JPWO2006104025A1 - ろう材、ろう付け用複合材およびそれらを用いてろう付け接合されたろう付け構造 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、図1を参照して、本発明の第1実施形態によるろう材1の構成について説明する。
図2〜図4および図10〜図12を参照して、この第2実施形態では、上記第1実施形態と異なり、3層構造からなるろう材51が基板13に圧延接合されたろう付け用複合材50について説明する。
次に、上記した本発明の第1実施形態の効果(ろう付け接合による接合部の耐酸化性向上効果)を確認するために行った比較実験について説明する。この比較実験では、Ni−Cr合金層と、Ni−Cr合金層の一方面および他方面に圧延接合された純Ni層と、純Ni層に圧延接合された純Tiとからなる5層構造のろう材を用いて形成した上記第1実施形態に対応する実施例1〜9によるクラッド材の反応層(ろう付け接合による接合部)と、上記実施例1〜9とは異なる板厚を有するろう材を用いて形成した比較例1〜4によるクラッド材の反応層(ろう付け接合による接合部)との組成を比較した。また、実施例1〜9および比較例1〜4によるクラッド材の反応層(ろう付け接合による接合部)の酸化増量を算出して比較することにより、実施例1〜9および比較例1〜4によるクラッド材の反応層(ろう付け接合による接合部)の耐酸化性を評価した。以下、詳細に説明する。
(実施例1)
ろう材の原料として、Niを60質量%とCrを40質量%とを含むNi−Cr合金層と、純Ni層と、純Ti層とを用いた。そして、Ni−Cr合金層の一方面および他方面にそれぞれ純Ni層を圧延接合した後、アルゴン雰囲気下で800℃の温度で1分間拡散焼鈍を施した。そして、仕上げ圧延および焼鈍を行って、Ni−Cr合金層および純Ni層の板厚をそれぞれ25.0μmおよび2.1μmに調整した。さらに、Ni−Cr合金層の両面に圧延接合された純Ni層にそれぞれ純Ti層を圧延接合した後、アルゴン雰囲気下で800℃の温度で1分間拡散焼鈍を施した。そして、仕上げ圧延および焼鈍を行って、純Ti層の板厚をそれぞれ10.4μmに調整することにより、純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例1によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)が共晶組成e1(約28.3質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)が共晶組成e2(約64.4質量%)になるようにした。
仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、純Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、23.4μm、1.6μmおよび11.7μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例2によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)がbe1(約21.5質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)がbe2(約59.5質量%)になるようにした。
仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、純Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、30.2μm、1.2μmおよび8.7μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例3によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)がbe1(約21.5質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)がae2(約70.0質量%)になるようにした。
仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、純Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、19.2μm、3.4μmおよび12.0μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例4によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)がae1(約37.5質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)がbe2(約59.5質量%)になるようにした。
仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、純Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、26.8μm、2.5μmおよび9.1μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例5によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)がae1(約37.5質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)がae2(約70.0質量%)になるようにした。
ろう材の原料として、Niを80質量%とCrを20質量%とを含むNi−Cr合金層を用いるとともに、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、純Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、21.6μm、2.4μmおよび11.8μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例6によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)が共晶組成e1(約28.3質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)が共晶組成e2(約64.4質量%)になるようにした。
ろう材の原料として、Niを80質量%とCrを20質量%とを含むNi−Cr合金層を用いるとともに、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、純Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、20.6μm、1.8μmおよび12.9μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例7によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)がbe1(約21.5質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)がbe2(約59.5質量%)になるようにした。
ろう材の原料として、Niを80質量%とCrを20質量%とを含むNi−Cr合金層を用いるとともに、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、純Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、26.6μm、1.4μmおよび10.3μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例8によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)がbe1(約21.5質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)がae2(約70.0質量%)になるようにした。
ろう材の原料として、Niを80質量%とCrを20質量%とを含むNi−Cr合金層を用いるとともに、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、純Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、23.2μm、2.9μmおよび10.5μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例9によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)がae1(約37.5質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)がae2(約70.0質量%)になるようにした。
ろう材の原料として、Niを80質量%とCrを20質量%とを含むNi−Cr合金層を用いるとともに、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、Ni層およびTi層のそれぞれの板厚を、16.4μm、3.7μmおよび13.1μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する比較例1によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)がae1(約37.5質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)がbe2(約59.5質量%)になるようにした。
ろう材の原料として、Niを60質量%とCrを40質量%とを含むNi−Cr合金層を用いるとともに、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、Ni層およびTi層のそれぞれの板厚を、27.4μm、1.2μmおよび10.1μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する比較例2によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)がbe1(約21.5質量%)未満になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)が共晶組成e2(約64.4質量%)になるようにした。
ろう材の原料として、Niを60質量%とCrを40質量%とを含むNi−Cr合金層を用いるとともに、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、Ni層およびTi層のそれぞれの板厚を、30.8μm、1.6μmおよび8.0μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する比較例3によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)が共晶組成e1(約28.3質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)がae2(約70.0質量%)より大きくなるようにした。
ろう材の原料として、Niを60質量%とCrを40質量%とを含むNi−Cr合金層を用いるとともに、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、Ni層およびTi層のそれぞれの板厚を、18.8μm、2.6μmおよび13.0μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/純Ni層/Ni−Cr合金層/純Ni層/純Ti層の5層構造を有する比較例2によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、純Ni層中のNiとの合計に対する純Ni層中のNiの含有率(質量%)が共晶組成e1(約28.3質量%)になるとともに、ろう付け後のTi−Ni−Cr合金中のTiおよびNiの合計に対するTi−Ni−Cr合金中のNiの含有率(質量%)がbe2(約59.5質量%)未満になるようにした。
(実施例1〜9および比較例1〜4に共通)
次に、上記のようにして作製した実施例1〜9および比較例1〜4によるろう材を反応させて得られたクラッド材の反応層の組成を分析した。具体的には、実施例1〜9および比較例1〜4によるろう材を所定の条件(温度:約1220℃、時間:10分)で反応させた。そして、上記反応により得られたクラッド材の反応層を上記第1実施形態によるろう付け接合による接合部と見なし、その反応層の断面を樹脂で埋め込んだ後、研磨を行った。そして、反応層の断面におけるNi、CrおよびTiの含有率(質量%)を、EPMA(電子線マイクロアナリシス)を用いて分析した。さらに、実験によって得られたクラッド材の反応層のTiとNiとの組成(質量%)比を分析した。その結果を以下の表4〜表6に示す。
(実施例1〜9および比較例1〜4に共通)
また、上記実施例1〜9および比較例1によるろう材を反応させて得られた反応層(ろう付け接合による接合部)の耐酸化性を評価するための酸化試験を行った。具体的には、実施例1〜9および比較例1によるろう材を反応させて得られた反応層を50mm×50mm角に切り出し、酸化試験前の反応層の重量を測定した後、大気中で700℃の温度で100時間加熱した。そして、酸化試験後の反応層の重量を測定し、酸化試験前後における反応層の重量の変化から反応層の酸化増量を算出するとともに、反応層の耐酸化性を評価した。また、比較例5および6として、上記実施例1〜9および比較例1によるろう材を反応させて得られた反応層に対して行った酸化試験をSUS316LおよびSUS304に対しても行った。すなわち、比較例5によるSUS316Lおよび比較例6によるSUS304を50mm×50mm角に切り出し、酸化試験前の重量を測定した後、大気中で700℃の温度で100時間加熱した。そして、酸化試験後の重量を測定し、酸化試験前後の重量の変化から酸化増量を算出した。以上の結果を表7に示す。なお、比較例2〜4については、反応層が均一に混ざらなかったため、酸化試験を行っていない。
まず、図13を参照して、この第3実施形態では、上記第1実施形態と異なり、ろう材1dにMoまたはCoを添加する場合について説明する。
図14および図15を参照して、この第4実施形態では、上記第3実施形態と異なり、3層構造からなるろう材51aが基板13に圧延接合されたろう付け用複合材50aについて説明する。
次に、上記した本発明の第3実施形態の効果(ろう付け接合による接合部の耐酸化性向上効果)を確認するために行った比較実験について説明する。この比較実験では、MoまたはCoのいずれも含有しないろう材を用いて形成した上記第1実施形態に対応する実施例1によるクラッド材の反応層(ろう付け接合による接合部)と、MoまたはCoのいずれかを含有するろう材を用いて形成した実施例10〜15によるクラッド材の反応層(ろう付け接合による接合部)との組成を比較した。また、実施例1および10〜15によるクラッド材の反応層(ろう付け接合による接合部)の酸化増量を算出して比較することにより、実施例1および10〜15によるクラッド材の反応層(ろう付け接合による接合部)の耐酸化性を評価した。以下、詳細に説明する。
(実施例1)
上記した第1実施形態の効果を確認するために行った比較実験と同様にして、実施例1によるろう材を作製した。
ろう材の原料として、Niを60質量%とCrを40質量%とを含むNi−Cr合金層と、Moが5質量%添加されたNi層と、純Ti層とを用いた。そして、Ni−Cr合金層の一方面および他方面にそれぞれNi層を圧延接合した後、アルゴン雰囲気下で800℃の温度で1分間拡散焼鈍を施した。そして、仕上げ圧延および焼鈍を行って、Ni−Cr合金層およびNi層の板厚をそれぞれ24.2μmおよび1.9μmに調整した。さらに、Ni−Cr合金層の両面に圧延接合されたNi層にそれぞれ純Ti層を圧延接合した後、アルゴン雰囲気下で800℃の温度で1分間拡散焼鈍を施した。そして、仕上げ圧延および焼鈍を行って、純Ti層の板厚をそれぞれ11.0μmに調整することにより、純Ti層/Ni層/Ni−Cr合金層/Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例10によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、Ni層中のNiとの合計に対するNi層中のNiの含有率(質量%)が24.5質量%になるようにした。
ろう材の原料として、Niを60質量%とCrを40質量%とを含むNi−Cr合金層と、Moが10質量%添加されたNi層と、純Ti層とを用いた。そして、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、23.6μm、2.0μmおよび11.2μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/Ni層/Ni−Cr合金層/Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例11によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、Ni層中のNiとの合計に対するNi層中のNiの含有率(質量%)が24.1質量%になるようにした。
ろう材の原料として、Niを60質量%とCrを40質量%とを含むNi−Cr合金層と、Moが20質量%添加されたNi層と、純Ti層とを用いた。そして、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、24.2μm、2.0μmおよび10.9μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/Ni層/Ni−Cr合金層/Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例12によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、Ni層中のNiとの合計に対するNi層中のNiの含有率(質量%)が22.5質量%になるようにした。
ろう材の原料として、Niを60質量%とCrを40質量%とを含むNi−Cr合金層と、Moが35質量%添加されたNi層と、純Ti層とを用いた。そして、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、24.4μm、2.4μmおよび10.4μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/Ni層/Ni−Cr合金層/Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例13によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、Ni層中のNiとの合計に対するNi層中のNiの含有率(質量%)が22.9質量%になるようにした。
ろう材の原料として、Niを60質量%とCrを40質量%とを含むとともに、Moが5質量%添加されたNi−Cr合金層と、Moが35質量%添加されたNi層と、純Ti層とを用いた。そして、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、24.8μm、2.5μmおよび10.1μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/Ni層/Ni−Cr合金層/Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例14によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、Ni層中のNiとの合計に対するNi層中のNiの含有率(質量%)が24.1質量%になるようにした。
ろう材の原料として、Niを60質量%とCrを40質量%とを含むNi−Cr合金層と、Coが12質量%添加されたNi層と、純Ti層とを用いた。そして、仕上げ圧延および焼鈍を行うことにより、Ni−Cr合金層、Ni層および純Ti層のそれぞれの板厚を、23.6μm、2.1μmおよび11.1μmに調整したこと以外は、上記実施例1と同様にして純Ti層/Ni層/Ni−Cr合金層/Ni層/純Ti層の5層構造を有する実施例15によるろう材を作製した。このようにして、ろう付け前の純Ti層中のTiと、Ni層中のNiとの合計に対するNi層中のNiの含有率(質量%)が24.8質量%になるようにした。
(実施例1および10〜15に共通)
次に、上記のようにして作製した実施例1および10〜15によるろう材を反応させて得られたクラッド材の反応層の組成を分析した。具体的には、実施例1および10〜15によるろう材を所定の条件(温度:約1150℃、時間:10分)で反応させた。そして、上記反応により得られたクラッド材の反応層を上記第3実施形態によるろう付け接合による接合部と見なし、その反応層の断面を樹脂で埋め込んだ後、研磨を行った。そして、反応層の断面におけるTi、Cr、Ni、MoおよびCoの含有率(質量%)を、EPMAを用いて分析した。さらに、実験によって得られたクラッド材の反応層のTiとNiとの組成(質量%)比を分析した。その結果を以下の表9に示す。
(実施例1および10〜15に共通)
また、上記実施例1および10〜15によるろう材を反応させて得られた反応層(ろう付け接合による接合部)の耐酸化性を評価するための酸化試験を行った。具体的には、実施例1および10〜15によるろう材を反応させて得られた反応層を50mm×50mm角に切り出し、酸化試験前の反応層の重量を測定した後、大気中で700℃の温度で100時間加熱した。そして、酸化試験後の反応層の重量を測定し、酸化試験前後における反応層の重量の変化から反応層の酸化増量を算出するとともに、反応層の耐酸化性を評価した。その結果を表10に示す。
Claims (27)
- Ni−Cr合金層からなるNi−Crろう付け層(2および2a)と、
Ti層またはTi合金層からなるTiろう付け層(3、3a、3b、3cおよび3d)と、
前記Ni−Crろう付け層と、前記Tiろう付け層との間に配置されるNi層またはNi合金層からなるNiろう付け層(4、4a、4b、4cおよび4d)との少なくとも3層構造からなる、ろう材。 - 前記Ni−Cr合金層からなるNi−Crろう付け層のCrの含有率は、20質量%以上40質量%以下である、請求項1に記載のろう材。
- 前記Tiろう付け層中のTi量と、前記Niろう付け層中のNi量との合計を100質量%とした場合に、前記Niろう付け層中のNi量が21.5質量%以上37.5質量%以下である、請求項1または2に記載のろう材。
- 前記Tiろう付け層中のTi量と、前記Niろう付け層中のNi量との合計を100質量%とした場合に、前記Niろう付け層中のNi量が28.3質量%近傍の量である、請求項3に記載のろう材。
- 前記Tiろう付け層の厚みt1と、前記Niろう付け層の厚みt2との比t2/t1は、1/8以上2/7以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のろう材。
- 前記Tiろう付け層の厚みt1と、前記Niろう付け層の厚みt2との比t2/t1は、実質的に1/5である、請求項5に記載のろう材。
- 前記Tiろう付け層は、第1Ti層または第1Ti合金層からなる第1Tiろう付け層(3aおよび3c)と、第2Ti層または第2Ti合金層からなる第2Tiろう付け層(3bおよび3d)とを含み、
前記Niろう付け層は、第1Ni層または第1Ni合金層からなる第1Niろう付け層(4aおよび4c)と、第2Ni層または第2Ni合金層からなる第2Niろう付け層(4bおよび4d)とを含み、
前記Ni−Crろう付け層と、前記第1Tiろう付け層との間に、前記第1Niろう付け層が配置されるとともに、前記Ni−Crろう付け層と、前記第2Tiろう付け層との間に、前記第2Niろう付け層が配置される5層構造からなる、請求項1〜6のいずれか1項に記載のろう材。 - 前記Ni−Crろう付け層と、前記Tiろう付け層と、前記Niろう付け層とのうちの少なくともいずれか1つの層は、MoまたはCoのうちの少なくとも一方を含有する、請求項1〜7に記載のろう材。
- 前記Ni−Crろう付け層と、前記Tiろう付け層と、前記Niろう付け層とのうちの少なくともいずれか1つの層に含有される全体のMoの含有量は、2.0質量%以上4.5質量%以下である、請求項8に記載のろう材。
- 前記Ni−Crろう付け層と、前記Tiろう付け層と、前記Niろう付け層とのうちの少なくともいずれか1つの層に含有される全体のCoの含有量は、2.0質量%以上10.0質量%以下である、請求項8または9に記載のろう材。
- 鉄鋼により形成された基板(13)と、
前記基板の表面に圧延接合され、Ni−Cr合金層からなるNi−Crろう付け層(2および2a)と、Ti層またはTi合金層からなるTiろう付け層(3および3e)と、前記Ni−Crろう付け層と前記Tiろう付け層との間に配置されるNi層またはNi合金層からなるNiろう付け層(4および4e)との少なくとも3層構造からなるろう材(51および51a)とを備えた、ろう付け用複合材。 - 前記Ni−Cr合金層からなるNi−Crろう付け層のCrの含有率は、20質量%以上40質量%以下である、請求項11に記載のろう付け用複合材。
- 前記Tiろう付け層中のTi量と、前記Niろう付け層中のNi量との合計を100質量%とした場合に、前記Niろう付け層中のNi量が21.5質量%以上37.5質量%以下である、請求項11または12に記載のろう付け用複合材。
- 前記Tiろう付け層中のTi量と、前記Niろう付け層中のNi量との合計を100質量%とした場合に、前記Niろう付け層中のNi量が28.3質量%近傍の量である、請求項13に記載のろう付け用複合材。
- 前記Tiろう付け層の厚みt1と、前記Niろう付け層の厚みt2との比t2/t1は、1/8以上2/7以下である、請求項11〜14のいずれか1項に記載のろう付け用複合材。
- 前記Tiろう付け層の厚みt1と、前記Niろう付け層の厚みt2との比t2/t1は、実質的に1/5である、請求項15に記載のろう付け用複合材。
- 前記Ni−Crろう付け層と、前記Tiろう付け層と、前記Niろう付け層とのうちの少なくともいずれか1つの層は、MoまたはCoのうちの少なくとも一方を含有する、請求項11〜16に記載のろう付け用複合材。
- 前記ろう材は、2.0質量%以上4.5質量%以下のMoを含有する、請求項17に記載のろう付け用複合材。
- 前記ろう材は、2.0質量%以上10.0質量%以下のCoを含有する、請求項17または18に記載のろう付け用複合材。
- 鉄鋼により形成された基板(13)と、前記基板の表面に圧延接合され、Ni−Cr合金層からなるNi−Crろう付け層(2および2a)、Ti層またはTi合金層からなるTiろう付け層(3および3e)、および、前記Ni−Crろう付け層と前記Tiろう付け層との間に配置されるNi層またはNi合金層からなるNiろう付け層(4および4e)の少なくとも3層構造からなるろう材(51および51a)とを備えたろう付け用複合材(50および50a)を用いてろう付け接合されることにより形成された、ろう付け構造。
- 少なくともろう付け接合された部分にTi−Ni−Cr合金(1e)を含む、請求項20に記載のろう付け構造。
- 前記Ti−Ni−Cr合金中のTi量とNi量との合計を100質量%とした場合に、前記Ti−Ni−Cr合金中のNi量が59.5質量%以上70.0質量%以下である、請求項21に記載のろう付け構造。
- 前記Ti−Ni−Cr合金中のTi量とNi量との合計を100質量%とした場合に、前記Ti−Ni−Cr合金中のNi量が64.4質量%近傍の量である、請求項22に記載のろう付け構造。
- 前記Ti−Ni−Cr合金のCrの含有率は、11質量%以上である、請求項21〜23のいずれか1項に記載のろう付け構造。
- ろう付け接合された部分は、MoまたはCoのうちの少なくとも一方を含有する、請求項20〜24に記載のろう付け構造。
- 前記ろう付け接合された部分は、2.0質量%以上4.5質量%以下のMoを含有する、請求項25に記載のろう付け構造。
- 前記ろう付け接合された部分は、2.0質量%以上10.0質量%以下のCoを含有する、請求項25または26に記載のろう付け構造。
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