JP4839407B2 - Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method - Google Patents

Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP4839407B2
JP4839407B2 JP2009540055A JP2009540055A JP4839407B2 JP 4839407 B2 JP4839407 B2 JP 4839407B2 JP 2009540055 A JP2009540055 A JP 2009540055A JP 2009540055 A JP2009540055 A JP 2009540055A JP 4839407 B2 JP4839407 B2 JP 4839407B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
lower substrate
bonded
base portion
pressure member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009540055A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2009060855A1 (en
Inventor
誠一 佐藤
充 矢作
展史 南
和博 武者
純平 湯山
真朗 村田
貴裕 宮田
久三 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP2009540055A priority Critical patent/JP4839407B2/en
Publication of JPWO2009060855A1 publication Critical patent/JPWO2009060855A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4839407B2 publication Critical patent/JP4839407B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/10Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the pressing technique, e.g. using action of vacuum or fluid pressure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063Transporting devices for sheet glass
    • B65G49/064Transporting devices for sheet glass in a horizontal position
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/02Controlled or contamination-free environments or clean space conditions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/04Arrangements of vacuum systems or suction cups
    • B65G2249/045Details of suction cups suction cups

Description

この発明は、貼合せ基板製造装置および貼合せ基板製造方法に関する。
本願は、2007年11月8日に日本出願された特願2007−290912号に基づき優先権を主張し、その内容を取り込むものとする。
The present invention relates to a bonded substrate manufacturing apparatus and a bonded substrate manufacturing method.
This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2007-290912 filed in Japan on November 8, 2007, and incorporates the contents thereof.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ(FPD)は、2枚の基板を貼り合せた構造を有している。例えば、液晶ディスプレイは、複数のTFT(薄膜トランジスタ)がマトリクス状に形成されたアレイ基板(TFT基板)と、カラーフィルタや遮光膜などが形成されたカラーフィルタ基板(CF基板)とが数μm程度の間隔で対向して配置され、両基板間に液晶が封入されるとともに、両基板が光硬化性樹脂を含むシール部材(接着剤)で互いに貼り合わされて製造される。なお、この2枚の基板の貼り合わせは、不純ガスの混入などを防止するために真空環境下で行う。   A flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display or a plasma display has a structure in which two substrates are bonded together. For example, in a liquid crystal display, an array substrate (TFT substrate) in which a plurality of TFTs (thin film transistors) are formed in a matrix and a color filter substrate (CF substrate) in which a color filter, a light-shielding film, and the like are formed are about several μm. The liquid crystal is sealed between the two substrates, and the two substrates are manufactured by being bonded to each other with a seal member (adhesive) containing a photocurable resin. Note that the two substrates are bonded together in a vacuum environment in order to prevent mixing of impure gas.

このような2枚の基板を貼り合わせる装置として、例えば特許文献1の基板貼合せ装置が知られている。特許文献1の基板貼合せ装置は、上側容器と下側容器とで構成される真空チャンバと、上基板を移動させるための上基板搬送治具と、上側容器を上下移動させるための第一の支持棒と、その支持棒が支持されているベース板と、上基板搬送治具を上下移動させるための第二の支持棒と、を備えている。   As an apparatus for bonding such two substrates, for example, a substrate bonding apparatus of Patent Document 1 is known. The substrate laminating apparatus of Patent Document 1 includes a vacuum chamber composed of an upper container and a lower container, an upper substrate conveying jig for moving the upper substrate, and a first for moving the upper container up and down. A support bar, a base plate on which the support bar is supported, and a second support bar for moving the upper substrate transport jig up and down are provided.

上記の基板張合せ装置では、第一の支持棒を下方向へ移動させて、上側容器と下側容器とが当接して真空チャンバを構成するとともに、第二の支持棒を下方向へ移動させて、上基板とした基板とが所定間隔で対向配置されるように上基板搬送治具を下降する。その後、上基板と下基板との位置合わせをして、貼り合わせる。
特開2007−212572号公報
In the above-described substrate bonding apparatus, the first support bar is moved downward, the upper container and the lower container are in contact with each other to form a vacuum chamber, and the second support bar is moved downward. Then, the upper substrate transport jig is lowered so that the substrate as the upper substrate is disposed to face the substrate at a predetermined interval. Thereafter, the upper substrate and the lower substrate are aligned and bonded together.
JP 2007-212572 A

上記の特許文献1の貼合せ基板製造装置は、処理室内を真空引きした後に、上基板と下基板との位置合わせをし、これら2枚の基板を貼り合わせる。しかしながら、上基板と下基板との位置合わせをした後に、ベース板に備え付けられている第二の支持棒を移動させることにより上基板搬送治具を移動させると、上基板と下基板との位置が相対的にずれる虞がある。これは、ベース板から下基板までの間に複数の部材が介在するため、下基板が配置されている下側容器と第二の支持棒が備え付けられているベース板とが異なる動きをするためである。このように、上基板と下基板との相対的位置がずれることで、歩留まりが低下するという問題があった。   The above-mentioned bonded substrate manufacturing apparatus of Patent Document 1 evacuates the processing chamber, aligns the upper substrate and the lower substrate, and bonds these two substrates. However, if the upper substrate transport jig is moved by moving the second support rod provided on the base plate after the upper substrate and the lower substrate are aligned, the position of the upper substrate and the lower substrate May be shifted relatively. This is because a plurality of members are interposed between the base plate and the lower substrate, so that the lower container on which the lower substrate is disposed and the base plate on which the second support bar is provided move differently. It is. As described above, there is a problem in that the yield decreases due to the relative positions of the upper substrate and the lower substrate being shifted.

本発明は、上述の事情に鑑みてなされたものであり、2枚の基板の位置合わせ精度を向上させて、歩留まりを向上させる貼合せことが可能な基板製造装置および貼合せ基板製造方法の提供を課題とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and provides a substrate manufacturing apparatus and a bonded substrate manufacturing method that can improve the alignment accuracy of two substrates and improve the yield. Is an issue.

本発明に係る貼合わせ基板製造装置は、上基板と下基板とを位置合わせしつつ貼り合わせて貼合せ基板を製造する貼合せ基板製造装置であって:前記下基板を載置するベース部と;前記ベース部に立設された支持棒と;前記支持棒に沿って上下移動可能であり、かつ、前記上基板を保持可能な上加圧部材と;を備え、前記ベース部は、下基板吸着装置と下基板浮上吸着装置とを含み、前記下基板吸着装置は、前記下基板の一部を吸着しつつ、該下基板を移動させる機能を有し、前記下基板浮上吸着装置は、前記下基板吸着装置による前記下基板の移動時に、該下基板を浮上させ、前記上基板と該下基板との貼合せ時に、該下基板の該下基板吸着装置に吸着されていない部分を吸着する機能を有し、前記上加圧部材を下降させることにより、前記上加圧部材に保持された前記上基板と前記ベース部に載置された前記下基板とが貼り合わせられることを特徴とする。 Laminating a substrate manufacturing apparatus according to the present invention, by laminating while aligning the upper substrate and a lower substrate, a bonded substrate manufacturing apparatus lamination manufacturing a bonded substrate: base portion for placing the lower substrate When, the base portion and the support rod erected on; a vertically movable along said support rod, and an upper that can hold the pressure member to the substrate; wherein the base portion, the lower Including a substrate adsorption device and a lower substrate floating adsorption device, wherein the lower substrate adsorption device has a function of moving the lower substrate while adsorbing a part of the lower substrate, The lower substrate is levitated when the lower substrate is moved by the lower substrate adsorption device, and a portion of the lower substrate that is not adsorbed by the lower substrate adsorption device is adsorbed when the upper substrate and the lower substrate are bonded. has a function of, by lowering the on pressure member, The substrate is held in serial on the pressure member and said lower substrate placed on the base unit, characterized in that is bonded.

上記貼合わせ基板製造装置によれば、上基板が保持された上加圧部材が、下基板が載置されたベース部に立設されている支持棒に案内されて上下移動するため、上基板と下基板との間に介在する部材の数を最小限に抑えることができる。これにより、上基板と下基板との位置合わせをしてから貼り合わせるまでの間に上基板と下基板との相対的な位置がずれることを防止できる。その結果、したがって、2枚の基板の位置合わせ精度を向上させて、歩留まりを向上させる効果がある。
また、上記貼合わせ基板製造装置によれば、上基板と下基板とを貼り合わせる際には、下基板浮上吸着装置により下基板をベース部に吸着させることができる。したがって、下基板の位置ずれを防止できる。その結果、上基板と下基板とを精度良く貼り合わせることができる。また、下基板を載置するためのテーブルを別途必要としないため、ベース部と下基板との間に介在する部材の数を少なくできる。さらに、下基板をベース部に吸着させると、下基板吸着装置および下基板浮上吸着装置は貼合せ処理室には露出されないため、各装置から発生するパーティクルなどが貼合せ処理室内に流入することを防止できる。したがって、貼合せ処理室内のクリーン度を確保できる。
According to the bonded substrate manufacturing apparatus, the upper pressure member holding the upper substrate moves up and down guided by the support bar standing on the base portion on which the lower substrate is placed. The number of members interposed between the upper substrate and the lower substrate can be minimized. Thereby, it can prevent that the relative position of an upper board | substrate and a lower board | substrate slip | deviates between after aligning an upper board | substrate and a lower board | substrate, and bonding. As a result, there is an effect of improving the yield by improving the alignment accuracy of the two substrates.
Moreover, according to the said bonded substrate manufacturing apparatus, when bonding an upper board | substrate and a lower board | substrate, a lower board | substrate can be made to adsorb | suck to a base part with a lower board | substrate floating adsorption apparatus. Therefore, the position shift of the lower substrate can be prevented. As a result, the upper substrate and the lower substrate can be bonded with high accuracy. In addition, since a table for placing the lower substrate is not required separately, the number of members interposed between the base portion and the lower substrate can be reduced. Furthermore, if the lower substrate is adsorbed to the base part, the lower substrate adsorbing device and the lower substrate floating adsorbing device are not exposed to the bonding processing chamber, so that particles generated from each device flow into the bonding processing chamber. Can be prevented. Therefore, the cleanliness in the bonding treatment chamber can be ensured.

前記上加圧部材及び前記ベース部の少なくともいずれか一方には、前記上基板または前記下基板の配置される領域を囲繞するようにシール部材が設けられ;前記上加圧部材を下降させることにより、前記シール部材と前記上加圧部材と前記ベース部との間に貼合せ処理室が形成されていてもよい。   At least one of the upper pressure member and the base portion is provided with a seal member so as to surround a region where the upper substrate or the lower substrate is disposed; by lowering the upper pressure member A bonding treatment chamber may be formed between the seal member, the upper pressure member, and the base portion.

