有する受光装置を得る工程と、
を含み、
前記樹脂組成物は、
アルカリ可溶性樹脂と、
光重合性樹脂と、
9重量%以下の無機充填材と、
を含み、
前記光重合性樹脂は、アクリル系多官能モノマーを含み、
前記枠部材は、以下の(a)及び(b)の条件を満たす受光装置の製造方法
が提供される。
(a)JIS Z0208 B法により測定された前記枠部材の透湿率が12[g/m・24h]以上
(b)水銀ランプで全波長の光を露光し、その積算露光量が、i線(365nm)の光で700mJ/cmになるように露光した後の、前記枠部材の80℃における弾性率が100Pa以上。
この発明によれば、枠部材を構成する樹脂組成物に対して無機充填材を9重量%以下にすることにより、中空パッケージの内部に発生する異物を低減することができる。また、無機充填材を上記樹脂組成物の9重量%以下とすることにより、枠部材の光透過性を向上させて、樹脂組成物の硬化を強化させることができる。したがって、露光時に現像液が枠部材に浸みだしするのを防止して、アンダーカットの発生を防止することができる。また、アルカリ可溶性樹脂およびアクリル系多官能モノマーを含む光重合性樹脂を用いることにより、枠部材の透湿率を12[g/m・24h]以上とし、水銀ランプで全波長の光を露光し、その積算露光量が、i線(365nm)の光で700mJ/cmになるように露光した後の、前記枠部材の80℃における弾性率が100Pa以上にすることができる。したがって、本発明の枠部材は、強度および透湿性の点でも優れている。以上のことから、本発明によれば、受光装置の形状保持性を維持しつつ結露の発生を防止して信頼性を向上させることが可能となる。
また、本発明において、以下の態様を採用することができる。
(i)上記光重合性樹脂は、エポキシビニルエステル樹脂を含む。
(ii)エポキシビニルエステル樹脂の重量含有率が上記樹脂組成物の3〜30%である。
(iii)上記アクリル系多官能モノマーが(メタ)アクリル酸エステル化合物である。
(iv)上記アクリル系多官能モノマーが三官能(メタ)アクリレート化合物または四官能(メタ)アクリレート化合物である。
(v)上記アクリル系多官能モノマーがトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートである。
(vi)上記アクリル系多官能モノマーの重量含有率が上記樹脂組成物の1〜50%である。
(vii)上記アルカリ可溶性樹脂が(メタ)アクリル変性ノボラック樹脂である。
(viii)上記アルカリ可溶性樹脂の重量含有率が上記樹脂組成物の50〜95%である。
なお、本発明の各種の構成要素は、個々に独立した存在である必要もなく、複数の構成要素が一個の部材として形成されていること、一つの構成要素が複数の部材で形成されていること、ある構成要素が他の構成要素の一部であること、ある構成要素の一部と他の構成要素の一部とが重複していること、等でよい。
また、本発明の半導体装置の製造方法には複数の工程を順番に記載してあるが、その記載の順番は複数の工程を実行する順番を限定するものではない。このため、本発明の半導体装置の製造方法を実施するときには、その複数の工程の順番は内容的に支障しない範囲で変更することができる。
本発明によれば、中空パッケージを採用する受光装置において、アンダーカット性および露光後の残渣を低減しつつ、形状保持性および透湿性を向上する。
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。
本発明の実施の形態に係る受光装置を模式的に示した断面図である。 本発明の実施の形態に係る受光装置の製造方法を説明する図である。 ベース基板上に、選択的に接着フィルムが残された状態を示す平面図である。 本発明の変形例に係る受光装置を示す断面図である。 本発明の変形例に係る受光装置を示す断面図である。 本発明の実施例および比較例の結果を示す図である。 本発明の実施例および比較例の結果を示すグラフである。 本発明の比較例の結果を示す図である。 本発明の比較例の結果を示す図である。 従来の受光装置を示す図である。
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
図1〜図3を参照して、本実施形態の受光装置について説明する。本実施形態の受光装置1は、複数の受光部11と、受光部11が設けられたベース基板12Aと、ベース基板12A及び受光部11に対向配置された透明基板13Aと、ベース基板12Aと透明基板13Aとの間に受光部11を囲むように配置された枠部材14Aと、を備える。枠部材14Aは、樹脂組成物が硬化されてなるものである。この樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、光重合性樹脂と、9重量%以下の無機充填材と、を含んでいる。光重合性樹脂は、アクリル系多官能モノマーを含んでいる。枠部材14Aは以下の(a)及び(b)の条件を満たす。
(a)JIS Z0208 B法により測定された枠部材14Aの透湿率が12[g/m・24h]以上
(b)水銀ランプで全波長の光を露光し、その積算露光量が、i線(365nm)の光で700mJ/cmになるように露光した後の、枠部材14Aの80℃における弾性率が100Pa以上。
以下に、受光装置1の構成および受光装置1の製造方法について詳細に説明する。図1は、ベース基板12Aと、透明基板13Aの基板面と直交する方向の断面図である。受光装置1は固体撮像装置として使用されるものである。
受光装置1は、図1の断面図に示すように、ベース基板12Aと、透明基板13Aと、受光素子から構成される受光部11と、受光部11を取り囲むように形成された枠部材14Aとを有する。
ベース基板12Aは、例えば、半導体基板であり、このベース基板12A上には、マイクロレンズアレイが形成されている。
透明基板13Aは、ベース基板12Aに対向配置されており、ベース基板12Aの平面寸法と略同じ平面寸法となっている。透明基板13Aは、例えば、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ガラス基板等である。
