JPWO2007074789A1 - 1,3−ビス(置換フェニル)−3−ヒドロキシプロパン−1−オンおよび2−プロペン−1−オン化合物およびその塩 - Google Patents
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- 0 CC(C=CC=C1)(C=C1C(*)=CC(C(CC1)=CC=C1*=C)=O)N Chemical compound CC(C=CC=C1)(C=C1C(*)=CC(C(CC1)=CC=C1*=C)=O)N 0.000 description 20
- JFQIQVLTZXGDKS-UHFFFAOYSA-N CCc1n[s]c(C)n1 Chemical compound CCc1n[s]c(C)n1 JFQIQVLTZXGDKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQFQONCQIQEYPJ-UHFFFAOYSA-N C[n]1nccc1 Chemical compound C[n]1nccc1 UQFQONCQIQEYPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQQBUAPQHNYYRS-UHFFFAOYSA-N Cc1ccc[s]1 Chemical compound Cc1ccc[s]1 XQQBUAPQHNYYRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXDRPNGTQDRKQM-UHFFFAOYSA-N Cc1cccnn1 Chemical compound Cc1cccnn1 MXDRPNGTQDRKQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBBKWEDRPDGXPM-UHFFFAOYSA-N Cc1ccn[s]1 Chemical compound Cc1ccn[s]1 LBBKWEDRPDGXPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAWHJQAVHZEVTJ-UHFFFAOYSA-N Cc1cnccn1 Chemical compound Cc1cnccn1 CAWHJQAVHZEVTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCHCHJQEWYIJDQ-UHFFFAOYSA-N Cc1ncc[o]1 Chemical compound Cc1ncc[o]1 ZCHCHJQEWYIJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
また、1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−2−プロペン−1−オン化合物に関しては、3−ハロ(フッ素原子以外)アルキル置換化合物(例えば非特許文献8および非特許文献9参照。)等が知られている。3−フルオロアルキル置換化合物としては、農薬の製造中間体として4−[3−(4−クロロフェニル)−3−オキソ−1−(トリフルオロメチル)−1−プロペニル]−2−メチルフェニルカルバミン酸ターシャリーブチルエステル(特許文献1参照。)が知られており、その他にも3−フルオロアルキル置換化合物(例えば非特許文献10ないし非特許文献12参照。)等が知られている。農薬として記載のある1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−2−プロペン−1−オン化合物としては、特許文献2および特許文献3に、置換フェニル上にベンジルオキシ基を有する化合物の記載がある。
しかしながら、これら文献記載の化合物は特許文献4記載の化合物へと誘導可能な製造中間体として用いることのできる1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−3−ヒドロキシプロパン−1−オン化合物および1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−2−プロペン−1−オン化合物に関しては、未だ文献に記載されていない。
〔1〕 一般式(1):
Yは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、−NH2又は−N(R5)R4を表し、nが2以上を表すとき、各々のYは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
R1は、C1−C6ハロアルキル基又はC3−C8ハロシクロアルキル基を表し、
R2は、メチル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−NH2、−N(R5)R4、−OH、−OR3、ベンジルオキシ基、−OSO2R3、フェニルスルホニルオキシ基、(Z)p1によって置換されたフェニルスルホニルオキシ基、−C(O)OH、−C(O)OR3、−C(O)NH2、−C(O)N(Rb)Ra又は−C(S)N(Rb)Raを表し、
R3は、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、C1−C6ハロアルキル基又はC1−C3ハロアルコキシ(C1−C3)ハロアルキル基を表し、
R4は、C1−C6アルキル基、−CHO、C1−C6アルキルカルボニル基、C1−C6ハロアルキルカルボニル基、C1−C6アルコキシカルボニル基、C1−C6アルキルチオカルボニル基、C1−C6アルコキシチオカルボニル基、C1−C6アルキルジチオカルボニル基、C1−C6アルキルスルホニル基又はC1−C6ハロアルキルスルホニル基を表し、
R5は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
Raは、C1−C6アルキル基、R6によって任意に置換された(C1−C6)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、−N(R9)R8、−C(O)OR7、−C(O)NH2、−C(O)NHR7、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−5、D−7、D−10、D−11、D−12、D−14、D−15、D−18、D−31、D−32、D−38、D−39、D−41、D−42、D−44、E−1、E−2、E−3、E−4又はE−7を表し、
Rbは、水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、シアノ(C1−C6)アルキル基、C3−C6アルキニル基、−C(O)R7又は−C(O)OR7を表し、
R6は、ハロゲン原子、シアノ基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、−C(O)NH2、−C(O)N(R13)R12、−C(S)NH2、−C(S)N(R13)R12、−C(R15)=NOH、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−1ないしD−46又はE−1ないしE−8を表し、
前記D−1ないしD−46は、それぞれ下記の構造式で表される芳香族複素環を表し、
E−1ないしE−8は、それぞれ下記の構造式で表される飽和複素環を表し、
R8は、C1−C6ハロアルキル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−3、D−4、D−18、D−38、D−41、D−42、D−44又はD−45を表し、
R9は、水素原子、C1−C6アルキル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R10は、C1−C6アルキル基、フェニル基又は(Z)p1によって置換されたフェニル基を表し、
R11は、C1−C4アルキル基を表し、q1,q2,q3又はq4が2以上の整数を表すとき、各々のR11は互いに同一であっても、又は互いに相異なっていてもよく、さらに、2つのR11が同一の炭素原子上に置換している場合、2つのR11は一緒になってオキソ環を形成してもよいことを表し、
R12は、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C6シクロアルキル(C1−C4)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R13は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
R14は、C1−C6アルキル基又はC1−C6ハロアルキル基を表し、
R15は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
mは、1ないし5の整数を表し、
nは、0ないし4の整数を表し、
p1は、1ないし5の整数を表し、
p2は、0ないし4の整数を表し、
p3は、0ないし3の整数を表し、
p4は、0ないし2の整数を表し、
p5は、0又は1の整数を表し、
q2は、0ないし5の整数を表し、
q3は、0ないし7の整数を表し、
q4は、0ないし9の整数を表し、
rは、0ないし2の整数を表し、
tは、0又は1の整数を表す。]で表される1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−3−ヒドロキシプロパン−1−オン化合物又はその塩。
Yは、ハロゲン原子、ニトロ基、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R1は、C1−C4ハロアルキル基を表し、
mは、1ないし3の整数を表し、
nは、0又は1を表す上記[1]記載の1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−3−ヒドロキシプロパン−1−オン化合物又はその塩。
R3は、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R4は、C1−C4アルキル基、−CHO、C1−C4アルキルカルボニル基又はC1−C4アルコキシカルボニル基を表し、
Raは、C1−C4アルキル基、R6によって任意に置換された(C1−C4)アルキル基、−N(R9)R8、−C(O)OR7、−C(O)NH2、−C(O)NHR7、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−5、D−7、D−10、D−11、D−12、D−14、D−15、D−18、D−31、D−32、D−38、D−39、D−41、D−42、D−44、E−1又はE−7を表し、
Rbは、水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、シアノ(C1−C4)アルキル基、C3−C6アルキニル基、−C(O)R7又は−C(O)OR7を表し、
R6は、ハロゲン原子、シアノ基、C3−C6シクロアルキル基、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C4アルキルチオ基、C1−C4ハロアルキルチオ基、C1−C4アルキルスルホニル基、C1−C4ハロアルキルスルホニル基、−C(O)N(R13)R12、−C(R15)=NOH、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−11ないしD−14、D−18、D−19、D−25、D−26、D−31、D−32、D−36、D−38、D−41、D−44、D−45、E−1、E−2又はE−5を表し、
Zは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C4アルキルスルホニル基又はC1−C4ハロアルキルスルホニル基を表し、p1,p2,p3又はp4が2以上の整数を表すとき、各々のZは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
R7は、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6アルコキシ(C1−C4)アルキル基、C1−C6アルキルチオ(C1−C4)アルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R8は、C1−C4ハロアルキル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−3、D−4、D−18、D−38、D−41、D−42、D−44又はD−45を表し、
R9は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
R10は、C1−C4アルキル基を表し、
R11は、C1−C4アルキル基を表し、q1,q2,q3又はq4が2以上の整数を表すとき、各々のR11は互いに同一であっても、又は互いに相異なっていてもよく、さらに、2つのR11が同一の炭素原子上に置換している場合、2つのR11は一緒になってオキソ環を形成してもよいことを表し、
R12は、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C3−C6シクロアルキル(C1−C4)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R13は、水素原子又はC1−C4アルキル基を表し、
R14は、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R15は、水素原子又はC1−C4アルキル基を表す上記[2]記載の1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−3−ヒドロキシプロパン−1−オン化合物又はその塩。
Yは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、−NH2又は−N(R5)R4を表し、nが2以上を表すとき、各々のYは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
R1は、C1−C6ハロアルキル基又はC3−C8ハロシクロアルキル基を表し、