この場合、貼合せ処理室を上加圧部材、ベース部およびシール部材で構成できるため、部品点数を少なくできる。その結果、装置の小型・軽量化することができる。   In this case, since the bonding processing chamber can be constituted by the upper pressurizing member, the base portion, and the seal member, the number of parts can be reduced. As a result, the apparatus can be reduced in size and weight.

前記貼合せ処理室の内部を減圧する減圧手段をさらに備え;前記減圧手段によって前記
貼合せ処理室が減圧された時に、前記貼合せ処理室は前記シール部材によって密閉されて
いてもよい。
Further comprising a decompression means for decompressing the inside of the lamination process chamber; when the lamination process chamber is depressurized by the pressure reducing means, the lamination process chamber may be sealed by the sealing member.

この場合、上加圧部材とベース部との間にシール部材が介装されているため、貼合せ処理室を減圧する際に、この貼合せ処理室を確実に密閉させることができる。したがって、貼合せ処理室を確実に減圧させることができ、所望の貼合せ基板を製造できる。   In this case, since the sealing member is interposed between the upper pressurizing member and the base portion, the bonding processing chamber can be reliably sealed when the bonding processing chamber is decompressed. Therefore, the pressure in the bonding process chamber can be reliably reduced, and a desired bonded substrate can be manufactured.

この場合、上基板と下基板とを貼り合わせる際には、下基板浮上吸着装置により下基板をベース部に吸着させることができる。したがって、下基板の位置ずれを防止できる。その結果、上基板と下基板とを精度良く貼り合わせることができる。また、下基板を載置するためのテーブルを別途必要としないため、ベース部と下基板との間に介在する部材の数を少なくできる。さらに、下基板をベース部に吸着させると、下基板吸着装置および下基板浮上吸着装置は貼合せ処理室には露出されないため、各装置から発生するパーティクルなどが貼合せ処理室内に流入することを防止できる。したがって、貼合せ処理室内のクリーン度を確保できる。   In this case, when the upper substrate and the lower substrate are bonded together, the lower substrate can be adsorbed to the base portion by the lower substrate floating adsorption device. Therefore, the position shift of the lower substrate can be prevented. As a result, the upper substrate and the lower substrate can be bonded with high accuracy. In addition, since a table for placing the lower substrate is not required separately, the number of members interposed between the base portion and the lower substrate can be reduced. Furthermore, if the lower substrate is adsorbed to the base part, the lower substrate adsorbing device and the lower substrate floating adsorbing device are not exposed to the bonding processing chamber, so that particles generated from each device flow into the bonding processing chamber. Can be prevented. Therefore, the cleanliness in the bonding treatment chamber can be ensured.

前記シール部材は:前記ベース部及び前記上加圧部材の一方に対して上下移動し、前記貼合せ処理室の壁部を構成する接合部と;前記接合部に設置され、前記ベース部または前記上加圧部材に当接して前記貼合せ処理室の気密性を確保するシールと;を備えていてもよい。   The sealing member is: a joint that moves up and down relative to one of the base part and the upper pressure member, and constitutes a wall part of the laminating process chamber; And a seal that abuts against the upper pressure member and ensures the airtightness of the laminating process chamber.

この場合、接合部がベース部または上加圧部材に対して上下移動して貼合せ処理室の壁部を構成するので、上加圧部材が上昇しても貼合せ処理室を密閉された状態に保つことが可能になる。これにより、下基板と上基板とを離間配置してコンダクタンスを大きくした状態でも貼合せ処理室を減圧することが可能になり、その結果、減圧時間を短縮できる。   In this case, since the joining portion moves up and down with respect to the base portion or the upper pressure member to form the wall portion of the bonding processing chamber, the bonding processing chamber is sealed even when the upper pressure member rises. It becomes possible to keep on. This makes it possible to depressurize the laminating process chamber even when the conductance is increased by separating the lower substrate and the upper substrate, and as a result, the depressurization time can be shortened.

また、本発明に係る貼合わせ基板製造方法は、ベース部に下基板を載置し、前記ベース部に立設された支持棒に沿って上下移動可能な上加圧部材により上基板を保持し、前記下基板と前記上基板とを位置合わせしつつ貼り合わせて、貼合せ基板を製造する貼合せ基板製造方法であって:前記ベース部に設置された下基板吸着装置により前記下基板の一部を吸着しつつ、該下基板を前記ベース部から離間させるとともに、前記ベース部に設置された下基板浮上吸着装置により前記下基板を浮上させる第一下基板移動工程と;前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを所定間隔に対向配置する上基板移動工程と;前記下基板吸着装置により前記下基板を移動させて、前記下基板と前記上基板との位置合わせを行う基板位置合わせ工程と;前記上加圧部材を上昇させて、前記下基板と前記上基板とを所定距離だけ離間配置する上加圧部材上昇工程と;前記上加圧部材と前記ベース部との間をシール部材により密閉して、前記上基板及び前記下基板が収容された貼合せ処理室を形成する処理室形成工程と;前記下基板吸着装置により前記下基板の一部を吸着しつつ、該下基板を前記ベース部に当接させるとともに、前記下基板浮上吸着装置により、該下基板の下基板吸着装置に吸着されていない部分を吸着させる第二下基板移動工程と;前記貼合せ処理室内を減圧する減圧工程と;前記貼合せ処理室内が密閉された状態で前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを貼り合わせる基板貼合せ工程と;を備えていることを特徴とする。 In the bonded substrate manufacturing method according to the present invention, a lower substrate is placed on a base portion, and the upper substrate is held by an upper pressure member that can move up and down along a support bar erected on the base portion. , bonded while aligning the said substrate and the lower substrate, adhered to a bonded substrate manufacturing method for manufacturing the bonded substrate: a lower substrate adsorption device installed on the base portion, of the lower substrate while adsorbing part, together to separate the lower substrate from said base portion, a first lower substrate moving step of floating the lower substrate by the lower substrate floating suction device installed in the base unit; wherein the pressure An upper substrate moving step in which a member is lowered and the lower substrate and the upper substrate are arranged to face each other at a predetermined interval; and the lower substrate is moved by the lower substrate suction device, and the lower substrate and the upper substrate are moved. Substrate alignment for alignment A step of raising the upper pressure member, and a step of raising the upper pressure member in which the lower substrate and the upper substrate are spaced apart from each other by a predetermined distance; sealing between the upper pressure member and the base portion was sealed by member, the processing chamber forming process and forming a lamination process chamber in which the substrate and the lower substrate is accommodated; by the lower substrate adsorption device while adsorbing a portion of the lower substrate, the under It is brought into contact with the substrate to the base portion by the lower substrate floating suction device, and a second lower substrate moving step of adsorbing a portion that is not absorbed on the lower substrate adsorption device of the lower substrate; the laminating process chamber A depressurizing step of depressurizing; and a substrate laminating step of lowering the upper pressurizing member in a state in which the laminating processing chamber is sealed and laminating the lower substrate and the upper substrate. It is characterized by.

上記貼合わせ基板製造方法によれば、上基板が保持された上加圧部材が、下基板が載置されたベース部に立設されている支持棒に案内されて上下移動するため、上基板と下基板との間に介在する部材の数を最小限に抑えることができる。これにより、上基板と下基板との位置合わせをしてから貼り合わせるまでの間に上基板と下基板の位置関係がずれることを防止できる。したがって、2枚の基板の位置合わせ精度を向上させて、歩留まりを向上させることができる。
また、上加圧部材を上昇させて下基板と上基板とを所定距離だけ離間配置した後に貼合せ処理室を減圧するので、コンダクタンスが大きい状態で減圧可能になる。これにより、減圧時間を短縮できる。
さらに、上基板と下基板とを貼り合わせる際には、下基板浮上吸着装置により下基板をベース部に吸着させることができる。したがって、下基板の位置ずれを防止でき、上基板と下基板とを精度良く貼り合わせることができる。また、下基板を載置するためのテーブルを別途必要としないため、ベース部と下基板との間に介在する部材の数を少なくできる。さらに、下基板をベース部に吸着させると、下基板吸着装置および下基板浮上吸着装置は貼合せ処理室には露出されないため、各装置から発生するパーティクルなどが貼合せ処理室内に流入することを防止できる。したがって、貼合せ処理室内のクリーン度を確保した状態で、上基板と下基板とを貼り合わせることができる。
According to the bonded substrate manufacturing method, the upper pressing member holding the upper substrate moves up and down guided by the support rod standing on the base portion on which the lower substrate is placed. The number of members interposed between the upper substrate and the lower substrate can be minimized. Accordingly, it is possible to prevent the positional relationship between the upper substrate and the lower substrate from being shifted between the time when the upper substrate and the lower substrate are aligned and the time when they are bonded. Therefore, the alignment accuracy of the two substrates can be improved and the yield can be improved.
In addition, since the upper pressurizing member is raised and the lower substrate and the upper substrate are spaced apart from each other by a predetermined distance, the laminating process chamber is depressurized. Thereby, the decompression time can be shortened.
Furthermore, when the upper substrate and the lower substrate are bonded together, the lower substrate can be adsorbed to the base portion by the lower substrate floating adsorption device. Therefore, the position shift of the lower substrate can be prevented, and the upper substrate and the lower substrate can be bonded together with high accuracy. In addition, since a table for placing the lower substrate is not required separately, the number of members interposed between the base portion and the lower substrate can be reduced. Furthermore, if the lower substrate is adsorbed to the base part, the lower substrate adsorbing device and the lower substrate floating adsorbing device are not exposed to the bonding processing chamber, so that particles generated from each device flow into the bonding processing chamber. Can be prevented. Therefore, the upper substrate and the lower substrate can be bonded together in a state where the cleanliness in the bonding processing chamber is ensured.

上基板が保持された上加圧部材が、下基板が載置されたベース部に立設されている支持棒に案内されて上下移動するため、上基板と下基板との間に介在する部材の数を最小限に抑えられている。
これにより、上基板と下基板との位置合わせをしてから貼り合わせるまでの間に上基板と下基板の位置関係がずれることを防止できる。したがって、2枚の基板の位置合わせ精度を向上させて、歩留まりを向上させることができる効果がある。
A member interposed between the upper substrate and the lower substrate because the upper pressurizing member holding the upper substrate moves up and down while being guided by the support rod standing on the base portion on which the lower substrate is placed. The number of is kept to a minimum.
Accordingly, it is possible to prevent the positional relationship between the upper substrate and the lower substrate from being shifted between the time when the upper substrate and the lower substrate are aligned and the time when they are bonded. Therefore, there is an effect that the alignment accuracy of the two substrates can be improved and the yield can be improved.

