JPWO2007063652A1 - 光酸発生剤組成物、カチオン系光重合性組成物、インクジェットインク及びそれを用いるインクジェット記録方法 - Google Patents

光酸発生剤組成物、カチオン系光重合性組成物、インクジェットインク及びそれを用いるインクジェット記録方法 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2007063652A1
JPWO2007063652A1 JP2007547869A JP2007547869A JPWO2007063652A1 JP WO2007063652 A1 JPWO2007063652 A1 JP WO2007063652A1 JP 2007547869 A JP2007547869 A JP 2007547869A JP 2007547869 A JP2007547869 A JP 2007547869A JP WO2007063652 A1 JPWO2007063652 A1 JP WO2007063652A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
alkyl
ink
general formula
alkyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007547869A
Other languages
English (en)
Inventor
真角 智
智 真角
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Medical and Graphic Inc filed Critical Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Publication of JPWO2007063652A1 publication Critical patent/JPWO2007063652A1/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C381/00Compounds containing carbon and sulfur and having functional groups not covered by groups C07C301/00 - C07C337/00
    • C07C381/12Sulfonium compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/76Dibenzothiophenes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/02Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
    • C07D405/12Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • C08G59/687Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used containing sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/30Inkjet printing inks
    • C09D11/38Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Ink Jet (AREA)
  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)

Abstract

本発明は、ベンゼンの放出がなく、長期保存安定性に優れたスルホニウム塩化合物を含む光酸発生剤組成物と、それを用いたカチオン系光重合性組成物、インクジェットインク及びインクジェット記録方法を提供する。この光酸発生剤組成物は、下記一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩と、該一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩を除くスルホニウム塩とを含有することを特徴とする。【化1】

Description

本発明は、安定性に優れ、近紫外線領域での感光性に優れた光酸発生剤組成物、カチオン系光重合性組成物、インクジェットインク及びそれを用いるインクジェット記録方法に関するものである。
近年、光カチオン硬化性組成物は、酸素による重合阻害がないこと、低臭気で低粘度なモノマーが新たに開発されてきていることから、注目されている。また、フォトレジストの分野でも、有効な化学増幅型レジストとして注目されている。例えば、ベンゼンの発生がなく、射出性、硬化物の密着性に優れていることが示されている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、インクジェット記録方式以外の用途に用いる場合、インクジェットインク組成物の安定性が満足できないことが判明した。また、フォトレジスト用の新規の光酸発生剤が開示されている(例えば、特許文献2参照。)。また、近紫外領域に感光性を持つ開始剤が開示されている(例えば、特許文献3参照。)。しかしながら、これら提案されている光酸発生剤は、硬化性組成物を構成するとき、モノマーへの溶解性が不十分で、特に、インクジェットインク用に用いた場合、長期間にわたり保存された際に、射出性が十分満足できる特性でないことが判明した。
特開2005−97557号公報 特開平9−15848号公報 国際公開第04/29037号パンフレット
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、ベンゼンの放出がなく、長期保存安定性に優れたスルホニウム塩化合物を含む光酸発生剤組成物と、それを用いたカチオン系光重合性組成物、インクジェットインク及びインクジェット記録方法を提供することにある。
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
1.下記一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩と、該一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩を除くスルホニウム塩とを含有することを特徴とする光酸発生剤組成物。
〔式中、R1〜R17は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、フェノキシ基、エステル基、アリール基、チオエーテル基、チオカルボニル基、スルフィニル基、スルホニル基、アミノ基、アミド基、イミド基、ニトリル基、ホスフィニ基、ホスホニオ基、ホスホリル基、及び炭素数1〜8のフルオロアルキル基からなる群から選ばれる基であって、同一であっても異なっていてもよく、これらの基の官能基以外の部分は、炭素数1〜12の、飽和脂肪族炭化水素基、不飽和脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、炭素環式芳香族炭化水素または複素環式芳香族炭化水素基であってもよい。また、R5及びR6は互いに縮合して共有結合となってもよい。Xは、1価のアニオンになりうる原子団である。〕
2.前記一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩を除くスルホニウム塩は、下記一般式(A)で表される構造を有するスルホニウム塩であることを特徴とする前記1に記載の光酸発生剤組成物。
〔式中、Ra1、Ra2は各々アルキル基または芳香族基を表し、Z1は酸素原子または硫黄原子を表し、Ra3、Ra4は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基を表し、m1は0〜4の整数を表し、n1及びp1は各々1〜5の整数を表し、Yは、Z−SO3(ZはCn2n+1(nは1〜10の整数)、アルキル基、またはアルキル置換もしくは無置換の芳香族基を表す)、PF6、BF4、AsF6、SbF6、B(C654、ClO4、Br、ClまたはIを表す。〕
3.多環芳香族化合物、カルバゾール誘導体及びチオキサントン誘導体から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする前記1または2に記載の光酸発生剤組成物。
4.前記多環芳香族化合物、カルバゾール誘導体及びチオキサントン誘導体から選ばれる少なくとも1種の化合物が、アントラセン、フルオレン、ピレン、クリセン、フェナントレン、アントラキノン、ペリレン、カルバゾール、フェノチアジン、チオキサントン、チアントレン、ベンズアントラセン、ナフタセン、トリフェニレン及び下記一般式(3)から選ばれる少なくとも1つの化合物であることを特徴とする前記3に記載の光酸発生剤組成物。
〔式中、R21〜R28は、前記一般式(1)におけるR1〜R17と同義である。〕
5.前記一般式(A)で表される構造を有するスルホニウム塩が、下記一般式(B)、(C)及び(D)から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする前記2〜4のいずれか1項に記載の光酸発生剤組成物。
〔式中、R31は炭素数1〜10のアルキル基を表し、R32、R33は各々炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を表し、Y3は、Z−SO3(ZはCn2n+1(nは1〜10の整数)、アルキル基、またはアルキル置換もしくは無置換の芳香族基を表す)、PF6、BF4、AsF6、SbF6、B(C654、ClO4、Br、ClまたはIを表す。〕
〔式中、R41は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R42は置換基を表し、m4は0〜4の整数を表し、R43、R44は各々炭素数1〜10のアルキル基を表し、Y4は、Z−SO3(ZはCn2n+1(nは1〜10の整数)、アルキル基、またはアルキル置換もしくは無置換の芳香族基を表す)、PF6、BF4、AsF6、SbF6、B(C654、ClO4、Br、ClまたはIを表す。〕
〔式中、R51は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R52は置換基を表し、m5は0〜4の整数を表し、R53、R54は各々炭素数1〜10のアルキル基を表し、Y5は、Z−SO3(ZはCn2n+1(nは1〜10の整数)、アルキル基、またはアルキル置換もしくは無置換の芳香族基を表す)、PF6、BF4、AsF6、SbF6、B(C654、ClO4、Br、ClまたはIを表す。〕
6.前記1〜5のいずれか1項に記載の光酸発生剤組成物と、カチオン重合性化合物とを含有することを特徴とするカチオン系光重合性組成物。
7.前記カチオン重合性化合物が、エポキシ化合物、オキセタン化合物及びビニルエーテル化合物から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする前記6に記載のカチオン系光重合性組成物。
8.顔料を含有することを特徴とする前記6または7に記載のカチオン系光重合性組成物。
9.前記1〜5のいずれか1項に記載の光酸発生剤組成物を用いることを特徴とするインクジェットインク。
10.前記6〜8のいずれか1項に記載のカチオン系光重合性組成物を用いることを特徴とするインクジェットインク。
11.繊維状記録材料に、前記9または10に記載のインクジェットインクを用いてインクジェット記録することを特徴とするインクジェット記録方法。
本発明により、ベンゼンの放出がなく、長期保存安定性に優れたスルホニウム塩化合物を含む光酸発生剤組成物と、それを用いたカチオン系光重合性組成物、インクジェットインク及びインクジェット記録方法を提供することができた。
本発明の記録装置の要部の構成を示す正面図である。
符号の説明
1 記録装置
2 ヘッドキャリッジ
3 記録ヘッド
31 インク吐出口
4 照射手段
5 プラテン部
6 ガイド部材
7 蛇腹構造
P 記録材料
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、前記一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩と、前記一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩を除くスルホニウム塩とを含有することを特徴とする光酸発生剤組成物により、人体に有害なベンゼンの放出がなく、長期保存安定性に優れたスルホニウム塩化合物を含む光酸発生剤組成物を実現できることを見出し、本発明に至った次第である。
以下、本発明の詳細について説明する。
《光酸発生剤組成物》
(一般式(1)で表される化合物)
本発明の光酸発生剤組成物は、光酸発生剤として前記一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩を含有することを特徴とする。
本発明に係る前記一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩を用いることにより、酸素による硬化阻害が起こらず、硬化精度がよく、かつ照射エネルギーに対し高感度で、十分な硬化深度を有し、更にベンゼンの発生を抑制することができる。
前記一般式(1)において、R1〜R17は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、フェノキシ基、エステル基、アリール基、チオエーテル基、チオカルボニル基、スルフィニル基、スルホニル基、アミノ基、アミド基、イミド基、ニトリル基、ホスフィニ基、ホスホニオ基、ホスホリル基、及び炭素数1〜8のフルオロアルキル基からなる群から選ばれる基であって、同一であっても異なっていてもよく、これらの基の官能基以外の部分は、炭素数1〜12の、飽和脂肪族炭化水素基、不飽和脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、炭素環式芳香族炭化水素または複素環式芳香族炭化水素基であってもよい。また、R5及びR6は互いに縮合して共有結合となってもよい。Xは、1価のアニオンになりうる原子団である。
前記一般式(1)において、R1〜R10として特に好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アシル基または炭素数1〜8のフルオロアルキル基であり、同一であっても異なっていてもよい。また、R5及びR6が互いに縮合して共有結合となっている場合も好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、活性エネルギー線感受性の点で、フッ素原子が好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ターシャリブチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ペプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基等を挙げることができ、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基がよく、特に、メチル基、エチル基が好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ペプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、ミリスチルオキシ基、パルミチルオキシ基、ステアリルオキシ基等を挙げることができ、好ましくは、炭素数1〜4のアルコキシ基であり、特に、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。フルオアルキル基としては、フルオメチル基、ジフルオメチル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロエチル基、パーフルオロエチル基等を挙げることができ、特にトリフルオロメチル基が好ましい。
アシル基としては、R−CO−またはAr−CO−で表される基を挙げることができる。このRとしては、直鎖または分岐鎖のアルキル基または脂環式炭化水素基を挙げることができる。
Rの具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ターシャリブチル基、ペンテル基、イソペンチル基、ターシャリーペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ペプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
Arとしては、下記一般式(a)〜(f)で表される基を挙げることができる。
上記一般式(a)〜(f)において、R18〜R63はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を表し、同一であっても異なっていてもよい。
上記一般式(a)〜(f)におけるR18〜R63の具体例としては、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ターシャリブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ターシャリペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ペプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基等を挙げることができ、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ペプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、ミリスチルオキシ基、パルミチルオキシ基、ステアリルオキシ基等を挙げることができる。
本発明に係る一般式(1)において、R1〜R17で表される基は同一であっても異なっていてもよいが、好ましくはR1〜R10の全てが水素原子であるか、あるいはR1〜R5のうち、いずれか1または2個、好ましくは1個が水素原子以外であり、その他は全て水素原子であって、R6〜R10のうち、いずれか1または2個、好ましくは1個が水素原子以外であり、その他は全て水素原子であることが好ましく、より好ましくはR1〜R10の全てが水素原子であるか、あるいはR1〜R5のうち、いずれか1個がメチル基、フッ素原子、ニトロ基、アシル基から選ばれる基であり、その他は全て水素原子であって、R6〜R10のうちいずれか1個がメチル基、フッ素原子、ニトロ基、アシル基から選ばれる基であり、その他は全て水素原子であることが好ましい。また、R5及びR6が互いに縮合して共有結合となっている場合も好ましい。
11〜R17は、前記R1〜R10と同様である(ただし、R5及びR6が互いに縮合して共有結合となっている場合を除く)が、中でも1個がAr−CO−基であり、他は水素原子であることが好ましい。
以下に、本発明に係る一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩のカチオン部の具体例を示すが、本発明はこれら例示する化合物に限定されるものではない。
また、本発明に係る一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩のアニオン部(X-)の好ましい具体例としては、例えば、SbF6 -、PF6 -を挙げることができる。
(一般式(A)で表される化合物)
本発明の光酸発生剤組成物においては、上記説明した一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩と共に、一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩を除くスルホニウム塩を含有することを特徴とする。
本発明において、一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩を除くスルホニウム塩としては、特に制限はないが、前記一般式(A)で表される構造を有するスルホニウム塩であることが好ましい。
前記一般式(A)において、Ra1、Ra2は各々アルキル基または芳香族基を表し、Z1は酸素原子または硫黄原子を表し、Ra3、Ra4は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基を表し、m1は0〜4の整数を表し、n1及びp1は各々1〜5の整数を表し、Yは、Z−SO3(ZはCn2n+1(nは1〜10の整数)、アルキル基、またはアルキル置換もしくは無置換の芳香族基を表す)、PF6、BF4、AsF6、SbF6、B(C654、ClO4、Br、ClまたはIを表す。
アルキル基としては、直鎖でも分岐を有していても環状になっていてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
芳香族基としては、芳香族炭化水素環基でも芳香族複素環基でもよく、縮合環を有していてもよく、例えば、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)等が挙げられる。
上述したアルキル基または芳香族基は、さらに置換基を有していていもよく、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していてもよい。該置換基の例としては、上述したアルキル基の他に、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、複素芳香族基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、ヘテロ環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)等が挙げられる。これらの置換基は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。
Ra1、Ra2で表されるアルキル基または芳香族基は、さらに置換基を有していても有していなくてもよいが、好ましくは、無置換のアルキル基または芳香族基であるか、またはハロゲン原子が置換したアルキル基またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは、無置換のアルキル基または芳香族基であるか、またはフッ素原子が置換したアルキル基、またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としてはフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げることができる。
1は酸素原子または硫黄原子を表し、Z1はスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位またはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。
Ra3、Ra4は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。
アルキル基、芳香族基としては、上述したRa1、Ra2と同義の基を表す。
アルコキシ基、該アリールオキシ基としては、酸素原子に上述したRa1、Ra2と同義の基が一箇所結合した基であり、例としてはアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)等が挙げられる。
アルキルチオ基、アリールチオ基としては、硫黄原子に上述したRa1、Ra2と同義の基が一箇所結合した基であり、例としては、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)等が挙げられる。上述した芳香族基、アリールオキシ基、アリールチオ基は縮合環を有していてもよい。
上述したアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基はさらに置換基を有していていもよく、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していてもよい。該置換基の例としては、上述したRa1の置換基の例と同義の基を挙げることができ、これらの置換基は、さらに置換基によって置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。Ra3、Ra4で表されるアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基はさらに置換基を有していても、有していなくてもよいが、好ましくは無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるか、またはハロゲン原子が置換したアルキル基、またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは、無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるか、またはフッ素原子が置換したアルキル基、またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としてはフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げることができる。
m1は0〜4の整数を表し、好ましく0〜3の整数であり、より好ましくは0〜2の整数であり、n1及びp1は各々1〜5の整数を表し、各々好ましくは1〜3の整数であり、より好ましくは各々1〜2の整数である。
複数個のRa2、Ra3、Ra4は、各々同じでも異なってもよく、Ra1とRa2あるいは複数個のRa2同士が結合して環を形成してもよく、Ra2とRa3あるいは複数個のRa3同士が結合して環を形成してもよく、Ra2とRa4あるいは複数個のRa4同士が結合して環を形成してもよく、Ra2とRa4が結合して環を形成してもよい。Ra3の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位またはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。Ra4の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位またはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。
Yは、Z−SO3(ZはCn2n+1(nは1〜10の整数)、アルキル基、またはアルキル置換もしくは無置換の芳香族基を表す)、PF6、BF4、AsF6、SbF6、B(C654、ClO4、Br、ClまたはIを表すが、好ましくは、PF6、CF3SO3、BF4、AsF6、B(C654、である。
本発明に係る一般式(A)で表されるスルホニウム塩化合物としては、更には本発明に係る前記一般式(B)〜(D)で表される化合物が好ましく、特に一般式(B)で表される化合物が好ましい。
(一般式(B)で表される化合物)
前記一般式(B)において、R31は炭素数1〜10のアルキル基を表す。アルキル基は直鎖でも分岐を有していても、環状になっていてもよく、例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、tert−アミル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これらはさらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、上述した一般式(A)におけるRa1の置換基と同義の基である。R31は好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜4のアルキル基である。
32、R33は各々炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を表す。アルキル基は上述したR31と同義の基であり、アルコキシ基は、酸素原子に上述したR31と同義の基が一箇所結合した基であり、例としてはメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。R32、R33は、各々好ましくは炭素数1〜6のアルキル基または炭素数1〜6のアルコキシ基であり、より好ましくは炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシ基であり、最も好ましくはメチル基またはメトキシ基である。Y3は上述した一般式(A)におけるYと同義である。
(一般式(C)で表される化合物)
一般式(C)において、R41は炭素数1〜10のアルキル基を表す。アルキル基としては、直鎖でも分岐を有していても、環状になっていてもよく、例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、tert−アミル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これらはさらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、上述した一般式(A)におけるRa1の置換基と同義の基である。R41は好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、最も好ましくはメチル基である。
42は置換基を表し、該置換基としては上述した一般式(A)におけるRa1の置換基と同義の基である。
m4は0〜4の整数を表し、好ましくは0〜2の整数であり、より好ましくは0か1である。
43、R44は各々炭素数1〜10のアルキル基を表す。アルキル基としては、上述したR31と同義の基である。R43、R44は各々好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、最も好ましくはメチル基である。Y4は上述した一般式(A)におけるYと同義である。
(一般式(D)で表される化合物)
一般式(D)において、R51は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表す。アルキル基としては、上述したR31の置換基と同義の基である。R51は好ましくは水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基である。
52は置換基を表す。置換基としては上述した一般式(A)におけるRa1の置換基と同義の基である。
m5は0〜4の整数を表し、好ましくは0〜2の整数であり、より好ましくは0か1である。
53、R54は各々炭素数1〜10のアルキル基を表す。アルキル基としては、上述したR31と同義の基である。R53、R54は各々好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、最も好ましくはメチル基である。Y5は上述した一般式(A)におけるYと同義である。
以下に、本発明に係る前記一般式(A)〜(D)で表されるトリアリールスルホニウム塩化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
これらの化合物は、Bull.Chem.Soc.Jpn.,42,312(1969).、J.Polym.Sci.,Poly.m.Chem.Ed.,17,2877(1979).、特開平11−80118号、特開2002−241474号、特開2005−139425号、米国特許第4404459号記載の方法に準じて合成することができる。
(多環芳香族化合物、カルバゾール誘導体及びチオキサントン誘導体)
本発明の光酸発生剤組成物においては、上記説明した光酸発生剤と共に、多環芳香族化合物、カルバゾール誘導体及びチオキサントン誘導体から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することが好ましく、更には、アントラセン、フルオレン、ピレン、クリセン、フェナントレン、アントラキノン、ペリレン、カルバゾール、フェノチアジン、チオキサントン、チアントレン、ベンズアントラセン、ナフタセン、トリフェニレン及び下記一般式(3)から選ばれる少なくとも1つの化合物を含有することが好ましい。
本発明で用いることのできる多環芳香族化合物としては、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、クリセン誘導体、フェナントレン誘導体が好ましい。置換基であるアルコキシ基としては、炭素数1〜18のものが好ましく、特に炭素数1〜8のものが好ましい。アラルキルオキシ基としては、炭素数7〜10のものが好ましく、特に炭素数7〜8のベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基が好ましい。
具体的には、1−ナフトール、2−ナフトール、1−メトキシナフタレン、1−ステアリルオキシナフタレン、2−メトキシナフタレン、2−ドデシルオキシナフタレン、4−メトキシ−1−ナフトール、グリシジル−1−ナフチルエーテル、2−(2−ナフトキシ)エチルビニルエーテル、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジメトキシナフタレン、1,1′−チオビス(2−ナフトール)、1,1′−ビ−2−ナフトール、1,5−ナフチルジグリシジルエーテル、2,7−ジ(2−ビニルオキシエチル)ナフチルエーテル、4−メトキシ−1−ナフトール、ESN−175(新日鉄化学社製のエポキシ樹脂)またはそのシリーズ、ナフトール誘導体とホルマリンとの縮合体等のナフタレン誘導体、9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、2−tブチル−9,10−ジメトキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9−メトキシ−10−メチルアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセン、2−tブチル−9,10−ジエトキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジエトキシアントラセン、9−エトキシ−10−メチルアントラセン、9,10−ジプロポキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジプロポキシアントラセン、2−tブチル−9,10−ジプロポキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジプロポキシアントラセン、9−イソプロポキシ−10−メチルアントラセン、9,10−ジベンジルオキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジベンジルオキシアントラセン、2−tブチル−9,10−ジベンジルオキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジベンジルオキシアントラセン、9−ベンジルオキシ−10−メチルアントラセン、9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、2−tブチル−9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、9−(α−メチルベンジルオキシ)−10−メチルアントラセン、9,10−ジ(2−ヒドロキシエトキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ジ(2−カルボキシエトキシ)アントラセン等のアントラセン誘導体、1,4−ジメトキシクリセン、1,4−ジエトキシクリセン、1,4−ジプロポキシクリセン、1,4−ジベンジルオキシクリセン、1,4−ジ−α−メチルベンジルオキシクリセン等のクリセン誘導体、9−ヒドロキシフェナントレン、9,10−ジメトキシフェナントレン、9,10−ジエトキシフェナントレン等のフェナントレン誘導体などを挙げることができる。これら誘導体の中でも、特に、炭素数1〜4のアルキル基を置換基として有していても良い9,10−ジアルコキシアントラセン誘導体が好ましく、アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基が好ましい。
カルバゾール誘導体としては、例えば、N−メチルカルバゾール、N−エチルカルバゾール(以下、「NEC」という。)、N−プロピルカルバゾール、N−ブチルカルバゾール、N−ビニルカルバゾール、1,3,6,8,9−ペンタメチルカルバゾール、1,4,5,8,9−ペンタメチルカルバゾール(以下、「NMPC」という。)、3−ホルミル−N−エチルカルバゾール、N−フェニルカルバゾール、N−エチル−3,6−ビス(ベンゾイル)−カルバゾール(以下、「NEBC」という。)、9,9′−ジエチル−3,3′−ジカルバゾール(以下、「NEDC」という。)等を挙げることができる。
また、チオキサントン誘導体としては、例えば、チオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン2−クロロチオキサントン等を挙げることができる。
また、前記一般式(3)において、R21〜R28は前記一般式(1)におけるR1〜R17と同義である。
《カチオン系光重合性組成物》
本発明のカチオン系光重合性組成物においては、本発明の光酸発生剤組成物と共に、カチオン重合性化合物を含有することを特徴とする。
(カチオン重合性化合物)
本発明に係るカチオン重合性化合物としては、各種公知のカチオン重合性のモノマーを適用することができるが、特に、特開平6−9714号、特開2001−31892号、特開2001−40068号、特開2001−55507号、特開2001−310938号、特開2001−310937号、特開2001−220526号に例示されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物が好ましい。
エポキシ化合物には、以下の芳香族エポキシド、脂環式エポキシド及び脂肪族エポキシド等が挙げられる。
芳香族エポキシドとして好ましいものは、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノール或いはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジ又はポリグリシジルエーテルであり、例えば、ビスフェノールA或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールA或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、並びにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
脂環式エポキシドとしては、少なくとも1個のシクロへキセン又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましい。
脂肪族エポキシドの好ましいものとしては、脂肪族多価アルコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル又は1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリン或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
これらのエポキシドのうち、速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシドの1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
本発明においては、脂環式エポキシ化合物としては、特開2005−139425号に記載されている一般式(A)、(I)〜(VI)で表される化合物が好ましい。
本発明に好ましく添加できるビニルエーテル化合物としては、公知のビニルエーテル化合物を挙げることができる。例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−O−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度を考慮すると、ジ又はトリビニルエーテル化合物が好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。本発明では、上記ビニルエーテル化合物の1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
本発明で用いることのできるオキセタン化合物としては、オキセタン環を有する化合物であり、例えば、特開2001−220526号、同2001−310937号に紹介されているような公知のあらゆるオキセタン化合物を使用できる。特に、特開2005−139425号に記載されている一般式(E)で表される化合物が好ましく、具体的には同明細書段落番号0218に記載されているE−1〜E−13等を挙げることができる。
また、本発明の光硬化性組成物においては、オキセタン環を1個含有する単官能オキセタン化合物とオキセタン環を2個以上含有する多官能オキセタン化合物とを併用することが、硬化後の膜強度を向上させる上で更に好ましい。ただし、オキセタン環を5個以上有する化合物を使用すると、光硬化性組成物の粘度が高くなるため、取扱いが困難になったり、また光硬化性組成物のガラス転移温度が高くなるため、得られる硬化物の粘着性が十分でなくなってしまう。本発明で使用するオキセタン環を有する化合物は、オキセタン環を1〜4個有する化合物が好ましい。
本発明において、好ましくは、カチオン重合性化合物として、オキセタン環を有する化合物を25〜90質量%、オキシラン基を有する化合物を10〜70質量%、ビニルエーテル化合物0〜40質量%とを含有することであり、この構成とすることにより、硬化性及び吐出安定性がともに向上する。
〔各種添加剤〕
本発明のカチオン系光重合性組成物においては、上記説明した以外に様々な添加剤を用いることができる。例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類を添加することができる。また、保存安定性を改良する目的で、公知のあらゆる塩基性化合物を用いることができるが、代表的なものとして、塩基性アルカリ金属化合物、塩基性アルカリ土類金属化合物、アミンなどの塩基性有機化合物などが挙げられる。
〔顔料〕
本発明のカチオン系光重合性組成物においては、顔料を含有することが好ましい。
本発明に用いる顔料としては、カーボンブラック、カーボンリファインド、およびカーボンナノチューブのような炭素系顔料、鉄黒、コバルトブルー、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化クロム、および酸化鉄のような金属酸化物顔料、硫化亜鉛のような硫化物顔料、フタロシアニン系顔料、金属の硫酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、およびリン酸塩のような塩からなる顔料、並びにアルミ粉末、ブロンズ粉末、および亜鉛粉末のような金属粉末等の無機顔料、ニトロ顔料、アニリンブラック、ナフトールグリーンBのようなニトロソ顔料、ボルドー10B、レーキレッド4Rおよびクロモフタールレッドのようなアゾ顔料(アゾレーキ、不溶性アゾ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料などを含む。)、ピーコックブルーレーキおよびローダミンレーキのようなレーキ顔料、フタロシアニンブルーのようなフタロシアニン顔料、多環式顔料(ペリレン顔料、ペリノン顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサン顔料、チオインジゴ顔料、イソインドリノン顔料、キノフラノン顔料など)、チオインジゴレッドおよびインダトロンブルーのようなスレン顔料、キナクリドン顔料、キナクリジン顔料、並びにイソインドリノン顔料のような有機系顔料を使用することもできる。
顔料の具体例としては、
C.I Pigmen Yellow−1、3、12、13、14、17、42、81、83、87、95、109、114、120、128、129、138、150、151、154、180、185、
C.I Pigmen Orange−16、36、38、
C.I Pigmen Red−5、22、38、48:1、48:2、48:4、49:1、53:1、57:1、63:1、101、122、123、144、146、168、184、185、202、
C.I Pigmen Violet−19、23、
C.I Pigmen Blue−15:1、15:3、15:4、18、27、29、60、
C.I Pigmen Green−7、36、
C.I Pigmen White−6、18、21、
C.I Pigmen Black−7、等を挙げることができる。
上記顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。また、顔料の分散を行う際に、分散剤を添加することも可能である。分散剤としては、高分子分散剤を用いることが好ましく、高分子分散剤としては、例えば、Avecia社のSolsperseシリーズや、味の素ファインテクノ社のPBシリーズが挙げられる。また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。これらの分散剤および分散助剤は、顔料100質量部に対し、1〜50質量部添加することが好ましい。分散媒体は、溶剤または重合性化合物を用いて行うが、本発明の光硬化型インクでは、印字後に反応・硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。溶剤が硬化画像に残ってしまうと、耐溶剤性の劣化、残留する溶剤のVOCの問題が生じる。よって、分散媒体は溶剤では無く重合性化合物、その中でも最も粘度の低いモノマーを選択することが分散適性上好ましい。
《インクジェットインク》
本発明のインクジェットインクにおいては、少なくとも本発明の光酸発生剤組成物、あるいは本発明のカチオン系光重合性組成物を含有することを特徴とする。
本発明のインクジェットインクにおいては、本発明の光酸発生剤組成物、あるいは本発明のカチオン系光重合性組成物で記載した構成要素の他に、例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類を添加することができる。また、保存安定性を改良する目的で、公知のあらゆる塩基性化合物を用いることができるが、代表的なものとして、塩基性アルカリ金属化合物、塩基性アルカリ土類金属化合物、アミンなどの塩基性有機化合物などがあげられる。また、ラジカル重合性モノマーと開始剤を組み合わせ、ラジカル・カチオンのハイブリッド型硬化インクとすることも可能である。
また、本発明のインクジェットインクにおいては、インクジェット画像形成に用いる場合は、25℃における粘度が7〜50mPa・sであることが好ましい。
《記録材料》
本発明で用いることのできる記録材料としては、通常の非コート紙、コート紙などの他、いわゆる軟包装に用いられる各種非吸収性のプラスチックおよびそのフィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、延伸ポリスチレン(OPS)フィルム、延伸ポリプロピレン(OPP)フィルム、延伸ナイロン(ONy)フィルム、ポリ塩化ビニル(PVC)フィルム、ポリエチレン(PE)フィルム、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム等を挙げることができる。その他のプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ABS、ポリアセタール、ポリビニルアルコール(PVA)、ゴム類などが使用できる。また、金属類や、ガラス類にも適用可能である。これらの記録材料の中でも、特に熱でシュリンク可能な、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルムへ画像を形成する場合に本発明の構成は、有効となる。これらの基材は、インクの硬化収縮、硬化反応時の発熱などにより、フィルムのカール、変形が生じやすいばかりでなく、インク膜が基材の収縮に追従し難い。
これら、各種プラスチックフィルムの表面エネルギーは大きく異なり、記録材料によってインク着弾後のドット径が変わってしまうことが、従来から問題となっていた。本発明の構成では、表面エネルギーの低いOPPフィルム、OPSフィルムや表面エネルギーの比較的大きいPETまでを含む、表面エネルギーが35〜60mN/mの広範囲の記録材料に良好な高精細な画像を形成できる。
更に、天然繊維あるいは合成繊維から成る布地を用いることができる。具体的には、木綿、絹、トレビラCS(ポリエステル:ヘキスト社製)、タイベック(ポリエチレン:デュポン社製)、ターポリン(塩化ビニル)、ナイロン等がある。
《インクジェット記録方法》
本発明では、記録材料上にインクを記録し、活性光線を照射して硬化した後の総インク膜厚が2〜20μmであることが好ましい。記録材料が薄いプラスチック材料であることが多い軟包装印刷分野では、前述した記録材料のカール・皺の問題でだけでなく、印刷物全体のこし・質感が変わってしまうという問題が有るため、過剰な膜厚のインク吐出は好ましくない。
尚、ここで「総インク膜厚」とは記録材料に描画されたインクの膜厚の最大値を意味し、単色でも、それ以外の2色重ね(2次色)、3色重ね、4色重ね(白インクベース)の記録を行った場合でも総インク膜厚の意味するところは同様である。
本発明の印刷方法においては、活性光線の照射条件として、インク印字後0.001秒〜2.0秒の間に活性光線が照射されることが好ましく、より好ましくは0.001秒〜1.0秒である。高精細な画像を形成するためには、照射タイミングが出来るだけ早いことが特に重要となる。
また、活性光線を照射を2段階に分け、まずインク印字後0.001〜2.0秒の間に活性光線を照射し、かつ、全印字終了後、更に活性光線を照射する方法も好ましい態様の1つである。活性光線の照射を2段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。
従来、UVインク印刷方式では、インク着弾後のドット広がり、滲みを抑制のために、光源の総消費電力が1kW・hrを超える高照度の光源が用いられるのが通常であった。しかしながら、これらの光源を用いると、特に、シュリンクラベルなどへの印字では、記録材料の収縮があまりにも大きく、実質上使用出来ないのが現状であった。
本発明では、254nmの波長領域に最高照度をもつ活性光線を用いることが好ましく、総消費電力が1kW・hr以上の光源を用いても、高精細な画像を形成出来、且つ、記録材料の収縮も実用上許容レベル内に収められる。
本発明においては、更に活性光線を照射する光源の総消費電力が1kW・hr未満であることが好ましい。総消費電力が1kW・hr未満の光源の例としては、蛍光管、冷陰極管、LEDなどがあるが、これらに限定されない。
以下、本発明のインクジェット記録方法で適用可能な記録装置について、図面を適宜参照しながら説明する。
図1は、記録装置の要部の構成を示す正面図である。記録装置1は、ヘッドキャリッジ2、記録ヘッド3、照射手段4、プラテン部5等を備えて構成される。この記録装置1は、記録材料Pの下にプラテン部5が設置されている。プラテン部5は、紫外線を吸収する機能を有しており、記録材料Pを通過してきた余分な紫外線を吸収する。その結果、高精細な画像を非常に安定に再現できる。
記録材料Pは、ガイド部材6に案内され、搬送手段(図示せず)の作動により、図1における手前から奥の方向に移動する。ヘッド走査手段(図示せず)は、ヘッドキャリッジ2を図1におけるY方向に往復移動させることにより、ヘッドキャリッジ2に保持された記録ヘッド3の走査を行なう。
ヘッドキャリッジ2は記録材料Pの上側に設置され、記録材料P上の画像印刷に用いる色の数に応じて後述する記録ヘッド3を複数個、吐出口を下側に配置して収納する。ヘッドキャリッジ2は、図1におけるY方向に往復自在な形態で記録装置1本体に対して設置されており、ヘッド走査手段の駆動により、図1におけるY方向に往復移動する。
なお、図1ではヘッドキャリッジ2がホワイト(W)、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、ブラック(K)、ライトイエロー(Ly)、ライトマゼンタ(Lm)、ライトシアン(Lc)、ライトブラック(Lk)、ホワイト(W)の記録ヘッド3を収納するものとして描図を行なっているが、実施の際にはヘッドキャリッジ2に収納される記録ヘッド3の色数は適宜決められるものである。
記録ヘッド3は、インク供給手段(図示せず)により供給された活性光線硬化型インク(例えばUV硬化インク)を、内部に複数個備えられた吐出手段(図示せず)の作動により、吐出口から記録材料Pに向けて吐出する。記録ヘッド3により吐出されるUVインクは色材、重合性モノマー、開始剤等を含んで組成されており、紫外線の照射を受けることで開始剤が触媒として作用することに伴なうモノマーの架橋、重合反応によって硬化する性質を有する。
記録ヘッド3は記録材料Pの一端からヘッド走査手段の駆動により、図1におけるY方向に記録材料Pの他端まで移動する走査の間に、記録材料Pにおける一定の領域(着弾可能領域)に対してUVインクをインク滴として吐出し、該着弾可能領域にインク滴を着弾させる。
上記走査を適宜回数行ない、1領域の着弾可能領域に向けてUVインクの吐出を行なった後、搬送手段で記録材料Pを図1における手前から奥方向に適宜移動させ、再びヘッド走査手段による走査を行ないながら、記録ヘッド3により上記着弾可能領域に対し、図1における奥方向に隣接した次の着弾可能領域に対してUVインクの吐出を行なう。
上述の操作を繰り返し、ヘッド走査手段及び搬送手段と連動して記録ヘッド3からUVインクを吐出することにより、記録材料P上にUVインク滴の集合体からなる画像が形成される。
照射手段4は特定の波長領域の紫外線を安定した露光エネルギーで発光する紫外線ランプ及び特定の波長の紫外線を透過するフィルターを備えて構成される。ここで、紫外線ランプとしては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマーレーザー、紫外線レーザー、冷陰極管、熱陰極管、ブラックライト、LED(light emitting diode)等が適用可能であり、帯状のメタルハライドランプ、冷陰極管、熱陰極管、水銀ランプもしくはブラックライトが好ましい。特に波長254nmの紫外線を発光する低圧水銀ランプ、熱陰極管、冷陰極管及び殺菌灯が滲み防止、ドット径制御を効率よく行なえ、好ましい。ブラックライトを照射手段4の放射線源に用いることで、UVインクを硬化するための照射手段4を安価に作製することができる。
照射手段4は、記録ヘッド3がヘッド走査手段の駆動による1回の走査によってUVインクを吐出する着弾可能領域のうち、記録装置(UVインクジェットプリンタ)1で設定できる最大のものとほぼ同じ形状か、着弾可能領域よりも大きな形状を有する。
照射手段4はヘッドキャリッジ2の両脇に、記録材料Pに対してほぼ平行に、固定して設置される。
前述したようにインク吐出部の照度を調整する手段としては、記録ヘッド3全体を遮光することはもちろんであるが、加えて照射手段4と記録材料Pの距離h1より、記録ヘッド3のインク吐出部31と記録材料Pとの距離h2を大きくしたり(h1<h2)、記録ヘッド3と照射手段4との距離dを離したり(dを大きく)することが有効である。また、記録ヘッド3と照射手段4の間を蛇腹構造7にすると更に好ましい。
ここで、照射手段4で照射される紫外線の波長は、照射手段4に備えられた紫外線ランプまたはフィルターを交換することで適宜変更することができる。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。
実施例1
《顔料分散液aの調製》
下記の方法に従って、顔料を分散して顔料分散液aを調製した。
以下の各化合物をステンレスビーカーに入れ、65℃ホットプレート上で加熱しながら1時間加熱撹拌溶解した。
PB822(味の素ファインテクノ社製分散剤) 8部
OXT221(東亜合成社製オキセタン化合物) 72部
室温まで冷却した後、Pigment Blue 15:4(大日精化社製)を20部を加えて、直径0.3mmのジルコニアビーズ200gと共にガラス瓶に入れ密栓し、ペイントシェーカーにて4時間分散処理した後、ジルコニアビーズを除去し、顔料分散液aとした。
《インクの調製》
表1に記載の各添加剤を順次添加、混合して、インク1〜7を調製した。なお、表1に記載の数値は、添加量(部)である。
なお、表1に略称で記載の各添加剤の詳細は、以下の通りである。
〔光重合性化合物〕
OXT−101:東亞合成社製
OXT−212:東亞合成社製
OXT−221:東亞合成社製
〔光重合開始剤:光酸発生剤〕
UVI6992:ダウ・ケミカル社製 プロピオンカーボネート50%液
SP152:スルホニウム塩(旭電化工業社製)
〔増感剤〕
DBA:9,10−ジブトキシアントラセン
〔塩基性化合物〕
*A:トリイソパノールプロパン
〔界面活性剤〕
KF−351:信越化学社製 シリコーンオイル
《インクジェット画像形成方法》
ピエゾ型インクジェットノズルを備えた図1に記載の構成からなるインクジェット記録装置に、上記調製した各硬化組成物インクを装填し、記録材料として巾600mm、長さ20mのトレビラCS(ポリエステルフィルム、ヘキスト社製)へ、下記の画像記録を連続して行った。インク供給系は、インクタンク、供給パイプ、ヘッド直前の前室インクタンク、フィルター付き配管、ピエゾヘッドからなり、前室タンクからヘッド部分まで断熱して50℃の加温を行った。なお、各硬化組成物インクの粘度にあわせてヘッド部を加温し、720×720dpiの解像度で吐出できるよう駆動して、上記記載の硬化組成物インクを連続吐出した。また、記録材料は面ヒーター及び冷却装置により40℃になるように調整した。着弾した後、キャリッジ両脇の120W/cmメタルハライドランプ(日本電池製 MAL 400NL)・400mW/cm2の紫外線を照射し、瞬時(着弾後0.5秒未満)に硬化させた。インク吐出量は、最小液滴量を4pl、最大液適量80plでそれぞれ印字を行った。また、インクジェット画像の形成は、気温23℃湿度30%で行った。
《形成画像の評価》
〔にじみ耐性の評価〕
印字硬化させたサンプルを24時間放置した後、にじみ具合を目視観察し、下記の基準に従って、にじみ耐性の評価を行った。
5:にじみの発生が全く認められない
4:ほぼにじみの発生は認められない
3:僅かににじみの発生は認められるが、実用上許容される品質である
2:にじみの発生が認められ、実用上問題とされる品質である
1:激しいにじみが発生し、使用に耐えない品質である
〔吐出安定性の評価〕
上記画像形成方法で1時間の連続射出を行った後、目標濃度で6ポイントMS明朝体文字を印字し、文字のガサツキをルーペで拡大評価し、下記の基準に則り文字品質を評価し、これを吐出安定性の尺度とした。
5:ガサツキなし
4:僅かにガサツキが見える
3:ガサツキが見えるが、文字として判別でき、ギリギリ使えるレベル
2:ガザツキがあり、文字がかすれていて使えないレベル
1:ガサツキがひどいレベル
以上により得られた結果を、表2に示す。
表2に記載の結果より明らかなように、本発明で規定する構成からなるインクは、比較例に対し、形成した画像のにじみ耐性に優れ、かつ連続吐出後の吐出安定性に優れていることが分かる。
実施例2
実施例1に記載のインク1〜7の調製において、顔料であるPigment Blue 15:4(大日精化社製)に代えて、それぞれPigment Black 7(三菱化学社製#52)、Pigment Black 7(三菱化学社製MA7)、Pigment Blue 15:4(山陽色素社製)、Pigment Red 122(大日精化社製CFR321)、Pigment Violet19(大日精化社製CFR338−3)、Pigment Yellow 138(大日精化社製CFY340)、Pigment Yellow 151(ランクセス社製E4GN−GT)、Pigment Yellow 180(大日精化社製CFY313−2)、Pigment Yellow 180(クラリアント社製Novoperm Yellow HG)を用いた以外は同様にして、各インクを調製した。この顔料種の異なる各色インクを用いて、実施例1と同様に評価を行った結果、実施例1の結果と同様に、本発明で規定する構成からなるインクは、比較例に対し、形成した画像のにじみ耐性に優れ、かつ連続吐出後の吐出安定性に優れていることを確認することができた。
また、実施例1に記載のインク1〜7の調製において、エポシキ化合物であるC2021Pに代えて、トリエチレングリコールジビニルエーテル、セロキサイド2000(ダイセル化学工業社製)、セロキサイド3000(ダイセル化学工業社製)、EXP−1を用いた以外は同様にして各インクを調製し、この各インクを用いて、実施例1と同様に評価を行った結果、実施例1の結果と同様に、本発明で規定する構成からなるインクは、比較例に対し、形成した画像のにじみ耐性に優れ、かつ連続吐出後の吐出安定性に優れていることを確認することができた。

Claims (11)

  1. 下記一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩と、該一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩を除くスルホニウム塩とを含有することを特徴とする光酸発生剤組成物。

    〔式中、R1〜R17は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、フェノキシ基、エステル基、アリール基、チオエーテル基、チオカルボニル基、スルフィニル基、スルホニル基、アミノ基、アミド基、イミド基、ニトリル基、ホスフィニ基、ホスホニオ基、ホスホリル基、及び炭素数1〜8のフルオロアルキル基からなる群から選ばれる基であって、同一であっても異なっていてもよく、これらの基の官能基以外の部分は、炭素数1〜12の、飽和脂肪族炭化水素基、不飽和脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、炭素環式芳香族炭化水素または複素環式芳香族炭化水素基であってもよい。また、R5及びR6は互いに縮合して共有結合となってもよい。Xは、1価のアニオンになりうる原子団である。〕
  2. 前記一般式(1)で表される構造を有するスルホニウム塩を除くスルホニウム塩は、下記一般式(A)で表される構造を有するスルホニウム塩であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光酸発生剤組成物。

    〔式中、Ra1、Ra2は各々アルキル基または芳香族基を表し、Z1は酸素原子または硫黄原子を表し、Ra3、Ra4は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基またはアリールチオ基を表し、m1は0〜4の整数を表し、n1及びp1は各々1〜5の整数を表し、Yは、Z−SO3(ZはCn2n+1(nは1〜10の整数)、アルキル基、またはアルキル置換もしくは無置換の芳香族基を表す)、PF6、BF4、AsF6、SbF6、B(C654、ClO4、Br、ClまたはIを表す。〕
  3. 多環芳香族化合物、カルバゾール誘導体及びチオキサントン誘導体から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする請求の範囲第1項または第2項に記載の光酸発生剤組成物。
  4. 前記多環芳香族化合物、カルバゾール誘導体及びチオキサントン誘導体から選ばれる少なくとも1種の化合物が、アントラセン、フルオレン、ピレン、クリセン、フェナントレン、アントラキノン、ペリレン、カルバゾール、フェノチアジン、チオキサントン、チアントレン、ベンズアントラセン、ナフタセン、トリフェニレン及び下記一般式(3)から選ばれる少なくとも1つの化合物であることを特徴とする請求の範囲第3項に記載の光酸発生剤組成物。

    〔式中、R21〜R28は、前記一般式(1)におけるR1〜R17と同義である。〕
  5. 前記一般式(A)で表される構造を有するスルホニウム塩が、下記一般式(B)、(C)及び(D)から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求の範囲第2項〜第4項のいずれか1項に記載の光酸発生剤組成物。

    〔式中、R31は炭素数1〜10のアルキル基を表し、R32、R33は各々炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を表し、Y3は、Z−SO3(ZはCn2n+1(nは1〜10の整数)、アルキル基、またはアルキル置換もしくは無置換の芳香族基を表す)、PF6、BF4、AsF6、SbF6、B(C654、ClO4、Br、ClまたはIを表す。〕

    〔式中、R41は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R42は置換基を表し、m4は0〜4の整数を表し、R43、R44は各々炭素数1〜10のアルキル基を表し、Y4は、Z−SO3(ZはCn2n+1(nは1〜10の整数)、アルキル基、またはアルキル置換もしくは無置換の芳香族基を表す)、PF6、BF4、AsF6、SbF6、B(C654、ClO4、Br、ClまたはIを表す。〕

    〔式中、R51は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R52は置換基を表し、m5は0〜4の整数を表し、R53、R54は各々炭素数1〜10のアルキル基を表し、Y5は、Z−SO3(ZはCn2n+1(nは1〜10の整数)、アルキル基、またはアルキル置換もしくは無置換の芳香族基を表す)、PF6、BF4、AsF6、SbF6、B(C654、ClO4、Br、ClまたはIを表す。〕
  6. 請求の範囲第1項〜第5項のいずれか1項に記載の光酸発生剤組成物と、カチオン重合性化合物とを含有することを特徴とするカチオン系光重合性組成物。
  7. 前記カチオン重合性化合物が、エポキシ化合物、オキセタン化合物及びビニルエーテル化合物から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求の範囲第6項に記載のカチオン系光重合性組成物。
  8. 顔料を含有することを特徴とする請求の範囲第6項または第7項に記載のカチオン系光重合性組成物。
  9. 請求の範囲第1項〜第5項のいずれか1項に記載の光酸発生剤組成物を用いることを特徴とするインクジェットインク。
  10. 請求の範囲第6項〜第8項のいずれか1項に記載のカチオン系光重合性組成物を用いることを特徴とするインクジェットインク。
  11. 繊維状記録材料に、請求の範囲第9項または第10項に記載のインクジェットインクを用いてインクジェット記録することを特徴とするインクジェット記録方法。
JP2007547869A 2005-11-29 2006-10-20 光酸発生剤組成物、カチオン系光重合性組成物、インクジェットインク及びそれを用いるインクジェット記録方法 Pending JPWO2007063652A1 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005343501 2005-11-29
JP2005343501 2005-11-29
PCT/JP2006/320895 WO2007063652A1 (ja) 2005-11-29 2006-10-20 光酸発生剤組成物、カチオン系光重合性組成物、インクジェットインク及びそれを用いるインクジェット記録方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPWO2007063652A1 true JPWO2007063652A1 (ja) 2009-05-07

Family

ID=38091992

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007547869A Pending JPWO2007063652A1 (ja) 2005-11-29 2006-10-20 光酸発生剤組成物、カチオン系光重合性組成物、インクジェットインク及びそれを用いるインクジェット記録方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPWO2007063652A1 (ja)
WO (1) WO2007063652A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010121078A (ja) * 2008-11-21 2010-06-03 Konica Minolta Ij Technologies Inc 活性光線硬化型インクジェットインク用光酸発生剤、活性光線硬化型インクジェットインク、インクジェット記録方法、トリアリールスルホニウム塩の製造方法および活性光線硬化型インクジェットインク用光酸発生剤固体

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003268671A1 (en) * 2002-09-25 2004-04-19 Asahi Denka Co.Ltd. Novel aromatic sulfonium salt compound, photo-acid generator comprising the same and photopolymerizable composition containing the same, resin composition for optical three-dimensional shaping, and method of optically forming three-dimensional shape
JP3852458B2 (ja) * 2003-04-22 2006-11-29 コニカミノルタエムジー株式会社 活性光線硬化型インクジェットインク組成物、活性エネルギー線硬化組成物と、それを用いた画像形成方法、インクジェット記録装置
JP2005059263A (ja) * 2003-08-08 2005-03-10 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 画像形成方法
JP2005060521A (ja) * 2003-08-12 2005-03-10 Konica Minolta Medical & Graphic Inc インクジェット記録方法およびインク

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007063652A1 (ja) 2007-06-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7244473B2 (en) Active ray curable ink-jet composition, image forming method using the same, ink-jet recording apparatus, and triarylsulfonium salt compound
JPWO2006054461A1 (ja) 活性光線硬化組成物、インク活性光線硬化型インク及び画像形成方法
JP2004091556A (ja) 活性光線硬化型組成物、活性光線硬化型インクとそれを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
US20050209365A1 (en) Ink composition for ink jet printing and image forming method
JP2006104185A (ja) トリアリールスルホニウム塩化合物、活性エネルギー線硬化組成物及び活性光線硬化型インクジェットインク組成物
JPWO2007032109A1 (ja) 光硬化性組成物、光硬化性インク組成物及びそれを用いる印刷方法とレジスト用組成物
US20070219292A1 (en) Ink set for ink-jet recording, polymerization method and image forming method
JP3852458B2 (ja) 活性光線硬化型インクジェットインク組成物、活性エネルギー線硬化組成物と、それを用いた画像形成方法、インクジェット記録装置
JPWO2006077693A1 (ja) 重合性活性光線硬化組成物、重合方法、活性光線硬化型インク及び画像形成方法、インクジェット記録装置並びにエポキシ化合物
JP2006089715A (ja) 活性光線硬化組成物、活性光線硬化型インク及び画像形成方法及びエポキシ化合物
JP2006037112A (ja) 活性光線硬化型インクジェットインク組成物、それを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
JPWO2007063652A1 (ja) 光酸発生剤組成物、カチオン系光重合性組成物、インクジェットインク及びそれを用いるインクジェット記録方法
JP2005171122A (ja) 特定のオキセタン化合物を含有する活性エネルギー線硬化組成物、それを用いたインクジェット用インク組成物及び画像形成方法
JP2004244498A (ja) 活性光線硬化型インク組成物、それを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
JP5659447B2 (ja) インクジェット用インク組成物及び画像形成方法
JP2008255291A (ja) 活性光線硬化型組成物、硬化方法、インク組成物、画像形成方法
JP2003313464A (ja) 画像形成方法、印刷物及び記録装置
JP2006206716A (ja) 光硬化性組成物、インクジェット用インク及び画像形成方法
JP2005239877A (ja) 活性エネルギー線酸発生剤組成物、活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物及び画像形成方法
JP2007169544A (ja) 活性光線硬化組成物、活性光線硬化型インク、画像形成方法及びエポキシ化合物
JP2007084637A (ja) 活性光線硬化型インクジェットインク、インクジェット記録装置および画像形成方法
JP2005220250A (ja) インクジェット用インク組成物及びそれを用いた画像形成方法
JP2005255766A (ja) 活性光線硬化型インクジェットインク
JP2010120997A (ja) 活性光線硬化型インクジェットインク及びインクジェット記録方法
JP2006316129A (ja) 活性光線硬化型組成物、インクジェット用インク、及び画像形成方法及びインクジェット記録装置