枠部材14Aは、ベース基板12A上のマイクロレンズアレイと透明基板13A上とに直接接着しており、ベース基板12Aおよび透明基板13Aを接着するものである。この枠部材14Aは、ベース基板12Aのマイクロレンズアレイの中心部を取り囲むように配置されており、マイクロレンズアレイのうち、枠部材14Aに取り囲まれた部分が受光部11として機能する。
受光部11の下面、すなわち、ベース基板12Aには、図示しない光電変換部が形成されており、受光部11で受光した光が電気信号に変換されることとなる。また受光部11には、たとえば、CCD(Charge Coupled Device)、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)といった受光素子が形成されている。
次に、図2を参照して、このような受光装置1の製造方法について詳細に述べる。
この製造方法は、複数の受光部11が設けられたベース基板12、又は、透明基板13上に、ベース基板12又は透明基板13を覆うように電子線硬化性の樹脂組成物からなる接着フィルム14を貼り付ける工程と、接着フィルム14に対し、電子線を選択的に照射し、少なくともベース基板12上の受光部11を囲む領域、又は、透明基板13をベース基板12と対向配置させた際に、透明基板13の受光部11を覆う各領域を囲む領域に接着フィルム14を残す工程と、ベース基板12および透明基板13を対向配置させて、接着フィルム14により接着する工程と、ベース基板12と、透明基板13と、ベース基板12および透明基板13との間に設けられるとともに、接着フィルム14により構成され、受光部11を囲むように配置された枠部材14Aと、を有する受光装置を得る工程と、を含む。
ここで、電子線とは、波長150nmから700nmまでの放射線を含む概念であり、例えば、近紫外線、紫外線を含むものである。
具体的には、まず、図2(A)に示すように、複数の受光部11が設けられたベース基板12を用意する。すなわち、ベース基板12上にマイクロレンズアレイを形成する。また、受光部11となる箇所に受光素子を形成する。
次に、図2(B)に示すように、このベース基板12の表面(受光部11が設けられた面)を覆うように、接着フィルム14を貼り付ける。
ここで、接着フィルム14は、アルカリ可溶性樹脂と光重合性樹脂とを含む樹脂組成物から構成される。
接着フィルム14は、JIS Z0208 B法により測定された透湿率が12[g/m・24h]以上であることが好ましく、特に14〜100[g/m2・24h]が好ましい。下限値未満であると、受光装置1の透明基板13A等の結露を充分に防止できない場合がある。上限値を超えると、接着フィルム14の吸湿リフロー信頼性が低下することがある。透湿率は厚さ100μmの接着フィルム14を用いて、透湿カップ法(JIS Z0208 B法)に準じて、40℃/90%で評価することができる。
接着フィルム14は、水銀ランプで全波長の光を露光し、その積算露光量が、i線(365nm)の光で700mJ/cmになるように露光した後の80℃における弾性率が100Pa以上であることが好ましく、特に500〜30000Paが好ましい。下限値未満であると、ベース基板と透明基板を貼り付ける際の形状保持性を低下させる。上限値を超えると、パターニング後にベース基板と透明基板の貼り付けが困難となる。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂等の(メタ)アクリル変性ノボラック樹脂、アクリル樹脂、スチレンとアクリル酸との共重合体、ヒドロキシスチレンの重合体、ポリビニルフェノール、ポリα‐メチルビニルフェノールなどが挙げられ、中でもアルカリ可溶性ノボラック樹脂が好ましく、(メタ)アクリル変性ノボラック樹脂が特に好ましい。これにより、現像液に有機溶剤ではなく、環境に対する負荷の少ないアルカリ水溶液を適用できると共に、耐熱性を維持することができる。
アルカリ可溶性樹脂の含有量は、特に限定されないが、接着フィルム14を構成する樹脂組成物の50〜95重量%が好ましい。含有量が下限値未満であると相溶性を向上する硬化が低下する場合があり、上限値を超える現像性または解像性が低下する場合がある。
光重合性樹脂としては、アクリル系多官能モノマーが用いられる。多官能モノマーとは、3官能以上を有するモノマーをいい、本実施形態においては、特に3官能または4官能のアクリル酸エステル化合物を好適に用いることができる。2官能以下のモノマーでは枠部材14Aの強度が弱くなり、受光装置1の形状を保持することができないため好ましくない。
具体的には、アクリル系多官能モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、等の三官能(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の四官能(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の六官能(メタ)アクリレートがある。これらの中でも三官能(メタ)アクリレートまたは四官能(メタ)アクリレートが好ましい。三官能(メタ)アクリレートや四官能(メタ)アクリレートを用いることにより、露光後の枠部材の強度を高めることができ、ベース基板と透明基板を貼り合せる際の形状保持性を向上することができる。
アクリル系多官能モノマーの含有量は、特に限定されないが、接着フィルム14を構成する樹脂組成物の1〜50重量%が好ましく、特に5〜25重量%が好ましい。下限値未満であると、ベース基板と透明基板を貼り付ける際の枠部材の強度が低下する。上限値を超えると、ベース基板と透明基板との貼付け性が低下することがある。
光重合性樹脂は、エポキシビニルエステル樹脂を含有させてもよい。これにより、露光時には、多官能モノマーとラジカル重合するため、枠部材14Aの強度を高めることができる。一方、現像時には、アルカリ現像液に対する溶解性を向上するため、現像後の残渣を低減することができる。