図1は、本発明の第一実施形態に係る貼合せ基板製造装置の正面概略図である。FIG. 1 is a schematic front view of a bonded substrate manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention. 図2は、図1のA−A線に沿う断面図である。2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 図3は、図1のB部拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of a portion B in FIG. 図4は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(1)である。FIG. 4 is explanatory drawing (1) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図5は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(2)である。Drawing 5 is an explanatory view (2) showing the process of manufacturing a bonded substrate using the bonded substrate manufacturing device concerning the embodiment. 図6は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(3)である。FIG. 6: is explanatory drawing (3) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図7は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(4)である。FIG. 7: is explanatory drawing (4) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図8は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(5)である。FIG. 8: is explanatory drawing (5) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図9は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(6)である。FIG. 9: is explanatory drawing (6) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図10は、同実施形態に係る貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図(7)である。FIG. 10: is explanatory drawing (7) which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using the bonded substrate manufacturing apparatus concerning the embodiment. 図11は、同実施形態に係る貼合せ基板を製造する過程を示すフローチャートである。FIG. 11 is a flowchart showing a process of manufacturing the bonded substrate according to the embodiment. 図12は、同実施形態に係るシール部材の別の態様を示す構成図である。FIG. 12 is a configuration diagram showing another aspect of the seal member according to the embodiment. 図13は、本発明の第二実施形態に係るシール部材の構成図である。FIG. 13 is a configuration diagram of a seal member according to the second embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 貼合せ基板製造装置
11 ベース部
13 支持棒
15 上加圧部材
17 チャンバ(貼合せ処理室)
25 駆動台(下基板吸着装置)
35 エアーパッド(下基板浮上吸着装置)
49 真空ポンプ(減圧手段)
52 シール
55 シール部材
56 チューブ(拡縮部材)
57 接合部
W1 下基板
W2 上基板
W3 貼合せ基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Bonded board manufacturing apparatus 11 Base part 13 Support bar 15 Upper pressurizing member 17 Chamber (bonding processing room)
25 Drive stand (lower substrate suction device)
35 Air pad (lower substrate floating adsorption device)
49 Vacuum pump (pressure reduction means)
52 seal 55 seal member 56 tube (expansion / contraction member)
57 Junction W1 Lower substrate W2 Upper substrate W3 Bonded substrate

(第一実施形態)(貼合せ基板製造装置)
本発明の第一実施形態に係る貼合せ基板製造装置について、図1〜図12に基づいて説明する。
図1は貼合せ基板製造装置の正面概略図であり、図2は図1のA−A線に沿う断面図である。図1,図2に示すように、貼合せ基板製造装置10は、下基板W1を載置するベース部11と、ベース部11から立設された支持棒13と、支持棒13に支持され、支持棒13に沿って上下移動可能に構成されるとともに、上基板W2を保持可能に構成された上加圧部材15と、を備えている。
(First embodiment) (Laminated substrate manufacturing apparatus)
The bonded substrate manufacturing apparatus which concerns on 1st embodiment of this invention is demonstrated based on FIGS.
FIG. 1 is a schematic front view of a bonded substrate manufacturing apparatus, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the bonded substrate manufacturing apparatus 10 is supported by a base portion 11 on which the lower substrate W1 is placed, a support bar 13 erected from the base portion 11, and the support bar 13. And an upper pressurizing member 15 configured to be movable up and down along the support bar 13 and configured to hold the upper substrate W2.

ベース部11は、剛性を有し、略直方体形状に形成されている。ベース部11は、その下面21の四隅に脚22が設けられて、床面に載置されている。一方、ベース部11の上面23は平面視で長方形に形成され、下基板W1を載置できる。上面23の平面視略中央部には下基板W1を上下方向、直交2軸水平方向および水平回転方向(以下、水平面内方向という)に移動させることができる駆動台25が設けられている。   The base part 11 has rigidity and is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape. The base part 11 is provided with legs 22 at the four corners of the lower surface 21 and is placed on the floor surface. On the other hand, the upper surface 23 of the base portion 11 is formed in a rectangular shape in plan view, and the lower substrate W1 can be placed thereon. A driving base 25 capable of moving the lower substrate W1 in the vertical direction, the orthogonal two-axis horizontal direction, and the horizontal rotation direction (hereinafter referred to as a horizontal plane direction) is provided at a substantially central portion of the upper surface 23 in plan view.

駆動台25は、ベース部11の上面23に形成された凹部24内に配置されている。駆動台25は、平面視略円形で形成されており、駆動台25の内部は空洞28が形成されている。空洞28の天井面には空気孔27が複数形成されており、また空洞28はその下方に設けられた排気管29と接続されている。排気管29はベース部11を貫通して下面21から延出され、図示しない排気ポンプと接続されている。つまり、下基板W1が駆動台25上に載置された状態で排気ポンプを可動すると空気孔27を介して下基板W1を駆動台25に吸着させることができる。なお、排気管29の途中にはバルブ30が設けられており、排気量の調整をできる。また、駆動台25の表面26は、通常時(非駆動時)にベース部11の上面23と面一になるように配置されている。   The drive base 25 is disposed in a recess 24 formed on the upper surface 23 of the base portion 11. The drive base 25 is formed in a substantially circular shape in plan view, and a cavity 28 is formed inside the drive base 25. A plurality of air holes 27 are formed in the ceiling surface of the cavity 28, and the cavity 28 is connected to an exhaust pipe 29 provided below the air hole 27. The exhaust pipe 29 penetrates the base portion 11 and extends from the lower surface 21 and is connected to an exhaust pump (not shown). That is, when the exhaust pump is moved while the lower substrate W1 is placed on the drive base 25, the lower substrate W1 can be adsorbed to the drive base 25 through the air holes 27. A valve 30 is provided in the middle of the exhaust pipe 29 so that the exhaust amount can be adjusted. Further, the surface 26 of the drive base 25 is disposed so as to be flush with the upper surface 23 of the base portion 11 in a normal state (when not driven).

また、駆動台25の下方には、駆動台25を水平面内方向に移動させるための第1移動装置31が設けられている。第1移動装置31の下方には、駆動台25を上下方向に移動させるための第2移動装置32が設けられている。第1移動装置31および第2移動装置32の駆動方法は特に限定されない。本実施形態では第1移動装置31はアクチュエータ機構を用いて水平面内方向に移動させるように構成して、第2移動装置32はくさび形状の部材を移動させることで駆動台25を上下方向に移動させるように構成している。   A first moving device 31 for moving the drive base 25 in the horizontal plane is provided below the drive base 25. Below the first moving device 31, a second moving device 32 for moving the drive base 25 in the vertical direction is provided. The driving method of the first moving device 31 and the second moving device 32 is not particularly limited. In the present embodiment, the first moving device 31 is configured to move in the horizontal plane direction using an actuator mechanism, and the second moving device 32 moves the drive base 25 in the vertical direction by moving a wedge-shaped member. It is configured to make it.

次に、ベース部11の上面23における、下基板W1の平面サイズに対応した位置には、エアーパッド35が複数(本実施形態では14個)設けられている。エアーパッド35は、ベース部11の上面23に形成された凹部36内に配置されている。エアーパッド35は、平面視略円形で形成されており、エアーパッド35の内部は空洞39が形成されている。空洞39の天井面には空気孔38が複数形成されており、また空洞39はその下方に設けられた給排気管40と接続されている。給排気管40はベース部11を貫通して下面21から延出され、図示しない給排気ポンプと接続されている。つまり、下基板W1がベース部11上に載置された状態でエアーパッド35に給気すると、空気孔38から空気が下基板W1に向かって噴出し、下基板W1を浮上させることができる。一方、下基板W1がベース部11上に載置された状態でエアーパッド35から排気すると空気孔38を介して下基板W1をベース部11に吸着させることができる。なお、給排気管40の途中にはバルブ41が設けられており、給排気量の調整できる。エアーパッド35の表面37は、ベース部11の上面23と面一になるように配置されている。   Next, a plurality of air pads 35 (14 in the present embodiment) are provided on the upper surface 23 of the base portion 11 at positions corresponding to the planar size of the lower substrate W1. The air pad 35 is disposed in a recess 36 formed on the upper surface 23 of the base portion 11. The air pad 35 is formed in a substantially circular shape in plan view, and a cavity 39 is formed inside the air pad 35. A plurality of air holes 38 are formed in the ceiling surface of the cavity 39, and the cavity 39 is connected to a supply / exhaust pipe 40 provided therebelow. The supply / exhaust pipe 40 extends from the lower surface 21 through the base portion 11 and is connected to an unillustrated supply / exhaust pump. In other words, when the air is supplied to the air pad 35 in a state where the lower substrate W1 is placed on the base portion 11, air is ejected from the air holes 38 toward the lower substrate W1, and the lower substrate W1 can be floated. On the other hand, when the lower substrate W <b> 1 is placed on the base portion 11 and exhausted from the air pad 35, the lower substrate W <b> 1 can be adsorbed to the base portion 11 through the air holes 38. A valve 41 is provided in the middle of the air supply / exhaust pipe 40 so that the air supply / exhaust amount can be adjusted. The surface 37 of the air pad 35 is disposed so as to be flush with the upper surface 23 of the base portion 11.

また、ベース部11の上面23において、駆動台25およびエアーパッド35が配置されていない箇所にはリフトピン45が複数(本実施形態では24個)設けられている。リフトピン45は、通常時にはベース部11の上面23より下方に配置されている。また、図示しない別の装置から貼合せ基板製造装置10に下基板W1を受け渡す際に、リフトピン45が上昇して図示しないロボットアームから下基板W1を受け取ることができる。そして、下基板W1を受け取った後にリフトピン45を下降させることで、下基板W1をベース部11の上面23に載置できる。また、基板の貼合せ処理が完了した後、別の装置に基板を受け渡す際には、リフトピン45を上昇させてベース部11の上面23から貼合せ基板W3を離間させ、その隙間にロボットアームを挿入して貼合せ基板W3を搬送することができる。   In addition, a plurality of lift pins 45 (24 in the present embodiment) are provided on the upper surface 23 of the base portion 11 where the drive base 25 and the air pad 35 are not disposed. The lift pin 45 is normally disposed below the upper surface 23 of the base portion 11. In addition, when the lower substrate W1 is delivered from another device (not shown) to the bonded substrate manufacturing apparatus 10, the lift pins 45 are raised and the lower substrate W1 can be received from a robot arm (not shown). Then, the lower substrate W1 can be placed on the upper surface 23 of the base portion 11 by lowering the lift pins 45 after receiving the lower substrate W1. Further, when the substrate is transferred to another apparatus after the substrate bonding process is completed, the lift pins 45 are raised to separate the bonded substrate W3 from the upper surface 23 of the base portion 11, and the robot arm is placed in the gap. Can be inserted and the bonded substrate W3 can be conveyed.

また、ベース部11の上面23には、排気口47が形成されている。排気口47はベース部11を貫通する排気管48に接続されている。排気管48はベース部11の下面21に取り付けられた真空ポンプ49に接続されている。   An exhaust port 47 is formed on the upper surface 23 of the base portion 11. The exhaust port 47 is connected to an exhaust pipe 48 that penetrates the base portion 11. The exhaust pipe 48 is connected to a vacuum pump 49 attached to the lower surface 21 of the base portion 11.

また、ベース部11の上面23には、上述した駆動台25、エアーパッド35、リフトピン45および排気口47を取り囲むように凹部51が形成されている。凹部51は、平面視において矩形状に形成されている。平面視において、凹部51の内周縁に沿って全周に亘って壁部53が形成されている。壁部53の高さは、下基板W1と上基板W2の厚みの合計よりも小さくなっている。   Further, a recess 51 is formed on the upper surface 23 of the base portion 11 so as to surround the drive base 25, the air pad 35, the lift pin 45, and the exhaust port 47 described above. The recess 51 is formed in a rectangular shape in plan view. In a plan view, a wall 53 is formed along the entire inner periphery of the recess 51. The height of the wall portion 53 is smaller than the total thickness of the lower substrate W1 and the upper substrate W2.

図3は、図1のB部拡大図である。図3に示すように、凹部51にはシール部材55が設けられている。シール部材55は、凹部51の下方に配置された例えばゴム製のチューブ56と、チューブ56の上方に配置された接合部57と、を備えている。チューブ56の空気圧を変動させて拡縮させることで、接合部57が凹部51の側面60に沿って上下移動し上加圧部材15の動きに追従可能である。接合部57の上面58はベース部11の上面23よりも上方に位置している。また、接合部57の上面58には、上加圧部材15との間を密閉するシール52が設けられている。さらに、接合部57の側面59とベース部11の凹部51の側面60との間には、両者間を密閉するシール61が設けられている。これにより、ベース部11、上加圧部材15およびシール部材55でチャンバ17を構成する。また壁部53は、チャンバ17内を真空引きするときに接合部57がチャンバ17側に倒れないように、接合部57を支持する。   FIG. 3 is an enlarged view of a portion B in FIG. As shown in FIG. 3, a seal member 55 is provided in the recess 51. The seal member 55 includes, for example, a rubber tube 56 disposed below the recess 51, and a joint portion 57 disposed above the tube 56. By changing the air pressure of the tube 56 to expand and contract, the joint portion 57 moves up and down along the side surface 60 of the recess 51 and can follow the movement of the upper pressurizing member 15. The upper surface 58 of the joint portion 57 is located above the upper surface 23 of the base portion 11. Further, a seal 52 is provided on the upper surface 58 of the joint portion 57 to seal the space between the upper pressurizing member 15. Further, a seal 61 is provided between the side surface 59 of the joint portion 57 and the side surface 60 of the concave portion 51 of the base portion 11 to seal between the two. As a result, the base portion 11, the upper pressure member 15, and the seal member 55 constitute the chamber 17. The wall portion 53 supports the joint portion 57 so that the joint portion 57 does not fall to the chamber 17 side when the chamber 17 is evacuated.

図2に戻り、凹部51の外側でベース部11の上面23には、支持棒13が立設されている。支持棒13は、ベース部11の四隅に立設されている。また、ベース部11の上面23における短辺方向略中間部の支持棒13間には駆動軸65が立設されている。
駆動軸65は、ベース部11に取り付けられたモータなどからなる駆動源66と、駆動源66からの指示により上下移動する片側2本の軸部67と、を備えている。つまり、ベース部11には4本の支持棒13と4本の駆動軸65とが立設されている。なお、図1は説明の便宜上、右側に支持棒13、左側に駆動軸65を図示している。
Returning to FIG. 2, the support bar 13 is erected on the upper surface 23 of the base portion 11 outside the recess 51. The support bars 13 are erected at the four corners of the base portion 11. In addition, a drive shaft 65 is erected between the support rods 13 in the middle portion in the short side direction on the upper surface 23 of the base portion 11.
The drive shaft 65 includes a drive source 66 composed of a motor or the like attached to the base portion 11, and two shaft portions 67 on one side that move up and down in accordance with instructions from the drive source 66. That is, four support rods 13 and four drive shafts 65 are erected on the base portion 11. 1 shows the support rod 13 on the right side and the drive shaft 65 on the left side for convenience of explanation.

例えば、駆動軸65は、駆動源66からの駆動力により軸部67が回転するように構成されている。軸部67には雄ネジ85が形成されている。この雄ネジ85は、軸部67が回転することで、ベース部11に形成された雌ネジ86に螺合し、これにより軸部67が上昇/下降するように構成されている。   For example, the drive shaft 65 is configured such that the shaft portion 67 is rotated by the drive force from the drive source 66. A male screw 85 is formed on the shaft portion 67. The male screw 85 is configured to be screwed into a female screw 86 formed in the base portion 11 by rotating the shaft portion 67, and thereby the shaft portion 67 is raised / lowered.

支持棒13の上方には、上加圧部材15が設けられている。上加圧部材15は、平面視においてベース部11と略同一の大きさの長方形で形成されている。平面視において、上加圧部材15の四隅には、支持棒13に対応した位置に、支持棒13が挿通可能な貫通孔71が形成されている。貫通孔71の下方には、上加圧部材15が支持棒13に沿って垂直方向に上下するように案内ガイド83が配置されている。また、上加圧部材15の下面の駆動軸65に対応した位置には、ロードセル69が設けられている。ロードセル69の受圧面(下面)と軸部67の先端部68とは、これらが接するよう配置されている。   An upper pressure member 15 is provided above the support bar 13. The upper pressure member 15 is formed in a rectangular shape having the same size as that of the base portion 11 in plan view. In plan view, through holes 71 through which the support bar 13 can be inserted are formed at four corners of the upper pressure member 15 at positions corresponding to the support bar 13. A guide guide 83 is disposed below the through hole 71 so that the upper pressurizing member 15 moves up and down in the vertical direction along the support bar 13. A load cell 69 is provided at a position corresponding to the drive shaft 65 on the lower surface of the upper pressure member 15. The pressure receiving surface (lower surface) of the load cell 69 and the tip end portion 68 of the shaft portion 67 are arranged so as to contact each other.

上加圧部材15の下面の、支持棒13に対応した位置(短辺方向の両側部72)と、それ以外の位置との間には、段差部73が形成されている。また、両側部72がベース部11に対して段差部73よりも遠くに位置するように形成されている。両側部72よりもベース部11に近い位置には、上基板W2を保持する保持面75が形成されている。保持面75の周縁部76は、平面視においてベース部11の凹部51の外側に位置するように形成されている。   A stepped portion 73 is formed between the position corresponding to the support bar 13 (both side portions 72 in the short side direction) on the lower surface of the upper pressing member 15 and other positions. Further, both side portions 72 are formed so as to be located farther than the stepped portion 73 with respect to the base portion 11. A holding surface 75 that holds the upper substrate W <b> 2 is formed at a position closer to the base portion 11 than the both side portions 72. The peripheral edge portion 76 of the holding surface 75 is formed so as to be located outside the concave portion 51 of the base portion 11 in plan view.

また、保持面75における上基板W2が保持される位置には、静電チャック部77が複数設けられている。静電チャック部77の表面は、保持面75と面一になるように配置されている。また、保持面75の、静電チャック部77が配置されていない箇所には保持ピン79が複数設けられている。保持ピン79は、その先端に空気吸入口が設けられて、上基板W2を吸着保持することができる。保持ピン79は、通常時において保持面75より上方に配置されている。図示しない別の装置から貼合せ基板製造装置10に上基板W2を受け渡す際には、保持ピン79が下降して図示しないロボットアームから上基板W2を受け取ることができる。上基板W2を受け取った後に保持ピン79を上昇させると同時に、静電チャック部77を機能させることで、上基板W2を保持面75に保持できる。   A plurality of electrostatic chuck portions 77 are provided at positions where the upper substrate W <b> 2 is held on the holding surface 75. The surface of the electrostatic chuck portion 77 is disposed so as to be flush with the holding surface 75. A plurality of holding pins 79 are provided on the holding surface 75 where the electrostatic chuck portion 77 is not disposed. The holding pin 79 is provided with an air inlet at its tip, and can hold the upper substrate W2 by suction. The holding pin 79 is disposed above the holding surface 75 in a normal state. When the upper substrate W2 is delivered from another apparatus (not shown) to the bonded substrate manufacturing apparatus 10, the holding pins 79 are lowered and the upper substrate W2 can be received from a robot arm (not shown). The upper substrate W2 can be held on the holding surface 75 by raising the holding pins 79 after receiving the upper substrate W2 and simultaneously causing the electrostatic chuck portion 77 to function.

さらに、保持面75における上基板W2が保持される任意の位置(上基板W2の周縁部近傍が好ましい)には、下基板W1との位置合わせを行う際に用いるカメラ80の撮影部81が形成されている。撮影部81には、上加圧部材15を貫通する貫通孔であるカメラ配置部82が形成されている。つまり、カメラ配置部82にカメラ80をセットし、カメラ80で撮影部81を通して、下基板W1と上基板W2のアライメントマークM1,M2を撮影し、アライメントマークM1,M2のズレを検知することができる。
また、カメラ80で撮影した結果をもとに、第1移動装置31に対して水平面内方向の移動量を指示するための図示しない制御部が設けられている。
Furthermore, an imaging portion 81 of the camera 80 used for alignment with the lower substrate W1 is formed at an arbitrary position (preferably near the peripheral edge of the upper substrate W2) on the holding surface 75 where the upper substrate W2 is held. Has been. The imaging unit 81 is formed with a camera placement unit 82 that is a through-hole penetrating the upper pressure member 15. That is, the camera 80 is set in the camera placement unit 82, and the camera 80 is used to photograph the alignment marks M1 and M2 of the lower substrate W1 and the upper substrate W2 through the photographing unit 81, thereby detecting the displacement of the alignment marks M1 and M2. it can.
Further, a control unit (not shown) is provided for instructing the first moving device 31 on the amount of movement in the horizontal plane based on the result of photographing with the camera 80.

(作用)
次に、貼合せ基板製造装置10を用いて、貼合せ基板を製造する手順を図4〜図11を用いて説明する。なお、図4〜図10は貼合せ基板製造装置を用いて貼合せ基板を製造する過程を示す説明図、図11は貼合せ基板を製造する過程を示すフローチャートである。なお、後述の各ステップ番号は図11のステップ番号に対応している。
まず、図4に示すように、貼合せ基板製造装置10の上加圧部材15は、その最上位に位置した状態に保持されている。
(Function)
Next, the procedure for manufacturing a bonded substrate using the bonded substrate manufacturing apparatus 10 will be described with reference to FIGS. 4-10 is explanatory drawing which shows the process in which a bonded substrate is manufactured using a bonded substrate manufacturing apparatus, and FIG. 11 is a flowchart which shows the process in which a bonded substrate is manufactured. Each step number to be described later corresponds to the step number in FIG.
First, as shown in FIG. 4, the upper pressurizing member 15 of the bonded substrate manufacturing apparatus 10 is held in a state of being positioned at the uppermost position.

ステップS1では、この状態で下基板W1をロボットアームにより搬入する。下基板の具体的な搬入方法はステップS2以降に示す。
ステップS2では、図示しないロボットアームで搬送されてきた下基板W1をベース部11の上方に配置する。ここで、リフトピン45を上昇させて下基板W1をロボットアームから浮上させる。
In step S1, the lower substrate W1 is carried in by the robot arm in this state. A specific method for carrying in the lower substrate will be described after step S2.
In step S <b> 2, the lower substrate W <b> 1 transported by a robot arm (not shown) is disposed above the base portion 11. Here, the lift pins 45 are raised to float the lower substrate W1 from the robot arm.

ステップS3では、ロボットアームをチャンバ17内から退避させる。
ステップS4で、リフトピン45を下降させて下基板W1をベース部11の上面23に載置する。
ステップS5で、排気管29から排気することで下基板W1を駆動台25に吸着させる。
In step S <b> 3, the robot arm is retracted from the chamber 17.
In step S <b> 4, the lift pins 45 are lowered to place the lower substrate W <b> 1 on the upper surface 23 of the base portion 11.
In step S <b> 5, the lower substrate W <b> 1 is adsorbed to the drive base 25 by exhausting from the exhaust pipe 29.

ステップS6では、ベース部11に設けられた第2移動装置32を駆動して、駆動台25を上方へ移動させる。
ステップS7では、ステップS6と略同時に、エアーパッド35に対して給気し、空気孔38から下基板W1に向かって空気を噴出する。すると、下基板W1は駆動台25により略中央部が持ち上げられ、さらに、エアーパッド35の作用により下基板W1の周縁部が浮上する。このようにして、下基板W1を水平状態に保持する(第一下基板移動工程)。このとき下基板W1はベース部11の上面23から数十μm程度浮上している。
In step S6, the 2nd moving apparatus 32 provided in the base part 11 is driven, and the drive stand 25 is moved upwards.
In step S7, air is supplied to the air pad 35 substantially simultaneously with step S6, and air is ejected from the air hole 38 toward the lower substrate W1. Then, the lower substrate W1 is lifted substantially at the center by the drive base 25, and the peripheral portion of the lower substrate W1 is floated by the action of the air pad 35. In this way, the lower substrate W1 is held in a horizontal state (first lower substrate moving step). At this time, the lower substrate W1 floats from the upper surface 23 of the base portion 11 by about several tens of μm.

ステップS8では、図示しないロボットアームで搬送されてきた上基板W2を上加圧部材15の保持面75の下方に配置する。
ステップS9では、保持ピン79を下降させて上基板W2を吸着する。
ステップS10では、ロボットアームをチャンバ17内から退避させる。
In step S <b> 8, the upper substrate W <b> 2 that has been transported by a robot arm (not shown) is disposed below the holding surface 75 of the upper pressure member 15.
In step S9, the holding pin 79 is lowered to suck the upper substrate W2.
In step S <b> 10, the robot arm is retracted from the chamber 17.

ステップS11では、保持ピン79を上昇させる。
ステップS12では、静電チャック部77を機能させて上基板W2を保持面75に吸着する。図5は、上述したステップS12までが完了したときの説明図である。
なお、ステップS1〜S5の下基板W1を搬入する工程と、ステップS8〜S12の上基板W2を搬入する工程とは、どちらを先にしてもよい。ただし、上基板W2は吸着ピン57から落下するおそれがあるため、上基板W2の搬入を先に行うことにより、上基板W2の落下による影響が下基板W1に及ぶのを防止できる。特に、液晶パネルを製造する場合には、下基板W1の上面に液晶が塗布されているため、上基板W2の搬入を先に行うことが望ましい。
In step S11, the holding pin 79 is raised.
In step S <b> 12, the electrostatic chuck unit 77 is caused to function to attract the upper substrate W <b> 2 to the holding surface 75. FIG. 5 is an explanatory diagram when the steps up to step S12 are completed.
Note that either the step of carrying in the lower substrate W1 of steps S1 to S5 or the step of carrying in the upper substrate W2 of steps S8 to S12 may be performed first. However, since the upper substrate W2 may fall from the suction pins 57, it is possible to prevent the upper substrate W2 from being affected by the drop of the upper substrate W2 by carrying in the upper substrate W2 first. In particular, when manufacturing a liquid crystal panel, it is desirable to carry in the upper substrate W2 first because the liquid crystal is applied to the upper surface of the lower substrate W1.

次に、ステップS13では、図6に示すように、下基板W1が水平に保持された状態で、駆動軸65を駆動させて、上加圧部材15をベース部11(下基板W1)に向かって下降させる(上基板移動工程)。このとき駆動源66からの指示により軸部67が回転することで、軸部67が下降する。上加圧部材15は軸部67に支持されているため、同時に下降する。また、上加圧部材15の四隅の案内ガイド83には支持棒13が挿通されているため、上加圧部材15は水平状態を保持したまま下降する。そして、下基板W1と上基板W2との間が所定間隔になるまで上加圧部材15を下降させる。   Next, in step S13, as shown in FIG. 6, with the lower substrate W1 held horizontally, the drive shaft 65 is driven to move the upper pressurizing member 15 toward the base portion 11 (lower substrate W1). To lower (upper substrate moving step). At this time, the shaft portion 67 is lowered by rotating the shaft portion 67 in accordance with an instruction from the drive source 66. Since the upper pressure member 15 is supported by the shaft portion 67, the upper pressure member 15 is simultaneously lowered. Further, since the support rod 13 is inserted into the guide guides 83 at the four corners of the upper pressure member 15, the upper pressure member 15 is lowered while maintaining the horizontal state. Then, the upper pressurizing member 15 is lowered until a predetermined interval is reached between the lower substrate W1 and the upper substrate W2.

ステップS14では、図7に示すように、下基板W1と上基板W2との間が所定間隔(数百μm程度)になったら、カメラ80を作動して、下基板W1と上基板W2のアライメントマークM1,M2に順次焦点を合わせて撮影する。そして、それぞれのアライメントマークが一致するように、下基板W1を水平面内方向に移動する(基板位置合わせ工程)。このとき、アライメントマークのズレ量を基に、第1移動装置31を駆動させて駆動台25を水平面内方向に移動させ、下基板W1を適正位置まで移動させる。   In step S14, as shown in FIG. 7, when the predetermined distance (about several hundred μm) is reached between the lower substrate W1 and the upper substrate W2, the camera 80 is operated to align the lower substrate W1 and the upper substrate W2. The marks M1 and M2 are sequentially focused and photographed. Then, the lower substrate W1 is moved in the horizontal plane direction so that the respective alignment marks coincide (substrate alignment step). At this time, based on the amount of misalignment of the alignment mark, the first moving device 31 is driven to move the drive base 25 in the horizontal plane direction, and the lower substrate W1 is moved to an appropriate position.

なお、この下基板W1と上基板W2との位置合わせをする際に、保持面75とシール部材55の接合部57とは当接している。つまり、ベース部11、上加圧部材15およびシール部材55で密閉封止されたチャンバ17が構成されている(処理室形成工程)。具体的には、上加圧部材15が接合部57を押圧すると、接合部57がチューブ56を押圧する。チューブ56には図示しないリリーフ弁が接続されているので、内圧を一定に保持した状態でチューブ56が収縮する。これにより、チューブ56の破損を防止しつつ、上加圧部材15と接合部57との密閉状態を維持できる。   When the lower substrate W1 and the upper substrate W2 are aligned, the holding surface 75 and the joint portion 57 of the seal member 55 are in contact with each other. That is, the chamber 17 hermetically sealed with the base portion 11, the upper pressure member 15, and the seal member 55 is configured (processing chamber forming step). Specifically, when the upper pressure member 15 presses the joint portion 57, the joint portion 57 presses the tube 56. Since a relief valve (not shown) is connected to the tube 56, the tube 56 contracts with the internal pressure kept constant. Thereby, the airtight state of the upper pressurizing member 15 and the joint portion 57 can be maintained while preventing the tube 56 from being damaged.

ステップS15では、図8に示すように、下基板W1と上基板W2との位置合わせが完了したら、下基板W1の駆動台25を下降させるとともに、エアーパッド35の給気を停止して、下基板W1をベース部11の上面23に下降させる。そして、エアーパッド35から排気して下基板W1を上面23に吸着させて、位置がずれないようにする(第二下基板移動工程)。その後に、上加圧部材15を若干上方へ移動させる(上加圧部材上昇工程)。このようにして、下基板W1と上基板W2との距離を位置合わせ時より長くする。これは、その後に行うチャンバ17内の真空引きの際にコンダクタンスを大きくして、真空引き時間を短縮するとともに、基板W1,W2間の空気を確実に排気するためである。したがって、上加圧部材15を若干上方へ移動した際にも、保持面75と接合部57とが確実に当接するように調整する。   In step S15, as shown in FIG. 8, when the alignment between the lower substrate W1 and the upper substrate W2 is completed, the drive base 25 of the lower substrate W1 is lowered and the supply of air to the air pad 35 is stopped. The substrate W1 is lowered to the upper surface 23 of the base portion 11. Then, the air is discharged from the air pad 35 and the lower substrate W1 is attracted to the upper surface 23 so that the position is not shifted (second lower substrate moving step). Thereafter, the upper pressure member 15 is moved slightly upward (upper pressure member raising step). In this way, the distance between the lower substrate W1 and the upper substrate W2 is made longer than that during alignment. This is because the conductance is increased during the subsequent evacuation of the chamber 17 to shorten the evacuation time and to surely exhaust the air between the substrates W1 and W2. Therefore, even when the upper pressurizing member 15 is moved slightly upward, the holding surface 75 and the joint portion 57 are adjusted so as to contact with each other reliably.

具体的には、上記とは反対に、内圧を一定に保持した状態でチューブ56が膨張し、上加圧部材15と接合部57との密閉状態を維持できる。つまり、シール部材55のチューブ56の空気圧を調整することで、接合部57の上面58の位置を調整する。また、接合部57を上下させても、シール61によりチャンバ17内の気密性が保たれている。なお、上加圧部材15を上昇させた後に、下基板W1をベース部11の上面23に下降させてもよい。また、上加圧部材上昇工程の後に処理室形成工程を実施してもよい。   Specifically, contrary to the above, the tube 56 expands in a state where the internal pressure is kept constant, and the sealed state between the upper pressure member 15 and the joint portion 57 can be maintained. That is, the position of the upper surface 58 of the joint portion 57 is adjusted by adjusting the air pressure of the tube 56 of the seal member 55. Further, even if the joint portion 57 is moved up and down, the seal 61 maintains the airtightness in the chamber 17. Note that the lower substrate W <b> 1 may be lowered to the upper surface 23 of the base portion 11 after raising the upper pressure member 15. Moreover, you may implement a process chamber formation process after an upper pressurization member raising process.

ステップS16では、真空ポンプ49を稼動させて、排気口47よりチャンバ17内部を排気する(減圧工程)。そして、チャンバ17内を真空状態(約0.4Pa以下)に保持する。   In step S16, the vacuum pump 49 is operated and the inside of the chamber 17 is exhausted from the exhaust port 47 (decompression step). Then, the inside of the chamber 17 is kept in a vacuum state (about 0.4 Pa or less).

ステップS17では、チャンバ17内の真空引きが完了した後、上加圧部材15を再度下降する。
ステップS18では、図9に示すように、下基板W1と上基板W2とを貼り合わせる(基板貼合せ工程)。このとき、上加圧部材15の自重の一部によって両基板W1,W2を加圧する。ここで、軸部67の先端部68と上加圧部材15の両側部72との間に設けられたロードセル69により、両基板W1,W2に作用する荷重を検出し、適正な荷重で基板を貼り合わせるように調整する。
In step S17, after the evacuation in the chamber 17 is completed, the upper pressure member 15 is lowered again.
In step S18, as shown in FIG. 9, the lower substrate W1 and the upper substrate W2 are bonded together (substrate bonding step). At this time, both the substrates W1 and W2 are pressurized by a part of the weight of the upper pressure member 15. Here, the load cell 69 provided between the front end portion 68 of the shaft portion 67 and both side portions 72 of the upper pressure member 15 detects the load acting on both the substrates W1 and W2, and the substrate is loaded with an appropriate load. Adjust to stick.

ステップS19では、図10に示すように、下基板W1と上基板W2との貼り合わせが完了したら、上加圧部材15を上昇させる。このとき、貼合せ基板W3はベース部11上に配置させる。つまり、上加圧部材15の静電チャック部77の機能を解除して、上基板W2を上加圧部材15から離間させる。   In step S19, as shown in FIG. 10, when the bonding of the lower substrate W1 and the upper substrate W2 is completed, the upper pressure member 15 is raised. At this time, the bonded substrate W3 is disposed on the base portion 11. That is, the function of the electrostatic chuck portion 77 of the upper pressing member 15 is released, and the upper substrate W2 is separated from the upper pressing member 15.

ステップS20では、ベース部11のリフトピン45を上昇させて、貼合せ基板W3を上面23から上昇させる。
ステップS21では、貼合せ基板W3とベース部11の上面23との隙間にロボットアームを挿入してリフトピン45からロボットアームに貼合せ基板W3を受け渡す。そして、ロボットアームが図示しない別の装置に貼合せ基板W3を搬送して処理が完了する。
In step S20, the lift pins 45 of the base portion 11 are raised, and the bonded substrate W3 is raised from the upper surface 23.
In step S21, the robot arm is inserted into the gap between the bonded substrate W3 and the upper surface 23 of the base part 11, and the bonded substrate W3 is delivered from the lift pins 45 to the robot arm. And a robot arm conveys the bonding board | substrate W3 to another apparatus which is not shown in figure, and a process is completed.

本実施形態によれば、上基板W2と下基板W1とを位置合わせしつつ貼り合わせて貼合せ基板W3を製造する貼合せ基板製造装置10において、下基板W1を載置するベース部11と、ベース部11に立設された支持棒13と、支持棒13に沿って上下移動可能であり、かつ上基板W2を保持可能に構成された上加圧部材15と、を備え、上加圧部材15を下降させることにより、上基板W2と下基板W1とを貼り合わされる。
このため、上基板W2が保持された上加圧部材15が、下基板W1が載置されたベース部11に立設している支持棒13に案内されて上下移動する。つまり、上基板W2と下基板W1との間に介在する部材の数が最小限に抑えられる。これにより、上基板W2と下基板W1との位置合わせをしてから貼り合わせるまでの間に上基板W2と下基板W1の相対位置がずれることを防止できる。したがって、2枚の基板W1,W2の位置合わせ精度を向上させて、歩留まりを向上させることができる。
According to the present embodiment, in the bonded substrate manufacturing apparatus 10 that manufactures the bonded substrate W3 by bonding the upper substrate W2 and the lower substrate W1, the base unit 11 on which the lower substrate W1 is placed; A support bar 13 erected on the base 11, and an upper pressurization member 15 that can move up and down along the support bar 13 and that can hold the upper substrate W <b> 2. By lowering 15, the upper substrate W2 and the lower substrate W1 are bonded together.
For this reason, the upper pressurizing member 15 holding the upper substrate W2 moves up and down while being guided by the support bar 13 standing on the base portion 11 on which the lower substrate W1 is placed. That is, the number of members interposed between the upper substrate W2 and the lower substrate W1 is minimized. Thereby, it is possible to prevent the relative positions of the upper substrate W2 and the lower substrate W1 from being shifted between the time when the upper substrate W2 and the lower substrate W1 are aligned and the time when they are bonded. Therefore, the alignment accuracy of the two substrates W1 and W2 can be improved, and the yield can be improved.

また、本実施形態に係る貼り合せ基板製造装置10では、ベース部11に、下基板W1の配置領域を囲繞するようにシール部材55が設けられ、上加圧部材15を下降させることにより、シール部材55と上加圧部材15とベース部11との間にチャンバ17が形成される。
このため、チャンバ17を上加圧部材15、ベース部11およびシール部材55で構成でき、部品点数を少なくできる。したがって、装置を小型・軽量化することができる。
Further, in the bonded substrate manufacturing apparatus 10 according to the present embodiment, the base member 11 is provided with the seal member 55 so as to surround the arrangement region of the lower substrate W1, and the upper pressurizing member 15 is lowered so that the seal is achieved. A chamber 17 is formed between the member 55, the upper pressure member 15, and the base portion 11.
For this reason, the chamber 17 can be comprised by the upper pressurization member 15, the base part 11, and the sealing member 55, and can reduce a number of parts. Therefore, the apparatus can be reduced in size and weight.

また、本実施形態に係る貼合せ基板製造装置10は、チャンバ17の内部を減圧する真空ポンプ49をさらに備え、真空ポンプ49によるチャンバ17の減圧時に、チャンバ17はシール部材によって密閉される。
このように、上加圧部材15とベース部11との間にシール部材55を介装させることで、チャンバ17を減圧する際に、チャンバ17を確実に密閉させることができる。したがって、チャンバ17を確実に減圧させることができ、所望の貼合せ基板W3を製造できる。
The bonded substrate manufacturing apparatus 10 according to the present embodiment further includes a vacuum pump 49 that depressurizes the inside of the chamber 17, and the chamber 17 is sealed by a seal member when the chamber 17 is depressurized by the vacuum pump 49.
Thus, by interposing the seal member 55 between the upper pressurizing member 15 and the base portion 11, the chamber 17 can be reliably sealed when the chamber 17 is decompressed. Therefore, the chamber 17 can be reliably decompressed, and a desired bonded substrate W3 can be manufactured.

さらに、ベース部11に、下基板W1の一部を吸着しつつ下基板W1を移動させる駆動台25と、駆動台25による下基板W1の移動時に下基板W1を浮上させるとともに、上基板W2と下基板W1との貼合せ時に下基板W1を吸着可能なエアーパッド35と、を設けた。
このため、上基板W2と下基板W1とを貼り合わせる際には、エアーパッド35により下基板W1をベース部11に吸着させることができる。したがって、下基板W1の位置ずれを防止でき、上基板W2と下基板W1とを精度良く貼り合わせることができる効果がある。また、下基板W1を載置するためのテーブルを別途必要としないため、ベース部11と下基板W1との間に介在する部品点数を少なくできる。さらに、下基板W1をベース部11に吸着させると、駆動台25およびエアーパッド35はチャンバ17に露出されないため、各装置から発生するパーティクルなどがチャンバ17内に流入することを防止できる。したがって、チャンバ17内のクリーン度を確保できる。
Further, the base 11 is configured to move the lower substrate W1 while adsorbing a part of the lower substrate W1, and to float the lower substrate W1 when the lower substrate W1 is moved by the drive base 25, An air pad 35 capable of adsorbing the lower substrate W1 at the time of bonding to the lower substrate W1 was provided.
Therefore, when the upper substrate W2 and the lower substrate W1 are bonded together, the lower substrate W1 can be attracted to the base portion 11 by the air pad 35. Therefore, the position shift of the lower substrate W1 can be prevented, and the upper substrate W2 and the lower substrate W1 can be bonded together with high accuracy. In addition, since a separate table for placing the lower substrate W1 is not required, the number of components interposed between the base portion 11 and the lower substrate W1 can be reduced. Further, when the lower substrate W1 is attracted to the base portion 11, the drive base 25 and the air pad 35 are not exposed to the chamber 17, so that particles generated from each device can be prevented from flowing into the chamber 17. Therefore, the cleanliness in the chamber 17 can be ensured.

そして、シール部材55は、ベース部11に対して上下移動し、チャンバ17の壁部を構成する接合部57と、接合部57に設置され、上加圧部材15に当接してチャンバ17の気密性を確保するためのシール52と、を備えている。
このため、接合部57がベース部11に対して上下移動してチャンバ17の壁部を構成し、上加圧部材15が上昇しても密閉されたチャンバ17を構築可能になる。これにより、下基板W1と上基板W2とを離間配置してコンダクタンスを大きくした状態でチャンバ17内を減圧可能になり、減圧時間を短縮できる。
The seal member 55 moves up and down with respect to the base portion 11, is installed in the joint portion 57 that constitutes the wall portion of the chamber 17, and the joint portion 57. And a seal 52 for ensuring safety.
For this reason, the joining portion 57 moves up and down with respect to the base portion 11 to form the wall portion of the chamber 17, and the sealed chamber 17 can be constructed even when the upper pressurizing member 15 is raised. As a result, the inside of the chamber 17 can be decompressed in a state where the lower substrate W1 and the upper substrate W2 are spaced apart to increase conductance, and the decompression time can be shortened.

なお、本実施形態におけるシール部材55の別の態様を図12に示す。図12に示すように、シール部材255は、凹部51に設けられ、凹部51の下方に形成されたエア供給部256と、エア供給部256の上方に配置された接合部57と、を備えている。エア供給部256の空気圧を変動させることで、接合部57は凹部51の側面60に沿って上下移動し、上加圧部材15の動きに追従可能である。接合部57の上面58は、ベース部11の上面23よりも上方に位置している。   In addition, another aspect of the sealing member 55 in this embodiment is shown in FIG. As shown in FIG. 12, the seal member 255 includes an air supply unit 256 that is provided in the recess 51 and formed below the recess 51, and a joint portion 57 that is disposed above the air supply unit 256. Yes. By changing the air pressure of the air supply unit 256, the joint portion 57 moves up and down along the side surface 60 of the recess 51 and can follow the movement of the upper pressurizing member 15. The upper surface 58 of the joint portion 57 is located above the upper surface 23 of the base portion 11.

また、接合部57の上面58には、上加圧部材15との間を密閉するシール52が設けられている。さらに、接合部57の側面59とベース部11の凹部51の側面60との間には、両者間を密閉するシール61が2箇所設けられている。このシール61,61の間の空間部263には、外部(大気)と連通する図示しない連通管が接続されている。これによりシール61への圧力負荷を軽減できる。また、シール61が設けられた反対側にはエア供給部256と外部(大気)との間を遮断するシール262が設けられている。
これにより、シール部材255は上述したシール部材55と略同一の作用効果を得ることができる。
Further, a seal 52 is provided on the upper surface 58 of the joint portion 57 to seal the space between the upper pressurizing member 15. Further, two seals 61 are provided between the side surface 59 of the joint portion 57 and the side surface 60 of the concave portion 51 of the base portion 11 to seal between the two. A communication pipe (not shown) that communicates with the outside (atmosphere) is connected to the space 263 between the seals 61 and 61. As a result, the pressure load on the seal 61 can be reduced. In addition, a seal 262 for blocking between the air supply unit 256 and the outside (atmosphere) is provided on the opposite side where the seal 61 is provided.
Thereby, the sealing member 255 can obtain substantially the same effect as the sealing member 55 described above.

(第二実施形態)
次に、本発明の第二実施形態に係る貼合せ基板製造装置について、図13に基づいて説明する。なお、本実施形態は、第一実施形態とシール部材の構成が異なるのみで、他の構成については略同一であるため、同一箇所には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
図13は、シール部材の構成図である。図13に示すように、シール部材155は上加圧部材15側に設けられている。具体的には、上加圧部材15の保持面75に凹部151が形成されている。凹部151は、第一実施形態の凹部51に略対向した位置に形成されている。
(Second embodiment)
Next, the bonded substrate manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Note that this embodiment is different from the first embodiment only in the configuration of the seal member, and the other configurations are substantially the same. Therefore, the same portions are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted.
FIG. 13 is a configuration diagram of the seal member. As shown in FIG. 13, the seal member 155 is provided on the upper pressure member 15 side. Specifically, a recess 151 is formed in the holding surface 75 of the upper pressure member 15. The recess 151 is formed at a position substantially opposite to the recess 51 of the first embodiment.

凹部151には、シール部材155が設けられている。シール部材155は、凹部151の底部に配置されたバネ156と、バネ156の上方に配置された接合部157と、を備えている。バネ156が収縮することで、接合部157は上下移動する。また、接合部157の先端面162にはシール164が設けられている。さらに、接合部157の側面159と凹部151の側面160との間には、サイドシール161が設けられている。凹部151から接合部157が落下しないように凹部151の側面160から接合部157の側面159に向かってストッパ165が立設されている。これにより、ベース部11、上加圧部材15およびシール部材155とでチャンバ17を構成できる。   A seal member 155 is provided in the recess 151. The seal member 155 includes a spring 156 disposed at the bottom of the recess 151 and a joint 157 disposed above the spring 156. As the spring 156 contracts, the joint 157 moves up and down. Further, a seal 164 is provided on the distal end surface 162 of the joint portion 157. Further, a side seal 161 is provided between the side surface 159 of the joint portion 157 and the side surface 160 of the recess 151. A stopper 165 is erected from the side surface 160 of the concave portion 151 toward the side surface 159 of the joint portion 157 so that the joint portion 157 does not fall from the concave portion 151. Thereby, the chamber 17 can be configured by the base portion 11, the upper pressurizing member 15, and the seal member 155.

(作用)
基板を貼り合わせる前(装置の初期状態)は、接合部157はバネ156の付勢力および自重で下方に垂れ下がり、ストッパ17で係止されている。基板を貼り合わせるために上加圧部材15を下降させると、同時に上基板W2が下降する。すると、接合部157のシール164がベース部11の上面23に当接し、ベース部11、上加圧部材15およびシール部材155でチャンバ17を構成する。その後、さらに上加圧部材15を下降させると、バネ156が収縮して接合部157が凹部151内に格納される。その後、上加圧部材15を若干量上下させてもバネ156の付勢力が作用してシール164とベース部11の上面23とは当接状態を保持できる。
したがって、基板W1,W2の貼り合わせ時にチャンバ17を確実に構成でき、所望の貼合せ基板W3を製造できる。
(Function)
Before the substrates are bonded together (the initial state of the apparatus), the joining portion 157 hangs downward by the urging force of the spring 156 and its own weight and is locked by the stopper 17. When the upper pressure member 15 is lowered to bond the substrates, the upper substrate W2 is lowered at the same time. Then, the seal 164 of the joint portion 157 contacts the upper surface 23 of the base portion 11, and the base portion 11, the upper pressurizing member 15, and the seal member 155 constitute the chamber 17. Thereafter, when the upper pressing member 15 is further lowered, the spring 156 contracts and the joint portion 157 is stored in the recess 151. Thereafter, even if the upper pressurizing member 15 is slightly moved up and down, the urging force of the spring 156 acts to keep the seal 164 and the upper surface 23 of the base portion 11 in contact.
Therefore, the chamber 17 can be reliably configured when the substrates W1 and W2 are bonded, and a desired bonded substrate W3 can be manufactured.

なお、上基板W2および貼合せ基板W3をロボットアームでチャンバ17から出し入れするため、シール部材155は、その邪魔にならないように配置されている。また、接合部157が自重のみによって下方に移動可能であれば、シール部材155にバネ156が設けられていなくてもよい。この場合、接合部157の上下機構が不要となるため、部品点数を少なくでき、その結果、費用をかけずに装置を作製することができる。また、基板の出し入れ時には、ロボットアームの出し入れがあるため、接合部157が邪魔にならない程度まで上加圧部材15は上昇する。   Since the upper substrate W2 and the bonded substrate W3 are taken in and out of the chamber 17 by the robot arm, the seal member 155 is disposed so as not to obstruct the same. Further, the spring 156 may not be provided on the seal member 155 as long as the joint portion 157 can move downward only by its own weight. In this case, since the vertical mechanism of the joining portion 157 is not necessary, the number of parts can be reduced, and as a result, the apparatus can be manufactured without cost. Further, when the substrate is taken in and out, since the robot arm is taken in and out, the upper pressurizing member 15 is raised to the extent that the joint 157 does not get in the way.

尚、本発明の技術範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、実施形態で挙げた具体的な形状や構成等は一例にすぎず、適宜変更が可能である。
例えば、本実施形態において、接合部を上下移動させるためにチューブやバネを採用した場合の説明をしたが、アクチュエータなどを用いてもよい。
また、本実施形態において、カメラを上加圧部材に設置した場合の説明をしたが、ベース部に設置してもよい。
It should be noted that the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes those in which various modifications are made to the above-described embodiment without departing from the spirit of the present invention. That is, the specific shapes, configurations, and the like given in the embodiment are merely examples, and can be changed as appropriate.
For example, in the present embodiment, the case where a tube or a spring is employed to move the joint portion up and down has been described, but an actuator or the like may be used.
Moreover, in this embodiment, although the case where a camera was installed in the upper pressurization member was demonstrated, you may install in a base part.

2枚の基板の位置合わせ精度を向上させて、歩留まりを向上させることが可能な貼合せ基板製造装置および貼合せ基板製造方法を提供することができる。   A bonded substrate manufacturing apparatus and a bonded substrate manufacturing method capable of improving the alignment accuracy of two substrates and improving the yield can be provided.

