JPWO2009123166A1 - フォトマスクブランクおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
この微細加工には、石英ガラス、アルミノシリケートガラス等の透光性基板の上に、一般的にはクロム膜等の金属薄膜からなる遮光膜をスパッタまたは真空蒸着等で形成したフォトマスクブランクの遮光膜を所定のパターンに形成したフォトマスクが用いられている。
前記遮光膜の表面部の原子数密度が9×1022〜14×1022atms/cm3である、フォトマスクブランク。
本明細書において、表面部とは、遮光膜の表面から30nm以内(好ましくは5nm以内)の部分を意味する。
[2] 遮光膜が複数の層からなる、[1]に記載のフォトマスクブランク。
[3] 複数の層の中で最も表面側に設けられた表面層の厚さが3〜30nmである、[2]に記載のフォトマスクブランク。
また、当該表面層の表面粗さRaは0.5nm以下であることが好ましい。
[4] 表面層がCrO、CrON、CrOC、CrNまたはCrOCNからなる、[3]に記載のフォトマスクブランク。
[5] 表面部の原子数密度が10×1022〜13×1022atms/cm3である、[1]〜[4]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[6] 前記遮光膜の表面部は、グレインサイズが2nm以下のアモルファス構造である、[1]〜[5]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
前記遮光層がCrO、CrON、CrC、CrCN、CrOC、CrNまたはCrOCNからなる、[2]〜[6]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[8] 遮光膜は、表面層と遮光層を含み、
前記表面層は、Crの含有率が50%以下、OとCrとの原子数比O/Crが0.5以上、CとCrとの原子数比C/Crが0.1以上、NとCrとの原子数比N/Crが0.3以上であり、
前記遮光層は、Crの含有率が50%以上である、[2]〜[6]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[9] 遮光膜は、表面層と遮光層を含み、
前記遮光層が遷移金属とSiを含む、[2]〜[6]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[10] 遮光膜は、表面層と遮光層を含み、
前記遮光層がTaを含む、[2]〜[6]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[12] オゾン処理されるフォトマスクに用いられる、[1]〜[11]のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
[13] [1]〜[12]のいずれかに記載のフォトマスクブランクをリソグラフィ法によりパターン形成して得られるフォトマスク。
2 遮光層
3 裏面反射防止層
4 表面反射防止層
5 位相シフター膜
10 透光性基板
本発明のフォトマスクブランクにおいて、遮光膜は透光性基板に直接設けられてもよいし、遮光膜と透光性基板との間に位相シフター膜等の他の膜が設けられてもよい。また、本発明のフォトマスクブランクには、レジスト膜が形成されたフォトマスクブランクもレジスト膜が形成されていないフォトマスクブランクも含まれる。
透光性基板は透光性を有する基板であれば特に限定されないが、石英ガラス基板、アルミノシリケートガラス基板、フッ化カルシウム基板、フッ化マグネシウム基板等を用いることができる。これらの中でも、石英ガラス基板は平坦度および平滑度が高く、フォトマスクを使用して半導体基板上へのパターン転写を行う場合、転写パターンの歪みが生じにくく高精度のパターン転写が行えるため好ましい。
本発明のフォトマスクブランクの遮光膜は、複数の層からなる多層構造であっても、1層からなる単層構造であってもよい。