R2は、メチル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−NH2、−N(R5)R4、−OH、−OR3、ベンジルオキシ基、−OSO2R3、フェニルスルホニルオキシ基、(Z)p1によって置換されたフェニルスルホニルオキシ基、−C(O)OH、−C(O)OR3、−C(O)NH2、−C(O)N(Rb)Ra又は−C(S)N(Rb)Raを表し、
R3は、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、C1−C6ハロアルキル基又はC1−C3ハロアルコキシ(C1−C3)ハロアルキル基を表し、
R4は、C1−C6アルキル基、−CHO、C1−C6アルキルカルボニル基、C1−C6ハロアルキルカルボニル基、C1−C6アルコキシカルボニル基、C1−C6アルキルチオカルボニル基、C1−C6アルコキシチオカルボニル基、C1−C6アルキルジチオカルボニル基、C1−C6アルキルスルホニル基又はC1−C6ハロアルキルスルホニル基を表し、
R5は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
Raは、C1−C6アルキル基、R6によって任意に置換された(C1−C6)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、−N(R9)R8、−C(O)OR7、−C(O)NH2、−C(O)NHR7、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−5、D−7、D−10、D−11、D−12、D−14、D−15、D−18、D−31、D−32、D−38、D−39、D−41、D−42、D−44、E−1、E−2、E−3、E−4又はE−7を表し、
Rbは、水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、シアノ(C1−C6)アルキル基、C3−C6アルキニル基、−C(O)R7又は−C(O)OR7を表し、
R6は、ハロゲン原子、シアノ基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、−C(O)NH2、−C(O)N(R13)R12、−C(S)NH2、−C(S)N(R13)R12、−C(R15)=NOH、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−1ないしD−46又はE−1ないしE−8を表し、
前記D−1ないしD−46は、それぞれ下記の構造式で表される芳香族複素環を表し、
前記E−1ないしE−8は、それぞれ下記の構造式で表される飽和複素環を表し、
R8は、C1−C6ハロアルキル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−3、D−4、D−18、D−38、D−41、D−42、D−44又はD−45を表し、
R9は、水素原子、C1−C6アルキル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R10は、C1−C6アルキル基、フェニル基又は(Z)p1によって置換されたフェニル基を表し、
R11は、C1−C4アルキル基を表し、q1,q2,q3又はq4が2以上の整数を表すとき、各々のR11は互いに同一であっても、又は互いに相異なっていてもよく、さらに、2つのR11が同一の炭素原子上に置換している場合、2つのR11は一緒になってオキソ環を形成してもよいことを表し、
R12は、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C6シクロアルキル(C1−C4)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R13は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
R14は、C1−C6アルキル基又はC1−C6ハロアルキル基を表し、
R15は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
mは、1ないし5の整数を表し、
nは、0ないし4の整数を表し、
p1は、1ないし5の整数を表し、
p2は、0ないし4の整数を表し、
p3は、0ないし3の整数を表し、
p4は、0ないし2の整数を表し、
p5は、0又は1の整数を表し、
q2は、0ないし5の整数を表し、
q3は、0ないし7の整数を表し、
q4は、0ないし9の整数を表し、
rは、0ないし2の整数を表し、
tは、0又は1の整数を表す。]で表される1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−2−プロペン−1−オン化合物又はその塩。
Yは、ハロゲン原子、ニトロ基、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R1は、C1−C4ハロアルキル基を表し、
mは、1ないし3の整数を表し、
nは、0又は1を表す上記[4]記載の1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−2−プロペン−1−オン化合物又はその塩。
R3は、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R4は、C1−C4アルキル基、−CHO、C1−C4アルキルカルボニル基又はC1−C4アルコキシカルボニル基を表し、
Raは、C1−C4アルキル基、R6によって任意に置換された(C1−C4)アルキル基、−N(R9)R8、−C(O)OR7、−C(O)NH2、−C(O)NHR7、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−5、D−7、D−10、D−11、D−12、D−14、D−15、D−18、D−31、D−32、D−38、D−39、D−41、D−42、D−44、E−1又はE−7を表し、
Rbは、水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、シアノ(C1−C4)アルキル基、C3−C6アルキニル基、−C(O)R7又は−C(O)OR7を表し、
R6は、ハロゲン原子、シアノ基、C3−C6シクロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C4アルキルチオ基、C1−C4ハロアルキルチオ基、C1−C4アルキルスルホニル基、C1−C4ハロアルキルスルホニル基、−C(O)N(R13)R12、−C(R15)=NOH、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−11ないしD−14、D−18、D−19、D−25、D−26、D−31、D−32、D−36、D−38、D−41、D−44、D−45、E−1、E−2又はE−5を表し、
Zは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C4アルキルスルホニル基又はC1−C4ハロアルキルスルホニル基を表し、p1,p2,p3又はp4が2以上の整数を表すとき、各々のZは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
R7は、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6アルコキシ(C1−C4)アルキル基、C1−C6アルキルチオ(C1−C4)アルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R8は、C1−C4ハロアルキル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−3、D−4、D−18、D−38、D−41、D−42、D−44又はD−45を表し、
R9は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
R10は、C1−C4アルキル基を表し、
R11は、C1−C4アルキル基を表し、q1,q2,q3又はq4が2以上の整数を表すとき、各々のR11は互いに同一であっても、又は互いに相異なっていてもよく、さらに、2つのR11が同一の炭素原子上に置換している場合、2つのR11は一緒になってオキソ環を形成してもよいことを表し、
R12は、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C3−C6シクロアルキル(C1−C4)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R13は、水素原子又はC1−C4アルキル基を表し、
R14は、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R15は、水素原子又はC1−C4アルキル基を表す上記[5]記載の1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−2−プロペン−1−オン化合物又はその塩。
本発明に包含される化合物のうちで、常法に従って酸付加塩にすることができるものは、例えば、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸等のハロゲン化水素酸の塩、硝酸、硫酸、燐酸、塩素酸、過塩素酸等の無機酸の塩、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸の塩、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、フマール酸、酒石酸、蓚酸、マレイン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、マンデル酸、アスコルビン酸、乳酸、グルコン酸、クエン酸等のカルボン酸の塩又はグルタミン酸、アスパラギン酸等のアミノ酸の塩とすることができる。
或いは、本発明に包含される化合物のうちで、常法に従って金属塩にすることができるものは、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウムといったアルカリ金属の塩、カルシウム、バリウム、マグネシウムといったアルカリ土類金属の塩又はアルミニウムの塩とすることができる。
本発明化合物におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。尚、本明細書中「ハロ」の表記もこれらのハロゲン原子を表す。
本発明に包含される化合物において、Xで表される置換基の数を表すmとしては、好ましくは1、2および3が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、Xで表される置換基の位置としては、より好ましくはR1が結合する炭素との結合位置に対して、メタ位およびパラ位が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、Yで表される置換基の数を表すnとしては、より好ましくは0および1が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、Yで表される置換基の位置としては、より好ましくはR2との結合位置に対して、オルト位が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R2で表される置換基としては、好ましくはハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−NH2、−NHR4、−OH、−OR3、ベンジルオキシ基、−OSO2R3、フェニルスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、−C(O)OH、−C(O)OR3、−C(O)NH2および−C(O)N(Rb)Raが挙げられ、より好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、−NHR4、ヒドロキシ基、メトキシ基、メトキシメチルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンジルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、−C(O)OH、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、−C(O)NH2および−C(O)N(Rb)Raが挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R3で表される置換基としては、好ましくはC1−C4アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基およびC1−C4ハロアルキル基が挙げられ、より好ましくは、メチル基、エチル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基およびトリフルオロメチル基が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R4で表される置換基としては、好ましくは−CHO、C1−C4アルキルカルボニル基およびC1−C4アルコキシカルボニル基が挙げられ、より好ましくは、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、メトキシカルボニル基およびエトキシカルボニル基が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R5で表される置換基としては、好ましくは水素原子が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、Raで表される置換基としては、好ましくはR6によって任意に置換された(C1−C4)アルキル基、−N(R9)R8、−C(O)OR7、−C(O)NH2、−C(O)NHR7、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−5、D−7、D−10、D−11、D−12、D−14、D−15、D−18、D−31、D−32、D−38、D−39、D−41、D−42、D−44、E−1又はE−7が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、Rbで表される置換基としては、好ましくは水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、シアノ(C1−C4)アルキル基、C3−C6アルキニル基、−C(O)R7および−C(O)OR7が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、メトキシメチル基、シアノメチル基、プロパルギル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基、メトキシカルボニル基およびエトキシカルボニル基が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R6で表される置換基としては、好ましくはハロゲン原子、シアノ基、C3−C6シクロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、−C(O)N(R13)R12、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−11ないしD−14、D−18、D−19、D−25、D−26、D−31、D−32、D−36、D−38、D−41、D−44、D−45、E−1、E−2又はE−5が挙げられ、より好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、シクロプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、−C(O)N(R13)R12、−CH=NOCH3、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−14、D−19、D−31、D−32、D−36、D−38およびE−5が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、Zで表される置換基の数を表すp1としては、好ましくは1および2が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、Zで表される置換基の数を表すp2としては、好ましくは0および1が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、Zで表される置換基の数を表すp3としては、好ましくは0および1が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、Zで表される置換基の数を表すp4としては、好ましくは0および1が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、Zで表される置換基の数を表すp5としては、0および1が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R8で表される置換基としては、好ましくはC1−C4ハロアルキル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−3、D−4、D−18、D−38、D−41、D−42、D−44又はD−45が挙げられ、より好ましくは2,2,2−トリフルオロエチル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−18、D−38およびD−41が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R9で表される置換基としては、好ましくは水素原子、C1−C6アルキル基およびC3−C6アルキニル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基およびプロパルギル基が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R10で表される置換基としては、好ましくはC1−C4アルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基およびエチル基が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R11で表される置換基の数を表すq2としては、好ましくは0、1および2が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R11で表される置換基の数を表すq3としては、好ましくは0、1および2が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R11で表される置換基の数を表すq4としては、好ましくは0、1および2が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R13で表される置換基としては、好ましくは水素原子およびC1−C4アルキル基が挙げられ、より好ましくは水素、メチル基およびエチル基が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R14で表される置換基としては、好ましくはC1−C4アルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基およびエチル基が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、R15で表される置換基としては、好ましくは水素原子およびC1−C4アルキル基が挙げられ、より好ましくは水素原子およびメチル基が挙げられる。
本発明に包含される化合物において、ピリジン環の窒素原子上の酸素の数を表すtとしては、0および1が挙げられる。
製造法A
また、一般式(3)で表される化合物と一般式(4)で表される化合物を文献記載の公知の方法、例えば、テトラへドロン[Tetrahedron]2002年、58巻、8269頁、シンセシス[Synthesis]1996年、330頁、1990年、26巻、2205頁等に記載された方法に準じて一般式(1)[式中、X,Y,R1,R2,mおよびnは前記と同じ意味を表す。]で表される化合物とした後に、文献記載の公知の方法、例えば、テトラへドロン[Tetrahedron]2003年、59巻、4363頁、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー[J.Org.Chem.]1990年、55巻、132頁、オーガニック・シンセシス[Org.Synth.]1987年、65巻、12頁等に記載された方法に準じて一般式(2)で表される化合物を得ることができる。
さらに、一般式(1)で表される化合物の製造方法としては、一般式(3)で表される化合物を文献記載の公知の方法、例えば、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー[J. Org. Chem.]1969年、34巻、2324頁等に記載された方法に準じてシリルエノレート、テトラへドロン[Tetrahedron]1984年、40巻、2329頁等に記載された方法に準じてスズエノレートのように一般式(6)[式中、Y,R2およびnは前記と同じ意味を表し、MはC1−C4トリアルキルシリル基(例えばトリメチルシリル基)又はC1−C6トリアルキルスズ基(例えばトリブチルスズ基)、J1は塩素原子又はC1−C4アルコキシ基(例えばメトキシ基)を表す。]で表されるエノレートとした後、文献記載の公知の方法、例えば、ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー[J.Am.Chem.Soc.]1974年、96巻、7503頁、ブレティン・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエティー・オブ・ジャパン[Bull.Chem.Soc.Jpn.]1995年、68巻、1180頁等に記載された方法に準じて、一般式(1)で表される化合物を得ることができる。
また、一般式(2)で表される化合物は、例えば次のようにして合成することもできる。
また、一般式(7)で表される化合物を文献記載の公知の方法、例えば、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー[J.Org.Chem.]1988年、53巻、5558頁に記載された方法に準じて一般式(8)で表されるホスホニウム塩とした後、公知の一般式(9)[式中、R1は前記と同じ意味を表す。]で表される化合物と反応させることにより得られる一般式(10)[式中、Y,R1,R2およびnは前記と同じ意味を表す。]で表される化合物を文献記載の公知の方法、例えば、ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエティー・パーキン・トランスアクションズ 1 [J.Chem.Soc.,Perkin Trans.1]1996年、2531頁等に記載の方法に準じて、一般式(11)[式中、Xおよびmは前記と同じ意味を表し、J3は臭素原子又はヨウ素原子を表す。]で表される化合物のハロゲン−金属交換反応により得られるリチウム塩と反応させることにより、一般式(2)で表される化合物を得ることができる。
一般式(2)で表される化合物において、R2がカルボニル構造を有する一般式(2−2)ないし一般式(2−4)で表される化合物は、次のようにして得ることもできる。
さらに、一般式(2−3)で表される化合物と一般式(17)[式中、RaおよびRbは前記と同じ意味を表す。]で表される化合物とを、必要ならば該反応に対して不活性な溶媒を用い、必要ならば塩基の存在下、縮合剤を用いて反応させることにより、一般式(2−4)[式中、X,Y,R1,Ra,Rb,mおよびnは前記と同じ意味を表す。]で表される本発明化合物を得ることができる。
縮合剤は、通常のアミド合成に使用されるものであれば特に制限はないが、例えば向山試薬(2−クロロ−N−メチルピリジニウム アイオダイド)、DCC(1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド)、WSC(1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)−カルボジイミド 塩酸塩)、CDI(カルボニルジイミダゾール)、ジメチルプロピニルスルホニウム ブロマイド、プロパルギルトリフェニルホスホニウム ブロマイド、DEPC(シアノ燐酸ジエチル)等を、一般式(2−3)で表される化合物に対して1ないし4当量用いることができる。
反応基質の量は、一般式(2−5)で表される化合物1当量に対して1ないし50当量の一般式(17)で表される化合物を用いることができる。
反応温度は−60℃から反応混合物の還流温度までの任意の温度を設定することができ、反応時間は、反応基質の濃度、反応温度によって変化するが、通常5分から100時間の範囲で任意に設定できる。
反応式1
また、一般式(4)において、R1がトリフルオロメチル基である一般式(4−1)は次のようにして合成することもできる。
これらの各反応においては、反応終了後、通常の後処理を行なうことにより製造法Aおよび製造法Bの原料化合物となる各々の製造中間体を得ることができる。
また、これらの方法により製造された各々の製造中間体は、単離・精製されることなく、それぞれそのまま次工程の反応に用いることもできる。
尚、表中Etとの記載はエチル基を表し、以下同様にn−PrおよびPr−nはノルマルプロピル基を、i−PrおよびPr−iはイソプロピル基を、c−PrおよびPr−cはシクロプロピル基を、Phはフェニル基をそれぞれ表し、
表中D−1aないしD−46aで表される芳香族複素環は、それぞれ下記の構造を表し、
[合成例]
合成例1
1−(4−ブロモ−3−メチルフェニル)−3−(3,5−ジクロロフェニル)−3−ヒドロキシ−4,4,4−トリフルオロブタン−1−オン(本発明化合物No.1−06)。
工程1;3,5−ジクロロ安息香酸メチルの製造
メタノール120g中3,5−ジクロロ安息香酸50gの溶液に濃硫酸10gを添加し、5時間加熱還流を行った。反応液を室温まで冷却した後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残留物を酢酸エチル200gに溶解し、水洗浄(200g×2)を行い、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、さらに水洗浄を行った。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下で留去することにより、目的物48.6gを白色固体として得た。
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)δ7.90(s,2H),7.54(s,1H),3.94(s,3H)。
工程2;3’,5’−ジクロロ−2,2,2−トリフルオロアセトフェノンの製造
ジメトキシエタン300g中3,5−ジクロロ安息香酸メチル25gおよびトリフルオロメチルトリメチルシラン22.5gの溶液に、氷冷下でフッ化セシウム0.37gを添加後、室温まで昇温し、4時間撹拌した。前記原料の消失を確認した後、反応液に水200gを投入し、酢酸エチル200gにて抽出した。有機層を飽和食塩水、次いで無水硫酸マグネシウムの順で脱水・乾燥した後、減圧下で溶媒を留去することにより、1−(3,5−ジクロロフェニル)−2,2,2−トリフルオロ−1−トリメチルシリルオキシ−1−メトキシエタン35.5gを黄色液体粗物として得た。得られた粗物をテトラヒドロフラン100mLに溶解し、室温にてテトラブチルアンモニウムフルオライドの1Mテトラヒドロフラン100mL溶液9.75mLを滴下し、同温度にて2時間撹拌した。反応完了後、減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を酢酸エチルに溶解し、有機層を水洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物を減圧蒸留精製することにより、目的物24.2gを無色液体として得た。
沸点87℃(1.7kPa)
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)δ7.92−7.93(m,2H),7.70−7.71(m,1H)。
工程3;1−(4−ブロモ−3−メチルフェニル)−3−(3,5−ジクロロフェニル)−3−ヒドロキシ−4,4,4−トリフルオロブタン−1−オンの製造
