JPWO2009063906A1 - Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method - Google Patents

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Abstract

上基板と下基板とを位置合わせし、貼り合わせて貼合せ基板を製造する貼合せ基板製造装置であって:前記下基板を支持するベース部と;前記ベース部から立設された第一支持棒と;前記第一支持棒に沿って上下移動可能であり、前記上基板を保持可能である上加圧部材と;前記上加圧部材から独立して上下移動可能である上部チャンバ部材および下部チャンバ部材を含む貼合せ処理室と;を備え、前記上加圧部材が移動することで、前記貼合せ処理室の内部で前記上基板と前記下基板とを貼り合わせ可能であり、前記上部チャンバ部材および前記下部チャンバ部材が、互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能であることを特徴とする貼合せ基板製造装置。A bonded substrate manufacturing apparatus for aligning and bonding an upper substrate and a lower substrate to manufacture a bonded substrate: a base portion that supports the lower substrate; and a first support that is erected from the base portion An upper pressure member that can move up and down along the first support rod and can hold the upper substrate; and an upper chamber member and a lower portion that can move up and down independently of the upper pressure member A bonding processing chamber including a chamber member, and the upper pressurizing member moves to allow the upper substrate and the lower substrate to be bonded inside the bonding processing chamber, and the upper chamber The apparatus for manufacturing a bonded substrate board, wherein the member and the lower chamber member are simultaneously movable in a contact direction or a separation direction.

Description

本発明は、貼合せ基板製造装置および貼合せ基板製造方法に関する。
本願は、2007年11月16日に、日本に出願された特願2007−297704に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
The present invention relates to a bonded substrate manufacturing apparatus and a bonded substrate manufacturing method.
This application claims priority on November 16, 2007 based on Japanese Patent Application No. 2007-297704 for which it applied to Japan, and uses the content here.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ(FPD)は、2枚の基板を貼り合せた構造を有している。例えば、液晶ディスプレイは、複数のTFT(薄膜トランジスタ)がマトリクス状に形成されたアレイ基板(TFT基板)と、カラーフィルタや遮光膜などが形成されたカラーフィルタ基板(CF基板)とが数μm程度の間隔で対向して配置され、両基板間に液晶が封入されるとともに、両基板が光硬化性樹脂を含むシール部材(接着剤)で互いに貼り合わされて製造される。なお、この2枚の基板の貼り合わせは、不純ガスの混入などを防止するために真空環境下で行う。   A flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display or a plasma display has a structure in which two substrates are bonded together. For example, in a liquid crystal display, an array substrate (TFT substrate) in which a plurality of TFTs (thin film transistors) are formed in a matrix and a color filter substrate (CF substrate) in which a color filter, a light-shielding film, and the like are formed are about several μm. The liquid crystal is sealed between the two substrates, and the two substrates are manufactured by being bonded to each other with a seal member (adhesive) containing a photocurable resin. Note that the two substrates are bonded together in a vacuum environment in order to prevent mixing of impure gas.

このような2枚の基板を貼り合わせる装置として、例えば特許文献1の基板貼合せ装置が知られている。特許文献1の基板貼合せ装置は、上側容器と下側容器とで構成される真空チャンバと、上基板を移動させるための上基板搬送治具と、上側容器を上下移動させるための第一の支持棒と、その支持棒が支持されているベース板と、上基板搬送治具を上下移動させるための第二の支持棒と、を備えている。   As an apparatus for bonding such two substrates, for example, a substrate bonding apparatus of Patent Document 1 is known. The substrate laminating apparatus of Patent Document 1 includes a vacuum chamber composed of an upper container and a lower container, an upper substrate conveying jig for moving the upper substrate, and a first for moving the upper container up and down. A support bar, a base plate on which the support bar is supported, and a second support bar for moving the upper substrate transport jig up and down are provided.

上記の基板張合せ装置では、第一の支持棒を下方向へ移動させて、上側容器と下側容器とが当接して真空チャンバを構成するとともに、第二の支持棒を下方向へ移動させて、上基板とした基板とが所定間隔で対向配置されるように上基板搬送治具を下降する。その後、上基板と下基板との位置合わせをして、貼り合わせる。
特開2007−212572号公報
In the above-described substrate bonding apparatus, the first support bar is moved downward, the upper container and the lower container are in contact with each other to form a vacuum chamber, and the second support bar is moved downward. Then, the upper substrate transport jig is lowered so that the substrate as the upper substrate is disposed to face the substrate at a predetermined interval. Thereafter, the upper substrate and the lower substrate are aligned and bonded together.
JP 2007-212572 A

上記の特許文献1の貼合せ基板製造装置は、処理室内を真空引きした後に、上基板と下基板との位置合わせをし、これら2枚の基板を貼り合わせる。しかしながら、上基板と下基板との位置合わせをした後に、ベース板に備え付けられている第二の支持棒を移動させることにより上基板搬送治具を移動させると、上基板と下基板との位置が相対的にずれる虞がある。これは、ベース板から下基板までの間に複数の部材が介在するため、下基板が配置されている下側容器と第二の支持棒が備え付けられているベース板とが異なる動きをするためである。このように、上基板と下基板との相対的位置がずれることで、歩留まりが低下するという問題があった。   The above-mentioned bonded substrate manufacturing apparatus of Patent Document 1 evacuates the processing chamber, aligns the upper substrate and the lower substrate, and bonds these two substrates. However, if the upper substrate transport jig is moved by moving the second support rod provided on the base plate after the upper substrate and the lower substrate are aligned, the position of the upper substrate and the lower substrate May be shifted relatively. This is because a plurality of members are interposed between the base plate and the lower substrate, so that the lower container on which the lower substrate is disposed and the base plate on which the second support bar is provided move differently. It is. As described above, there is a problem in that the yield decreases due to the relative positions of the upper substrate and the lower substrate being shifted.

本発明は、上述の事情に鑑みてなされたものであり、2枚の基板の位置合わせ精度を向上させて、歩留まりを向上させる貼合せ基板製造装置および貼合せ基板製造方法を提供する。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a bonded substrate manufacturing apparatus and a bonded substrate manufacturing method that improve the alignment accuracy of two substrates and improve the yield.

(1)本発明の一態様は、以下の構成を採用した:上基板と下基板とを位置合わせし、貼り合わせて貼合せ基板を製造する貼合せ基板製造装置であって:前記下基板を支持するベース部と;前記ベース部から立設された第一支持棒と;前記第一支持棒に沿って上下移動可能であり、前記上基板を保持可能である上加圧部材と;前記上加圧部材から独立して上下移動可能である上部チャンバ部材および下部チャンバ部材を含む貼合せ処理室と;を備え、前記上加圧部材が移動することで、前記貼合せ処理室の内部で前記上基板と前記下基板とを貼り合わせ可能であり、前記上部チャンバ部材および前記下部チャンバ部材が、互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能であることを特徴とする貼合せ基板製造装置。 (1) One aspect of the present invention employs the following configuration: a bonded substrate manufacturing apparatus that aligns an upper substrate and a lower substrate and manufactures the bonded substrate by bonding: the lower substrate A supporting base part; a first support bar standing from the base part; an upper pressure member that can move up and down along the first support bar and hold the upper substrate; A bonding process chamber including an upper chamber member and a lower chamber member that are movable up and down independently from the pressure member; and the upper pressure member moves to move the upper chamber member inside the bonding process chamber. An apparatus for manufacturing a bonded substrate, wherein the upper substrate and the lower substrate can be bonded together, and the upper chamber member and the lower chamber member are simultaneously movable in a direction in which they abut or separate from each other.

上記貼合せ基板製造装置によれば、上基板が保持された上加圧部材が、下基板が載置されたベース部に立設している第一支持棒に案内されて上下移動する。このため、上基板と下基板との間には最小限の部材しか介在していない。これにより、上基板と下基板との位置合わせをしてから貼り合わせるまでの間に上基板と下基板との相対的位置がずれることを防止できる。したがって、2枚の基板の位置合わせ精度を向上させて、歩留まりを向上させる効果がある。また、上加圧部材と、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材と、を個別に上下移動可能にしたため、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材が同時に高速で上下移動することができる。また、上加圧部材が基板の貼合せ時に微小な動き(上下移動)をすることができる。つまり、2枚の基板の位置合わせ精度を向上できるとともに、生産効率を向上させる効果がある。また、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材が互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能であるため、両チャンバ部材の移動に伴って装置に作用する力を相殺することが可能になり、貼合せ基板製造装置の信頼性を向上させることができる。さらに、一方のチャンバ部材のみを移動させる場合と比較して、貼合せ処理室の開閉時間を短縮できる。   According to the bonded substrate manufacturing apparatus, the upper pressurizing member holding the upper substrate moves up and down while being guided by the first support bar standing on the base portion on which the lower substrate is placed. For this reason, only a minimum of members are interposed between the upper substrate and the lower substrate. Thereby, it can prevent that the relative position of an upper board | substrate and a lower board | substrate shift | deviates between after aligning an upper board | substrate and a lower board | substrate, and bonding. Therefore, there is an effect of improving the yield by improving the alignment accuracy of the two substrates. In addition, since the upper pressurizing member and the upper chamber member and the lower chamber member can be individually moved up and down, the upper chamber member and the lower chamber member can simultaneously move up and down at high speed. Further, the upper pressurizing member can move minutely (up and down movement) when the substrates are bonded. In other words, the alignment accuracy of the two substrates can be improved and the production efficiency can be improved. In addition, since the upper chamber member and the lower chamber member can move simultaneously in the direction in which they abut or separate from each other, it is possible to cancel the force acting on the apparatus as both chamber members move, and the bonding The reliability of the substrate manufacturing apparatus can be improved. Furthermore, compared with the case where only one chamber member is moved, the opening / closing time of the bonding processing chamber can be shortened.

(2)上記の貼合せ基板製造装置は、以下のように構成してもよい:相互に異なる向きの第一ねじ部および第二ねじ部を含む駆動軸をさらに備え、前記上部チャンバ部材および前記下部チャンバ部材は、それぞれ第一ねじ部および第二ねじ部に螺合され、前記駆動軸を回転させることにより、前記上部チャンバ部材および前記下部チャンバ部材が、互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能である。 (2) The above-described bonded substrate manufacturing apparatus may be configured as follows: a drive shaft including a first screw portion and a second screw portion in different directions, and further including the upper chamber member and the The lower chamber member is screwed into the first screw portion and the second screw portion, respectively, and by rotating the drive shaft, the upper chamber member and the lower chamber member are simultaneously brought into contact with or separated from each other. It is movable.

この場合、簡易な構成で上部チャンバ部材および下部チャンバ部材を移動させることができる。つまり、装置の部品点数の増加を抑えることができ、貼合せ基板製造装置の製造コストを抑制できる。   In this case, the upper chamber member and the lower chamber member can be moved with a simple configuration. That is, the increase in the number of parts of the apparatus can be suppressed, and the manufacturing cost of the bonded substrate manufacturing apparatus can be suppressed.

(3)上記の貼合せ基板製造装置は、以下のように構成してもよい:前記上部チャンバ部材が、前記上基板を吸着させるための吸着ピンを含む。 (3) The above-mentioned bonded substrate manufacturing apparatus may be configured as follows: the upper chamber member includes an adsorption pin for adsorbing the upper substrate.

この場合、上部チャンバ部材の上下移動に連動して吸着ピンを上下移動させることができる。また、上部チャンバ部材から独立して上加圧部材を上下移動させることで、吸着ピンから上加圧部材に上基板を受け渡すことができる。したがって、吸着ピン独自の上下移動機構が不要になり、製造コストの上昇を抑制できる効果がある。   In this case, the suction pin can be moved up and down in conjunction with the vertical movement of the upper chamber member. Further, the upper substrate can be transferred from the suction pin to the upper pressure member by moving the upper pressure member up and down independently of the upper chamber member. This eliminates the need for an up-and-down movement mechanism unique to the suction pin, and is effective in suppressing an increase in manufacturing cost.

(4)上記の貼合せ基板製造装置は、以下のように構成してもよい:前記ベース部が:(a)前記下基板を載置する載置テーブルと;(b)前記載置テーブルを移動させる移動機構と;を含む基板アライメント機構を有する。 (4) The above-described bonded substrate manufacturing apparatus may be configured as follows: the base unit: (a) a mounting table for mounting the lower substrate; and (b) the mounting table described above. A substrate alignment mechanism including: a moving mechanism for moving the substrate.

この場合、下基板が載置テーブルに載置されているため、下基板を安定保持でき、下基板と上基板との位置合わせを高精度に行うことができる効果がある。   In this case, since the lower substrate is placed on the placement table, the lower substrate can be stably held, and there is an effect that the alignment between the lower substrate and the upper substrate can be performed with high accuracy.

(5)上記の貼合せ基板製造装置は、以下のように構成してもよい:前記ベース部が:(a)前記下基板の第一部を吸着し、前記下基板を移動させる下基板吸着装置と;(b)前記下基板吸着装置による前記下基板の移動時に前記下基板の第二部を浮上させ、前記上基板と前記下基板との貼合せ時に前記下基板の第二部を吸着する、下基板浮上吸着装置と;を含む基板アライメント機構を有する。 (5) The bonded substrate manufacturing apparatus described above may be configured as follows: the base unit: (a) a lower substrate suction that sucks a first part of the lower substrate and moves the lower substrate; (B) The second part of the lower substrate is levitated when the lower substrate is moved by the lower substrate adsorption device, and the second part of the lower substrate is adsorbed when the upper substrate and the lower substrate are bonded. And a lower substrate floating adsorption device.