多層構造の遮光膜を有するフォトマスクブランクとしては、図1の(1)に示すような、遮光膜が3つの層から構成されている例が挙げられる。遮光膜が3つの層からなる場合、本明細書では、遮光膜において最も表面側に構成された層から順に、表面層1、遮光層2、裏面反射防止層3とする。ここで、図1に示す遮光膜が3つの層からなるフォトマスクブランクでは、表面層1は、反射防止機能を兼ね備えることが好ましい。
図1の(2)に示すように、遮光膜が4つの層からなり、最表面から順に、表面層1、表面反射防止層2、遮光層3および裏面反射防止層4である別の態様のフォトマスクブランクとすることもできる。
この場合、表面層1にエッチングマスク機能を持たせてもよい。例えば、表面反射防止層2、遮光層3および裏面反射防止層4がCr系材料からなる膜の場合には、表面層1を塩素系エッチングに対して耐性を有するSi系材料を含むエッチングマスク層とすることが好ましい。また、表面反射防止層2、遮光層3および裏面反射防止層4がSi系材料を含む膜の場合には、表面層1はフッ素系エッチングに対して耐性を有するCr系材料からなるエッチングマスク層とすることが好ましい。
また、図1の(1)および(2)において、裏面反射防止層3を設けない構成とすることもできる。
本発明の表面層は、遮光膜を形成する層の中で、透光性基板から最も離れた側(表面側)に設けられる層であり、耐オゾン性を有する層であることが好ましい。
表面層においては、その組成および原子数密度が均一であることが好ましい。したがって、遮光膜の表面部(遮光膜の表面から30nm以内、好ましくは5nm以内の部分)を含む表面層の原子数密度は9〜14×1022atms/cm3であり、10〜13×1022atms/cm3であることがより好ましい。このような原子数密度を有することによって、フォトマスクまたはフォトマスクブランクのオゾン洗浄における光学的特性の変化を抑えることができる。
原子数密度が9×1022atms/cm3未満の場合には、オゾン洗浄による光学的特性の変化量が大きくなりやすい。他方、原子数密度が14×1022atms/cm3を超える場合には、成膜条件の制御が困難になるため好ましくない。
なお、表面層がOを含む場合、その透過率が高くなる傾向があるから、それによって反射防止機能が高くなる。また、表面層の反射防止機能を高めた場合、露光波長における反射率を低反射率にすることができ、マスクパターンを被転写体に転写するときに、投影露光面との間での多重反射を抑制し、結像特性の低下を抑制することができる。
表面層がCrの含有率が50%以下のCr系化合物膜(特にCrOCNまたはCrOC)からなり、OとCrとの原子数比O/Crが0.5以上、CとCrとの原子数比C/Crが0.1以上、および、NとCrとの原子数比N/Crが0.3以上であることが好ましい。
原子数比O/Crが0.5未満、原子数比C/Crが0.1未満および原子数比N/Crが0.3を下回る場合には、反射防止機能を維持しながら、エッチングレート制御、光学濃度制御および導電性制御を行うことが困難になる。
更に、表面層の好ましい厚さはその組成等に依存するが、3〜30nmが好ましく、10〜20nmがさらに好ましい。厚さが3nm未満であると、均一な成膜が困難であるため耐オゾン性が低下する恐れがあり、30nmを超えると、膜厚が厚くなりすぎるため、レジストの薄膜化が困難となり、マスクパターン微細化に対応できなくなる恐れがある。
また、表面層を、SiO2またはSiONからなる層としてもよい。
例えば、基板上に、MoSi系材料からなる裏面反射防止層、遮光層および表面反射防止層遮光膜と、Cr系材料からなるエッチングマスク層とをこの順に設けたフォトマスクブランクを用いる場合を説明する。この場合、膜厚の薄いCr系エッチングマスク層を用いることによって、レジストへの負担が軽減され、Cr系エッチングマスク層にマスクパターンを転写したときの解像性の低下は改善される。
この構成によって、レジスト膜を薄膜化することが可能となるが、レジスト膜厚を150nm、さらには100nm以下にしようとすると、パターン形状が悪化し、エッチングマスク層にマスクパターンを転写したときのLER(Line Edge Roughness)が悪化する場合がある。そこで、エッチングマスク層のエッチング時間を短縮することが好ましい。