テトラヒドロフラン40mL中国際公開第96/019477号パンフレットの方法に準じて合成できる4−ブロモ−3−メチルアセトフェノン7.0gの溶液をドライアイス−アセトンで−60℃まで冷却し、リチウム ビス(トリメチルシリル)アミドの1Mテトラヒドロフラン溶液32.8mLを30分かけて滴下した。滴下終了後、同温度にて1時間撹拌した後、テトラヒドロフラン15mL中3’,5’−ジクロロ−2,2,2−トリフルオロアセトフェノン7.98gの溶液を滴下後、反応液を徐々に室温まで昇温し、室温にて3時間撹拌した。反応終了後、反応液に2N塩酸を加え、溶媒を減圧下で留去し、得られた残留物を酢酸エチルに溶解し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒を減圧下で留去した。得られた固体をジイソプロピルエーテルにて洗浄することにより、目的物9.19gを白色固体として得た。
融点141ないし142℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)δ7.77(d,J=2.1Hz,1H),7.68(d,J=8.4Hz,1H),7.48(dd,J=8.4,2.1Hz,1H),7.49(brs,2H),7.34(brs,1H),5.72(s,1H),3.81(d,J=17.4Hz,1H),3.63(d,J=17.4Hz,1H),2.48(s,3H)。
1−(4−ブロモ−3−メチルフェニル)−3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテン−1−オン(本発明化合物No.2−15)。
トルエン3g中合成例1で合成した1−(4−ブロモ−3−メチルフェニル)−3−(3,5−ジクロロフェニル)−3−ヒドロキシ−4,4,4−トリフルオロブタン−1−オン0.3gの溶液に、室温にて塩化チオニル0.391gおよびピリジン0.104gを添加し、80℃にて1時間撹拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、トルエンおよび2N塩酸を加え分液した後、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残留物は幾何異性体の混合物を含んでいるが、この残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:10)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物0.244gを黄色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1H NMR測定により幾何異性体のうち主成分のみであり、また差NOE測定において、オレフィン部のプロトンと3,5−ジクロロベンゼン環上の2位あるいは6位のプロトンとの間に相関が観測されたことより、下記の構造で表されるZ−体であると同定した。
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)δ7.67(d,J=2.1Hz,1H),7.63(d,J=8.4Hz,1H),7.48(dd,J=8.4,2.1Hz,1H),7.32−7.36(m,2H),7.12−7.17(m,2H),2.44(s,3H)。
1−(4−ブロモフェニル)−3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテン−1−オン(本発明化合物No.2−01)。
工程1;4−ブロモフェナシルホスホニウム ブロマイドの製造
テトラヒドロフラン50mL中4−ブロモフェナシルブロマイド10gおよびトリフェニルホスフィン9.63gの溶液を40℃にて1時間撹拌した。反応完了後、室温まで冷却した後に、析出した固体を濾別し、テトラヒドロフランにて洗浄し、目的物19gを白色固体として得た。
工程2;1−(4−ブロモフェニル)−3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテン−1−オンの製造
クロロホルム150mL中4−ブロモフェナシルホスホニウム ブロマイド7gおよび合成例1の工程1ないし2で合成した3’,5’−ジクロロ−2,2,2−トリフルオロアセトフェノン3gの溶液に、室温下にてトリエチルアミン1.52gをゆっくり添加し、同温度にて2時間撹拌した。反応完了後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物を酢酸エチル150mLに溶解し、希塩酸にて洗浄(100mL×2)した後、飽和食塩水、次いで無水硫酸マグネシウムの順で脱水・乾燥し、減圧下にて溶媒を留去した。得られた幾何異性体混合物を含む残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:8)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物4.6gを黄色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1H NMR測定より、幾何異性体のうち主成分のみであった。
融点58ないし60℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)δ7.69(d,J=8.1Hz,2H),7.60(d,J=8.1Hz,2H),7.30−7.40(m,2H),7.15(brs,2H)。
4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸メチル(本発明化合物No.2−06)。
クロロホルム50mL中4−アセチル安息香酸メチル2.0gの溶液に、室温にて臭素1.98gを添加し、30分間撹拌した後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残留物をテトラヒドロフラン40mLに溶解し、そこにトリフェニルホスフィン2.94gを添加し、50℃で30分間撹拌した後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残留物をクロロホルム50mLに溶解し、そこに合成例1の工程2で合成した3’,5’−ジクロロ−2,2,2−トリフルオロアセトフェノン2.72gおよびトリエチルアミン1.4gを添加し、室温にて4時間撹拌した。その後、反応溶液を水洗(50mL)し、有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:9)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、次いでヘキサンから結晶化させることにより、目的物1.0gを淡黄色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1H NMR測定より、幾何異性体比が19対1の混合物であった。
融点65.5ないし67.5℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)主成分のみδ8.11(d, J=8.4Hz,2H),7.87(d,J=8.4Hz,2H),7.30−7.42(m,2H),7.15(d,J=1.8Hz,2H),3.95(s,3H)。
4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸(本発明化合物No.2−05)。
ターシャリーブチルアルコール10mL、ジオキサン10mLおよび水5mL中オートクレーブ中の合成例3で合成した1−(4−ブロモフェニル)−3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテン−1−オン1.95gおよびトリエチルアミン0.56gの溶液に、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン51mgおよび酢酸パラジウム(II)10mgを添加し、0.5MPaの一酸化炭素雰囲気下110℃にて4時間攪拌した後、室温まで放冷し、さらに酢酸パラジウム(II)10mgを添加し、0.5MPaの一酸化炭素雰囲気下110℃にて4時間攪拌した。その後、室温まで放冷し、固形物を濾別した後、希塩酸を添加し、酢酸エチルにて抽出した後、有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:8)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物1.56gを樹脂状物質として得た。
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)δ8.18(d,J=8.5Hz,2H),7.91(d,J=8.5Hz,2H),7.40(s,1H),7.34(s,1H),7.16(s,2H)。
4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]−2−メチル安息香酸(本発明化合物No.2−17)。
1,2−ジメトキシエタン20mLおよび水20mL中オートクレーブ中の合成例1および合成例2に準じて合成した幾何異性体混合物(異性体比;8対1)である1−(4−ブロモ−3−メチルフェニル)−3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテン−1−オン4.85gおよび酢酸ナトリウム1.36gの溶液に、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン0.25gおよび酢酸パラジウム(II)50mgを添加し、1.0MPaの一酸化炭素雰囲気下110℃にて5.5時間攪拌した。その後、室温まで放冷し、固形物を濾別した後、希塩酸を添加し、酢酸エチルにて抽出した後、有機層を飽和食塩水次いで無水硫酸マグネシウムの順で脱水・乾燥、減圧下にて溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:5)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製、次いでヘキサンおよび少量の酢酸エチルの混合溶媒から結晶化させ、目的物2.6gを白色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1H NMR測定より、幾何異性体比が10対1の混合物であった。
融点:123.0−126.5℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz) 主成分のみ δ8.11(d,J=8.7Hz,1H),7.65−7.70(m,2H),7.30−7.40(m,2H),7.16(d,J=1.8Hz,2H),2.69(s,3H)。
4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]−N−(2−ピリジルメチル)安息香酸アミド(本発明化合物No.2−12)。
N,N−ジメチルホルムアミド6mL中合成例4で合成した4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸0.5gおよび2−ピコリルアミン0.21gの溶液に、室温にて1−[3−(ジエチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩0.32gを添加し、72時間撹拌した。反応完了後、反応液に酢酸エチル20mLおよび飽和食塩水15mLを加え、分液し、水層を酢酸エチル10mLにて抽出し、有機層を合わせて、水10mLにて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン(5:1)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製することにより、目的物0.17gを樹脂状物質として得た。
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)δ8.56(d,J=5.1Hz,1H),7.85−8.10(m,5H),7.65−7.75(m,1H),7.15−7.50(m,6H),4.75(d,J=4.5Hz,2H)。
N−(5−クロロ−2−ピリミジニル)−4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸アミド(本発明化合物No.2−10)。
工程1;4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸クロライドの製造
トルエン10mL中合成例6に準じて合成した幾何異性体混合物(異性体比;10対1)である4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸1.0gの溶液に、N,N−ジメチルホルムアミド1滴および塩化チオニル0.46gを添加し、90℃にて1.5時間撹拌した。その後室温まで放冷し、不溶物を濾過により除去した後、減圧下で溶媒を留去し、目的物1.0gを茶色固体として得た。
なお、得られた目的物はこれ以上精製することなく次の反応に用いた。
工程2;N−(5−クロロ−2−ピリミジニル)−4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸アミドの製造
ピリジン20mL中2−アミノ−5−クロロピリミジン0.5gの溶液に、4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸クロライド0.5gを室温にて投入し、2.5時間撹拌した。その後反応液に水を加え、酢酸エチルにて抽出し、有機層を水および希塩酸にて洗浄した後、飽和食塩水次いで無水硫酸マグネシウムの順で脱水・乾燥し、減圧下にて溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン(5:2)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、次いでヘキサンおよび少量の酢酸エチルの混合溶媒から結晶化させ、目的物0.31gを白色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1H NMR測定より、幾何異性体比が10対1の混合物であった。