エポキシビニルエステル樹脂としては、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、エポライト40Eメタクリル付加物、エポライト70Pアクリル酸付加物、エポライト200Pアクリル酸付加物、エポライト80MFアクリル酸付加物、エポライト3002メタクリル酸付加物、エポライト3002アクリル酸付加物、エポライト1600アクリル酸付加物、ビスフェノールAジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物、ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、エポライト200Eアクリル酸付加物、エポライト400Eアクリル酸付加物、等がある。
エポキシビニルエステル樹脂の含有量は、特に限定されないが、接着フィルム14を構成する樹脂組成物の3〜30重量%が好ましい。上限値を超えると、枠部材の吸水特性が低下し、結露が発生しやすくなる。下限値未満では、枠部材のアルカリ現像液に対する溶解性が不足する場合があり、現像後に残渣が発生する場合がある。特に5〜15重量%の範囲にすると好ましい。こうすることにより、貼り付け後、ベース基板12Aおよび透明基板13Aの各表面に残存する異物をさらに低減させることが可能となる。
また、接着フィルム14は、光重合開始剤を含有することが好ましい。これにより、光重合により接着フィルム14を効率良くパターニングすることができる。
光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾインメチルエーテル、ベンジルフィニルサルファイド、ベンジル、ジベンジル、ジアセチルなどが挙げられる。
光重合開始剤の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物全体の0.5〜5重量%が好ましく、特に0.8〜3.0重量%が好ましい。含有量が下限値未満であると光重合開始する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると反応性が高くなりすぎ保存性や解像性が低下する場合がある。
また、接着フィルム14は、熱硬化性樹脂を含有することが好ましい。これにより、接着フィルムを露光、現像、パターニングした後でも接着性を有することができる。すなわち、接着フィルムを接合して露光、現像、パターンニングすることにより、所定の位置に接着剤成分を配置した後、熱圧着することでベース基板12Aと透明基板13Aとを接合することができる。
熱硬化性樹脂としては、例えばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂、レゾールフェノール樹脂等のフェノール樹脂、ビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ユリア(尿素)樹脂、メラミン樹脂等のトリアジン環を有する樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ベンゾオキサジン環を有する樹脂、シアネートエステル樹脂、エポキシ変性シロキサン等が挙げられ、これらは単独でも混合して用いても良い。これらの中でもエポキシ樹脂が特に好ましい。これにより、耐熱性および密着性をより向上することができる。
また、エポキシ樹脂として室温で固形のエポキシ樹脂(特にビスフェノール型エポキシ樹脂)と、室温で液状のエポキシ樹脂(特に室温で液状のシリコーン変性エポキシ樹脂)とを併用することが好ましい。これにより、耐熱性を維持しつつ、可とう性と解像性との両方に優れる接着フィルム14とすることができる。
熱硬化性樹脂の含有量は、特に限定されないが、接着フィルム14を構成する樹脂組成物全体の10〜40重量%が好ましく、特に15〜35重量%が好ましい。含有量が前記下限値未満であると耐熱性を向上する効果が低下する場合があり、上限値を超えると接着フィルム14の靭性を向上する効果が低下する場合がある。
また、熱硬化性樹脂には、フェノールノボラック樹脂をさらに含むことができる。フェノール樹脂を添加することにより、現像性を向上させることができる。また、エポキシ樹脂とフェノールノボラック樹脂とを両方含ませることにより、エポキシ樹脂の熱硬化性が向上し、枠部材14Aの強度をさらに向上させることができる。
なお、接着フィルム14は、無機充填材を含有させてもよいが、接着フィルム14を構成する樹脂組成物全体の9重量%以下とする。上限値を超えると、基板上に無機充填材に起因する異物が付着したり、アンダーカットが発生し好ましくない。本実施形態において無機充填材は含んでいなくてもよい。
無機充填材としては、例えばアルミナ繊維、ガラス繊維等の繊維状充填材、チタン酸カリウム、ウォラストナイト、アルミニウムボレート、針状水酸化マグネシウム、ウィスカー等の針状充填材、タルク、マイカ、セリサイト、ガラスフレーク、鱗片状黒鉛、板状炭酸カルシウム等の板状充填材、炭酸カルシウム、シリカ、溶融シリカ、焼成クレー、未焼成クレー等の球状(粒状)充填材、ゼオライト、シリカゲル等の多孔質充填材等が挙げられる。これらを1種又は2種以上混合して用いることもできる。これらの中でも、多孔質充填材が好ましい。
無機充填材の平均粒子径は、特に限定されないが、0.01〜90μmが好ましく、特に0.1〜40μmが好ましい。平均粒子径が前記上限値を超えるとフィルムの外観異常や解像性不良となる場合があり、下限値未満であると加熱貼り付け時の接着不良となる場合がある。平均粒子径は、例えばレーザ回折式粒度分布測定装置SALD−7000((株)島津製作所製)を用いて評価することができる。