また、表面層において、フォトマスクブランクやフォトマスクの欠陥検査に用いる波長(例えば198nm、257nm、364nm、488nm等)に対する反射率の面内分布、プレート間分布を2%以下とすることが、欠陥を高精度で検出する上で望ましい。
本発明の表面反射防止層は、遮光膜を形成する層の中で、表面層と遮光層との間に任意に設けられる層であり、主に反射防止機能を有する層である。
表面反射防止層がCrの含有率が50%以下のCr系化合物膜(特にCrOCNまたはCrOC)からなり、OとCrとの原子数比O/Crが0.5以上、CとCrとの原子数比C/Crが0.1以上、および、NとCrとの原子数比N/Crが0.3以上であることが好ましい。
また、表面反射防止層を、SiO2、SiONとしてもよい。
また、表面反射防止層において、フォトマスクブランクやフォトマスクの欠陥検査に用いる波長(例えば198nm、257nm、364nm、488nm等)に対する反射率の面内分布、プレート間分布を2%以下とすることが、欠陥を高精度で検出する上で望ましい。
本発明の遮光層は、遮光膜を形成する層の中で、表面層の下または任意に設けられる表面反射防止層の下に設けられる層である。遮光膜を構成する遮光層は、多層膜中で最も高い遮光性を有する層である。遮光層は、OとCとNとからなる群から選ばれる1以上および金属を含むことが好ましい。遮光層に含まれる金属は遷移金属であることが好ましく、これらの中でもCr、MoまたはTaが好ましい。
本発明の裏面反射防止層は、遮光膜を形成する層の中で、遮光層の下に設けられる層である。反射防止層の組成は、OとCとNとからなる群から選ばれる1以上および金属を含む。
反射防止層がCrを含む場合、当該反射防止層はCrO、CrON、CrOCまたはCrOCNからなることが好ましい。反射防止層はOを含むことにより、反射防止機能が高まるため好ましい。
また、3層構造の場合、反射防止層を表面層と同じ組成にすると好ましい。この場合、成膜ガスの種類を同じにし、反射防止層と表面層とのガス条件を変更するだけでよいので、成膜工程が容易になるからである。
反射防止層は、その組成がCrOCNまたはCrOCからなり、OとCrとの原子数比O/Crが0.5以上、CとCrとの原子数比C/Crが0.1以上、および、NとCrとの原子数比N/Crが0.1以上であることが好ましい。このような反射防止層の好ましい厚さは、組成等に依存するが、通常、約5〜30nmであり、10〜20nmが好ましい。
また、裏面反射率が波長600nm〜800nm程度の範囲であまりに低い場合、基板認識センサーなどで認識出来ないことがあるため、5%以上の反射率を確保できるように調整することが好ましい。
また、表面層、表面反射防止層または表面反射防止層がCrOCNからなる場合、炭素はクロム炭化物(Cr−C)が主体であり、その他の成分C−C、C−O、C−Nが混在した状態であることが好ましい。
単層構造の遮光膜を有するフォトマスクブランクとしては、遮光膜全体が均一の組成であってもよいが、遮光膜の深さ方向によって組成が変化する構成が好ましい。
また、本発明において、遮光膜の表面部は遮光膜の表面から30nm以内(好ましくは5nm以内)の部分を意味するが、単層構造の遮光膜においても、その表面部の原子数密度は9×1022〜14×1022atms/cm3であり、10×1022〜13×1022atms/cm3であることが好ましい。このような原子数密度を有することによって、オゾン水による膜厚の減少を防止することができ、フォトマスクまたはフォトマスクブランクのオゾン洗浄における光学的特性の変化を抑えることができる。
本発明のフォトマスクブランクにおいて、遮光膜と透光性基板との間に位相シフター膜が設けられてもよい。
位相シフター膜は、露光光の位相をシフトさせる機能と露光光を2〜40%透過させる機能とを有する膜であり、本発明のフォトマスクブランクでは、公知の位相シフター膜を用いることができる。
このように、本発明のフォトマスクブランクにおいて、遮光膜と透光性基板との間に位相シフター膜を設けることによって、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクを提供できる。
本発明のフォトマスクブランクは、例えば、反応性スパッタリングにより、遮光膜および任意に設けられる位相シフター膜等を透光性基板上に形成して得ることができる。
また、成膜装置はインライン型および枚葉型のどちらも用いることができるが、高い原子数密度の遮光層を形成するために、枚葉型の成膜装置を用いることが好ましい。
また、スパッタガスとしてCO2またはCO2と不活性ガスとの混合ガスを用いると成膜されるCrCO膜の原子数密度が向上するので好ましい。
また、スパッタガスとしてCO2とN2との混合ガス、またはCO2とN2と不活性ガスとの混合ガスを用いると安全であり、CO2ガスはO2等より反応性が低いが故に、チャンバ内の広範囲に均一にガスを回り込ませることができ、成膜されるCrCON膜の膜質が均一になる点から好ましい。
本発明のフォトマスクブランクから得られるフォトマスクとその製造方法について説明する。
本発明のフォトマスクは、開口数がNA>1の露光方法および200nm以下の露光光波長を利用して半導体デザインルールにおけるDRAMハーフピッチ(hp)45nm以降の微細パターンの形成するパターン転写方法において使用されるマスクとして特に有用である。
本実施例では、透光性基板10上に位相シフター膜5と3つの層からなる遮光膜が設けられたハーフトーン型位相シフトマスクブランクを製造した(図2参照)。
表1にも示すように、スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は以下のとおりであった。
スパッタガス:ArとN2とHeとの混合ガス雰囲気(Ar:9sccm、N2:81sccm、He:76sccm)
放電中のガス圧:0.3Pa
印加電力:2.8kW
原子数密度=面密度/膜厚
上記手法により、表面層1の原子数密度を算出した。
その結果、波長193nmの光では+0.7%(23.6%→24.3%)、257nmの光では+1.5%(20.7%→22.2%)、365nmでは+2.0%(29.5%→31.5%)、488nmでは+1.2%(39.5%→40.7%)変化した。本明細書中、「+」は反射率の増加、「−」は反射率の減少を表す。
このように、本実施例の遮光膜は、オゾン処理に対して高い耐薬性を有していることが確認された。
本実施例では、透光性基板10上に3つの層からなる遮光膜が設けられたバイナリーマスクブランクを製造した(図3参照)。
すなわち、スパッタリングの条件を表1に示すとおりに設定した以外は実施例1と同じ条件で反応性スパッタリングを行った。
このようにして、図3に示すような、石英ガラスからなる透光性基板10上に裏面反射防止層3、遮光層2、表面層1が順に積層されたフォトマスクブランクが得られた。なお、裏面反射防止層3、遮光層2および表面層1からなる遮光膜における波長193.4nmの光に対する光学濃度(O.D.)は3であった。
その結果、表面層1(膜厚14nm)の膜組成は、Crが32atom%、Cが16atom%、Оが37atom%およびNが16atom%であった。また、表面層1のクロム比は、C/Crが0.5、О/Crが1.2、N/Crが0.5であった。さらに、表面層1の原子数密度は、11.0×1022atms/cm3であった。
また、裏面反射防止層3(膜厚25nm)の膜組成は、Crが49atom%、Cが11atom%、Оが26atom%およびNが14atom%であった。また、裏面反射防止層3のクロム比は、C/Crが0.2、О/Crが0.5、N/Crが0.3であった。
その結果、遮光膜の膜厚はオゾン水の噴霧によって変化しなかった。また、表面反射率は、波長193nmの光では−0.02%変化した。遮光膜の光学濃度は、−0.06変化した。
その結果、波長193nmの光では+0.5%(18.8%→19.3%)、257nmの光では+2.1%(14.0%→16.1%)、365nmでは+5.3%(22.4%→27.7%)、488nmでは+4.6%(38.47%→43.03%)変化した。
このように、本実施例の遮光膜は、オゾン処理に対して高い耐薬性を有していることが確認された。
本比較例では、2つの層からなる遮光膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクを製造した。
具体的には、インライン型スパッタ装置を用い、実施例1と同様の位相シフター膜上に、遮光層を形成した。表1にも示すように、スパッタリング(DCスパッタリング)の条件は以下のとおりであった。
スパッタガス:ArとN2とHeとの混合ガス雰囲気(Ar:30sccm、N2:30sccm、He:40sccm)
放電中のガス圧:0.2Pa
印加電力:0.8kW
スパッタガス:アルゴン(Ar)とメタン(CH4)との混合ガス(CH4:3.5体積%)、NOおよびHeが混合されたガス(Ar+CH4:65sccm、NO:3sccm、He:40sccm)
放電中のガス圧:0.3Pa
印加電力:0.3kW
その結果、表面層(膜厚24nm)の膜組成は、Crが34atom%、Оが32atom%およびNが23atom%であった。また、表面層のクロム比は、О/Crが0.9およびN/Crが0.7であった。さらに、表面層の原子数密度は、7.4×1022atms/cm3であった。
その結果、遮光膜の膜厚はオゾン水の噴霧によって、膜厚が5.8nm減少した。また、表面反射率は、波長193nmの光では+2.72%変化した。遮光膜の光学濃度は、−0.38変化した。
その結果、波長193nmの光では+2.5%(19.8%→22.3%)、257nmの光では+9.1%(16.4%→25.5%)、365nmでは+13.9%(19.9%→33.8%)、488nmでは+11.0%(29.9%→40.9%)変化した。
これにより、実施例1と2に比べて、本比較例の遮光膜は、オゾン処理に対して耐薬性が低いことが確認された。
Claims (13)
- 透光性基板上に遮光膜を有するフォトマスクブランクであって、
前記遮光膜の表面部の原子数密度が9×1022〜14×1022atms/cm3である、フォトマスクブランク。 - 遮光膜が複数の層からなる、請求項1に記載のフォトマスクブランク。
- 複数の層の中で最も表面側に設けられた表面層の厚さが3〜30nmである、請求項2に記載のフォトマスクブランク。
- 表面層がCrO、CrON、CrOC、CrNまたはCrOCNからなる、請求項3に記載のフォトマスクブランク。
- 表面部の原子数密度が10×1022〜13×1022atms/cm3である、請求項1〜4のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
- 前記遮光膜の表面部は、グレインサイズが2nm以下のアモルファス構造である、請求項1〜5のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
- 遮光膜は、表面層と遮光層を含み、
前記遮光層がCrO、CrON、CrC、CrCN、CrOC、CrNまたはCrOCNからなる、請求項2〜6のいずれかに記載のフォトマスクブランク。 - 遮光膜は、表面層と遮光層を含み、
前記表面層は、Crの含有率が50%以下、OとCrとの原子数比O/Crが0.5以上、CとCrとの原子数比C/Crが0.1以上、NとCrとの原子数比N/Crが0.3以上であり、
前記遮光層は、Crの含有率が50%以上である、請求項2〜6のいずれかに記載のフォトマスクブランク。 - 遮光膜は、表面層と遮光層を含み、
前記遮光層が遷移金属とSiを含む、請求項2〜6のいずれかに記載のフォトマスクブランク。 - 遮光膜は、表面層と遮光層を含み、
前記遮光層がTaを含む、請求項2〜6のいずれかに記載のフォトマスクブランク。 - 透光性基板と遮光膜との間にさらに位相シフター膜を有する、請求項1〜10のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
- オゾン処理されるフォトマスクに用いられる、請求項1〜11のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
- 請求項1〜12のいずれかに記載のフォトマスクブランクをリソグラフィ法によりパターン形成して得られるフォトマスク。
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