融点:71.0−76.0℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz) 主成分のみ δ8.73(brs,1H),8.62(s,2H),8.00(d,J=8.1Hz,2H),7.94(d,J=8.1Hz,2H),7.30−7.40(m,2H),7.16(d,J=2.1Hz,2H)。
4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸アミド(本発明化合物No.2−07)。
テトラヒドロフラン5mL中合成例8の工程1で合成した4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸クロライド0.5gの溶液を28%アンモニア水10mLに室温にて滴下し、2時間撹拌した。反応完了後、反応液を酢酸エチルにて抽出し、有機層を水および希塩酸にて洗浄した後、飽和食塩水次いで無水硫酸マグネシウムの順で脱水・乾燥し、減圧下にて溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン(2:1)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、次いでヘキサンおよび少量の酢酸エチルの混合溶媒から結晶化させ、目的物0.38gを淡黄色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1H NMR測定より、幾何異性体比が10対1の混合物であった。
融点:156.0−159.5℃
1H NMR(CDCl3−DMSO−d6,Me4Si,300MHz) 主成分のみ δ8.00(d,J=7.8Hz,2H),7.89(d,J=7.8Hz,2H),7.30−7.50(m,3H),7.16(d,J=1.5Hz,2H),6.48(brs,1H)。
4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]−N−(2−テトラヒドロフラニル)安息香酸アミド(本発明化合物No.2−09)。
ジクロロメタン3mL中合成例9で合成した4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸アミド0.25gの溶液に、2,3−ジヒドロフラン68mgおよび触媒量のp−トルエンスルホン酸一水和物を添加し、室温にて18時間撹拌した。反応液から溶媒を減圧下で留去し、得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン(2:3)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、次いでヘキサンおよび少量の酢酸エチルの混合溶媒から結晶化させ、目的物0.12gを黄色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1H NMR測定より、幾何異性体比が12対1の混合物であった。
融点:140.5−146.0℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz) 主成分のみ δ7.91(d,J=8.1Hz,2H),7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.30−7.40(m,2H),7.15(d,J=1.5Hz,2H),6.45(brd,J=6.6Hz,1H),5.85−5.95(m,1H),3.95−4.05(m,1H),3.82−3.92(m,1H),2.25−2.40(m,1H),1.80−2.10(m,3H)。
4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]−N−(2−メトキシエチル)安息香酸アミド(本発明化合物No.2−08)。
トルエン3mL中合成例6に準じて合成した幾何異性体混合物(異性体比;10対1)である4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸0.2gの溶液に、N,N−ジメチルホルムアミド1滴および塩化チオニル0.1gを添加し、90℃にて1.5時間撹拌した。その後室温まで放冷し、不溶物を濾過により除去した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をジクロロメタン3mLに溶解し、氷冷した2−メトキシエチルアミン0.5gおよびトリエチルアミン80mgのジクロロメタン2mL溶液に滴下し、同温度にて30分間撹拌した。反応液より溶媒を減圧下で留去し、得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン(2:1)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、次いでヘキサンおよび少量の酢酸エチルの混合溶媒から結晶化させ、目的物0.18gを黄色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1H NMR測定より、幾何異性体比が24対1の混合物であった。
融点:150.5−153.0℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz) 主成分のみ δ7.89(d,J=8.1Hz,2H),7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.30−7.40(m,2H),7.15(d,J=1.8Hz,2H),6.55(brs,1H),3.55−3.70(m,4H),3.40(s,3H)。
N−[4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]−2−メチルベンゾイル]−N−(2−ピリジルメチル)カルバミド酸メチル(本発明化合物No.2−23)。
工程1;4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]−2−メチル安息香酸クロライドのジクロロメタン溶液の製造
トルエン15mL中合成例6で合成した幾何異性体混合物(異性体比;10対1)である4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]安息香酸0.6gの溶液に、N,N−ジメチルホルムアミド1滴および塩化チオニル0.3mLを添加し、90℃にて1.5時間撹拌した。その後室温まで放冷し、不溶物を濾過により除去した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をジクロロメタンに溶解し、目的の溶液6gを得た。
なお、得られた酸塩化物のジクロロメタン溶液は、分割して次の反応に用いた。
工程2;N−[4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]−2−メチルベンゾイル]−N−(2−ピリジルメチル)カルバミド酸メチルの製造。
テトラヒドロフラン2mL中t−ブトキシカリウム70mgのテトラヒドロフラン2mL懸濁液に、N−(2−ピリジルメチル)カルバミド酸メチル90mgの溶液を氷冷にて添加し、同温度にて30分間攪拌した。次いで、この反応混合物に工程1で調製した酸塩化物のジクロロメタン溶液2gを滴下し、室温にて1.5時間撹拌した。その後、反応液に希塩酸を加えて酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水次いで無水硫酸マグネシウムの順で脱水・乾燥し、減圧下にて溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン(1:1)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物0.15gを黄色油状物として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1H NMR測定より、幾何異性体比が16対1の混合物であった。
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz) 主成分のみ δ8.57(d, J=4.8Hz,1H),7.65−7.75(m, 2H),7.10−7.45(m,8H),5.22(s,2H),3.56(s,3H),2.41(s,3H)。
N−[4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]−2−メチルベンゾイル]カルバミド酸メチル(本発明化合物No.2−20)。
ジクロロメタン3mL中合成例9に準じて合成した幾何異性体混合物(異性体比;10対1)である4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]−2−メチル安息香酸アミド0.2gの溶液に、塩化オキザリル76mgを添加し、加熱還流下にて2時間攪拌した。反応完結後、減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をジクロロメタン3mLに溶解し、室温にてメタノール5mLに滴下した。2時間撹拌した後、溶媒を減圧下にて留去し、得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン(2:1)にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、次いでヘキサンおよび少量の酢酸エチルの混合溶媒から結晶化させ、目的物0.15gを白色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1H NMR測定より、幾何異性体比が13対1の混合物であった。
融点:145.5−149.0℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz) 主成分のみ δ7.96(brs,1H),7.65−7.70(m,2H),7.30−7.45(m,3H),7.16(d,J=1.5Hz,2H),3.79(s,3H),2.45(s,3H)。
4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミド(本発明化合物No.2−26)。
テトラヒドロフラン3mL中合成例9に準じて合成した幾何異性体混合物(異性体比;10対1)である4−[3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテノイル]−2−メチル安息香酸アミド0.18gの溶液に、N,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール0.11gを添加し、室温にて2時間撹拌した。その後、溶媒を減圧下にて留去し、得られた残留物をテトラヒドロフラン3mLに溶解し、室温にて水1mL中メトキシアミン塩酸塩45mgの溶液を滴下した。1.5時間撹拌した後、酢酸エチルを投入し、有機層を2回水洗した後、飽和食塩水次いで無水硫酸マグネシウムの順で脱水・乾燥し、減圧下にて溶媒を留去した。得られた固体をジイソプロピルエーテルおよびアセトニトリルの混合溶媒にて洗浄することにより、目的物60mgを淡黄色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1H NMR測定より、オレフィン由来の幾何異性体については1成分のみ観測され、イミノメチル構造由来の幾何異性体比は4対1の混合物であった。
融点:162.0−168.0℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)主成分のみ δ8.58(d, J=9.9Hz,1H),7.65−7.80(m,3H),7.50(d,J=8.4Hz,1H),7.30−7.40(m,2H),7.15(d,J=1.5Hz,2H),3.80(s,3H),2.52(s,3H)。
また、表中、Phとの記載はフェニル基を表し、D−19a、D−38aおよびD−41cで表される芳香族複素環並びにE−1aで表される飽和複素環は、それぞれ下記の構造を表し、
さらに、表中、置換基(X)mの置換位置を表す番号は、それぞれ下記の構造式に於いて記された番号の位置に対応するものであり、−の表記は、無置換を表す。
表中、*1は「油状あるいは樹脂状」を意味する。
なお、第3表に表した化合物にはオレフィン構造に起因する幾何異性体が存在するが、E−体、Z−体又はE−体およびZ−体を任意の割合で含む混合物であることを表し、表中、A、BおよびMxの記載は、幾何異性体における、それぞれ主成分、副成分および主成分と副成分の混合物であることを表し、例えば、[(Mx;10/1)]の表記は、1H NMRデータより算出した主成分(A)と副成分(B)の割合がそれぞれ10対1で含まれる混合物であることを表す。
なお、表中(i)との記載は重クロロホルム溶媒中、テトラメチルシランを標準物質として
用い、300MHzにて測定した条件(CDCl3,Me4Si,300MHz)を表し、(ii)との記載は(CDCl3,Me4Si,400MHz)の測定条件をそれぞれ表す。
さらに、幾何異性体混合物の1H NMRデータに関しては、主成分のみを表す。
4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソオキサゾール−3−イル]−2−メチル−N−(2−ピリミジニル)安息香酸アミド。
工程1;3−(4−ブロモフェニル)−5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソオキサゾールの製造
1,2−ジメトキシエタン10mL中1−(4−ブロモフェニル)−3−(3,5−ジクロロフェニル)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテン−1−オン430mg(1.0mmol)の溶液に、ヒドロキシルアミン塩酸塩140mg(2.0mmol)および水酸化ナトリウム160mg(4.0mmol)の水溶液2mLを室温にて滴下した。同温度にて2時間撹拌した後、反応液に酢酸エチル80mLを投入し、希塩酸50mLにて洗浄し、有機層を飽和食塩水次いで無水硫酸マグネシウムの順で脱水・乾燥した後、減圧下にて溶媒を留去した。得られた残留物を冷ヘキサンにて結晶化することにより、目的物360mg(0.8mmol;収率80.9%)を淡黄色固体として得た。