Claims (5)

上基板と下基板とを位置合わせしつつ貼り合わせて貼合せ基板を製造する貼合せ基板製造装置であって:
前記下基板を載置するベース部と;
前記ベース部に立設された支持棒と;
前記支持棒に沿って上下移動可能であり、かつ、前記上基板を保持可能な上加圧部材と;
を備え、
前記ベース部は、下基板吸着装置と下基板浮上吸着装置とを含み、
前記下基板吸着装置は、前記下基板の一部を吸着しつつ、該下基板を移動させる機能を有し、
前記下基板浮上吸着装置は、前記下基板吸着装置による前記下基板の移動時に、該下基板を浮上させ、前記上基板と該下基板との貼合せ時に、該下基板の該下基板吸着装置に吸着されていない部分を吸着する機能を有し、
前記上加圧部材を下降させることにより、前記上加圧部材に保持された前記上基板と前記ベース部に載置された前記下基板とが貼り合わせられることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
Bonded while aligning the upper substrate and a lower substrate, a bonded substrate manufacturing apparatus lamination manufacturing a bonded substrate:
A base portion on which the lower substrate is placed;
A support rod standing on the base portion;
Along said support rods are vertically movable, and an upper pressing member capable of holding said substrate;
With
The base portion includes a lower substrate suction device and a lower substrate floating suction device,
The lower substrate adsorption device has a function of moving the lower substrate while adsorbing a part of the lower substrate,
The lower substrate floating adsorption device floats the lower substrate when the lower substrate is moved by the lower substrate adsorption device, and the lower substrate adsorption device of the lower substrate is bonded to the upper substrate and the lower substrate. Has the function of adsorbing parts that are not adsorbed on
By lowering the upper pressure member, the upper substrate held by the upper pressure member and the lower substrate placed on the base part are bonded together. .
請求項1に記載の貼合せ基板製造装置であって:
前記上加圧部材及び前記ベース部の少なくともいずれか一方には、前記上基板または前記下基板の配置される領域を囲繞するようにシール部材が設けられ;
前記上加圧部材を下降させることにより、前記シール部材と前記上加圧部材と前記ベース部との間に貼合せ処理室が形成されることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
The bonded substrate manufacturing apparatus according to claim 1, wherein:
At least one of the upper pressure member and the base portion is provided with a seal member so as to surround a region where the upper substrate or the lower substrate is disposed;
By lowering the upper pressure member, a bonding processing chamber is formed between the seal member, the upper pressure member, and the base portion.
請求項2に記載の貼合せ基板製造装置であって:
前記貼合せ処理室の内部を減圧する減圧手段をさらに備え;
前記減圧手段によって前記貼合せ処理室が減圧された時に、前記貼合せ処理室は前記シール部材によって密閉されることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
The bonded substrate manufacturing apparatus according to claim 2, wherein:
Further comprising a decompression means for decompressing the inside of the laminating treatment chamber;
The bonded substrate manufacturing apparatus according to claim 1, wherein when the bonding processing chamber is depressurized by the pressure reducing means, the bonding processing chamber is sealed by the sealing member.
請求項2または3に記載の貼合せ基板製造装置であって、
前記シール部材は:
前記ベース部及び前記上加圧部材の一方に対して上下移動し、前記貼合せ処理室の壁部を構成する接合部と;
前記接合部に設置され、前記ベース部または前記上加圧部材に当接して前記貼合せ処理室の気密性を確保するシールと;
を備えていることを特徴とする貼合せ基板製造装置。
It is a bonded substrate manufacturing apparatus of Claim 2 or 3,
The sealing member is:
A joint that moves up and down relative to one of the base portion and the upper pressure member and constitutes a wall portion of the bonding treatment chamber;
A seal that is installed at the joining portion and abuts against the base portion or the upper pressure member to ensure airtightness of the laminating treatment chamber;
An apparatus for manufacturing a bonded substrate board comprising:
ベース部に下基板を載置し、前記ベース部に立設された支持棒に沿って上下移動可能な上加圧部材により上基板を保持し、前記下基板と前記上基板とを位置合わせしつつ貼り合わせて、貼合せ基板を製造する貼合せ基板製造方法であって:
前記ベース部に設置された下基板吸着装置により前記下基板の一部を吸着しつつ、該下基板を前記ベース部から離間させるとともに、前記ベース部に設置された下基板浮上吸着装置により前記下基板を浮上させる第一下基板移動工程と;
前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを所定間隔に対向配置する上基板移動工程と;
前記下基板吸着装置により前記下基板を移動させて、前記下基板と前記上基板との位置合わせを行う基板位置合わせ工程と;
前記上加圧部材を上昇させて、前記下基板と前記上基板とを所定距離だけ離間配置する上加圧部材上昇工程と;
前記上加圧部材と前記ベース部との間をシール部材により密閉して、前記上基板及び前記下基板が収容された貼合せ処理室を形成する処理室形成工程と;
前記下基板吸着装置により前記下基板の一部を吸着しつつ、該下基板を前記ベース部に当接させるとともに、前記下基板浮上吸着装置により、該下基板の下基板吸着装置に吸着されていない部分を吸着させる第二下基板移動工程と;
前記貼合せ処理室内を減圧する減圧工程と;
前記貼合せ処理室内が密閉された状態で前記上加圧部材を下降させて、前記下基板と前記上基板とを貼り合わせる基板貼合せ工程と;
を備えていることを特徴とする貼合せ基板製造方法。
A lower substrate is placed on the base portion, and the upper substrate is held by an upper pressure member that can be moved up and down along a support rod standing on the base portion, and the lower substrate and the upper substrate are aligned. A bonded substrate manufacturing method for manufacturing a bonded substrate by bonding together while:
Wherein the lower substrate adsorption device installed in the base unit while adsorbing a portion of the lower substrate, with to separate the lower substrate from the base portion, the lower substrate floating suction device installed in the base unit A first lower substrate moving step of levitating the lower substrate;
An upper substrate moving step of lowering the upper pressure member and disposing the lower substrate and the upper substrate opposite to each other at a predetermined interval;
A substrate alignment step of aligning the lower substrate and the upper substrate by moving the lower substrate by the lower substrate suction device;
An upper pressurizing member raising step of raising the upper pressurizing member and disposing the lower substrate and the upper substrate by a predetermined distance;
A process chamber forming step of forming a bonding process chamber in which the upper substrate and the lower substrate are accommodated by sealing between the upper pressure member and the base portion with a seal member;
By the lower substrate adsorption device while adsorbing a portion of the lower substrate, is brought into contact with the lower substrate to the base portion by the lower substrate floating suction apparatus, the suction in the lower substrate adsorption device of the lower substrate A second lower substrate moving step for adsorbing a portion that has not been made;
A depressurization step of depressurizing the inside of the bonding treatment chamber;
A substrate laminating step of lowering the upper pressurizing member in a state where the laminating treatment chamber is sealed, and laminating the lower substrate and the upper substrate;
A method for producing a bonded substrate, comprising:
JP2009540055A 2007-11-08 2008-11-05 Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method Expired - Fee Related JP4839407B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009540055A JP4839407B2 (en) 2007-11-08 2008-11-05 Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007290912 2007-11-08
JP2007290912 2007-11-08
PCT/JP2008/070114 WO2009060855A1 (en) 2007-11-08 2008-11-05 Bonding substrate manufacturing apparatus and bonding substrate manufacturing method
JP2009540055A JP4839407B2 (en) 2007-11-08 2008-11-05 Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2009060855A1 JPWO2009060855A1 (en) 2011-03-24
JP4839407B2 true JP4839407B2 (en) 2011-12-21

Family

ID=40625743

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009540055A Expired - Fee Related JP4839407B2 (en) 2007-11-08 2008-11-05 Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP4839407B2 (en)
KR (1) KR101195085B1 (en)
CN (1) CN101801646B (en)
TW (1) TW200941614A (en)
WO (1) WO2009060855A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014130904A (en) * 2012-12-28 2014-07-10 Shibaura Mechatronics Corp Laminating device and lamination processing method

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101470921B1 (en) * 2012-10-16 2014-12-10 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 Substrate bonding apparatus and substrate bonding method
JP6100571B2 (en) 2013-03-22 2017-03-22 株式会社東芝 Display device manufacturing apparatus and display device manufacturing method
CH708932B1 (en) * 2013-12-09 2017-04-13 Besi Switzerland Ag Downholder for holding down the substrate locations of a substrate for the purpose of mounting semiconductor components.
JP6128337B2 (en) * 2014-10-23 2017-05-17 パナソニックIpマネジメント株式会社 Semiconductor device manufacturing method and manufacturing apparatus
JP6049820B1 (en) * 2015-07-24 2016-12-21 信越エンジニアリング株式会社 Bonding device manufacturing apparatus and manufacturing method
JP6622254B2 (en) * 2017-06-21 2019-12-18 芝浦メカトロニクス株式会社 Bonding device and bonding processing method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0631500A (en) * 1992-07-20 1994-02-08 Hitachi Ltd Hot press
JP2002131762A (en) * 2000-10-30 2002-05-09 Shinetsu Engineering Kk Lamination device and method for laminating substrate for liquid crystal panel

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005238456A (en) * 2004-02-24 2005-09-08 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for manufacturing thickness irregular large-sized waveguide
JP4078487B2 (en) * 2005-05-25 2008-04-23 株式会社日立プラントテクノロジー Substrate assembly apparatus and method

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0631500A (en) * 1992-07-20 1994-02-08 Hitachi Ltd Hot press
JP2002131762A (en) * 2000-10-30 2002-05-09 Shinetsu Engineering Kk Lamination device and method for laminating substrate for liquid crystal panel

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014130904A (en) * 2012-12-28 2014-07-10 Shibaura Mechatronics Corp Laminating device and lamination processing method

Also Published As

Publication number Publication date
KR101195085B1 (en) 2012-10-29
WO2009060855A1 (en) 2009-05-14
CN101801646B (en) 2013-04-17
CN101801646A (en) 2010-08-11
TW200941614A (en) 2009-10-01
JPWO2009060855A1 (en) 2011-03-24
KR20100057653A (en) 2010-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4955071B2 (en) Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method
JP4955070B2 (en) Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method
JP4839407B2 (en) Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method
JP4078487B2 (en) Substrate assembly apparatus and method
JP4955069B2 (en) Bonded substrate manufacturing apparatus and bonded substrate manufacturing method
JP4163242B1 (en) Substrate bonding apparatus and substrate bonding method
JP2004151325A (en) Method of bonding substrates together
KR100913220B1 (en) Apparatus for attaching substrates
JP5630020B2 (en) Substrate overlay apparatus and overlay method
JP4031650B2 (en) Substrate bonding method and apparatus
JP5507074B2 (en) Substrate laminating method and substrate laminating apparatus
JP5487740B2 (en) Overlay apparatus, alignment apparatus, substrate bonding apparatus, and overlay method
JP5481950B2 (en) Superposition method, superposition apparatus, alignment apparatus, and bonding apparatus
JP4470922B2 (en) Board loading / unloading method and robot
JP5047201B2 (en) Substrate bonding device
JP4449932B2 (en) Board assembly apparatus and board assembly method
JP4470921B2 (en) Substrate assembly apparatus and assembly method
JP5487738B2 (en) Push-up pin and substrate bonding equipment
KR20090053544A (en) Apparatus for attaching substrates
JP2007025707A (en) Apparatus for assembling substrate
JP2004205865A (en) Substrate assembling device and substrate assembling method

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110614

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110815

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110906

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111003

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141007

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4839407

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees