JPWO2007015475A1 - ナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子 - Google Patents
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Abstract
Description
図6は、電子伝導性の強磁性細線における磁壁及び磁壁の移動を示すもので、(a)は磁性細線に電流を流す前の磁壁の位置を示し、(b)は電流をΔt時間加えた後の磁壁の位置を示す。なお、磁化は細線の軸方向(z方向)に一様に磁化されるとし、磁性細線の断面積をAとする。
磁性細線に電流密度jの電流を流すと、電流を担う伝導電子のスピン(大きさ1/2)は強磁性的相互作用により局在スピンM(大きさS)の向きと平行になる傾向があり、電流を担う伝導電子はスピン分極したスピン流を形成する。その分極率をpとすると、スピン流js (密度)は次式(1)で表される。
上記構成において、好ましくは、第1電極と第2電極間に第1電極と中央電極間への入力電圧又は電流とは逆極性の電圧又は電流を印加して、磁気エネルギーを蓄える。
ナノ構造体を積層構造とすることで、積層方向の厚さを平面構造のナノ構造体よりも小さくすることができるので、ナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子内部抵抗を減少させることができる。また、その集積密度化にも有利である。
上記構成において、好ましくは、硬質磁性層は鉄−白金合金からなり、軟質磁性層はパーマロイからなる。
上記構成によれば、ナノ構造体に磁壁保持部を形成するための幅の狭い領域を形成する必要がなく、垂直方向に均一の幅で形成すれば良いので製作が容易となる。このため、ナノ構造体の垂直方向の長さLも平面構造のナノ構造体よりも小さくすることができるので、ナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子内部抵抗を減少させることができる。また、その集積化にも有利である。
2:細線の幅が広い第1の領域
3:細線の幅がくさび状にくびれた第2の領域
4:細線の幅が徐々に細くなる第3の領域
5:細線の幅が広い第4の領域
6:磁壁
7:局在スピンの方向を示す矢印
8,23A:第1の磁壁保持部
9,24A:第2の磁壁保持部
11,26,40:第1電極
12,28,42:中央電極
13,27,41:第2電極
22:幅が広い第1の層
23:第2の層
24:第3の層
25:第4の層
34:第1の硬質磁性層
35:第1の軟質磁性層
36:第2の硬質磁性層
37:第2の軟質磁性層
38:第3の硬質磁性層
26A,27A,28A,44,45,46,52,54,56:電極配線
50:ナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子を用いた集積回路
図1は、本発明の第1の実施形態に係るナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子の構成を示し、(a)は初期状態を、(b)は入力電圧を印加した後の状態を、(c)は細線の各部の幅を示す図である。
本発明のナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子1は、電子伝導性を有しかつ磁性を有する細線からなるナノ構造体から構成されている。磁性を有する細線、即ち磁性細線(以下、適宜に、細線と呼ぶ)は、図1(a)に示すように、細線の幅が広い第1の領域2と、第1の領域2に連続する細線の幅がくさび状にくびれた第2の領域3と、第2の領域3に連続する細線の幅が徐々に細くなる第3の領域4と、第3の領域4に連続する細線の幅が広い第4の領域5とから構成される。
図2は、本発明のナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子の磁壁の位置と磁壁エネルギーとの関係を示す図であり、縦軸は磁壁エネルギー、横軸は磁壁の存在位置を示す。磁壁の位置“1”は、図1の第2の領域3の細線幅が最も細い位置に対応する第1の磁壁保持部8である。磁壁の位置“0”は、図1の第3の領域4と第4の領域5の境界位置に対応する第2の磁壁保持部9である。Ea は磁壁6が“1”に示す位置に存在するときの磁壁エネルギーと“0”の位置に存在するときの磁壁エネルギーの差を示し、Eb は、磁壁6が中央電極12の近傍位置に存在するときの磁壁エネルギーと“1”の位置に存在するときの磁壁エネルギーの差を示す。
第3の領域4においては、細線の幅が勾配を有して細くなっており、磁壁の取り得る磁壁エネルギーはその勾配に従って減少するので、磁壁6は、第3の領域4の磁壁エネルギーの傾きに従って自発的に“0”の位置まで移動する、すなわち、図1(b)の状態になると共に、余分の磁気エネルギーを放出し、この余分の磁気エネルギーは式(5)、式(6)に従って伝導電子に受け渡され、最終的に中央電極12と第2電極13の間につないだ回路において散逸する。
すなわち、第1電極11と中央電極12の間に加えた入力電気エネルギーEb に対し、第2電極13と中央電極12の間に出力電気エネルギーとして、p(Ea +Eb )が取り出される。このときのエネルギー増幅率をGとすると、式(8)を用いて、増幅率Gは次式(9)で表される。
具体的な磁性細線物質として、パーマロイ(FeNi合金)を考える。細線の厚みを50nmとし、図2において“0”の位置での断面積を10-15 m2 (幅20nm)、“1”の位置での断面積を1.1×10-14 m2 (幅220nm)、中央電極12の位置での断面積を1.2×10-14 m2 (幅240nm)とする。この条件によれば、Aex=10-11 J/m、Ku =105 J/m3 及びp=0.7となる。これらのパラメーターを用いると、式(7)、式(8)から、σw =10-3J/m3 、Ea =10-17 J、Eb =10-18 Jとなる。さらに式(9)により、この場合のエネルギー増幅率Gとして、式(10)が得られる。
図3は、本発明の第2の実施形態に係るナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子20を模式的に示し、(A)は断面図、(B)は平面図である。図3に示すように、ナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子20はナノ構造体から構成されており、図1に示した細線1を−90°回転した位置関係を有している。下から順に、幅が広い第1の層22と、第1の層22に連続し層の幅がくさび状にくびれた第2の層23と、第2の層23に連続し層の幅が徐々に細くなる第3の層24と、第3の層24に連続し層の幅が広い第4の層25とから構成される。
ナノ構造体20の各部の幅は、第1の層22の幅をd1 、第2の層23の最も細い幅をd2 、第3の層24の最も広い幅をd3M及び最も細い幅をd3m、そして第4の層25の幅をd4 とし、d1 >d3M>d2 >d3m、そしてd4 >d3mの関係を満たすように構成されている。ナノ構造体20は、積層方向(Y軸方向)の厚さがLであり、紙面垂直方向(Z軸方向)の長さをLz とする。
ここで、第1の磁壁保持部及び第2の磁壁保持部23A,24Aの磁気エネルギーはナノ構造体20の両端部側の磁気エネルギーよりも小さく、第1の磁壁保持部23Aの磁気エネルギーは第2の磁壁保持部の磁気エネルギー24Aよりも大きくなるように構成しておく。このように構成されるナノ構造体20においては、細線からなるナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子1と同様に、第1電極26と中央電極間28に入力電圧又は電流を介して電気エネルギーを加えると共に、中央電極28と第2電極27間から出力電圧又は電流を介して増幅された出力電気エネルギーを取り出すことができる。
図4は、本発明の第3の実施形態に係るナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子30の構造を模式的に示し、(A)は断面図、(B)は平面図である。
図4(A)に示す磁気及び電気エネルギーの相互変換素子30のナノ構造体は、紙面の下から上に積層される構造を有しており、下から順に第1の硬質磁性層34と、第1の軟質磁性層35と、第2の硬質磁性層36と、第2の軟質磁性層37と、第3の硬質磁性層38と、が積層された5層構造を有している。
磁壁の幅(図4(A)のY軸方向)は、交換相互作用の大きさAexを一軸磁気異方性定数Ku で割った値の平方根である(Aex/Ku )1/2 で与えられる。この磁壁の幅は10nm程度である。すなわち、軟質磁性層を厚くした場合には、磁壁、即ち磁気モーメントが空間的に変化している部分が、殆ど軟質磁性層に重なるために、その磁気エネルギーは上記のσw (soft)となり、ナノ構造体30の中で最も低いエネルギー状態が実現される。
一方、軟質磁性層を薄くし磁壁幅より小さくした場合には、実際には磁壁は隣り合う硬質磁性層とも重なり合いをもつため、磁壁のエネルギーは上記のσw (soft)とσw (hard)との中間的な値によって与えられる。この場合の磁壁のエネルギーは上記の厚い軟質磁性層とした場合よりも高いエネルギー状態が得られる。もちろん、この場合のエネルギーは、軟質磁性層がない場合のσw (hard)と比較して低エネルギーであるので磁壁保持部として十分な働きをする。従って、低エネルギー側の第2の磁気保持部となる軟質磁性層は磁壁幅より厚くし、高エネルギー側の第1の磁壁保持部となる軟質磁性層は磁壁幅より薄くすることが必要である。
図5に示すように、ナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子を用いた集積回路50において、X方向の電極配線52とY方向の電極配線54とが交差する各位置に、マトリクス状にナノ構造体20を配設した構成である。これらのマトリクス状に配列された各ナノ構造体20の第1及び第2の電極層26,27には、それぞれ、Y方向の電極配線52とX方向の電極配線54とが接続し、中央電極28には電極配線56が接続されている。ナノ構造体は、第2の実施形態であるナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子20に限らず、第1の実施形態及び第3の実施形態のナノ構造体1,30を用いてもよい。
最初に、基板上に、ナノ構造体となる磁性体薄膜を所定の厚さで堆積する。磁性体材料としては、パーマロイ、鉄、鉄−コバルト合金、鉄−白金合金、サマリウム−コバルト合金などが使用できる。堆積方法としては、物理蒸着法であるスパッタ法などを用いることができる。この基板としては、MgO基板や、絶縁層で被覆したSi基板にMgOを堆積した基板を用いることができる。
次に、マスク工程やエッチング工程により、磁性細線1や、ナノ構造体20,30のパターンを形成することで、ナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子1,20,30を作製することができる。
Claims (8)
- 電子伝導性を有する磁性体からなるナノ構造体を有し、
上記ナノ構造体の両端部に接続される第1及び第2の電極と、
上記ナノ構造体の中央部に接続される中央電極と、
上記ナノ構造体の第1電極と上記中央電極との間には磁壁を保持できる第1の磁壁保持部と、
上記ナノ構造体の第2電極と上記中央電極との間には磁壁を保持できる第2の磁壁保持部と、を備え、
上記第1の磁壁保持部及び第2の磁壁保持部の磁気エネルギーは上記ナノ構造体の両端部側の磁気エネルギーよりも小さく、上記第1の磁壁保持部の磁気エネルギーは上記第2の磁壁保持部の磁気エネルギーよりも大きくなるように構成されており、
上記第1電極と中央電極間に入力電圧又は電流を介して電気エネルギーを加えると共に、上記中央電極と第2電極間から出力電圧又は電流を介して増幅された出力電気エネルギーを取り出すことを特徴とする、ナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子。 - 前記第1電極と第2電極間に前記第1電極と中央電極間への入力電圧又は電流とは逆極性の電圧又は電流を印加して、磁気エネルギーを蓄えることを特徴とする、請求項1に記載のナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子。
- 前記ナノ構造体は、細線の幅が広い第1の領域と、この第1の領域に連続する細線の幅がくさび状にくびれた第2の領域と、この第2の領域に連続する細線の幅が徐々に細くなる第3の領域と、この第3の領域に連続する細線の幅が広い第4の領域とからなり、
上記第1の領域の幅をd1 とし、上記第2の領域の最も細い幅をd2 とし、上記第3の領域の、最も広い幅をd3Mとし最も細い幅をd3mとし、さらに、上記第4の領域の幅をd4 とした場合に、d1 >d3M>d2 >d3m及びd4 >d3mの関係を満たすように構成されており、
上記第1の領域に第1電極が設けられ、上記第3の領域の上記第2の領域側に中央電極が設けられ、上記第4の領域に第2電極が設けられていることを特徴とする、請求項1に記載のナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子。 - 前記ナノ構造体は積層構造からなり、その両端部及び中央部は幅が広く、各端部と中央部との間には磁壁を保持できる幅の狭い前記第1及び第2の磁壁保持部が形成されていることを特徴とする、請求項1に記載のナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子。
- 前記ナノ構造体の材料が、パーマロイ、鉄、鉄−コバルト合金、鉄−白金合金、サマリウム−コバルト合金の何れかであることを特徴とする、請求項1に記載のナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子。
- 前記ナノ構造体は、第1の硬質磁性層と第1の軟質磁性層と第2の硬質磁性層と第2の軟質磁性層と第3の硬質磁性層とが積層された構造を有しており、
上記ナノ構造体の一端部となる第1の硬質磁性層には前記第1電極が接続され、
上記ナノ構造体の他端部となる第3の硬質磁性層には前記第2電極が接続され、
上記第2の硬質磁性層には前記中央電極が接続され、
上記第1の軟質磁性層と上記第2の軟質磁性層とが磁壁を保持する前記磁壁保持部となることを特徴とする、請求項1に記載のナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子。 - 前記硬質磁性層が鉄−白金合金からなり、前記軟質磁性層がパーマロイからなることを特徴とする、請求項6に記載のナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子。
- 前記ナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子が、マトリクス状に配設されていることを特徴とする、請求項1〜7の何れかに記載のナノ構造体を有する磁気及び電気エネルギーの相互変換素子。
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KR101168285B1 (ko) * | 2006-12-29 | 2012-07-30 | 삼성전자주식회사 | 자구벽 이동을 이용한 정보 저장 장치 및 그 제조방법 |
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KR20100068791A (ko) * | 2008-12-15 | 2010-06-24 | 삼성전자주식회사 | 자성트랙, 자성트랙을 포함하는 정보저장장치 및 상기 정보저장장치의 동작방법 |
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