融点122ないし124℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)δ7.50−7.60(m, 6H),7.40−7.45(m,1H),4.07(d,J=17.4Hz,1H),3.68(d,J=17.4Hz,1H)。
工程2;4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソオキサゾール−3−イル]−2−メチルベンゾイル=クロリドの製造
1,2−ジメトキシエタン42mLおよび水42mL中オートクレーブ中の3−(4−ブロモ−3−メチルフェニル)−5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソオキサゾール18.1gおよび酢酸ナトリウム3.94gの溶液に、トリフェニルホスフィン0.42gおよび酢酸パラジウム(II)0.09gを添加し、1.5MPaの一酸化炭素雰囲気下110℃にて7時間攪拌した。反応完結後、室温まで放冷し、固形物を濾別した後、酢酸エチル100mLに投入した。有機層を1%炭酸水素ナトリウム水溶液(70mLx2)、次いで1N塩酸(55mLx1)にて洗浄し、飽和食塩水にて乾燥した後、溶媒をトルエンに置換した。このトルエン溶液にN,N−ジメチルホルムアミド2滴を添加し、80℃にて攪拌下、塩化チオニル6.0gを滴下、同温度にてさらに1.5時間攪拌を継続した。反応完結後、不溶物を濾別し、減圧下にて全量が約1/3となるまで溶媒を留去した。次いで、60℃にて攪拌下、ヘキサン50mLをゆっくりと滴下し、滴下終了後室温まで攪拌下にて放冷し、室温でさらに1時間攪拌を継続した。析出した結晶を濾別・乾燥し、目的物13.4gを白色結晶として得た。
融点140.5ないし143.0℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)δ8.25(d,J=8.7Hz,1H),7.64(d,J=8.7Hz,1H),7.59(s,1H),7.51(s,2H),7.43(s,1H),4.11(d,J=17.4Hz,1H),3.73(d,J=17.4Hz,1H),2.60 (s,3H)。
工程3;4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソオキサゾール−3−イル]−2−メチル−N−(2−ピリミジニル)安息香酸アミドの製造
1,2−ジクロロエタン40mL中2−アミノピリミジン0.52gの溶液に、室温にてピリジン0.51gを添加し、続いて1,2−ジクロロエタン20mL中4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソオキサゾール−3−イル]−2−メチルベンゾイル=クロリド2.0gの溶液を滴下し、室温にて18時間撹拌した。反応完了後、減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を酢酸エチルにて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製することにより、目的物1.86gを白色固体として得た。
融点98.0ないし100.0℃
1H NMR(CDCl3,Me4Si,300MHz)δ8.64(d,J=4.8Hz,2H),8.46(brs,1H),7.40−7.60(m,6H),7.08(t,J=4.8Hz,1H),4.10(d,J=17.2Hz,1H),3.72(d,J=17.2Hz,1H),2.57(s,3H)。
Claims (6)
- 一般式(1):
Yは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、−NH2又は−N(R5)R4を表し、nが2以上を表すとき、各々のYは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
R1は、C1−C6ハロアルキル基又はC3−C8ハロシクロアルキル基を表し、
R2は、メチル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−NH2、−N(R5)R4、−OH、−OR3、ベンジルオキシ基、−OSO2R3、フェニルスルホニルオキシ基、(Z)p1によって置換されたフェニルスルホニルオキシ基、−C(O)OH、−C(O)OR3、−C(O)NH2、−C(O)N(Rb)Ra又は−C(S)N(Rb)Raを表し、
R3は、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、C1−C6ハロアルキル基又はC1−C3ハロアルコキシ(C1−C3)ハロアルキル基を表し、
R4は、C1−C6アルキル基、−CHO、C1−C6アルキルカルボニル基、C1−C6ハロアルキルカルボニル基、C1−C6アルコキシカルボニル基、C1−C6アルキルチオカルボニル基、C1−C6アルコキシチオカルボニル基、C1−C6アルキルジチオカルボニル基、C1−C6アルキルスルホニル基又はC1−C6ハロアルキルスルホニル基を表し、
R5は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
Raは、C1−C6アルキル基、R6によって任意に置換された(C1−C6)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、−N(R9)R8、−C(O)OR7、−C(O)NH2、−C(O)NHR7、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−5、D−7、D−10、D−11、D−12、D−14、D−15、D−18、D−31、D−32、D−38、D−39、D−41、D−42、D−44、E−1、E−2、E−3、E−4又はE−7を表し、
Rbは、水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、シアノ(C1−C6)アルキル基、C3−C6アルキニル基、−C(O)R7又は−C(O)OR7を表し、
R6は、ハロゲン原子、シアノ基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、−C(O)NH2、−C(O)N(R13)R12、−C(S)NH2、−C(S)N(R13)R12、−C(R15)=NOH、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−1ないしD−46又はE−1ないしE−8を表し、
前記D−1ないしD−46は、それぞれ下記の構造式で表される芳香族複素環を表し、
前記E−1ないしE−8は、それぞれ下記の構造式で表される飽和複素環を表し、
R8は、C1−C6ハロアルキル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−3、D−4、D−18、D−38、D−41、D−42、D−44又はD−45を表し、
R9は、水素原子、C1−C6アルキル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R10は、C1−C6アルキル基、フェニル基又は(Z)p1によって置換されたフェニル基を表し、
R11は、C1−C4アルキル基を表し、q1,q2,q3又はq4が2以上の整数を表すとき、各々のR11は互いに同一であっても、又は互いに相異なっていてもよく、さらに、2つのR11が同一の炭素原子上に置換している場合、2つのR11は一緒になってオキソ環を形成してもよいことを表し、
R12は、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C6シクロアルキル(C1−C4)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R13は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
R14は、C1−C6アルキル基又はC1−C6ハロアルキル基を表し、
R15は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
mは、1ないし5の整数を表し、
nは、0ないし4の整数を表し、
p1は、1ないし5の整数を表し、
p2は、0ないし4の整数を表し、
p3は、0ないし3の整数を表し、
p4は、0ないし2の整数を表し、
p5は、0又は1の整数を表し、
q2は、0ないし5の整数を表し、
q3は、0ないし7の整数を表し、
q4は、0ないし9の整数を表し、
rは、0ないし2の整数を表し、
tは、0又は1の整数を表す。]で表される1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−3−ヒドロキシプロパン−1−オン化合物又はその塩。 - 前記式中、Xは、ハロゲン原子又はC1−C4ハロアルキル基を表し、mが2又は3を表すとき、各々のXは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
Yは、ハロゲン原子、ニトロ基、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R1は、C1−C4ハロアルキル基を表し、
mは、1ないし3の整数を表し、
nは、0又は1を表す請求項1記載の1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−3−ヒドロキシプロパン−1−オン化合物又はその塩。 - 前記式中、R2は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−NH2、−NHR4、−OH、−OR3、ベンジルオキシ基、−OSO2R3、フェニルスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、−C(O)OH、−C(O)OR3、−C(O)NH2又は−C(O)N(Rb)Raを表し、
R3は、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R4は、C1−C4アルキル基、−CHO、C1−C4アルキルカルボニル基又はC1−C4アルコキシカルボニル基を表し、
Raは、C1−C4アルキル基、R6によって任意に置換された(C1−C4)アルキル基、−N(R9)R8、−C(O)OR7、−C(O)NH2、−C(O)NHR7、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−5、D−7、D−10、D−11、D−12、D−14、D−15、D−18、D−31、D−32、D−38、D−39、D−41、D−42、D−44、E−1又はE−7を表し、
Rbは、水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、シアノ(C1−C4)アルキル基、C3−C6アルキニル基、−C(O)R7又は−C(O)OR7を表し、
R6は、ハロゲン原子、シアノ基、C3−C6シクロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C4アルキルチオ基、C1−C4ハロアルキルチオ基、C1−C4アルキルスルホニル基、C1−C4ハロアルキルスルホニル基、−C(O)N(R13)R12、−C(R15)=NOH、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−11ないしD−14、D−18、D−19、D−25、D−26、D−31、D−32、D−36、D−38、D−41、D−44、D−45、E−1、E−2又はE−5を表し、
Zは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C4アルキルスルホニル基又はC1−C4ハロアルキルスルホニル基を表し、p1,p2,p3又はp4が2以上の整数を表すとき、各々のZは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
R7は、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6アルコキシ(C1−C4)アルキル基、C1−C6アルキルチオ(C1−C4)アルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R8は、C1−C4ハロアルキル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−3、D−4、D−18、D−38、D−41、D−42、D−44又はD−45を表し、
R9は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
R10は、C1−C4アルキル基を表し、
R11は、C1−C4アルキル基を表し、q1,q2,q3又はq4が2以上の整数を表すとき、各々のR11は互いに同一であっても、又は互いに相異なっていてもよく、さらに、2つのR11が同一の炭素原子上に置換している場合、2つのR11は一緒になってオキソ環を形成してもよいことを表し、
R12は、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C3−C6シクロアルキル(C1−C4)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R13は、水素原子又はC1−C4アルキル基を表し、
R14は、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R15は、水素原子又はC1−C4アルキル基を表す請求項2記載の1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−3−ヒドロキシプロパン−1−オン化合物又はその塩。 - 一般式(2):
Yは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、−NH2又は−N(R5)R4を表し、nが2以上を表すとき、各々のYは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
R1は、C1−C6ハロアルキル基又はC3−C8ハロシクロアルキル基を表し、
R2は、メチル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−NH2、−N(R5)R4、−OH、−OR3、ベンジルオキシ基、−OSO2R3、フェニルスルホニルオキシ基、(Z)p1によって置換されたフェニルスルホニルオキシ基、−C(O)OH、−C(O)OR3、−C(O)NH2、−C(O)N(Rb)Ra又は−C(S)N(Rb)Raを表し、
R3は、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、C1−C6ハロアルキル基又はC1−C3ハロアルコキシ(C1−C3)ハロアルキル基を表し、
R4は、C1−C6アルキル基、−CHO、C1−C6アルキルカルボニル基、C1−C6ハロアルキルカルボニル基、C1−C6アルコキシカルボニル基、C1−C6アルキルチオカルボニル基、C1−C6アルコキシチオカルボニル基、C1−C6アルキルジチオカルボニル基、C1−C6アルキルスルホニル基又はC1−C6ハロアルキルスルホニル基を表し、
R5は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
Raは、C1−C6アルキル基、R6によって任意に置換された(C1−C6)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、−N(R9)R8、−C(O)OR7、−C(O)NH2、−C(O)NHR7、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−5、D−7、D−10、D−11、D−12、D−14、D−15、D−18、D−31、D−32、D−38、D−39、D−41、D−42、D−44、E−1、E−2、E−3、E−4又はE−7を表し、
Rbは、水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、シアノ(C1−C6)アルキル基、C3−C6アルキニル基、−C(O)R7又は−C(O)OR7を表し、
R6は、ハロゲン原子、シアノ基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6ハロシクロアルキル基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルキルチオ基、C1−C6ハロアルキルチオ基、C1−C6アルキルスルフィニル基、C1−C6ハロアルキルスルフィニル基、C1−C6アルキルスルホニル基、C1−C6ハロアルキルスルホニル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、−C(O)NH2、−C(O)N(R13)R12、−C(S)NH2、−C(S)N(R13)R12、−C(R15)=NOH、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−1ないしD−46又はE−1ないしE−8を表し、
前記D−1ないしD−46は、それぞれ下記の構造式で表される芳香族複素環を表し、
前記E−1ないしE−8は、それぞれ下記の構造式で表される飽和複素環を表し、
R8は、C1−C6ハロアルキル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−3、D−4、D−18、D−38、D−41、D−42、D−44又はD−45を表し、
R9は、水素原子、C1−C6アルキル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R10は、C1−C6アルキル基、フェニル基又は(Z)p1によって置換されたフェニル基を表し、
R11は、C1−C4アルキル基を表し、q1,q2,q3又はq4が2以上の整数を表すとき、各々のR11は互いに同一であっても、又は互いに相異なっていてもよく、さらに、2つのR11が同一の炭素原子上に置換している場合、2つのR11は一緒になってオキソ環を形成してもよいことを表し、
R12は、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C6シクロアルキル(C1−C4)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R13は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
R14は、C1−C6アルキル基又はC1−C6ハロアルキル基を表し、
R15は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
mは、1ないし5の整数を表し、
nは、0ないし4の整数を表し、
p1は、1ないし5の整数を表し、
p2は、0ないし4の整数を表し、
p3は、0ないし3の整数を表し、
p4は、0ないし2の整数を表し、
p5は、0又は1の整数を表し、
q2は、0ないし5の整数を表し、
q3は、0ないし7の整数を表し、
q4は、0ないし9の整数を表し、
rは、0ないし2の整数を表し、
tは、0又は1の整数を表す。]で表される1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−2−プロペン−1−オン化合物又はその塩。 - 前記式中、Xは、ハロゲン原子又はC1−C4ハロアルキル基を表し、mが2又は3を表すとき、各々のXは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
Yは、ハロゲン原子、ニトロ基、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R1は、C1−C4ハロアルキル基を表し、
mは、1ないし3の整数を表し、
nは、0又は1を表す請求項4記載の1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−2−プロペン−1−オン化合物又はその塩。 - 前記式中、R2は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−NH2、−NHR4、−OH、−OR3、ベンジルオキシ基、−OSO2R3、フェニルスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、−C(O)OH、−C(O)OR3、−C(O)NH2又は−C(O)N(Rb)Raを表し、
R3は、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R4は、C1−C4アルキル基、−CHO、C1−C4アルキルカルボニル基又はC1−C4アルコキシカルボニル基を表し、
Raは、C1−C4アルキル基、R6によって任意に置換された(C1−C4)アルキル基、−N(R9)R8、−C(O)OR7、−C(O)NH2、−C(O)NHR7、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−5、D−7、D−10、D−11、D−12、D−14、D−15、D−18、D−31、D−32、D−38、D−39、D−41、D−42、D−44、E−1又はE−7を表し、
Rbは、水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルキル基、シアノ(C1−C4)アルキル基、C3−C6アルキニル基、−C(O)R7又は−C(O)OR7を表し、
R6は、ハロゲン原子、シアノ基、C3−C6シクロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C4アルキルチオ基、C1−C4ハロアルキルチオ、C1−C4アルキルスルホニル基、C1−C4ハロアルキルスルホニル基、−C(O)N(R13)R12、−C(R15)=NOH、−C(R15)=NOR14、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−11ないしD−14、D−18、D−19、D−25、D−26、D−31、D−32、D−36、D−38、D−41、D−44、D−45、E−1、E−2又はE−5を表し、
Zは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C1−C4アルコキシ基、C1−C4ハロアルコキシ基、C1−C4アルキルスルホニル基又はC1−C4ハロアルキルスルホニル基を表し、p1,p2,p3又はp4が2以上の整数を表すとき、各々のZは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
R7は、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6アルコキシ(C1−C4)アルキル基、C1−C6アルキルチオ(C1−C4)アルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R8は、C1−C4ハロアルキル基、−C(O)R12、−C(O)OR12、フェニル基、(Z)p1によって置換されたフェニル基、D−3、D−4、D−18、D−38、D−41、D−42、D−44又はD−45を表し、
R9は、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、
R10は、C1−C4アルキル基を表し、
R11は、C1−C4アルキル基を表し、q1,q2,q3又はq4が2以上の整数を表すとき、各々のR11は互いに同一であっても、又は互いに相異なっていてもよく、さらに、2つのR11が同一の炭素原子上に置換している場合、2つのR11は一緒になってオキソ環を形成してもよいことを表し、
R12は、C1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C3−C6シクロアルキル(C1−C4)アルキル基、C3−C6シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基又はC3−C6アルキニル基を表し、
R13は、水素原子又はC1−C4アルキル基を表し、
R14は、C1−C4アルキル基又はC1−C4ハロアルキル基を表し、
R15は、水素原子又はC1−C4アルキル基を表す請求項5記載の1,3−ビス(置換フェニル)−3−置換−2−プロペン−1−オン化合物又はその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007551969A JP5304981B2 (ja) | 2005-12-26 | 2006-12-25 | 1,3−ビス(置換フェニル)−3−ヒドロキシプロパン−1−オンおよび2−プロペン−1−オン化合物およびその塩 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005372712 | 2005-12-26 | ||
JP2005372712 | 2005-12-26 | ||
PCT/JP2006/325818 WO2007074789A1 (ja) | 2005-12-26 | 2006-12-25 | 1,3-ビス(置換フェニル)-3-ヒドロキシプロパン-1-オンおよび2-プロペン-1-オン化合物およびその塩 |
JP2007551969A JP5304981B2 (ja) | 2005-12-26 | 2006-12-25 | 1,3−ビス(置換フェニル)−3−ヒドロキシプロパン−1−オンおよび2−プロペン−1−オン化合物およびその塩 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007074789A1 true JPWO2007074789A1 (ja) | 2009-06-04 |
JP5304981B2 JP5304981B2 (ja) | 2013-10-02 |
Family
ID=38218009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007551969A Active JP5304981B2 (ja) | 2005-12-26 | 2006-12-25 | 1,3−ビス(置換フェニル)−3−ヒドロキシプロパン−1−オンおよび2−プロペン−1−オン化合物およびその塩 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7700808B2 (ja) |
EP (1) | EP1975149B1 (ja) |
JP (1) | JP5304981B2 (ja) |
CN (1) | CN101346336B (ja) |
WO (1) | WO2007074789A1 (ja) |
Families Citing this family (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EA014881B1 (ru) | 2004-03-05 | 2011-02-28 | Ниссан Кемикал Индастриз, Лтд. | Производные замещенного алкилбензола |
TW200803740A (en) | 2005-12-16 | 2008-01-16 | Du Pont | 5-aryl isoxazolines for controlling invertebrate pests |
TWI412322B (zh) | 2005-12-30 | 2013-10-21 | Du Pont | 控制無脊椎害蟲之異唑啉 |
BRPI0809770B8 (pt) | 2007-06-13 | 2022-12-06 | Du Pont | Composto e composição para controlar uma praga de invertebrados |
TWI430995B (zh) | 2007-06-26 | 2014-03-21 | Du Pont | 萘異唑啉無脊椎有害動物控制劑 |
BRPI0810929B8 (pt) | 2007-06-27 | 2022-12-06 | Du Pont | uso de um composto de fórmula 1 |
EP2172462A4 (en) * | 2007-06-27 | 2010-12-15 | Nissan Chemical Ind Ltd | METHOD FOR PRODUCING A 3-HYDROXYPROPAN-1-ON COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING A 2-PROPENE-1-ON COMPOUND, AND METHOD FOR PRODUCING AN ISOXAZOLINE COMPOUND |
TWI649303B (zh) * | 2007-08-17 | 2019-02-01 | 杜邦股份有限公司 | 製備4-乙醯基-n-〔2-側氧基-2-〔(2,2,2-三氟乙基)胺基〕乙基〕-1-萘甲醯胺之化合物及方法 |
WO2009045999A1 (en) | 2007-10-03 | 2009-04-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Naphthalene isoxazoline compounds for control of invertebrate pests |
GB0720232D0 (en) | 2007-10-16 | 2007-11-28 | Syngenta Participations Ag | Insecticidal compounds |
JP5365807B2 (ja) * | 2007-11-12 | 2013-12-11 | 日産化学工業株式会社 | 光学活性イソキサゾリン化合物の触媒的不斉合成方法 |
WO2009072621A1 (ja) | 2007-12-07 | 2009-06-11 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 置換ジヒドロアゾール化合物及び有害生物防除剤 |
TWI411395B (zh) | 2007-12-24 | 2013-10-11 | Syngenta Participations Ag | 殺蟲化合物 |
CN101939295B (zh) | 2008-02-07 | 2013-04-24 | 拜尔农作物科学股份公司 | 杀虫的芳基吡咯啉 |
JP2009286773A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-12-10 | Bayer Cropscience Ag | 殺虫性縮環式アリール類 |
JP5472638B2 (ja) * | 2008-03-18 | 2014-04-16 | 日産化学工業株式会社 | 1−(置換フェニル)−1−置換シリルエーテル、アルコールまたはケトンの製造方法および中間体 |
TWI518076B (zh) * | 2008-04-09 | 2016-01-21 | 杜邦股份有限公司 | 製備雜環化合物之方法 |
JP2011527307A (ja) | 2008-07-09 | 2011-10-27 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | イソオキサゾリン化合物iを含む殺有害生物活性混合物 |
KR20110028538A (ko) * | 2008-07-09 | 2011-03-18 | 바스프 에스이 | 이속사졸린 화합물 ⅱ를 포함하는 살충 혼합물 |
EA201100980A1 (ru) | 2008-12-23 | 2012-01-30 | Басф Се | Замещенные амидиновые соединения для подавления животных-вредителей |
KR20110098848A (ko) | 2008-12-23 | 2011-09-01 | 바스프 에스이 | 무척추동물 해충을 퇴치하기 위한 이민 화합물 |
EA021068B1 (ru) | 2009-01-27 | 2015-03-31 | Басф Се | Способ обработки семян, препаративная форма для дражирования семян и набор |
WO2010089244A1 (en) | 2009-02-03 | 2010-08-12 | Basf Se | Method for dressing seeds |
ES2444270T3 (es) | 2009-03-04 | 2014-02-24 | Basf Se | Compuestos de 3-arilquinazolin-3-ona para combatir plagas de invertebrados |
DK2424862T3 (en) | 2009-04-30 | 2014-12-15 | Basf Se | METHOD FOR PRODUCING SUBSTITUTED ISOXAZOLINFORBINDELSER AND THEIR Precursor |
US8410141B2 (en) | 2009-05-19 | 2013-04-02 | Bayer Cropscience Ag | Insecticidal arylpyrrolines |
EP2451804B1 (en) | 2009-07-06 | 2014-04-30 | Basf Se | Pyridazine compounds for controlling invertebrate pests |
TWI487486B (zh) | 2009-12-01 | 2015-06-11 | Syngenta Participations Ag | 以異唑啉衍生物為主之殺蟲化合物 |
CN102762543B (zh) | 2010-02-01 | 2016-03-09 | 巴斯夫欧洲公司 | 用于防除动物害虫的取代的酮型异*唑啉化合物和衍生物 |
JP2013522347A (ja) | 2010-03-23 | 2013-06-13 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 無脊椎有害生物を防除するためのピリダジン化合物 |
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JP2013532156A (ja) | 2010-06-23 | 2013-08-15 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 無脊椎有害生物を駆除するためのイミン化合物を製造するための方法 |
WO2012007426A1 (en) | 2010-07-13 | 2012-01-19 | Basf Se | Azoline substituted isoxazoline benzamide compounds for combating animal pests |
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AR100304A1 (es) | 2014-02-05 | 2016-09-28 | Basf Corp | Formulación de recubrimiento de semillas |
WO2016058882A1 (en) * | 2014-10-14 | 2016-04-21 | Syngenta Participations Ag | Process for the preparation of halo-substituted trifluoroacetophenones |
EP3601275A1 (en) | 2017-03-23 | 2020-02-05 | Syngenta Participations AG | Insecticidal compounds |
EP3601280A1 (en) | 2017-03-23 | 2020-02-05 | Syngenta Participations AG | Insecticidal compounds |
WO2019243263A1 (en) | 2018-06-19 | 2019-12-26 | Syngenta Participations Ag | Insecticidal compounds |
US20220048876A1 (en) | 2018-09-26 | 2022-02-17 | Syngenta Participations Ag | Insecticidal compounds |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3931152A (en) * | 1974-01-29 | 1976-01-06 | American Cyanamid Company | 2-(1,3-Diazacycloalkenyl)-2-hydrazones of substituted chalcones |
US5420301A (en) * | 1988-03-18 | 1995-05-30 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of substituted difluorobenzo-1,3-dioxoles |
CA2145458A1 (en) * | 1994-03-28 | 1995-09-29 | Hiroki Kodama | Triazole compound and production process and use thereof |
JPH07316140A (ja) | 1994-03-28 | 1995-12-05 | Nippon Nohyaku Co Ltd | 新規トリアゾール化合物及びその製法並びにその用途 |
EP0784624A1 (en) | 1994-10-05 | 1997-07-23 | Chiroscience Limited | Purine and guanine compounds as inhibitors of pnp |
HUT77650A (hu) | 1994-12-22 | 1998-07-28 | Smithkline Beecham P.L.C. | Spiro{(furo[2,3-f]indol-, furo[2,3-g]kinolin- és furo[2,3-h]benzazepin)-3,4'-piperidin}-származékok, eljárás előállításukra és az ezeket tartalmazó gyógyszerkészítmények |
AR007293A1 (es) | 1996-06-06 | 1999-10-27 | Rohm & Haas | Compuestos aromaticos benciloxi sustituidos y su uso como fungicidas e insecticidas. |
JP3882229B2 (ja) | 1996-06-28 | 2007-02-14 | ユニマテック株式会社 | 新規なビニルエーテル化合物、その合成中間体およびそれらの製造法 |
AU736609B2 (en) | 1997-11-24 | 2001-08-02 | Dow Agrosciences Llc | Benzyloxy substituted aromatics and their use as fungicides |
US5990323A (en) | 1998-10-23 | 1999-11-23 | Eastman Chemical Company | Preparation of amines |
EP1538138A4 (en) * | 2002-08-26 | 2007-07-25 | Nissan Chemical Ind Ltd | SUBSTITUTED BENZANILIDE COMPOUND AND PROTECTIVE AGENTS |
JP2005035964A (ja) | 2002-08-26 | 2005-02-10 | Nissan Chem Ind Ltd | 置換ベンズアニリド化合物及び有害生物防除剤 |
EA014881B1 (ru) | 2004-03-05 | 2011-02-28 | Ниссан Кемикал Индастриз, Лтд. | Производные замещенного алкилбензола |
-
2006
- 2006-12-25 US US12/087,019 patent/US7700808B2/en active Active
- 2006-12-25 JP JP2007551969A patent/JP5304981B2/ja active Active
- 2006-12-25 CN CN200680049206.7A patent/CN101346336B/zh active Active
- 2006-12-25 EP EP06835188A patent/EP1975149B1/en active Active
- 2006-12-25 WO PCT/JP2006/325818 patent/WO2007074789A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1975149B1 (en) | 2012-02-15 |
EP1975149A4 (en) | 2010-07-07 |
US20090023923A1 (en) | 2009-01-22 |
CN101346336B (zh) | 2013-02-27 |
CN101346336A (zh) | 2009-01-14 |
JP5304981B2 (ja) | 2013-10-02 |
EP1975149A1 (en) | 2008-10-01 |
WO2007074789A1 (ja) | 2007-07-05 |
US7700808B2 (en) | 2010-04-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091214 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120516 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120702 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130306 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130430 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130529 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130611 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |