JPWO2006132417A1 - 反射率・透過率維持特性に優れた銀合金 - Google Patents
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Abstract
Description
耐環境性能を重視する組成についての試験として、塩水滴下試験と密着性試験を行った。銀合金薄膜を備える商品の実用性に関しては、人間の居住環境における耐久性の確保が優先される。即ち、銀薄膜を有する商品は、人が直接に手で触れる、飲食物等が付着する等の腐食要因があっても性能の劣化がなく維持されることが必要である。今回行った塩水滴下試験と密着性試験は、このような使用環境を考慮するものである。
「5」:最良・・・はがれ無し
「4」: 良 ・・・一部はがれ
「3」:普通・・・半分はがれ
「1」: 悪 ・・・一部残り
「0」:最悪・・・全面はがれ
(1)成膜直後の試料
(2)成膜後、ホットプレート上で大気中、250℃で1時間加熱した加熱試験後の試料
(3)成膜後、温度100℃、湿度100%の雰囲気中に24時間暴露した加湿試験後の試料
「5」:最良・・・はがれ無し
「4」: 良 ・・・一部はがれ
「3」:普通・・・半分はがれ
「1」: 悪 ・・・一部残り
「0」:最悪・・・全面はがれ
次に、透過率、比抵抗を優先する組成の銀合金の評価を行った。この評価でも、スライドガラス上に成膜した薄膜試料(膜厚120Å)をホットプレート上に載置し、大気中で250℃で1時間加熱し、加熱後の特性を評価した(加熱試験)。また、薄膜の耐湿性を検討するための加湿試験として、薄膜を温度100℃、湿度100%の雰囲気中に暴露し、加湿後の特性を評価した。加湿試験は、暴露時間を24時間とした。
Claims (17)
- 銀を主成分とし、第1の添加元素群として白金、パラジウム、金、ロジウム、ルテニウム、イリジウムを少なくとも1種含んでなる反射率及び透過率に優れる銀合金。
- 第1の添加元素群は、白金、パラジウム、金である請求項1記載の銀合金。
- 更に、第2の添加元素群として、ガリウム、ツリウム、ジスプロシウム、マグネシウム、亜鉛、ニッケル、モリブデン、テルビウム、ガドリニウム、エルビウム、アルミニウム、ネオジウム、ホルミウム、銅、コバルト、錫、チタン、ビスマス、スカンジウム、イットリウム、プラセオジウム、マンガン、ゲルマニウム、インジウム、サマリウム、イッテルビウム、ストロンチウム、ホウ素、シリコン、クロム、鉄、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、タングステン、鉛、カルシウム、アンチモン、ハフニウム、ランタン、セリウム、リチウム、リン、炭素の少なくとも1種を添加する請求項1又は請求項2記載の銀合金。
- 第2の添加元素群は、ガリウム、銅、ジスプロシウム、インジウム、錫、亜鉛、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、マンガン、ガドリニウム、エルビウム、プラセオジウム、サマリウム、ランタン、イットリウムの少なくとも1種である請求項3記載の銀合金。
- 添加元素濃度の合計が、0.01〜20.0原子%である請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の銀合金。
- 添加元素濃度の合計が、0.01〜10.0原子%である請求項5記載の銀合金。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の銀合金からなる薄膜を備える表示デバイス。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の銀合金からなる薄膜と、該薄膜を支持する支持体からなる建材。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の銀合金からなる薄膜を備える液晶パネル。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の銀合金からなる薄膜を備えるLED素子。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の銀合金からなる薄膜を備えるレーザー素子。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の銀合金からなる薄膜を備える照明器具。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の銀合金からなる薄膜を備える太陽電池。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の銀合金からなる薄膜を備えるガラス。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の銀合金からなる薄膜を備えるフィルム。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の銀合金からなる装飾品。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の銀合金からなるターゲット。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005170873 | 2005-06-10 | ||
JP2005170873 | 2005-06-10 | ||
PCT/JP2006/311720 WO2006132417A1 (ja) | 2005-06-10 | 2006-06-12 | 反射率・透過率維持特性に優れた銀合金 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006132417A1 true JPWO2006132417A1 (ja) | 2009-01-08 |
Family
ID=37498599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007520205A Pending JPWO2006132417A1 (ja) | 2005-06-10 | 2006-06-12 | 反射率・透過率維持特性に優れた銀合金 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1889933A4 (ja) |
JP (1) | JPWO2006132417A1 (ja) |
WO (1) | WO2006132417A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102154574A (zh) * | 2010-10-18 | 2011-08-17 | 东莞市正奇电子有限公司 | 半导体组件连接用合金线 |
JP2013177667A (ja) * | 2012-02-02 | 2013-09-09 | Kobe Steel Ltd | 反射膜および/または透過膜、もしくは電気配線および/または電極に用いられるAg合金膜、並びにAg合金スパッタリングターゲットおよびAg合金フィラー |
JPWO2013172225A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2016-01-12 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極の製造方法 |
JP6611114B2 (ja) * | 2012-12-07 | 2019-11-27 | 三菱マテリアル株式会社 | Ag合金膜、Ag合金導電膜、Ag合金反射膜、Ag合金半透過膜およびAg合金膜形成用スパッタリングターゲット |
JP5978506B2 (ja) * | 2014-11-14 | 2016-08-24 | セイコーエプソン株式会社 | 干渉フィルター、光モジュール、及び分析装置 |
EP3168325B1 (de) | 2015-11-10 | 2022-01-05 | Materion Advanced Materials Germany GmbH | Sputtertarget auf der basis einer silberlegierung |
IT201900000773A1 (it) * | 2019-01-18 | 2020-07-18 | Aurum S R L | Lega d'argento perfezionata |
JP2020125533A (ja) * | 2019-02-06 | 2020-08-20 | 三菱マテリアル株式会社 | Ag合金スパッタリングターゲット、及び、Ag合金膜 |
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JP2004084065A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-03-18 | Kobelco Kaken:Kk | 銀合金スパッタリングターゲットとその製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07105575A (ja) * | 1993-10-07 | 1995-04-21 | Mitsubishi Chem Corp | 光記録媒体 |
US6451402B1 (en) * | 1998-06-22 | 2002-09-17 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
JP2003293055A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-15 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 銀合金薄膜および薄膜製造用銀合金 |
JPWO2005056851A1 (ja) * | 2003-12-10 | 2007-12-13 | 田中貴金属工業株式会社 | 反射率維持特性に優れた銀合金 |
-
2006
- 2006-06-12 EP EP06766582A patent/EP1889933A4/en not_active Withdrawn
- 2006-06-12 WO PCT/JP2006/311720 patent/WO2006132417A1/ja active Application Filing
- 2006-06-12 JP JP2007520205A patent/JPWO2006132417A1/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2004002929A (ja) * | 2001-08-03 | 2004-01-08 | Furuya Kinzoku:Kk | 銀合金、スパッタリングターゲット、反射型lcd用反射板、反射配線電極、薄膜、その製造方法、光学記録媒体、電磁波遮蔽体、電子部品用金属材料、配線材料、電子部品、電子機器、金属膜の加工方法、電子光学部品、積層体及び建材ガラス |
JP2004084065A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-03-18 | Kobelco Kaken:Kk | 銀合金スパッタリングターゲットとその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006132417A1 (ja) | 2006-12-14 |
EP1889933A1 (en) | 2008-02-20 |
EP1889933A4 (en) | 2011-09-07 |
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