無機充填材として、多孔質充填材を用いてもよい。無機充填材として、多孔質充填材を用いた場合、前記多孔質充填材の平均空孔径は、0.1〜5nmが好ましく、特に0.3〜1nmが好ましい。平均空孔径が前記上限値を超えると一部樹脂成分が空孔内部に入り込み、反応が阻害される可能性があり、下限値未満であると吸水能力が低下するため、接着フィルム14の透湿率が低下する場合がある。
接着フィルム14を構成する樹脂組成物は、上述した硬化性樹脂、充填材に加え、本発明の目的を損なわない範囲で可塑性樹脂、レベリング剤、消泡剤、カップリング剤などの添加剤を含有することができる。
次に、フォトマスクを用いて、接着フィルム14に電子線(例えば、紫外線)を選択的に照射する。これにより、接着フィルム14のうち光照射された部分が光硬化する。露光後の接着フィルム14を現像液(例えば、アルカリ水溶液、有機溶剤等)で現像すると、光照射された部分が現像液に溶解せずに、残ることとなる。ベース基板12上の各受光部11以外の領域に、受光部11を囲むように接着フィルム14を残す(図2(C)参照)。具体的には、図3の平面図に示すように、接着フィルム14を格子状に残す。
その後、接着フィルム14上に透明基板13を載置し、接着フィルム14により、ベース基板12と透明基板13とを接着する。例えば、ベース基板12と透明基板13とを加圧、あるいは加熱加圧し、接着フィルム14を介して接着する。
次に、接着したベース基板12および透明基板13を受光部単位に応じて分割する(図2(D)参照)。具体的には、まず、ベース基板12に対し、給水しながら、ベース基板12にダイシングソーにより切り込みを入れ、溝12Bを形成する。次に、溝12Bの側面およびベース基板12の底面を覆うように、スパッタリング等により金属膜(図示略)を形成する。
その後、透明基板13側からダイシングソーにより、切込みを入れ、ベース基板12および透明基板13を受光部11単位に応じて分割する。この際にも、ベース基板12、透明基板13、接着フィルム14に対し、給水しながら、ダイシングを行なう。
露光後の接着フィルム14は、受光部11以外の領域に残っている状態となっているので、ベース基板12および透明基板13を受光部単位に応じて分割する際には、接着フィルム14をもダイシングすることとなる。
以上の工程により、得られた受光装置1は、例えば、半田バンプを介して図示しない支持基板上に搭載されることとなる。支持基板上には、配線がパターニングされており、この配線と受光装置1のベース基板12の底面の金属膜(図示略)とが半田バンプを介して電気的に接続されることとなる。
次に、本実施形態の作用効果について述べる。本実施形態によれば、無機充填材を樹脂組成物の9重量%以下にすることにより、中空パッケージの内部に発生する異物を低減することができる。また、無機充填材を樹脂組成物の9重量%以下とすることにより、枠部材14Aの光透過性を向上させて、樹脂組成物の露光後の硬化を強化させることができる。したがって、現像時に現像液が枠部材14Aに浸みだしするのを防止して、アンダーカットの発生を防止することができる。また、本実施形態によれば、アルカリ可溶性樹脂およびアクリル系多官能モノマーを含む光重合性樹脂を用いることにより、JIS Z0208 B法により測定された枠部材の透湿率を12[g/m・24h]以上とし、水銀ランプで全波長の光を露光し、その積算露光量が、i線(365nm)の光で700mJ/cmになるように露光した後の、前記枠部材の80℃における弾性率を100Pa以上にすることができる。したがって、枠部材14Aは、強度および透湿性の点でも優れている。以上のことから、本実施形態によれば、受光装置1の形状保持性を維持しつつ結露の発生を防止して信頼性を向上させることが可能となる。
従来の受光装置では、接着フィルムに無機充填材を含ませることにより、枠部材の強度を保っていた。一方、本実施形態では、光重合性樹脂としてアクリル系多官能モノマーを用いている。したがって、光の照射により硬化させることで架橋密度を向上させることができ、枠部材の強度を高めることができる。よって、無機充填材によらなくても枠部材の強度を保持することが可能である。
また、中空のパッケージを採用する受光装置では、ベース基板12と透明基板13Aとの間(内部)で結露が発生することが問題となっていた。これは、基板貼付時に内部の空間に閉じ込められた湿気と、貼り付け後に接着材層を通って内部に入ってきた湿気が原因であると考えられている。そのため、結露の発生を抑制できる透湿性に優れた枠部材が要求されている。
一方、本実施形態では、無機充填材を樹脂組成物の9重量%以下にしても結露の発生を防止することが可能である。この理由は明らかではないが、アクリル系多官能モノマーを含ませることにより、光の照射によって適度な密度のある架橋構造を形成されることが理由の1つと考えられる。これにより、枠部材14Aの透湿性を向上させることが可能になったと考えられる。
そして、本実施形態によれば、無機充填材が樹脂組成物の9重量%以下であるため、内部空間に発生する異物を低減することができる。これにより、ベース基板12Aや透明基板13Aに付着する異物が低減し、受光部11の受光素子に与える悪影響を少なくすることができる。
また、無機充填材が樹脂組成物の9重量%以下であるため、接着フィルム14の光透過性を向上させることができる。そのため、樹脂組成物の硬化が強化され、枠部材14Aの強度が向上し、露光時の現像液のしみ込みが低減される。したがって、枠部材14Aに生じるアンダーカットを低減させることが可能となる。
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
例えば、実施形態では、接着フィルム14により接着したベース基板12および透明基板13を受光部単位に応じてダイシングする際に、接着フィルム14をもダイシングしたが、これに限らず、接着フィルム14をダイシングしなくてもよい。
例えば、図4に示すように、二点鎖線Aのところでベース基板12、透明基板13をダイシングしてもよい。このとき、受光装置2は、図5に示すように、ベース基板12Aの端部と、枠部14Aの外周部との間の距離が、枠部14Aの幅寸法の20%以下となるようにする。これにより、受光装置の小型化を図ることができる。
さらに、前記実施形態では、接着フィルム14(枠部材14A)とベース基板12(ベース基板12A)とがマイクロレンズアレイを介して接着していたが、これに限らず、接着フィルム14(枠部材14A)とベース基板12(ベース基板12A)とが直接接触していてもよい。
なお、接着フィルム14とベース基板12とを直接接触させる場合には、ベース基板12上の全面にマイクロレンズを形成せず、所定の間隔をあけてマイクロレンズを形成する。
さらに、実施形態では、ベース基板12の底面を覆うように、スパッタリング等により金属膜を形成したが、これに限られるものではない。例えば、ベース基板12に底面側から孔を形成し、この孔をめっき等により金属で埋める構成としてもよい。光電変換部と孔内の金属とを電気的に接続することで、電気信号を支持基板に伝達させることができる。
さらに、実施形態では、受光部11が複数設けられたベース基板12上に接着フィルム14を貼り付けたが、これに限らず、透明基板13表面に接着フィルム14を貼り付けてもよい。透明基板13に接着フィルム14を貼り付けた後、接着フィルム14に対し、選択的に光を照射する。透明基板13をベース基板12と対向配置させた際に、透明基板13の複数の受光部11を覆う領域を囲む領域に、接着フィルム14を残す。その後、ベース基板12および透明基板13を対向配置させて、接着フィルム14により接着する。さらに、本実施形態と同様、接着したベース基板12および透明基板13を受光部単位に応じて分割する。
(実施例1)
1.アルカリ可溶性樹脂((メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂)の合成
ノボラック型ビスフェノールA樹脂(フェノライトLF−4871、大日本インキ化学(株)製)の固形分60%MEK(メチルエチルケトン)溶液500gを、2Lフラスコ中に投入し、これに触媒としてトリブチルアミン1.5g、および重合禁止剤としてハイドロキノン0.15gを添加し、100℃に加温した。その中へ、グリシジルメタクリレート180.9gを30分間で滴下し、100℃で5時間攪拌反応させることにより、固形分74%のメタクリロイル変性ノボラック型ビスフェノールA樹脂MPN001(メタクリロイル変性率50%、表1、2中「メタクリル変性ビスAノボラック樹脂」)を得た。
2.接着ワニスの調製
光重合性樹脂として、トリメチロールプロパントリメタクリレート(共栄社化学(株)製、ライトエステルTMP)15重量%、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂である、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、エピクロンN−865)5重量%、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、Ep−828)10重量%、及び、シリコーンエポキシ樹脂(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製、BY16−115、表1、2中「エポキシ変性シロキサン」)5重量%、アルカリ可溶性樹脂として上記の合成した(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂を固形分として60重量%、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア651)2重量%、フェノールノボラック樹脂(住友ベークライト(株)、PR53647)3重量%を秤量し、ディスパーザーを用い、回転数3000rpmで1時間攪拌し、樹脂ワニスを調製した。
3.接着フィルムの調製
樹脂ワニスをコンマコーターで支持基材のPETフィルム(三菱樹脂社製、MRX50、厚さ50μm)に塗布し、80℃、20分乾燥して膜厚50μmの接着フィルムを得た。
(実施例2)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。トリメチロールプロパントリメタクリレートの配合量を5重量%、(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂の配合量を固形分として70重量%とした。
(実施例3)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。トリメチロールプロパントリメタクリレートの配合量を25重量%、(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂の配合量を固形分として50重量%とした。
(実施例4)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、Ep−828)に換えて、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、YL6810)を用いた。
(実施例5)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。トリメチロールプロパントリメタクリレート(共栄社化学(株)製、ライトエステルTMP)に換えて、ペンタエリスリトールトリアクリレート(共栄社化学(株)製、ライトエステルPE−3A)を用いた。
(実施例6)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。トリメチロールプロパントリメタクリレート(共栄社化学(株)製、ライトエステルTMP)に換えて、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(共栄社化学(株)製、ライトエステルPE−4A)を用いた。また、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、Ep−828)に換えて、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、YL6810)を用いた。
(実施例7)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。光重合性樹脂として、エポキシビニルエステル樹脂(共栄社化学(株)製、エポキシエステル3002M)5重量%を加えた。(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂の配合量を固形分として55重量%とした。
(実施例8)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。光重合性樹脂として、エポキシビニルエステル樹脂(共栄社化学(株)製、エポキシエステル3002M)10重量%を加えた。(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂の配合量を固形分として50重量%とした。
(実施例9)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。光重合性樹脂として、エポキシビニルエステル樹脂(共栄社化学(株)製、エポキシエステル3002M)15重量%を加えた。トリメチロールプロパントリメタクリレートの配合量を10重量%、(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂の配合量を固形分として50重量%とした。
(実施例10)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。光重合性樹脂として、エポキシビニルエステル樹脂(共栄社化学(株)製、エポキシエステル3000M)5重量%を加えた。(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂の配合量を固形分として55重量%とした。
(実施例11)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。トリメチロールプロパントリメタクリレートの配合量を20重量%とし、光重合性樹脂としてエポキシビニルエステル樹脂(共栄社化学(株)製、エポキシエステル3002M)5重量%をさらに加えた。ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂の配合量を30重量%とし、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、Ep−828)は使用しなかった。(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂の配合量を固形分として35重量%とした。
(実施例12)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。トリメチロールプロパントリメタクリレートの配合量を20重量%とし、光重合性樹脂としてエポキシビニルエステル樹脂(共栄社化学(株)製、エポキシエステル3002M)5重量%をさらに加えた。ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂の配合量を25重量%とし、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、Ep−828)は使用しなかった。(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂の配合量を固形分として40重量%とした。
(実施例13)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂の配合量を固形分として50重量%とした。トリメチロールプロパントリメタクリレートの配合量を13重量%とし、光重合性樹脂としてエポキシビニルエステル樹脂(共栄社化学(株)製、エポキシエステル3002M)の配合量を5重量%、充填材としてシリカ((株)アドマテックス製、SO−E5)の配合量を7重量%とした。
(比較例1)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。トリメチロールプロパントリメタクリレート(共栄社化学(株)製、ライトエステルTMP)に換えて、1,9−ノナンジオールジメタクリレート(新中村化学工業(株)製、ライトエステル1,9ND)を用いた。
(比較例2)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。トリメチロールプロパントリメタクリレート(共栄社化学(株)製、ライトエステルTMP)は使用しなかった。充填材としてシリカ((株)アドマテックス製、SO−E5)15重量%を用いた。
(比較例3)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。トリメチロールプロパントリメタクリレート(共栄社化学(株)製、ライトエステルTMP)は使用しなかった。(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂の配合量を40重量%とした。充填材としてシリカ((株)アドマテックス製、SO−E5)35重量%を用いた。
(比較例4)
実施例1の接着ワニスの配合を以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。トリメチロールプロパントリメタクリレート(共栄社化学(株)製、ライトエステルTMP)を10重量%用いた。充填材としてシリカ((株)アドマテックス製、SO−E5)15重量%を用いた。(メタ)アクリル変性ビスAノボラック樹脂の配合量を固形分として50重量%とした。
実施例1〜10、比較例1〜4の接着フィルムの配合量を表1に示す。また、実施例11〜13の接着フィルムの配合量を表2に示す。
各実施例で得た接着フィルムの評価を以下のように行なった。結果を表3および表4に示した。
(1) 弾性率
実施例1〜13、比較例1〜4で得られた接着フィルムに、波長365nmの光を700mJ/cm照射し露光を行った。次いで、接着フィルムからPETフィルムを剥がし接着層を3枚重ねて、動的粘弾性測定装置Rheo Stress RS150(HAAKE社製、測定周波数:1Hz、ギャップ間隔:100μm、測定温度範囲:25〜200℃、昇温速度10℃/分)で貯蔵弾性率G´を測定し、80℃における弾性率を求めた。結果を表3および表4に示した。
(2) 透過率
厚さ25μmの接着フィルムを作製し、UV可視分光器(型番:UV−160A、(株)島津製作所製)を用い、測定波長:200〜1000nmで透過率を測定し、波長365nmにおける透過率を測定値とした。結果を表3および表4に示した。
(3)透湿率
60℃に設定されたラミネータを用いて、接着フィルムを貼り合せ、膜厚100μmのフィルムを作製し、露光機を用いて、露光量700mJ/cm2(波長365nm)の光を照射したあとに、180℃/2時間熱硬化した。得られた硬化後のフィルムを透湿カップ法(JIS Z0208)に準じて、40℃/90%の環境下で評価し、透湿率を求めた。結果を表3および表4に示した。
表3および表4から明らかなように、実施例1〜13は硬化後の接着フィルムの弾性率、透過率および透湿率のいずれの点においても優れていた。
次に、上述の接着フィルムを用いてベース基板と透明基板とを接合して得られた接着体の実施例について説明する。
8インチ半導体ウエハ(ベース基板)(厚み:300μm)に、実施例1〜13、または、比較例1〜4で得られた接着フィルムを、それぞれ、ロールラミネーター(ロール温度:60℃、速度:0.3m/分、シリンジ圧:2.0kgf/cm)の条件でラミネートし、接着フィルム付き半導体ウエハを得た。次に、露光装置のマスクと接着フィルム付き8インチ半導体ウエハの位置合わせを波長600nmの光で行った。次に、波長365nmの光を700mJ/cm照射し、PETフィルムを引き剥がした。さらに、2.38重量%TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)を用いて、現像液圧:0.3MPa、時間:90秒現像を行い、5mm角、幅0.6mmの形状の接着フィルムからなる枠部材を形成した。
次に、サブストレート・ボンダ(ズース・マイクロテック(株)製、SB8e)に上記枠部材を有する半導体ウエハおよび8インチ透明基板をセットし、8インチ半導体ウエハと8インチ透明基板の圧着を行い、さらに、150℃、90分の条件でポストキュアを行った。得られた8インチ半導体ウエハと8インチ透明基板の接着物を、ダイシングソーを用い、所定の大きさにダイシングし、受光装置を得た。
評価用サンプルで、以下のように評価した。結果はそれぞれ表5および表6に示した。
(4)形状保持性
上記評価用サンプルの枠部材のフロー性(つぶれ具合い)を目視により評価した。各符号は、以下の通りである。
○:熱圧着前後の枠部材の寸法に変化が無かった。
×:熱圧着後の樹脂スペーサが非常に大きくフローし、寸法、形状とも大きく変化していた。
(5)アンダーカット
露光および現像後の枠部材の断面を走査顕微鏡で観察した結果を図6に示す。比較例2の接着フィルムには、17μmのアンダーカットが観察された(図6(c))。また、比較例3の接着フィルムには、11μmのアンダーカットが観察された(図6(b))。一方、実施例1の接着フィルムには、5μmのアンダーカットが観察された(図6(a))。表5および表6では、アンダーカットが5μm以下のものを○、5μmより大きいものを×と示した。
なお、図6(d)は、従来の接着フィルムを用いて同様な評価用サンプル(以下、従来品という)を作製し、枠部材のアンダーカットを観察したものである。このサンプルでは、27μmのアンダーカットが観察された。図7は、実施例1、比較例2,3および従来品の接着フィルムについて、アンダーカット量と光透過率との関係をグラフにしたものである。光透過率が向上すると、アンダーカット量が低減されることが示された。
(6)残渣
露光および現像後、受光部を走査顕微鏡で観察したところ、比較例2の接着フィルムでは、図8(a)に示す異物(タイプA)、図9(a)に示す異物(タイプB)がウェハ上に観察された。図8(a)で示されるタイプAの異物を拡大すると、樹脂組成物由来の成分が認められた(図8(b))。図8(b)において点線で囲む部分を拡大して観察すると、シリカフィラーが観察された(図8(c))。図9(a)で示されるタイプBは液体の異物であった(図9(a))。図9(a)で示されるタイプBの異物を拡大すると、シリカフィラーが観察されたが、樹脂組成物由来の成分は認められなかった(図9(b))。比較例1の接着フィルムでは、図8で示すようなタイプAの異物は観察されなかったが、タイプBの異物は観察された。実施例1〜13の接着フィルムでは、タイプA、Bいずれの異物も観察されなかった。なお、表5および表6では、ベース基板または透明基板上に異物が観察されなかったものを○、異物が観察されたものを×と示した。
(7)結露
温度60℃、湿度90%の条件下で、500時間処理したあと、温度25℃、湿度50%の環境に出し、評価用サンプルのガラス基板の内側が結露するか顕微鏡で観察した。結果は表5および表6に示した。表5および表6では、結露がないものを○、結露が発生したものを×と示した。
表5および表6から明らかなように、実施例1〜13は受光装置の形状保持性に優れていた。また、枠部材のアンダーカットも少なかった。さらに、ウェハ上に残渣および結露が観察されず良好な信頼性を示した。

Claims (11)

  1. 少なくとも一以上の受光部と、
    前記受光部が設けられたベース基板と、
    前記ベース基板及び前記受光部に対向配置された透明基板と、
    前記ベース基板と前記透明基板との間に前記受光部を囲むように配置された枠部材と、
    を備え、
    前記枠部材は、樹脂組成物が硬化されてなるものであり、
    前記樹脂組成物は、
    アルカリ可溶性樹脂と、
    光重合性樹脂と、
    9重量%以下の無機充填材と、
    を含み、
    前記光重合性樹脂は、アクリル系多官能モノマーを含み、
    前記枠部材は、以下の(a)及び(b)の条件を満たす受光装置。
    (a)JIS Z0208 B法により測定された前記枠部材の透湿率が12[g/m・24h]以上
    (b)水銀ランプで全波長の光を露光し、その積算露光量が、i線(365nm)の光で700mJ/cmになるように露光した後の、前記枠部材の80℃における弾性率が100Pa以上。
  2. 前記光重合性樹脂は、エポキシビニルエステル樹脂を含む請求項1に記載の受光装置。
  3. 前記エポキシビニルエステル樹脂の重量含有率が前記樹脂組成物の3〜30%である請求項2に記載の受光装置。
  4. 前記アクリル系多官能モノマーが(メタ)アクリル酸エステル化合物である請求項1乃至3いずれかに記載の受光装置。
  5. 前記アクリル系多官能モノマーが三官能(メタ)アクリレート化合物または四官能(メタ)アクリレート化合物である請求項1乃至4いずれかに記載の受光装置。
  6. 前記アクリル系多官能モノマーがトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートである請求項1乃至5いずれかに記載の受光装置。
  7. 前記アクリル系多官能モノマーの重量含有率が前記樹脂組成物の1〜50%である請求項1乃至6いずれかに記載の受光装置。
  8. 前記アルカリ可溶性樹脂が(メタ)アクリル変性ノボラック樹脂である請求項1乃至7いずれかに記載の受光装置。
  9. 前記アルカリ可溶性樹脂の重量含有率が前記樹脂組成物の50〜95%である請求項1乃至8いずれかに記載の受光装置。
  10. 少なくとも一以上の受光部が設けられたベース基板、又は、透明基板上に、前記ベース基板又は前記透明基板を覆うように電子線硬化性の樹脂組成物からなる接着フィルムを貼り付ける工程と、
    前記接着フィルムに対し、電子線を選択的に照射し、少なくとも前記ベース基板上の前記受光部を囲む領域、又は、前記透明基板を前記ベース基板と対向配置させた際に、前記透明基板の前記受光部を覆う各領域を囲む領域に前記接着フィルムを残す工程と、
    前記ベース基板および前記透明基板を対向配置させて、前記接着フィルムにより接着する工程と、
    前記ベース基板と、前記透明基板と、前記ベース基板および前記透明基板との間に設けられるとともに、前記接着フィルムにより構成され、前記受光部を囲むように配置された枠部材と、を有する受光装置を得る工程と、
    を含み、
    前記樹脂組成物は、
    アルカリ可溶性樹脂と、
    光重合性樹脂と、
    9重量%以下の無機充填材と、
    を含み、
    前記光重合性樹脂は、アクリル系多官能モノマーを含み、
    前記枠部材は、以下の(a)及び(b)の条件を満たす受光装置の製造方法。
    (a)JIS Z0208 B法により測定された前記枠部材の透湿率が12[g/m・24h]以上
    (b)水銀ランプで全波長の光を露光し、その積算露光量が、i線(365nm)の光で700mJ/cmになるように露光した後の、前記枠部材の80℃における弾性率が100Pa以上。
  11. 前記光重合性樹脂は、エポキシビニルエステル樹脂を含む請求項10に記載の受光装置の製造方法。
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SG174933A1 (en) * 2009-03-31 2011-11-28 Sumitomo Bakelite Co Film for resin spacer, light-receiving device and method for manufacturing same, and mems device and method for manufacturing same
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US20150034928A1 (en) * 2012-02-24 2015-02-05 Mitsui Chemicals, Inc. Optical-device surface-sealing composition, optical-device surface-sealing sheet, display, and display manufacturing method
US9481572B2 (en) 2014-07-17 2016-11-01 Texas Instruments Incorporated Optical electronic device and method of fabrication

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6191212A (ja) * 1984-10-12 1986-05-09 Dainippon Ink & Chem Inc 電気積層板用樹脂組成物
JP2004296453A (ja) 2003-02-06 2004-10-21 Sharp Corp 固体撮像装置、半導体ウエハ、光学装置用モジュール、固体撮像装置の製造方法及び光学装置用モジュールの製造方法
JP2008042186A (ja) * 2006-07-11 2008-02-21 Sumitomo Bakelite Co Ltd 受光装置および受光装置の製造方法
JP2008022001A (ja) * 2007-07-09 2008-01-31 Sumitomo Bakelite Co Ltd 受光装置および受光装置の製造方法

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