この場合、上基板と下基板とを位置合わせする際には、下基板浮上吸着装置により下基板をベース部から浮上させることができる。したがって、下基板吸着装置により容易に下基板を移動させることができる。一方、上基板と下基板とを貼り合わせる際には、下基板浮上吸着装置により下基板をベース部に吸着させることができる。したがって、下基板の位置ずれを防止でき、上基板と下基板とを精度良く貼り合わせることができる効果がある。また、下基板を載置するためのテーブルを別途必要としないため、ベース部と下基板との間に介在する部品点数を少なくできる。
さらに、下基板をベース部に吸着させると、下基板吸着装置および下基板浮上吸着装置は貼合せ処理室には露出されないため、各装置から発生するパーティクルなどが貼合せ処理室内に流入することを防止できる。したがって、貼合せ処理室内のクリーン度を確保できる効果がある。
In this case, when aligning the upper substrate and the lower substrate, the lower substrate can be lifted from the base portion by the lower substrate floating adsorption device. Therefore, the lower substrate can be easily moved by the lower substrate suction device. On the other hand, when the upper substrate and the lower substrate are bonded together, the lower substrate can be adsorbed to the base portion by the lower substrate floating adsorption device. Therefore, the positional deviation of the lower substrate can be prevented, and the upper substrate and the lower substrate can be bonded together with high accuracy. In addition, since a table for placing the lower substrate is not required separately, the number of components interposed between the base portion and the lower substrate can be reduced.
Furthermore, if the lower substrate is adsorbed to the base part, the lower substrate adsorbing device and the lower substrate floating adsorbing device are not exposed to the bonding processing chamber, so that particles generated from each device flow into the bonding processing chamber. Can be prevented. Therefore, there is an effect of ensuring the cleanliness in the bonding treatment chamber.

(6)上記の貼合せ基板製造装置は、以下のように構成してもよい:前記基板アライメント機構が、前記貼合せ処理室内に配置されている。 (6) The bonded substrate manufacturing apparatus described above may be configured as follows: the substrate alignment mechanism is disposed in the bonding processing chamber.

この場合、下部チャンバ部材を上下移動させる際に基板アライメント機構との干渉を防止できる。したがって、貼合せ基板製造装置の装置構成が複雑化することなく、確実に貼合せ処理室を形成させることができる効果がある。   In this case, interference with the substrate alignment mechanism can be prevented when the lower chamber member is moved up and down. Therefore, there is an effect that the bonding processing chamber can be reliably formed without complicating the apparatus configuration of the bonded substrate manufacturing apparatus.

(7)本発明の一態様は、以下の方法を採用した:貼合せ基板製造方法であって:ベース部により下基板を支持する工程と;前記ベース部から立設された第一支持棒に沿って上下移動可能な上加圧部材により上基板を保持する工程と;前記上加圧部材から独立して上下移動可能な上部チャンバ部材および下部チャンバ部材を、互いに当接する方向に同時に移動させて、前記上基板および前記下基板が収容された貼合せ処理室を形成する処理室形成工程と;前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを第一所定距離で離間して保持する第一上基板移動工程と;前記貼合せ処理室内を減圧する減圧工程と;前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを第二所定距離で離間して保持する第二上基板移動工程と;前記下基板を載置する載置テーブルを前記ベース部に設けられた移動機構により移動させることで前記下基板を移動させて、前記下基板と前記上基板との位置合わせを行う基板位置合わせ工程と;前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを貼り合わせる基板貼合せ工程と;を備えていることを特徴とする貼合せ基板製造方法。 (7) One aspect of the present invention employs the following method: a bonded substrate manufacturing method: a step of supporting a lower substrate by a base portion; and a first support rod erected from the base portion A step of holding the upper substrate by an upper pressurizing member that can move up and down along; and an upper chamber member and a lower chamber member that can move up and down independently from the upper pressurizing member are simultaneously moved in a direction in contact with each other. A process chamber forming step of forming a bonding process chamber in which the upper substrate and the lower substrate are accommodated; and lowering the upper pressure member to separate the lower substrate and the upper substrate by a first predetermined distance. A first upper substrate moving step for holding; a depressurizing step for depressurizing the inside of the bonding process chamber; and lowering the upper pressurizing member to separate the lower substrate and the upper substrate by a second predetermined distance. And holding the second upper substrate moving step; A substrate alignment step of aligning the lower substrate and the upper substrate by moving the lower substrate by moving a mounting table for mounting a plate by a moving mechanism provided in the base portion; And a substrate laminating step of laminating the upper pressurizing member to bond the lower substrate and the upper substrate together.

この場合、上基板が保持された上加圧部材が、下基板が載置される載置テーブルが設置されたベース部から立設している第一支持棒に案内されて上下移動するため、上基板と下基板との間には最小限の部材しか介在していない。これにより、上基板と下基板との位置合わせをしてから貼り合わせるまでの間に上基板と下基板の相対的位置がずれることを防止できる。したがって、2枚の基板の位置合わせ精度を向上して、歩留まりを向上できる効果がある。また、上加圧部材と上部チャンバ部材および下部チャンバ部材とを個別に上下移動可能にしたため、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材は高速で上下移動させることができ、上加圧部材は基板の貼合せ時に微小な動き(上下移動)をさせることができる。つまり、2枚の基板の位置合わせ精度を向上できるとともに、生産効率を向上できる効果がある。また、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材が互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能であるため、両チャンバ部材の移動に伴って装置に作用する力を相殺可能になり、貼合せ基板製造装置の信頼性を向上させることができる。さらに、一方のチャンバ部材のみを移動させる場合と比較して、貼合せ処理室の開閉時間を短縮できる。
また、下基板と上基板とを所定距離だけ離間配置した状態で貼合せ処理室を減圧するので、コンダクタンスが大きい状態で減圧することが可能になる。これにより、減圧時間を短縮できる効果がある。
さらに、貼合せ処理室内を減圧した後に、移動機構により下基板と上基板との位置合わせを行うことができる。したがって、下基板と上基板との位置合わせを行った後、再度上加圧部材を上昇させる必要がなくなり、生産効率を向上できる効果がある。
そして、下基板が載置テーブルに載置されているため、下基板を安定保持でき、下基板と上基板との位置合わせを高精度に行うことができる効果がある。
In this case, the upper pressing member holding the upper substrate moves up and down guided by the first support rod standing from the base portion where the mounting table on which the lower substrate is mounted is installed. There are minimal members between the upper substrate and the lower substrate. Thereby, it is possible to prevent the relative positions of the upper substrate and the lower substrate from shifting after the upper substrate and the lower substrate are aligned and bonded. Therefore, it is possible to improve the alignment accuracy of the two substrates and improve the yield. In addition, since the upper pressure member and the upper chamber member and the lower chamber member can be individually moved up and down, the upper chamber member and the lower chamber member can be moved up and down at high speed, and the upper pressure member is bonded to the substrate. Sometimes a minute movement (up and down movement) can be made. That is, there are effects that the alignment accuracy of the two substrates can be improved and the production efficiency can be improved. Further, since the upper chamber member and the lower chamber member can move simultaneously in the direction in which they abut or separate from each other, the force acting on the apparatus as both chamber members move can be offset, and the bonded substrate manufacturing apparatus Reliability can be improved. Furthermore, compared with the case where only one chamber member is moved, the opening / closing time of the bonding processing chamber can be shortened.
In addition, since the bonding processing chamber is depressurized in a state where the lower substrate and the upper substrate are spaced apart from each other by a predetermined distance, the depressurization can be performed with a large conductance. Thereby, there exists an effect which can shorten pressure reduction time.
Further, after the pressure in the bonding process chamber is reduced, the lower substrate and the upper substrate can be aligned by the moving mechanism. Therefore, it is not necessary to raise the upper pressurizing member again after aligning the lower substrate and the upper substrate, and the production efficiency can be improved.
And since the lower board | substrate is mounted in the mounting table, the lower board | substrate can be hold | maintained stably and it has the effect that position alignment with a lower board | substrate and an upper board | substrate can be performed with high precision.

(8)本発明の一態様は、以下の方法を採用した:貼合せ基板製造方法であって:ベース部により下基板を支持する工程と;前記ベース部から立設された第一支持棒に沿って上下移動可能な上加圧部材により上基板を保持する工程と;前記上加圧部材から独立して上下移動可能な上部チャンバ部材および下部チャンバ部材を、互いに当接する方向に同時に移動させて、前記上基板および前記下基板が収容された貼合せ処理室を形成する処理室形成工程と;前記ベース部に設置された下基板吸着装置により前記下基板の第一部を吸着し、前記下基板を前記ベース部から離間させ、前記ベース部に設置された下基板浮上吸着装置により前記下基板の第二部を浮上させる第一下基板移動工程と;前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを第一所定距離で離間して保持する第一上基板移動工程と;前記下基板吸着装置により前記下基板を移動させて、前記下基板と前記上基板との位置合わせを行う基板位置合わせ工程と;前記上加圧部材を上昇させて、前記下基板と前記上基板とを第二所定距離で離間して保持する第二上基板移動工程と;前記下基板吸着装置により前記下基板の一部を吸着し、前記下基板を前記ベース部に当接させ、前記下基板浮上吸着装置により前記下基板の第二部を吸着する第二下基板移動工程と;前記貼合せ処理室内を減圧する減圧工程と;前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを貼り合わせる基板貼合せ工程と;を備えていることを特徴とする貼合せ基板製造方法。 (8) One aspect of the present invention employs the following method: a bonded substrate manufacturing method: a step of supporting a lower substrate by a base portion; and a first support rod erected from the base portion A step of holding the upper substrate by an upper pressurizing member that can move up and down along; and an upper chamber member and a lower chamber member that can move up and down independently from the upper pressurizing member are simultaneously moved in a direction in contact with each other. A process chamber forming step of forming a bonding process chamber in which the upper substrate and the lower substrate are accommodated; and a lower substrate suction device installed in the base portion adsorbs a first part of the lower substrate, A first lower substrate moving step of separating the substrate from the base portion, and levitating the second portion of the lower substrate by a lower substrate floating adsorption device installed in the base portion; lowering the upper pressure member; The lower substrate and the upper base A first upper substrate moving step for holding the first and second substrates spaced apart at a first predetermined distance; substrate alignment for moving the lower substrate by the lower substrate suction device and aligning the lower substrate and the upper substrate; A second upper substrate moving step of raising the upper pressure member and holding the lower substrate and the upper substrate apart from each other by a second predetermined distance; and A second lower substrate moving step of adsorbing a part, bringing the lower substrate into contact with the base, and adsorbing the second portion of the lower substrate by the lower substrate floating adsorption device; A pressure-reducing step, and a substrate bonding step of lowering the upper pressure member and bonding the lower substrate and the upper substrate together.

この場合、上基板が保持された上加圧部材が、下基板が載置されたベース部から立設している第一支持棒に案内されて上下移動するため、上基板と下基板との間には最小限の部材しか介在していない。これにより、上基板と下基板との位置合わせをしてから貼り合わせるまでの間に上基板と下基板の相対的位置がずれることを防止できる。したがって、2枚の基板の位置合わせ精度を向上して、歩留まりを向上できる効果がある。また、上加圧部材と上部チャンバ部材および下部チャンバ部材とを個別に上下移動可能にしたため、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材は高速で上下移動させることができ、上加圧部材は基板の貼合せ時に微小な動き(上下移動)をさせることができる。つまり、2枚の基板の位置合わせ精度を向上できるとともに、生産効率を向上できる効果がある。また、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材が互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能であるため、両チャンバ部材の移動に伴って装置に作用する力を相殺することが可能になり、貼合せ基板製造装置の信頼性を向上させることができる。さらに、一方のチャンバ部材のみを移動させる場合と比較して、貼合せ処理室の開閉時間を短縮できる。
また、上加圧部材を上昇させて下基板と上基板とを所定距離だけ離間配置した後に貼合せ処理室を減圧するので、コンダクタンスが大きい状態で減圧することが可能になる。これにより、減圧時間を短縮できる効果がある。
さらに、上基板と下基板とを位置合わせする際には、下基板浮上吸着装置により下基板をベース部から浮上させることができる。したがって、下基板吸着装置により容易に下基板を移動させることができる。一方、上基板と下基板とを貼り合わせる際には、下基板浮上吸着装置により下基板をベース部に吸着させることができる。したがって、下基板の位置ずれを防止でき、上基板と下基板とを精度良く貼り合わせることができる効果がある。また、下基板を載置するためのテーブルを別途必要としないため、ベース部と下基板との間に介在する部品点数を少なくできる。さらに、下基板をベース部に吸着させると、下基板吸着装置および下基板浮上吸着装置は貼合せ処理室には露出されないため、各装置から発生するパーティクルなどが貼合せ処理室内に流入することを防止できる。したがって、貼合せ処理室内のクリーン度を確保した状態で、上基板と下基板とを貼り合わせることができる効果がある。
In this case, the upper pressing member holding the upper substrate moves up and down while being guided by the first support rod standing from the base portion on which the lower substrate is placed. There are only minimal members in between. Thereby, it is possible to prevent the relative positions of the upper substrate and the lower substrate from shifting after the upper substrate and the lower substrate are aligned and bonded. Therefore, it is possible to improve the alignment accuracy of the two substrates and improve the yield. In addition, since the upper pressure member and the upper chamber member and the lower chamber member can be individually moved up and down, the upper chamber member and the lower chamber member can be moved up and down at high speed, and the upper pressure member is bonded to the substrate. Sometimes a minute movement (up and down movement) can be made. That is, there are effects that the alignment accuracy of the two substrates can be improved and the production efficiency can be improved. In addition, since the upper chamber member and the lower chamber member can move simultaneously in the direction in which they abut or separate from each other, it is possible to cancel the force acting on the apparatus as both chamber members move, and the bonding The reliability of the substrate manufacturing apparatus can be improved. Furthermore, compared with the case where only one chamber member is moved, the opening / closing time of the bonding processing chamber can be shortened.
Further, since the bonding process chamber is depressurized after the upper pressurizing member is raised and the lower substrate and the upper substrate are spaced apart from each other by a predetermined distance, the depressurization can be performed with a large conductance. Thereby, there exists an effect which can shorten pressure reduction time.
Further, when aligning the upper substrate and the lower substrate, the lower substrate can be levitated from the base portion by the lower substrate levitating suction device. Therefore, the lower substrate can be easily moved by the lower substrate suction device. On the other hand, when the upper substrate and the lower substrate are bonded together, the lower substrate can be adsorbed to the base portion by the lower substrate floating adsorption device. Therefore, the positional deviation of the lower substrate can be prevented, and the upper substrate and the lower substrate can be bonded together with high accuracy. In addition, since a table for placing the lower substrate is not required separately, the number of components interposed between the base portion and the lower substrate can be reduced. Furthermore, if the lower substrate is adsorbed to the base part, the lower substrate adsorbing device and the lower substrate floating adsorbing device are not exposed to the bonding processing chamber, so that particles generated from each device flow into the bonding processing chamber. Can be prevented. Therefore, there is an effect that the upper substrate and the lower substrate can be bonded together in a state where the cleanliness in the bonding processing chamber is ensured.

本発明によれば、上加圧部材がベース部から支持されているため、上基板と下基板との間に最小限の部材のみが介在している。これにより、上基板と下基板との位置合わせをしてから貼り合わせるまでの間に上基板と下基板の相対的位置がずれることを防止できる。したがって、2枚の基板の位置合わせ精度を向上して、歩留まりを向上できる効果がある。また、上加圧部材と、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材と、を個別に上下移動可能にしたため、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材は同時に高速で上下移動させることができ、上加圧部材は基板の貼合せ時に微小な動き(上下移動)をさせることができる。つまり、2枚の基板の位置合わせ精度を向上できるとともに、生産効率を向上できる効果がある。また、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材が互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能であるため、両チャンバ部材の移動に伴って装置に作用する力を相殺することが可能になり、貼合せ基板製造装置の信頼性を向上させることができる。さらに、一方のチャンバ部材のみを移動させる場合と比較して、貼合せ処理室の開閉時間を短縮できる効果がある。   According to the present invention, since the upper pressing member is supported from the base portion, only a minimum number of members are interposed between the upper substrate and the lower substrate. Thereby, it is possible to prevent the relative positions of the upper substrate and the lower substrate from shifting after the upper substrate and the lower substrate are aligned and bonded. Therefore, it is possible to improve the alignment accuracy of the two substrates and improve the yield. Further, since the upper pressurizing member and the upper chamber member and the lower chamber member can be individually moved up and down, the upper chamber member and the lower chamber member can be simultaneously moved up and down at a high speed. It is possible to make a minute movement (up and down movement) when laminating. That is, there are effects that the alignment accuracy of the two substrates can be improved and the production efficiency can be improved. In addition, since the upper chamber member and the lower chamber member can move simultaneously in the direction in which they abut or separate from each other, it is possible to cancel the force acting on the apparatus as both chamber members move, and the bonding The reliability of the substrate manufacturing apparatus can be improved. Furthermore, compared with the case where only one chamber member is moved, there is an effect that the opening / closing time of the bonding processing chamber can be shortened.

図1は、本発明の第一実施形態に係る貼合せ基板製造装置の正面概略図である。FIG. 1 is a schematic front view of a bonded substrate manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention. 図2は、図1のA−A線に沿う断面図である。2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 図3は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(1)である。FIG. 3: is explanatory drawing (1) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図4は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(2)である。FIG. 4 is explanatory drawing (2) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図5は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(3)である。FIG. 5: is explanatory drawing (3) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図6は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(4)である。FIG. 6: is explanatory drawing (4) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図7は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(5)である。FIG. 7: is explanatory drawing (5) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図8は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(6)である。FIG. 8: is explanatory drawing (6) which shows the process of manufacturing a bonded substrate using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図9は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(7)である。FIG. 9: is explanatory drawing (7) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図10は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(8)である。FIG. 10: is explanatory drawing (8) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図11は、同実施形態に係る貼合せ基板を製造する過程を示すフローチャートである。FIG. 11 is a flowchart showing a process of manufacturing the bonded substrate according to the embodiment. 図12は、本発明の第二実施形態に係る貼合せ基板製造装置の正面概略図である。FIG. 12 is a schematic front view of the bonded substrate manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention. 図13は、図12のB−B線に沿う断面図である。13 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 図14は、同実施形態に係る貼合せ基板を製造する過程を示すフローチャートである。FIG. 14 is a flowchart showing a process of manufacturing the bonded substrate according to the embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10,110 貼合せ基板製造装置
11,111 ベース部
14 上部チャンバ部材
15 上加圧部材
16 第一支持棒
17 チャンバ(貼合せ処理室)
18 下部チャンバ部材
20,120 基板アライメント機構
29 移動機構
31 載置テーブル
57 吸着ピン
65 駆動軸
85 雄ネジ(ねじ)
125 駆動台(下基板吸着装置)
135 エアーパッド(下基板浮上吸着装置)
W1 下基板
W2 上基板
W3 貼合せ基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,110 Bonded substrate manufacturing apparatus 11,111 Base part 14 Upper chamber member 15 Upper pressurizing member 16 First support rod 17 Chamber (bonding processing chamber)
18 Lower chamber member 20, 120 Substrate alignment mechanism 29 Movement mechanism 31 Placement table 57 Suction pin 65 Drive shaft 85 Male screw (screw)
125 Drive stand (lower substrate adsorption device)
135 Air pad (lower substrate floating adsorption device)
W1 Lower substrate W2 Upper substrate W3 Bonded substrate

(第一実施形態)(貼合せ基板製造装置)
本発明の第一実施形態に係る貼合せ基板製造装置について、図1〜図11に基づいて説明する。
図1は貼合せ基板製造装置の正面概略図であり、図2は図1のA−A線に沿う断面図である。図1,図2に示すように、貼合せ基板製造装置10は:装置全体を支持する共通架台12と;共通架台12に配置されたベース部11と;共通架台12に設けられた第二支持棒13と;第二支持棒13に沿って上下移動可能な上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18と;ベース部11から立設された第一支持棒16と;上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18から独立して第一支持棒16に沿って上下移動可能であり、上基板W2を保持可能な上加圧部材15と;を備えている。
(First embodiment) (Laminated substrate manufacturing apparatus)
The bonded substrate manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is a schematic front view of a bonded substrate manufacturing apparatus, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the bonded substrate board manufacturing apparatus 10 includes: a common gantry 12 that supports the entire apparatus; a base portion 11 that is disposed on the common gantry 12; and a second support that is provided on the common gantry 12. An upper chamber member 14 and a lower chamber member 18 movable up and down along the second support rod 13; a first support rod 16 erected from the base portion 11; an upper chamber member 14 and a lower chamber member And an upper pressurizing member 15 that can move up and down along the first support bar 16 independently of the first support bar 16 and can hold the upper substrate W2.

ベース部11は、剛性を有し、略直方体形状に形成されている。ベース部11は、その下面21の四隅に脚22が設けられて、共通架台12に載置されている。一方、ベース部11の上面23は平面視で長方形である。平面視において上面23の略中央部および四隅には、直交2軸水平方向および水平回転方向(以下、水平面内方向という)に移動可能なXYθガイド27が設けられている。また、上面23の周縁部におけるXYθガイド27同士の略中央部には、XYθガイド27と同じ構造を有するXYθガイドにアクチュエータ33が設けられた移動機構29が配置されている。つまり、ベース部11の上面23には、5個のXYθガイド27と、4個の移動機構29と、が配置されている。なお、XYθガイド27の表面28と、移動機構29の表面30とは面一になるように配置されている。   The base part 11 has rigidity and is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape. The base portion 11 is provided with legs 22 at the four corners of the lower surface 21 and is placed on the common frame 12. On the other hand, the upper surface 23 of the base portion 11 is rectangular in plan view. XYθ guides 27 that are movable in the orthogonal biaxial horizontal direction and the horizontal rotation direction (hereinafter referred to as the horizontal plane direction) are provided at substantially the center and four corners of the upper surface 23 in plan view. A moving mechanism 29 in which an actuator 33 is provided on an XYθ guide having the same structure as that of the XYθ guide 27 is disposed at a substantially central portion between the XYθ guides 27 at the peripheral edge portion of the upper surface 23. That is, five XYθ guides 27 and four moving mechanisms 29 are arranged on the upper surface 23 of the base portion 11. The surface 28 of the XYθ guide 27 and the surface 30 of the moving mechanism 29 are arranged so as to be flush with each other.

XYθガイド27および移動機構29の上部には、平面視において矩形状の載置テーブル31が設けられている。載置テーブル31の上面32には、下基板W1を載置することができる。移動機構29を駆動させることで、載置テーブル31を水平面内方向に移動させることができる。つまり、移動機構29および載置テーブル31が、下基板W1を水平面内方向に移動させるための基板アライメント機構20を構成する。   A rectangular placement table 31 is provided above the XYθ guide 27 and the moving mechanism 29 in plan view. A lower substrate W1 can be placed on the upper surface 32 of the placement table 31. By driving the moving mechanism 29, the mounting table 31 can be moved in the horizontal plane direction. That is, the moving mechanism 29 and the mounting table 31 constitute the substrate alignment mechanism 20 for moving the lower substrate W1 in the horizontal plane direction.

XYθガイド27は、略3層構造であり、ベース部11に固定されるベース固定部27aと、載置テーブル31に固定されるテーブル固定部27cと、ベース固定部27aとテーブル固定部27cとの間に配置され、水平面内方向に移動可能な移動部27bと、を含む。   The XYθ guide 27 has a substantially three-layer structure, and includes a base fixing portion 27a fixed to the base portion 11, a table fixing portion 27c fixed to the mounting table 31, and a base fixing portion 27a and a table fixing portion 27c. And a moving part 27b that is disposed between and movable in a horizontal plane direction.

移動機構29の移動部27bは、アクチュエータ33が駆動することで、所望の方向へ移動する。ここで、例えば、上面23の長辺方向中央に設けられた移動機構29aがX方向(載置テーブル31の長辺方向)に沿って移動可能であり、短辺方向に設けられた移動機構29bがY方向(載置テーブル31の短辺方向)に沿って移動可能としてもよい。この場合、各移動機構29の移動量を制御することで、載置テーブル31を所望の方向へ移動させることができる。つまり、載置テーブル31をX方向に沿って移動させたい場合は、移動機構29aを移動させ、載置テーブル31をY方向に沿って移動させたい場合は、移動機構29bを移動させればよい。また、2個の移動機構29aおよび2個の移動機構29bを移動させることで、載置テーブル31をその垂直軸の周りに回動させることができる。   The moving unit 27b of the moving mechanism 29 moves in a desired direction when the actuator 33 is driven. Here, for example, the moving mechanism 29a provided at the center in the long side direction of the upper surface 23 is movable along the X direction (the long side direction of the mounting table 31), and the moving mechanism 29b provided in the short side direction. May be movable along the Y direction (the short side direction of the mounting table 31). In this case, the placement table 31 can be moved in a desired direction by controlling the movement amount of each movement mechanism 29. That is, when the placement table 31 is to be moved along the X direction, the moving mechanism 29a is moved, and when the placement table 31 is to be moved along the Y direction, the moving mechanism 29b is moved. . Further, by moving the two moving mechanisms 29a and the two moving mechanisms 29b, the mounting table 31 can be rotated around its vertical axis.

また、載置テーブル31の上面32において、下基板W1に対応した位置にはリフトピン45が複数設けられている。リフトピン45は、通常時には載置テーブル31の上面32より下方に配置される。図示しない別の装置から貼合せ基板製造装置10に下基板W1を受け渡す際には、リフトピン45が上昇して図示しないロボットアームから下基板W1を受け取る。そして、下基板W1を受け取った後にリフトピン45を下降させることで下基板W1を載置テーブル31の上面32に載置する。また、基板W1,W2の貼合せ処理が完了した後、別の装置に貼合せ基板W3を受け渡す際には、リフトピン45を上昇させて載置テーブル31の上面32から貼合せ基板W3を離間させる。その隙間にロボットアームを挿入して貼合せ基板W3を搬送できる。   A plurality of lift pins 45 are provided on the upper surface 32 of the mounting table 31 at positions corresponding to the lower substrate W1. The lift pins 45 are normally disposed below the upper surface 32 of the mounting table 31. When the lower substrate W1 is delivered from another device (not shown) to the bonded substrate manufacturing apparatus 10, the lift pins 45 are raised to receive the lower substrate W1 from a robot arm (not shown). Then, after receiving the lower substrate W <b> 1, the lower pins W <b> 1 are placed on the upper surface 32 of the placement table 31 by lowering the lift pins 45. Further, after the bonding process of the substrates W1 and W2 is completed, when the bonded substrate W3 is delivered to another apparatus, the lift pins 45 are lifted to separate the bonded substrate W3 from the upper surface 32 of the mounting table 31. Let The bonded substrate W3 can be transported by inserting a robot arm into the gap.

なお、リフトピン45の昇降は、リフトピン45の下端に接続されたリフトピン支持部36が昇降することで行う。このとき、全てのリフトピン45が同時に昇降する。リフトピン支持部36は板状部材で構成されている。リフトピン支持部36の下面37に上下移動する駆動機構38が設けられている。駆動機構38は共通架台12に支持固定されている。また、駆動機構38はベース部11および下部チャンバ部材18を貫通して共通架台12に固定されている。下部チャンバ部材18の貫通孔39と駆動機構38との間には気密性を確保するために図示しないシール部材が設けられている。また、下部チャンバ部材18の外側に位置する駆動機構38の周囲には、ベローズ40が設けられている。   The lift pins 45 are moved up and down by lifting and lowering the lift pin support 36 connected to the lower end of the lift pins 45. At this time, all the lift pins 45 move up and down simultaneously. The lift pin support part 36 is comprised by the plate-shaped member. A drive mechanism 38 that moves up and down is provided on the lower surface 37 of the lift pin support portion 36. The drive mechanism 38 is supported and fixed to the common mount 12. The drive mechanism 38 passes through the base portion 11 and the lower chamber member 18 and is fixed to the common mount 12. A seal member (not shown) is provided between the through hole 39 of the lower chamber member 18 and the drive mechanism 38 in order to ensure airtightness. A bellows 40 is provided around the drive mechanism 38 located outside the lower chamber member 18.

また、下部チャンバ部材18の底面19には、排気孔47が形成されている。排気孔47は排気管48に接続されている。排気管48は装置の外側に設けられた真空ポンプ49に接続されている。   An exhaust hole 47 is formed in the bottom surface 19 of the lower chamber member 18. The exhaust hole 47 is connected to the exhaust pipe 48. The exhaust pipe 48 is connected to a vacuum pump 49 provided outside the apparatus.

共通架台12には、第二支持棒13が立設されている。第二支持棒13は、共通架台12の四隅の近傍に立設されている。第二支持棒13には、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18が装着されている。また、共通架台12における短辺方向に沿って並ぶ二つの第二支持棒13の中間部には、駆動軸65が立設されている。駆動軸65は、共通架台12に取り付けられたモータなどからなる駆動源66と、駆動源66からの指示により回転する片側2本の軸部67と、を備えている。つまり、共通架台12には4本の第二支持棒13と4本の駆動軸65とが設けられている。なお、図1では、説明の便宜上、左側に第二支持棒13、右側に駆動軸65を図示している。   A second support bar 13 is erected on the common frame 12. The second support bars 13 are erected in the vicinity of the four corners of the common mount 12. An upper chamber member 14 and a lower chamber member 18 are attached to the second support rod 13. In addition, a drive shaft 65 is erected at an intermediate portion between the two second support rods 13 arranged along the short side direction of the common mount 12. The drive shaft 65 includes a drive source 66 composed of a motor or the like attached to the common mount 12 and two shaft portions 67 on one side rotating according to instructions from the drive source 66. That is, the common gantry 12 is provided with four second support bars 13 and four drive shafts 65. In FIG. 1, for convenience of explanation, the second support rod 13 is shown on the left side, and the drive shaft 65 is shown on the right side.

例えば、駆動軸65の軸部67は、駆動源66からの指示により回転するように構成されている。また、駆動軸65の軸部67には、上部と下部とにそれぞれ向きの異なる形状の雄ネジを持つ左右ネジ85が形成されている。そして、軸部67には上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18が取り付けられている。上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18は、それぞれが左右ネジ85の上部と下部との雄ネジに螺合されている。
つまり、駆動軸65の軸部67が左右いずれかの方向に回転した時、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18にされた雌ネジ86が、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18が互いに当接する方向に移動するか、互いに離間する方向に移動する。また、両チャンバ部材14,18は、当接面に対して面対象となるように移動する。すなわち、両チャンバ部材14,18の移動速度は、大きさが等しく方向が反対である。
For example, the shaft portion 67 of the drive shaft 65 is configured to rotate in response to an instruction from the drive source 66. Further, the shaft portion 67 of the drive shaft 65 is formed with left and right screws 85 having male screws having different shapes at the upper and lower portions. An upper chamber member 14 and a lower chamber member 18 are attached to the shaft portion 67. Each of the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 is screwed into male screws of upper and lower portions of the left and right screws 85.
That is, when the shaft portion 67 of the drive shaft 65 rotates in either the left or right direction, the internal thread 86 formed on the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 causes the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 to contact each other. Move in a direction or move away from each other. Moreover, both the chamber members 14 and 18 move so that it may become a surface object with respect to a contact surface. That is, the moving speeds of both chamber members 14 and 18 are equal in size and opposite in direction.

上部チャンバ部材14は、平面視において下部チャンバ部材18と略同一の大きさの矩形状に形成されている。平面視において、上部チャンバ部材14の周縁には、第二支持棒13に対応した位置に、第二支持棒13が挿通する貫通孔69が形成されている。また、上部チャンバ部材14の下面の周縁部の全周に亘って、鉛直下方へと延設された壁部51が形成されている。   The upper chamber member 14 is formed in a rectangular shape having substantially the same size as the lower chamber member 18 in plan view. In plan view, a through hole 69 through which the second support bar 13 is inserted is formed at a position corresponding to the second support bar 13 on the periphery of the upper chamber member 14. Further, a wall portion 51 extending vertically downward is formed over the entire periphery of the peripheral portion of the lower surface of the upper chamber member 14.

下部チャンバ部材18は、上部チャンバ部材14と同様に、平面視における周縁には、第二支持棒13に対応した位置に、第二支持棒13が挿通する貫通孔69が形成されている。また、下部チャンバ部材18の上面の周縁部の全周に亘って、鉛直上方へと延設された壁部42が形成されている。   Similarly to the upper chamber member 14, the lower chamber member 18 has a through hole 69 through which the second support rod 13 is inserted at a position corresponding to the second support rod 13 on the periphery in plan view. Further, a wall portion 42 extending vertically upward is formed over the entire periphery of the peripheral portion of the upper surface of the lower chamber member 18.

そして、上部チャンバ部材14の壁部51の底面52と、下部チャンバ部材18の壁部42の頂面43と、が当接可能である。これにより、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18がチャンバ17を構成し得る。なお、上部チャンバ部材14の壁部51の底面52および/または下部チャンバ部材18の壁部42の頂面43には、シール(不図示)が設けられている。   The bottom surface 52 of the wall portion 51 of the upper chamber member 14 and the top surface 43 of the wall portion 42 of the lower chamber member 18 can contact each other. Thereby, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 may constitute the chamber 17. A seal (not shown) is provided on the bottom surface 52 of the wall portion 51 of the upper chamber member 14 and / or the top surface 43 of the wall portion 42 of the lower chamber member 18.

上部チャンバ部材14の天井53には、上基板W2を吸着するための上基板吸着機構55が設けられている。上基板吸着機構55は、天井53に取り付けられた支持部56と、支持部56から鉛直下方に向かって延設された吸着ピン57と、を備えている。吸着ピン57の先端には開口58が形成されている。開口58は、吸着ピン57内に形成された図示しない貫通孔に連接されている。貫通孔は、さらに、図示しない配管に接続されている。配管の先端部には排気ポンプが設けられている。このようにすることで、排気ポンプを駆動して上基板W2を吸着ピン57に吸着できる。なお、配管の途中にはバルブが設けられており、排気風量を調節できる。   An upper substrate suction mechanism 55 for sucking the upper substrate W2 is provided on the ceiling 53 of the upper chamber member 14. The upper substrate suction mechanism 55 includes a support portion 56 attached to the ceiling 53 and suction pins 57 extending from the support portion 56 vertically downward. An opening 58 is formed at the tip of the suction pin 57. The opening 58 is connected to a through hole (not shown) formed in the suction pin 57. The through hole is further connected to a pipe (not shown). An exhaust pump is provided at the tip of the pipe. In this way, the upper substrate W2 can be sucked to the suction pins 57 by driving the exhaust pump. In addition, a valve is provided in the middle of the piping, and the exhaust air volume can be adjusted.

つまり、図示しない別の装置から貼合せ基板製造装置10に上基板W2を受け渡す際に、排気ポンプを駆動させることで吸着ピン57が図示しないロボットアームから上基板W2を受け取ることができる。そして、排気を継続することで、上基板W2を吸着ピン57に保持できる。   That is, when the upper substrate W2 is delivered from another device (not shown) to the bonded substrate manufacturing apparatus 10, the suction pin 57 can receive the upper substrate W2 from a robot arm (not shown) by driving the exhaust pump. The upper substrate W2 can be held on the suction pins 57 by continuing the exhaust.

上部チャンバ部材14の天井53において、保持されている上基板W2における任意の位置(上基板W2の周縁部近傍が好ましい)に対応した位置には、下基板W1との位置合わせを行う際に用いるカメラ80の撮影部81が形成されている。撮影部81には、上部チャンバ部材14を貫通する貫通孔であるカメラ配置部82が連接されている。つまり、カメラ配置部82にカメラ80を配置すると、カメラ80が、撮影部81を通して、下基板W1と上基板W2のアライメントマークM1,M2を撮影できる。これにより、アライメントマークM1,M2のズレを検知できる。なお、上加圧部材15における撮影部81に対応した位置には、貫通孔84が形成されている。この貫通孔84を通して、下基板W1および上基板W2を撮影できる。また、カメラ80で撮影した結果をもとに、移動機構29に対して水平面内方向の移動量を指示するための図示しない制御部が設けられている。なお、カメラ80は複数台設けられていてもよい(本実施形態では2台)。カメラ80を複数台設けることで、基板W1,W2の位置合わせを高精度に行うことができる。   On the ceiling 53 of the upper chamber member 14, a position corresponding to an arbitrary position (preferably near the peripheral edge of the upper substrate W2) on the held upper substrate W2 is used when positioning with the lower substrate W1. An imaging unit 81 of the camera 80 is formed. A camera placement portion 82 that is a through-hole penetrating the upper chamber member 14 is connected to the imaging portion 81. That is, when the camera 80 is arranged in the camera arrangement unit 82, the camera 80 can photograph the alignment marks M1 and M2 of the lower substrate W1 and the upper substrate W2 through the photographing unit 81. Thereby, the shift | offset | difference of alignment mark M1, M2 is detectable. A through hole 84 is formed at a position corresponding to the imaging unit 81 in the upper pressure member 15. Through the through hole 84, the lower substrate W1 and the upper substrate W2 can be photographed. In addition, a control unit (not shown) is provided for instructing the moving mechanism 29 the amount of movement in the horizontal plane based on the result captured by the camera 80. A plurality of cameras 80 may be provided (two in this embodiment). By providing a plurality of cameras 80, the substrates W1 and W2 can be aligned with high accuracy.

次に、ベース部11における載置テーブル31の位置の外側には、第一支持棒16が立設されている。第一支持棒16は、ベース部11の四隅に立設されている。
第一支持棒16には、上加圧部材15が装着されている。上加圧部材15は、平面視においてベース部11と略同一の長方形で形成されている。平面視において、上加圧部材15の四隅の第一支持棒16に対応した位置に、第一支持棒16が挿通可能な貫通孔71が形成されている。貫通孔71の下方には、上加圧部材15が第一支持棒16に沿って垂直方向に上下するように案内ガイド83が配置されている。
Next, the first support bar 16 is erected outside the position of the mounting table 31 in the base portion 11. The first support rods 16 are erected at the four corners of the base portion 11.
An upper pressure member 15 is attached to the first support rod 16. The upper pressure member 15 is formed in a substantially same rectangle as the base portion 11 in plan view. In a plan view, through holes 71 into which the first support rod 16 can be inserted are formed at positions corresponding to the first support rods 16 at the four corners of the upper pressure member 15. Below the through hole 71, a guide guide 83 is arranged so that the upper pressure member 15 moves up and down in the vertical direction along the first support rod 16.

また、上加圧部材15の下面に、上基板W2を保持する保持面75が形成される。保持面75における上基板W2が保持される位置には、静電チャック部77が複数設けられている。静電チャック部77の表面は、保持面75と面一である。また、保持面75の、静電チャック部77が配置されていない箇所に、吸着ピン57を挿通可能な貫通孔78が形成されている。   Further, a holding surface 75 that holds the upper substrate W <b> 2 is formed on the lower surface of the upper pressure member 15. A plurality of electrostatic chuck portions 77 are provided at positions where the upper substrate W <b> 2 is held on the holding surface 75. The surface of the electrostatic chuck portion 77 is flush with the holding surface 75. In addition, a through hole 78 through which the suction pin 57 can be inserted is formed in a portion of the holding surface 75 where the electrostatic chuck portion 77 is not disposed.

さらに、上加圧部材15の上面91には、上加圧部材15を上下移動させるための駆動機構92が複数設けられている。駆動機構92は、その長さを伸縮可能な軸部93と、図示しない制御部とを備えている。軸部93は、上加圧部材15に接続された固定軸94と、固定軸94と連接され、軸部93の長さを調節する可動軸95と、を備えている。可動軸95は固定軸94の内部に収納可能である。可動軸95が固定軸94に対して上下方向に可動することで、軸部93の長さが調節できる。この構成により、上基板W2を上下移動させることができる。なお、上部チャンバ部材14には、駆動機構92を挿通させるための貫通孔98が適宜形成されている。また、チャンバ17の気密性を確保するために、固定軸94と上部チャンバ部材14の貫通孔98との間に、シール99が備えられている。   Further, a plurality of drive mechanisms 92 for moving the upper pressure member 15 up and down are provided on the upper surface 91 of the upper pressure member 15. The drive mechanism 92 includes a shaft portion 93 whose length can be expanded and contracted, and a control unit (not shown). The shaft portion 93 includes a fixed shaft 94 connected to the upper pressure member 15 and a movable shaft 95 that is connected to the fixed shaft 94 and adjusts the length of the shaft portion 93. The movable shaft 95 can be stored inside the fixed shaft 94. Since the movable shaft 95 is movable in the vertical direction with respect to the fixed shaft 94, the length of the shaft portion 93 can be adjusted. With this configuration, the upper substrate W2 can be moved up and down. The upper chamber member 14 is appropriately formed with a through hole 98 through which the drive mechanism 92 is inserted. Further, a seal 99 is provided between the fixed shaft 94 and the through hole 98 of the upper chamber member 14 in order to ensure the airtightness of the chamber 17.

また、駆動機構92の上部で上部チャンバ部材14の上方に、例えばアクチュエータを含む加圧機構96が設けられている。加圧機構96は可動軸95と連接されている。加圧機構96により、下基板W1と上基板W2とを貼り合わせる際に、適正な荷重を付与できるように、上加圧部材の加圧力を調節できる。加圧機構96により基板W1,W2にかけられている荷重の大きさは、ロードセルにより検出できる。   A pressurizing mechanism 96 including an actuator, for example, is provided above the upper chamber member 14 above the drive mechanism 92. The pressurizing mechanism 96 is connected to the movable shaft 95. The pressure mechanism 96 can adjust the pressure applied to the upper pressure member so that an appropriate load can be applied when the lower substrate W1 and the upper substrate W2 are bonded to each other. The magnitude of the load applied to the substrates W1, W2 by the pressurizing mechanism 96 can be detected by a load cell.

なお、可動軸95は加圧機構96の内部に収納可能に構成され、長さ調節できてもよい。また、軸部93にユニバーサルジョイント90(自在軸継手)を設けてもよい。この場合、上加圧部材15に垂直方向の力のみを作用させられる。また、上加圧部材15は主として第二支持棒16に案内される。ロードセルは、ユニバーサルジョイント90に隣接して配置してもよいし、加圧機構96の内部に取り付けてもよいし、軸部93と上加圧部材15との間に取り付けてもよい。   The movable shaft 95 is configured to be housed in the pressurizing mechanism 96 and may be adjustable in length. Further, a universal joint 90 (universal shaft joint) may be provided on the shaft portion 93. In this case, only the vertical force is applied to the upper pressure member 15. Further, the upper pressure member 15 is mainly guided by the second support rod 16. The load cell may be disposed adjacent to the universal joint 90, may be attached to the inside of the pressurizing mechanism 96, or may be attached between the shaft portion 93 and the upper pressurizing member 15.

(作用)
次に、貼合せ基板製造装置10を用いて、貼合せ基板を製造する手順を図3〜図11を用いて説明する。なお、図3〜図10は貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図、図11は貼合せ基板を製造する過程を示すフローチャートである。
なお、後述の説明に記載した各ステップ番号は図11のステップ番号に対応している。
まず、図3に示すように、貼合せ基板製造装置10は、加圧機構96により上加圧部材15が最上位に位置した状態に保持されている。また、上部チャンバ部材14と下部チャンバ部材18とは離間した状態で保持されている。
(Function)
Next, a procedure for manufacturing a bonded substrate using the bonded substrate manufacturing apparatus 10 will be described with reference to FIGS. 3-10 is explanatory drawing which shows the process of manufacturing a bonded substrate using a bonded substrate manufacturing apparatus, and FIG. 11 is a flowchart which shows the process of manufacturing a bonded substrate.
Note that each step number described in the description below corresponds to the step number in FIG.
First, as shown in FIG. 3, the bonded substrate manufacturing apparatus 10 is held in a state in which the upper pressing member 15 is positioned at the uppermost position by the pressing mechanism 96. Further, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 are held in a separated state.

ステップS1では、この状態で下基板W1をロボットアームにより搬入する。下基板W1の具体的な搬入方法はステップS2以降に示す。
ステップS2では、図示しないロボットアームで搬送されてきた下基板W1を載置テーブル31の上方に配置する。ここで、リフトピン45を上昇させて下基板W1をロボットアームから浮上させる。
In step S1, the lower substrate W1 is carried in by the robot arm in this state. A specific method for carrying in the lower substrate W1 will be described after step S2.
In step S <b> 2, the lower substrate W <b> 1 that has been transported by a robot arm (not shown) is placed above the placement table 31. Here, the lift pins 45 are raised to float the lower substrate W1 from the robot arm.

ステップS3では、ロボットアームを貼合せ基板製造装置10内から退避させる。
ステップS4では、リフトピン45を下降させて下基板W1を載置テーブル31の上面32に載置する。
In step S <b> 3, the robot arm is retracted from the bonded substrate manufacturing apparatus 10.
In step S <b> 4, the lift pins 45 are lowered to place the lower substrate W <b> 1 on the upper surface 32 of the placement table 31.

ステップS5では、図示しないロボットアームで搬送されてきた上基板W2を上加圧部材15の保持面75の下方に配置する。
ステップS6では、吸着ピン57を下降させて上基板W2を吸着する。吸着ピン57を下降させるには、上加圧部材15を最上位に保持したまま、駆動軸65を駆動させて、上部チャンバ部材14を下降させる。
ステップS7では、ロボットアームをチャンバ17内から退避させる。
In step S <b> 5, the upper substrate W <b> 2 that has been transported by a robot arm (not shown) is disposed below the holding surface 75 of the upper pressure member 15.
In step S6, the suction pin 57 is lowered to suck the upper substrate W2. In order to lower the suction pin 57, the upper shaft member 14 is lowered by driving the drive shaft 65 while holding the upper pressure member 15 at the uppermost position.
In step S <b> 7, the robot arm is retracted from the chamber 17.

ステップS8では、上加圧部材15を下降させる。
ステップS9では、上加圧部材15の静電チャック部77を機能させて上基板W2を保持面75に吸着する。図4は、上述したステップS9までが完了したときの説明図である。
なお、ステップS1〜S4の下基板W1を搬入する工程と、ステップS5〜S9の上基板W2を搬入する工程とは、どちらを先にしてもよい。ただし、上基板W2は搬入時に吸着ピン57から落下するおそれがあるため、上基板W2の搬入を先に行うことにより、上基板W2の落下による影響が下基板W1に及ぶのを防止できる。特に、液晶パネルを製造する場合には、下基板W1の上面に液晶が塗布されているため、上基板W2の搬入を先に行うことが望ましい。
In step S8, the upper pressure member 15 is lowered.
In step S <b> 9, the upper chuck member 77 of the upper pressurizing member 15 is caused to function to attract the upper substrate W <b> 2 to the holding surface 75. FIG. 4 is an explanatory diagram when the process up to step S9 is completed.
Note that either the step of carrying in the lower substrate W1 of steps S1 to S4 or the step of carrying in the upper substrate W2 of steps S5 to S9 may be performed first. However, since the upper substrate W2 may fall from the suction pins 57 at the time of loading, the upper substrate W2 can be prevented from being affected by the drop of the upper substrate W2 by first loading the upper substrate W2. In particular, when manufacturing a liquid crystal panel, it is desirable to carry in the upper substrate W2 first because the liquid crystal is applied to the upper surface of the lower substrate W1.

次に、ステップS10では、図5に示すように、駆動軸65を駆動させて、上部チャンバ部材14をベース部11(下基板W1)に向かって下降させる。これとともに、下部チャンバ部材18を上加圧部材15(上基板W2)に向かって上昇させる。   Next, in step S10, as shown in FIG. 5, the drive shaft 65 is driven to lower the upper chamber member 14 toward the base portion 11 (lower substrate W1). At the same time, the lower chamber member 18 is raised toward the upper pressure member 15 (upper substrate W2).

上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18のそれぞれの四隅に形成された雌ネジ86は、軸部67の左右ネジ85に螺合されている。このため、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18は水平状態を保持したまま下降および上昇する。そして、上部チャンバ部材14の壁部51の底面52と下部チャンバ部材18の壁部42の頂面43とが当接するまで上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18を移動させる。つまり、上部チャンバ部材14と下部チャンバ部材18とで密閉封止されたチャンバ17を構成する(処理室形成工程)。
このように、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18は互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能である。このため、両チャンバ部材14,18の移動に伴って装置に作用する力を相殺可能である。従って、軸部67を含む貼合せ基板製造装置10の耐久性を向上させることができる。さらに、一方のチャンバ部材のみを移動させる場合と比較して、チャンバ17の開閉時間を短縮できる。
The female screws 86 formed at the four corners of the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 are screwed into the left and right screws 85 of the shaft portion 67. For this reason, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 are lowered and raised while maintaining the horizontal state. Then, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 are moved until the bottom surface 52 of the wall portion 51 of the upper chamber member 14 and the top surface 43 of the wall portion 42 of the lower chamber member 18 come into contact with each other. That is, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 form a hermetically sealed chamber 17 (processing chamber forming step).
As described above, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 can be moved simultaneously in a direction in which they abut or separate from each other. For this reason, it is possible to cancel the force acting on the apparatus as the chamber members 14 and 18 move. Therefore, the durability of the bonded substrate manufacturing apparatus 10 including the shaft portion 67 can be improved. Furthermore, the opening / closing time of the chamber 17 can be shortened compared with the case where only one chamber member is moved.

ステップS11では、ステップS10と略同時に、上加圧部材15をベース部11(下基板W1)に向かって下降させる(第一上基板移動工程)。このとき、駆動機構92の可動軸95が固定軸94から突出するように可動する。このため、軸部93の長さが長くなり、上加圧部材15が下降する。なお、上加圧部材15の四隅の案内ガイド83は第一支持棒16が挿通されている。このため、上加圧部材15は水平状態を保持したまま下降する。   In step S11, substantially simultaneously with step S10, the upper pressing member 15 is lowered toward the base portion 11 (lower substrate W1) (first upper substrate moving step). At this time, the movable shaft 95 of the drive mechanism 92 moves so as to protrude from the fixed shaft 94. For this reason, the length of the axial part 93 becomes long and the upper pressurizing member 15 descends. The first support rod 16 is inserted through the guide guides 83 at the four corners of the upper pressure member 15. For this reason, the upper pressurizing member 15 descends while maintaining the horizontal state.

なお、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18の上下移動の速度は、上加圧部材15の上下移動の速度より高速である。したがって、上部チャンバ部材14および上加圧部材15を移動させる際に、上部チャンバ部材14と上加圧部材15とが干渉しないように、上加圧部材15の位置は、基板の出し入れに影響の無い範囲でできるだけベース部11側に寄った位置に配置することが望ましい。   The vertical movement speed of the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 is higher than the vertical movement speed of the upper pressure member 15. Therefore, when the upper chamber member 14 and the upper pressure member 15 are moved, the position of the upper pressure member 15 does not affect the loading / unloading of the substrate so that the upper chamber member 14 and the upper pressure member 15 do not interfere with each other. It is desirable to arrange it at a position as close to the base portion 11 as possible without any range.

ステップS12では、図6に示すように、チャンバ17内の真空引きを行う。具体的には、真空ポンプ49を稼動させて、排気孔47よりチャンバ17内部を排気する(減圧工程)。そして、チャンバ17内を真空状態(約0.4Pa以下)に保持する。なお、本実施形態のように下基板W1と上基板W2との距離が充分確保された状態で真空引きを行うと、コンダクタンスを大きくでき、真空引き時間を短縮できるとともに、基板W1,W2間の空気を確実に排気できる。   In step S12, the chamber 17 is evacuated as shown in FIG. Specifically, the vacuum pump 49 is operated, and the inside of the chamber 17 is exhausted from the exhaust hole 47 (decompression step). Then, the inside of the chamber 17 is kept in a vacuum state (about 0.4 Pa or less). If evacuation is performed in a state where the distance between the lower substrate W1 and the upper substrate W2 is sufficiently secured as in the present embodiment, conductance can be increased, the evacuation time can be shortened, and the space between the substrates W1 and W2 can be reduced. Air can be exhausted reliably.

ステップS13では、図7に示すように、チャンバ17内の真空引きが完了した後、上加圧部材15を再度下降して、下基板W1と上基板W2との間を所定間隔(数百μm程度)にする(第二上基板移動工程)。
ステップS14では、図8に示すように、カメラ80を作動して、下基板W1と上基板W2のアライメントマークM1,M2に順次焦点を合わせて撮影する。そして、それぞれのアライメントマークM1,M2が一致するように、下基板W1を水平面内方向に移動する(基板位置合わせ工程)。このとき、アライメントマークM1,M2のズレ量を基に、移動機構29を移動させて下基板W1を適正位置まで移動させる。
In step S13, as shown in FIG. 7, after the evacuation in the chamber 17 is completed, the upper pressure member 15 is lowered again, and a predetermined interval (several hundred μm) is formed between the lower substrate W1 and the upper substrate W2. (Second upper substrate moving step).
In step S14, as shown in FIG. 8, the camera 80 is operated to photograph images with the sequential focus on the alignment marks M1 and M2 on the lower substrate W1 and the upper substrate W2. Then, the lower substrate W1 is moved in the horizontal plane direction so that the alignment marks M1 and M2 coincide with each other (substrate alignment step). At this time, based on the amount of misalignment between the alignment marks M1 and M2, the moving mechanism 29 is moved to move the lower substrate W1 to an appropriate position.

ステップS15では、下基板W1と上基板W2との位置合わせが完了した後、上加圧部材15をさらに下降する。
ステップS16では、図9に示すように、下基板W1と上基板W2とを貼り合わせる(基板貼合せ工程)。このとき、加圧機構96によって上加圧部材15に下向きの力を作用させ、両基板W1,W2を加圧する。ここで、ロードセルにより、両基板W1,W2に作用する荷重を検出し、適正な荷重で基板を貼り合わせるように調整する。
In step S15, after the alignment between the lower substrate W1 and the upper substrate W2 is completed, the upper pressing member 15 is further lowered.
In step S16, as shown in FIG. 9, the lower substrate W1 and the upper substrate W2 are bonded together (substrate bonding step). At this time, the pressing mechanism 96 applies a downward force to the upper pressing member 15 to pressurize both the substrates W1 and W2. Here, the load acting on both the substrates W1 and W2 is detected by the load cell, and adjustment is performed so that the substrates are bonded together with an appropriate load.

ステップS17では、図10に示すように、下基板W1と上基板W2との貼り合わせが完了したら、上部チャンバ部材14および上加圧部材15を上昇させる。このとき、貼合せ基板W3はベース部11(載置テーブル31)上に配置させる。つまり、上加圧部材15の静電チャック部77の機能を解除して、上基板W2を上加圧部材15から離間させる。   In step S17, as shown in FIG. 10, when the bonding of the lower substrate W1 and the upper substrate W2 is completed, the upper chamber member 14 and the upper pressure member 15 are raised. At this time, the bonded substrate W3 is arranged on the base portion 11 (mounting table 31). That is, the function of the electrostatic chuck portion 77 of the upper pressing member 15 is released, and the upper substrate W2 is separated from the upper pressing member 15.

ステップS18では、ベース部11のリフトピン45を上昇させて、貼合せ基板W3を上面23から上昇させる。
ステップS19では、貼合せ基板W3とベース部11の上面23との隙間にロボットアームを挿入して、リフトピン45からロボットアームに貼合せ基板W3を受け渡す。そして、ロボットアームが、図示しない別の装置に貼合せ基板W3を搬送して処理が完了する。
In step S <b> 18, the lift pins 45 of the base portion 11 are raised to raise the bonded substrate W <b> 3 from the upper surface 23.
In step S19, the robot arm is inserted into the gap between the bonded substrate W3 and the upper surface 23 of the base portion 11, and the bonded substrate W3 is delivered from the lift pins 45 to the robot arm. And a robot arm conveys the bonding board | substrate W3 to another apparatus which is not shown in figure, and a process is completed.

本実施形態によれば、上基板W2と下基板W1とを位置合わせしつつ貼り合わせて貼合せ基板W3を製造する貼合せ基板製造装置10は:下基板W1を支持するベース部11と;ベース部11から立設された第一支持棒16と;第一支持棒16に沿って上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18から独立して上下移動可能であり、上基板W2を保持可能である、上加圧部材15と;上加圧部材15から独立して上下移動可能であり、チャンバ17を構成する、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18と;を備える。上加圧部材15が移動することで、チャンバ17の内部で上基板W2と下基板W1とを貼り合わせることができる。貼合せ基板製造装置10は、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18を支持する第二支持棒13を備える。上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18は、互いに当接する方向または離間する方向に、同時に移動可能である。   According to this embodiment, the bonded substrate manufacturing apparatus 10 that manufactures the bonded substrate W3 by bonding the upper substrate W2 and the lower substrate W1 while aligning them: the base unit 11 that supports the lower substrate W1; A first support bar 16 erected from the portion 11; it can be moved up and down independently of the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 along the first support bar 16, and can hold the upper substrate W2. An upper pressure member 15; and an upper chamber member 14 and a lower chamber member 18 which are movable up and down independently of the upper pressure member 15 and constitute the chamber 17. By moving the upper pressing member 15, the upper substrate W <b> 2 and the lower substrate W <b> 1 can be bonded inside the chamber 17. The bonded substrate manufacturing apparatus 10 includes a second support bar 13 that supports the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18. The upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 are simultaneously movable in a direction in which they abut or separate from each other.

したがって、上基板W2が保持された上加圧部材15が、下基板W1が載置されたベース部11から立設している第一支持棒16に案内されて上下移動する。このため、上基板W2と下基板W1との間には最小限の部材しか介在していない。これにより、上基板W2と下基板W1との位置合わせをしてから貼り合わせるまでの間に上基板W2と下基板W1の相対的位置がずれることを防止できる。したがって、2枚の基板W1,W2の位置合わせ精度を向上して、歩留まりを向上できる。また、上加圧部材15と、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18と、が個別に上下移動可能である。このため、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18は同時に高速で上下移動させることができる。上加圧部材15は基板W1,W2の貼合せ時に微小な動き(上下移動)をさせることができる。
つまり、2枚の基板W1,W2の位置合わせ精度を向上できるとともに、生産効率を向上できる。
Therefore, the upper pressing member 15 holding the upper substrate W2 moves up and down while being guided by the first support rod 16 standing from the base portion 11 on which the lower substrate W1 is placed. For this reason, only a minimum number of members are interposed between the upper substrate W2 and the lower substrate W1. Accordingly, it is possible to prevent the relative positions of the upper substrate W2 and the lower substrate W1 from being shifted between the time when the upper substrate W2 and the lower substrate W1 are aligned and the time when they are bonded. Therefore, the alignment accuracy of the two substrates W1 and W2 can be improved, and the yield can be improved. Further, the upper pressurizing member 15 and the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 can be individually moved up and down. For this reason, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 can be simultaneously moved up and down at high speed. The upper pressing member 15 can be moved minutely (moved up and down) when the substrates W1 and W2 are bonded.
That is, the alignment accuracy of the two substrates W1 and W2 can be improved and the production efficiency can be improved.

また、貼合せ基板製造装置10は、相互に異なる向きの左右ネジ85が形成された駆動軸65を備える。上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18は、それぞれ駆動軸65に形成された異なる向きの左右ネジ85に螺合される。駆動軸65を回転させることにより、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18が、互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能である。
したがって、簡易な構成で上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18を移動させることができる。つまり、装置の部品点数の増加を抑えることができ、貼合せ基板製造装置10の製造コストを抑制できる。
Moreover, the bonded substrate manufacturing apparatus 10 includes a drive shaft 65 in which left and right screws 85 having different directions are formed. The upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 are respectively screwed into left and right screws 85 formed in the drive shaft 65 in different directions. By rotating the drive shaft 65, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 can move simultaneously in a direction in which they abut or separate from each other.
Therefore, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 can be moved with a simple configuration. That is, an increase in the number of parts of the apparatus can be suppressed, and the manufacturing cost of the bonded substrate manufacturing apparatus 10 can be suppressed.

また、上部チャンバ部材14に、上基板W2を吸着させるための吸着ピン57を設けた。このため、上加圧部材15に上基板W2を保持するまでは、上基板W2を上部チャンバ部材14とともに高速で上下移動させることができる。その後、上加圧部材15で上基板W2を微小運動(上下移動)させることができる。したがって、生産効率を向上できる。   The upper chamber member 14 is provided with suction pins 57 for sucking the upper substrate W2. Therefore, the upper substrate W2 can be moved up and down with the upper chamber member 14 at high speed until the upper substrate W2 is held by the upper pressure member 15. Thereafter, the upper substrate W2 can be finely moved (moved up and down) by the upper pressing member 15. Therefore, production efficiency can be improved.

さらに、ベース部11に、下基板W1を載置する載置テーブル31と、載置テーブル31を移動させる移動機構29と、で構成された基板アライメント機構20を設けた。このため、下基板W1を安定保持でき、下基板W1と上基板W2との位置合わせを高精度に行うことができる。   Further, the base unit 11 is provided with a substrate alignment mechanism 20 including a mounting table 31 for mounting the lower substrate W1 and a moving mechanism 29 for moving the mounting table 31. Therefore, the lower substrate W1 can be stably held, and the alignment between the lower substrate W1 and the upper substrate W2 can be performed with high accuracy.

基板アライメント機構20はチャンバ17内に配置した。このため、下部チャンバ部材18を上下移動させる際に基板アライメント機構20との干渉を防止できる。したがって、貼合せ基板製造装置10の装置構成が複雑化することなく、確実にチャンバ17を形成させることができる。   The substrate alignment mechanism 20 was disposed in the chamber 17. For this reason, interference with the substrate alignment mechanism 20 can be prevented when the lower chamber member 18 is moved up and down. Therefore, the chamber 17 can be reliably formed without complicating the apparatus configuration of the bonded substrate manufacturing apparatus 10.

(第二実施形態)
次に、本発明の第二実施形態に係る貼合せ基板製造装置について、図12〜図14に基づいて説明する。なお、本実施形態は、第一実施形態と下基板W1の載置手段が異なるのみで、他の構成については略同一であるため、同一箇所には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
図12は貼合せ基板製造装置の正面概略図であり、図13は図12のB−B線に沿う断面図である。図12、図13に示すように、ベース部111の上面123は平面視で長方形に形成され、下基板W1を載置できる。上面123の平面視略中央部には下基板W1を上下方向、直交2軸水平方向および水平回転方向(以下、水平面内方向という。)に移動させることができる駆動台125が設けられている。
(Second embodiment)
Next, the bonded substrate manufacturing apparatus which concerns on 2nd embodiment of this invention is demonstrated based on FIGS. The present embodiment is different from the first embodiment only in the means for placing the lower substrate W1, and the other components are substantially the same. Therefore, the same portions are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted. To do.
FIG. 12 is a schematic front view of the bonded substrate manufacturing apparatus, and FIG. 13 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. As shown in FIGS. 12 and 13, the upper surface 123 of the base 111 is formed in a rectangular shape in plan view, and the lower substrate W1 can be placed thereon. A driving base 125 capable of moving the lower substrate W1 in the vertical direction, the orthogonal biaxial horizontal direction, and the horizontal rotation direction (hereinafter referred to as a horizontal plane direction) is provided at a substantially central portion of the upper surface 123 in plan view.

駆動台125は、ベース部111の上面123に形成された凹部124内に配置されている。駆動台125は、平面視略円形である。駆動台125の内部には空洞128が形成されている。空洞128の上端には空気孔127が複数形成されている。空洞128はその下方に設けられた排気管129と接続されている。排気管129はベース部111を貫通して下面121から延出され、図示しない排気ポンプと接続されている。つまり、下基板W1が駆動台125上に載置された状態で排気ポンプを可動すると空気孔127を介して下基板W1を駆動台125に密着させることができる。なお、排気管129の途中にはバルブ130が設けられており、これによって、排気量を調整できる。   The drive base 125 is disposed in a recess 124 formed on the upper surface 123 of the base portion 111. The drive base 125 is substantially circular in plan view. A cavity 128 is formed inside the drive base 125. A plurality of air holes 127 are formed at the upper end of the cavity 128. The cavity 128 is connected to an exhaust pipe 129 provided therebelow. The exhaust pipe 129 extends from the lower surface 121 through the base portion 111 and is connected to an exhaust pump (not shown). That is, when the exhaust pump is moved in a state where the lower substrate W1 is placed on the drive base 125, the lower substrate W1 can be brought into close contact with the drive base 125 through the air holes 127. A valve 130 is provided in the middle of the exhaust pipe 129 so that the exhaust amount can be adjusted.

また、駆動台125の下方には、駆動台125を水平面内方向に移動させるための第1移動機構131が設けられている。第1移動機構131の下方には、駆動台125を上下方向に移動させるための第2移動機構132が設けられている。第1移動機構131および第2移動機構132の駆動方法は特に限定されないが、本実施形態では第1移動機構131はアクチュエータ機構を用いて水平面内方向に移動され、第2移動機構132においてはくさび形状の部材を移動させることで駆動台125が上下方向に移動される。   A first moving mechanism 131 for moving the drive base 125 in the horizontal plane is provided below the drive base 125. Below the first moving mechanism 131, a second moving mechanism 132 for moving the drive base 125 in the vertical direction is provided. The driving method of the first moving mechanism 131 and the second moving mechanism 132 is not particularly limited. In the present embodiment, the first moving mechanism 131 is moved in the horizontal plane using an actuator mechanism, and the second moving mechanism 132 has a wedge. The drive base 125 is moved in the vertical direction by moving the shaped member.

次に、ベース部111の上面123における、下基板W1の平面サイズに対応した位置には、エアーパッド135が複数(本実施形態では14個)設けられている。エアーパッド135は、ベース部111の上面123に形成された凹部136内に配置されている。
エアーパッド135は、平面視略円形である。エアーパッド135の内部には空洞139が形成されている。空洞139の上端には空気孔138が複数形成されている。空洞139はその下方に設けられた給排気管140と接続されている。給排気管140はベース部111を貫通して下面121から延出され、図示しない給排気ポンプと接続されている。つまり、下基板W1がベース部111上に載置された状態で給気すると、空気孔138から空気が下基板W1に向かって噴出し、下基板W1を浮上させることができる。一方、下基板W1がベース部111上に載置された状態で排気すると空気孔138を介して下基板W1をベース部111に密着させることができる。したがって、駆動台125およびエアーパッド135が、下基板W1を水平面内方向に移動させるための基板アライメント機構120として構成されている。なお、給排気管140の途中にはバルブ141が設けられており、これによって、給排気量を調整できる。また、通常時において駆動台125の表面126とエアーパッド135の表面137とは面一である。
Next, a plurality of air pads 135 (14 in this embodiment) are provided on the upper surface 123 of the base portion 111 at positions corresponding to the planar size of the lower substrate W1. The air pad 135 is disposed in a recess 136 formed on the upper surface 123 of the base portion 111.
The air pad 135 is substantially circular in plan view. A cavity 139 is formed inside the air pad 135. A plurality of air holes 138 are formed at the upper end of the cavity 139. The cavity 139 is connected to an air supply / exhaust pipe 140 provided therebelow. The supply / exhaust pipe 140 extends from the lower surface 121 through the base portion 111 and is connected to a supply / exhaust pump (not shown). That is, when the air is supplied in a state where the lower substrate W1 is placed on the base portion 111, air is ejected from the air holes 138 toward the lower substrate W1, and the lower substrate W1 can be floated. On the other hand, if the exhaust is performed while the lower substrate W1 is placed on the base portion 111, the lower substrate W1 can be brought into close contact with the base portion 111 through the air holes 138. Therefore, the drive base 125 and the air pad 135 are configured as the substrate alignment mechanism 120 for moving the lower substrate W1 in the horizontal plane direction. In addition, a valve 141 is provided in the middle of the air supply / exhaust pipe 140, whereby the supply / exhaust amount can be adjusted. Further, the surface 126 of the drive base 125 and the surface 137 of the air pad 135 are flush with each other at normal times.

(作用)
次に、貼合せ基板製造装置110を用いて、貼合せ基板を製造する手順の一部を図14に基づいて説明する。なお、図14は貼合せ基板を製造する過程を示すフローチャートである。
ステップS1では、下基板W1をロボットアームにより搬入する。下基板W1の具体的な搬入方法はステップS2以降に示す。
ステップS2では、図示しないロボットアームで搬送されてきた下基板W1をベース部111の上方に配置する。ここで、リフトピン145を上昇させて下基板W1をロボットアームから浮上させる。
(Function)
Next, a part of a procedure for manufacturing a bonded substrate using the bonded substrate manufacturing apparatus 110 will be described with reference to FIG. FIG. 14 is a flowchart showing a process of manufacturing a bonded substrate.
In step S1, the lower substrate W1 is carried in by the robot arm. A specific method for carrying in the lower substrate W1 will be described after step S2.
In step S <b> 2, the lower substrate W <b> 1 transported by a robot arm (not shown) is disposed above the base unit 111. Here, the lift pins 145 are raised to lift the lower substrate W1 from the robot arm.

ステップS3では、ロボットアームを貼合せ基板製造装置10内から退避させる。
ステップS4では、リフトピン145を下降させて下基板W1をベース部111の上面123に載置する。このとき、排気管129から排気することで下基板W1を駆動台125に吸着させる。
In step S <b> 3, the robot arm is retracted from the bonded substrate manufacturing apparatus 10.
In step S <b> 4, the lift pins 145 are lowered to place the lower substrate W <b> 1 on the upper surface 123 of the base portion 111. At this time, the lower substrate W <b> 1 is adsorbed to the drive base 125 by exhausting from the exhaust pipe 129.

ステップS5からステップS9までは第一実施形態と略同一のため説明を省略する。
なお、ステップS1〜S4の下基板W1を搬入する工程と、ステップS5〜S9の上基板W2を搬入する工程とは、どちらを先にしてもよい。
ステップS10では、図5に示すように、駆動軸65を駆動させて、上部チャンバ部材14をベース部11(下基板W1)に向かって下降させるとともに、下部チャンバ部材18を上加圧部材15(上基板W2)に向かって上昇させる。
上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18のそれぞれの四隅に形成された雌ネジ86が、軸部67の左右ネジ85に螺合されているため、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18は水平状態を保持したまま下降および上昇する。そして、上部チャンバ部材14の壁部51の底面52と下部チャンバ部材18の壁部42の頂面43とが当接するまで上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18を移動させる。つまり、上部チャンバ部材14と下部チャンバ部材18とで密閉封止されたチャンバ17を構成する(処理室形成工程)。
このように、上部チャンバ部材14および下部チャンバ部材18が互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能であるため、両チャンバ部材14,18の移動に伴って装置に作用する力を相殺することができる。従って、軸部67を含む貼合せ基板製造装置10の耐久性を向上させることができる。さらに、一方のチャンバ部材のみを移動させる場合と比較して、チャンバ17の開閉時間を短縮できる。
Steps S5 to S9 are substantially the same as those in the first embodiment, and thus description thereof is omitted.
Note that either the step of carrying in the lower substrate W1 of steps S1 to S4 or the step of carrying in the upper substrate W2 of steps S5 to S9 may be performed first.
In step S10, as shown in FIG. 5, the drive shaft 65 is driven to lower the upper chamber member 14 toward the base portion 11 (lower substrate W1), and the lower chamber member 18 is moved to the upper pressure member 15 ( Raise toward the upper substrate W2).
Since the female screws 86 formed at the four corners of the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 are screwed into the left and right screws 85 of the shaft portion 67, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 are in a horizontal state. Move down and up while holding. Then, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 are moved until the bottom surface 52 of the wall portion 51 of the upper chamber member 14 and the top surface 43 of the wall portion 42 of the lower chamber member 18 come into contact with each other. That is, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 form a hermetically sealed chamber 17 (processing chamber forming step).
In this way, the upper chamber member 14 and the lower chamber member 18 can move simultaneously in the direction in which they abut or separate from each other, so that the force acting on the apparatus as both chamber members 14 and 18 move is canceled out. Can do. Therefore, the durability of the bonded substrate manufacturing apparatus 10 including the shaft portion 67 can be improved. Furthermore, the opening / closing time of the chamber 17 can be shortened compared with the case where only one chamber member is moved.

ステップS11では、下基板W1を上昇させる(第一下基板移動工程)。具体的には、ベース部111に設けられた第2移動機構132を可動して、駆動台125を上方へ移動させる。略同時に、エアーパッド135に対して給気し、空気孔138から下基板W1に向かって空気を噴出する。すると、下基板W1は駆動台125により略中央部が持ち上げられ、さらに、エアーパッド135の作用により下基板W1の周縁部が浮上する。このようにして、下基板W1を水平状態に保持する。このとき下基板W1は数十μm程度上面123から浮上している。   In step S11, the lower substrate W1 is raised (first lower substrate moving step). Specifically, the second moving mechanism 132 provided on the base portion 111 is moved to move the drive base 125 upward. At substantially the same time, air is supplied to the air pad 135, and air is ejected from the air hole 138 toward the lower substrate W1. Then, the lower substrate W <b> 1 is lifted substantially at the center by the drive base 125, and the peripheral portion of the lower substrate W <b> 1 floats due to the action of the air pad 135. In this way, the lower substrate W1 is held in a horizontal state. At this time, the lower substrate W1 is levitated from the upper surface 123 by about several tens of μm.

ステップS12では、ステップS11と略同時に、上加圧部材15をベース部111(下基板W1)に向かって下降させる(第一上基板移動工程)。このとき、駆動機構92の可動軸95が固定軸94から突出するように可動することで軸部93の長さが長くなり、上加圧部材15が下降する。なお、上加圧部材15の四隅の案内ガイド83に第一支持棒16が挿通されているため、上加圧部材15は水平状態を保持したまま下降する。   In step S12, substantially simultaneously with step S11, the upper pressing member 15 is lowered toward the base portion 111 (lower substrate W1) (first upper substrate moving step). At this time, the movable shaft 95 of the drive mechanism 92 moves so as to protrude from the fixed shaft 94, so that the length of the shaft portion 93 is increased and the upper pressurizing member 15 is lowered. Since the first support rod 16 is inserted into the guide guides 83 at the four corners of the upper pressure member 15, the upper pressure member 15 is lowered while maintaining the horizontal state.

ステップS13では、カメラ80を作動して、下基板W1と上基板W2のアライメントマークM1,M2に順次焦点を合わせて撮影する。そして、それぞれのアライメントマークM1,M2が一致するように、下基板W1を水平面内方向に移動する(基板位置合わせ工程)。このとき、アライメントマークM1,M2のズレ量を基に、駆動台125を水平面内方向に移動させて下基板W1を適正位置まで移動させる。   In step S13, the camera 80 is actuated so that the alignment marks M1 and M2 on the lower substrate W1 and the upper substrate W2 are sequentially focused and photographed. Then, the lower substrate W1 is moved in the horizontal plane direction so that the alignment marks M1 and M2 coincide with each other (substrate alignment step). At this time, based on the amount of misalignment between the alignment marks M1 and M2, the drive base 125 is moved in the horizontal plane direction to move the lower substrate W1 to an appropriate position.

ステップS14では、下基板W1と上基板W2との位置合わせが完了したら、下基板W1の駆動台125を下降させる。これとともに、エアーパッド135の給気を停止して、下基板W1をベース部111の上面123に下降させる。そして、エアーパッド135から排気して下基板W1を上面123に吸着させる。これによって、下基板W1の位置がずれないように固定する(第二下基板移動工程)。その後に、上加圧部材15を若干上方へ移動させる(第二上基板移動工程)。このようにして、下基板W1と上基板W2との距離を位置合わせ時より長くする。これは、その後に行うチャンバ17内の真空引きの際に、コンダクタンスを大きくして、真空引き時間を短縮するとともに、基板W1,W2間の空気を確実に排気するためである。
ステップS15では、チャンバ17内の真空引きを行う(減圧工程)。
In step S14, when the alignment between the lower substrate W1 and the upper substrate W2 is completed, the drive base 125 of the lower substrate W1 is lowered. At the same time, the supply of air to the air pad 135 is stopped, and the lower substrate W1 is lowered to the upper surface 123 of the base portion 111. Then, air is exhausted from the air pad 135 and the lower substrate W1 is adsorbed to the upper surface 123. Thus, the lower substrate W1 is fixed so as not to be displaced (second lower substrate moving step). Thereafter, the upper pressure member 15 is moved slightly upward (second upper substrate moving step). In this way, the distance between the lower substrate W1 and the upper substrate W2 is made longer than that during alignment. This is for increasing the conductance and shortening the evacuation time and evacuating the air between the substrates W1 and W2 during the subsequent evacuation of the chamber 17.
In step S15, the inside of the chamber 17 is evacuated (decompression step).

ステップS16では、チャンバ17内の真空引きが完了した後、上加圧部材15を再度下降する。
ステップS17では、下基板W1と上基板W2とを貼り合わせる(基板貼合せ工程)。
このとき、加圧機構96によって両基板W1,W2を加圧する。ここで、ロードセルにより、両基板W1,W2に作用する荷重を検出し、適正な荷重で基板が貼り合わされるように調整する。
In step S16, after the evacuation in the chamber 17 is completed, the upper pressure member 15 is lowered again.
In step S17, the lower substrate W1 and the upper substrate W2 are bonded together (substrate bonding step).
At this time, the substrates W1 and W2 are pressurized by the pressurizing mechanism 96. Here, the load cell detects the load acting on both the substrates W1, W2, and adjusts so that the substrates are bonded together with an appropriate load.

ステップS18では、下基板W1と上基板W2との貼り合わせが完了したら、上部チャンバ部材14および上加圧部材15を上昇させる。このとき、貼合せ基板W3はベース部111上に配置させる。つまり、上加圧部材15の静電チャック部77の機能を解除して、上基板W2を上加圧部材15から離間させる。   In step S18, when the bonding of the lower substrate W1 and the upper substrate W2 is completed, the upper chamber member 14 and the upper pressure member 15 are raised. At this time, the bonded substrate W3 is disposed on the base 111. That is, the function of the electrostatic chuck portion 77 of the upper pressing member 15 is released, and the upper substrate W2 is separated from the upper pressing member 15.

ステップS19では、ベース部111のリフトピン145を上昇させて、貼合せ基板W3を上面123から上昇させる。
ステップS20では、貼合せ基板W3とベース部111の上面123との隙間にロボットアームを挿入して、リフトピン145からロボットアームに貼合せ基板W3を受け渡す。
そして、ロボットアームが、図示しない別の装置に貼合せ基板W3を搬送して、処理が完了する。このように構成しても、第一実施形態と同様に、2枚の基板W1,W2の位置合わせ精度を向上して、歩留まりを向上できる。
In step S19, the lift pins 145 of the base portion 111 are raised, and the bonded substrate W3 is raised from the upper surface 123.
In step S20, the robot arm is inserted into the gap between the bonded substrate W3 and the upper surface 123 of the base portion 111, and the bonded substrate W3 is delivered from the lift pins 145 to the robot arm.
And a robot arm conveys the bonding board | substrate W3 to another apparatus which is not shown in figure, and a process is completed. Even if comprised in this way, the position alignment precision of the two board | substrates W1 and W2 can be improved similarly to 1st embodiment, and a yield can be improved.

また、本実施形態によれば、ベース部111に、下基板W1の一部を吸着しつつ下基板W1を移動させる駆動台125と、駆動台125による下基板W1の移動時に下基板W1の残部を浮上させるとともに、上基板W2と下基板W1との貼合せ時に下基板W1の残部を吸着することが可能なエアーパッド135と、で構成された基板アライメント機構120を設けた。   Further, according to the present embodiment, the drive base 125 that moves the lower substrate W1 while attracting a part of the lower substrate W1 to the base portion 111, and the remaining portion of the lower substrate W1 when the lower substrate W1 is moved by the drive base 125 , And an air pad 135 capable of adsorbing the remaining portion of the lower substrate W1 when the upper substrate W2 and the lower substrate W1 are bonded to each other.

このように構成したため、上基板と下基板とを位置合わせする際には、下基板浮上吸着装置(エアーパッド135)により下基板をベース部から浮上させることができる。したがって、下基板吸着装置(駆動台125)により容易に下基板を移動させることができる。一方、上基板W2と下基板W1とを貼り合わせる際には、駆動台125により下基板W1をベース部111に吸着させることができる。したがって、下基板W1の位置ずれを防止でき、上基板W2と下基板W1とを精度良く貼り合わせることができる。また、下基板W1を載置するためのテーブルを別途必要としないため、ベース部111と下基板W1との間に介在する部品点数を少なくできる。さらに、下基板W1をベース部111に吸着させると、駆動台125およびエアーパッド135はチャンバ17に露出されないため、各装置から発生するパーティクルなどがチャンバ17内に流入することを防止できる。したがって、チャンバ17内のクリーン度を確保できる。   Since it comprised in this way, when aligning an upper board | substrate and a lower board | substrate, a lower board | substrate can be levitated from a base part with the lower board | substrate levitation adsorption apparatus (air pad 135). Therefore, the lower substrate can be easily moved by the lower substrate suction device (drive base 125). On the other hand, when the upper substrate W <b> 2 and the lower substrate W <b> 1 are bonded together, the lower substrate W <b> 1 can be adsorbed to the base portion 111 by the drive base 125. Therefore, the position shift of the lower substrate W1 can be prevented, and the upper substrate W2 and the lower substrate W1 can be bonded together with high accuracy. In addition, since a table for placing the lower substrate W1 is not required separately, the number of components interposed between the base portion 111 and the lower substrate W1 can be reduced. Further, when the lower substrate W1 is attracted to the base portion 111, the drive base 125 and the air pad 135 are not exposed to the chamber 17, so that particles generated from each device can be prevented from flowing into the chamber 17. Therefore, the cleanliness in the chamber 17 can be ensured.

尚、本発明の技術範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、実施形態で挙げた具体的な形状や構成等は一例にすぎず、適宜変更が可能である。
例えば、本実施形態において、移動機構を水平方向のみに移動できるように構成したが、上下方向にも移動できるように構成してもよい。
また、本実施形態において、上部チャンバ部材と同様に、上加圧部材の第一支持棒にネジを形成し、第一支持棒を回転させることで上加圧部材を上下移動できるように構成してもよい。
さらに、本実施形態において、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材は駆動軸に沿って上下移動するように構成した場合の説明をしたが、アクチュエータなどの移動機構により相反する方向に移動可能に構成してもよい。
It should be noted that the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes those in which various modifications are made to the above-described embodiment without departing from the spirit of the present invention. That is, the specific shapes, configurations, and the like given in the embodiment are merely examples, and can be changed as appropriate.
For example, in the present embodiment, the moving mechanism is configured to be movable only in the horizontal direction, but may be configured to be movable in the vertical direction.
In the present embodiment, similarly to the upper chamber member, a screw is formed on the first support rod of the upper pressure member, and the upper pressure member can be moved up and down by rotating the first support rod. May be.
Further, in the present embodiment, the case where the upper chamber member and the lower chamber member are configured to move up and down along the drive shaft has been described. However, the upper chamber member and the lower chamber member are configured to be movable in opposite directions by a moving mechanism such as an actuator. Also good.

本発明によれば、上基板と下基板との位置合わせをしてから貼り合わせるまでの間に上基板と下基板との相対的位置関係がずれることを防止できる。したがって、2枚の基板の位置合わせ精度を向上させして、歩留まりを向上することができさせる効果がある。また、上部チャンバ部材および下部チャンバ部材は同時に高速で上下移動させることができる。また、上加圧部材は基板の貼合せ時に微小な動き(上下移動)をさせることができる。つまり、2枚の基板の位置合わせ精度を向上することができるとともに、生産効率を向上することができさせる効果がある。また、両チャンバ部材の移動に伴って装置に作用する力を相殺することが可能になり、貼合せ基板製造装置の信頼性を向上させることができる。さらに、一方のチャンバ部材のみを移動させる場合と比較して、貼合せ処理室の開閉時間を短縮することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can prevent that the relative positional relationship of an upper board | substrate and a lower board | substrate shift | deviates between after aligning an upper board | substrate and a lower board | substrate, and bonding. Therefore, there is an effect of improving the alignment accuracy of the two substrates and improving the yield. Further, the upper chamber member and the lower chamber member can be moved up and down at high speed simultaneously. Further, the upper pressurizing member can be moved minutely (vertically moved) when the substrates are bonded. That is, it is possible to improve the alignment accuracy of the two substrates and to improve the production efficiency. Moreover, it becomes possible to cancel the force which acts on an apparatus with the movement of both chamber members, and it can improve the reliability of a bonded substrate manufacturing apparatus. Furthermore, compared with the case where only one chamber member is moved, the opening / closing time of the bonding processing chamber can be shortened.

Claims (8)

上基板と下基板とを位置合わせし、貼り合わせて貼合せ基板を製造する貼合せ基板製造装置であって:
前記下基板を支持するベース部と;
前記ベース部から立設された第一支持棒と;
前記第一支持棒に沿って上下移動可能であり、前記上基板を保持可能である上加圧部材と;
前記上加圧部材から独立して上下移動可能である上部チャンバ部材および下部チャンバ部材を含む貼合せ処理室と;を備え、
前記上加圧部材が移動することで、前記貼合せ処理室の内部で前記上基板と前記下基板とを貼り合わせ可能であり、
前記上部チャンバ部材および前記下部チャンバ部材が、互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能であることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
A bonded substrate manufacturing apparatus for aligning and bonding an upper substrate and a lower substrate to produce a bonded substrate:
A base portion supporting the lower substrate;
A first support rod erected from the base portion;
An upper pressurizing member that is movable up and down along the first support rod and capable of holding the upper substrate;
A laminating process chamber including an upper chamber member and a lower chamber member that are movable up and down independently of the upper pressure member;
By moving the upper pressing member, it is possible to bond the upper substrate and the lower substrate inside the bonding processing chamber,
The bonded substrate manufacturing apparatus, wherein the upper chamber member and the lower chamber member are simultaneously movable in a contact direction or a separation direction.
請求項1に記載の貼合せ基板製造装置であって、
相互に異なる向きの第一ねじ部および第二ねじ部を含む駆動軸をさらに備え、
前記上部チャンバ部材および前記下部チャンバ部材は、それぞれ第一ねじ部および第二ねじ部に螺合され、
前記駆動軸を回転させることにより、前記上部チャンバ部材および前記下部チャンバ部材が、互いに当接する方向または離間する方向に同時に移動可能であることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
It is a bonded substrate manufacturing apparatus of Claim 1, Comprising:
A drive shaft including a first screw portion and a second screw portion of different orientations;
The upper chamber member and the lower chamber member are respectively screwed into the first screw portion and the second screw portion,
By rotating the drive shaft, the upper chamber member and the lower chamber member can be simultaneously moved in a direction in which they abut or separate from each other.
請求項1または2に記載の貼合せ基板製造装置であって、
前記上部チャンバ部材が、前記上基板を吸着させるための吸着ピンを含むことを特徴とする貼合せ基板製造装置。
The bonded substrate manufacturing apparatus according to claim 1 or 2,
The bonded substrate manufacturing apparatus, wherein the upper chamber member includes a suction pin for sucking the upper substrate.
請求項1〜3のいずれかに記載の貼合せ基板製造装置であって、
前記ベース部が:
(a)前記下基板を載置する載置テーブルと;
(b)前記載置テーブルを移動させる移動機構と;
を含む基板アライメント機構を有することを特徴とする貼合せ基板製造装置。
It is the bonded substrate manufacturing apparatus in any one of Claims 1-3,
The base is:
(A) a mounting table for mounting the lower substrate;
(B) a moving mechanism for moving the mounting table;
An apparatus for manufacturing a bonded substrate, comprising: a substrate alignment mechanism including:
請求項1〜3のいずれかに記載の貼合せ基板製造装置であって、
前記ベース部が:
(a)前記下基板の第一部を吸着し、前記下基板を移動させる下基板吸着装置と;
(b)前記下基板吸着装置による前記下基板の移動時に前記下基板の第二部を浮上させ、前記上基板と前記下基板との貼合せ時に前記下基板の第二部を吸着する、下基板浮上吸着装置と;
を含む基板アライメント機構を有することを特徴とする貼合せ基板製造装置。
It is the bonded substrate manufacturing apparatus in any one of Claims 1-3,
The base is:
(A) a lower substrate suction device that sucks the first portion of the lower substrate and moves the lower substrate;
(B) The second part of the lower substrate is levitated when the lower substrate is moved by the lower substrate adsorption device, and the second part of the lower substrate is adsorbed when the upper substrate and the lower substrate are bonded together. A substrate floating adsorption device;
An apparatus for manufacturing a bonded substrate, comprising: a substrate alignment mechanism including:
請求項4または5に記載の貼合せ基板製造装置であって、
前記基板アライメント機構が、前記貼合せ処理室内に配置されていることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
It is a bonded substrate manufacturing apparatus of Claim 4 or 5,
The bonded substrate manufacturing apparatus, wherein the substrate alignment mechanism is arranged in the bonded processing chamber.
貼合せ基板製造方法であって:
ベース部により下基板を支持する工程と;
前記ベース部から立設された第一支持棒に沿って上下移動可能な上加圧部材により上基板を保持する工程と;
前記上加圧部材から独立して上下移動可能な上部チャンバ部材および下部チャンバ部材を、互いに当接する方向に同時に移動させて、前記上基板および前記下基板が収容された貼合せ処理室を形成する処理室形成工程と;
前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを第一所定距離で離間して保持する第一上基板移動工程と;
前記貼合せ処理室内を減圧する減圧工程と;
前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを第二所定距離で離間して保持する第二上基板移動工程と;
前記下基板を載置する載置テーブルを前記ベース部に設けられた移動機構により移動させることで前記下基板を移動させて、前記下基板と前記上基板との位置合わせを行う基板位置合わせ工程と;
前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを貼り合わせる基板貼合せ工程と;を備えていることを特徴とする貼合せ基板製造方法。
A method for producing a bonded substrate comprising:
Supporting the lower substrate by the base portion;
A step of holding the upper substrate by an upper pressurizing member that can move up and down along a first support rod provided upright from the base portion;
An upper chamber member and a lower chamber member that can be moved up and down independently from the upper pressurizing member are simultaneously moved in the abutting direction to form a bonding processing chamber in which the upper substrate and the lower substrate are accommodated. A processing chamber forming step;
A first upper substrate moving step of lowering the upper pressure member and holding the lower substrate and the upper substrate spaced apart by a first predetermined distance;
A depressurization step of depressurizing the inside of the bonding treatment chamber;
A second upper substrate moving step of lowering the upper pressure member and holding the lower substrate and the upper substrate spaced apart by a second predetermined distance;
A substrate alignment step of aligning the lower substrate with the upper substrate by moving the lower substrate by moving a mounting table for mounting the lower substrate by a moving mechanism provided in the base portion. When;
And a substrate laminating step of laminating the upper pressurizing member to bond the lower substrate and the upper substrate together.
貼合せ基板製造方法であって:
ベース部により下基板を支持する工程と;
前記ベース部から立設された第一支持棒に沿って上下移動可能な上加圧部材により上基板を保持する工程と;
前記上加圧部材から独立して上下移動可能な上部チャンバ部材および下部チャンバ部材を、互いに当接する方向に同時に移動させて、前記上基板および前記下基板が収容された貼合せ処理室を形成する処理室形成工程と;
前記ベース部に設置された下基板吸着装置により前記下基板の第一部を吸着し、前記下基板を前記ベース部から離間させ、前記ベース部に設置された下基板浮上吸着装置により前記下基板の第二部を浮上させる第一下基板移動工程と;
前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを第一所定距離で離間して保持する第一上基板移動工程と;
前記下基板吸着装置により前記下基板を移動させて、前記下基板と前記上基板との位置合わせを行う基板位置合わせ工程と;
前記上加圧部材を上昇させて、前記下基板と前記上基板とを第二所定距離で離間して保持する第二上基板移動工程と;
前記下基板吸着装置により前記下基板の一部を吸着し、前記下基板を前記ベース部に当接させ、前記下基板浮上吸着装置により前記下基板の第二部を吸着する第二下基板移動工程と;
前記貼合せ処理室内を減圧する減圧工程と;
前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを貼り合わせる基板貼合せ工程と;を備えていることを特徴とする貼合せ基板製造方法。
A method for producing a bonded substrate comprising:
Supporting the lower substrate by the base portion;
A step of holding the upper substrate by an upper pressurizing member that can move up and down along a first support rod provided upright from the base portion;
An upper chamber member and a lower chamber member that can be moved up and down independently from the upper pressurizing member are simultaneously moved in the abutting direction to form a bonding processing chamber in which the upper substrate and the lower substrate are accommodated. A processing chamber forming step;
A lower substrate adsorption device installed in the base unit adsorbs a first part of the lower substrate, separates the lower substrate from the base unit, and a lower substrate floating adsorption device installed in the base unit A first lower substrate moving step of levitating the second part of the substrate;
A first upper substrate moving step of lowering the upper pressure member and holding the lower substrate and the upper substrate spaced apart by a first predetermined distance;
A substrate alignment step of aligning the lower substrate and the upper substrate by moving the lower substrate by the lower substrate suction device;
A second upper substrate moving step of raising the upper pressure member and holding the lower substrate and the upper substrate spaced apart by a second predetermined distance;
Second lower substrate movement for sucking a part of the lower substrate by the lower substrate suction device, bringing the lower substrate into contact with the base portion, and sucking the second portion of the lower substrate by the lower substrate floating suction device Process and;
A depressurization step of depressurizing the inside of the bonding treatment chamber;
And a substrate laminating step of laminating the upper pressurizing member to bond the lower substrate and the upper substrate together.
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