JPWO2006080144A1 - Ｘ線計測装置 - Google Patents

Abstract

検査対象にＸ線を照射し、検査対象に関する計測データを検出するとともにＸ線源と検査対象との間にＸ線の透過量を調整するフィルタを設置し、Ｘ線源と検査対象に対する相対位置を変化させ、得られた計測データの演算処理を行うＸ線計測装置であって、計測データを対数変換して投影データを得、得られた投影データに対応する前記フィルタのＸ線吸収量を得、得られたＸ線吸収量に対して所定の変換式を用いてフィルタの厚さを算出し、算出されたフィルタの厚さにより得られた投影データに対応する補正係数を得、得られた補正係数を前記投影データに乗算し、補正係数が乗算された投影データを再構成演算して３次元像を得る。

Description

本発明は、検出器の飽和を抑制し、値の均一性を向上した良好な３次元像を得ることが可能なＸ線計測装置に関する。

Ｃ字型の支柱（以下、Ｃアームと言う）の開放された両端にＸ線源と２次元Ｘ線検出器を対向するように設置したＸ線計測装置がある。Ｃアームを天井から吊るす構造や、Ｃアームを床から支える構造がある。また、ガントリ上にＸ線源と２次元Ｘ線検出器を対向するように設置したＸ線計測装置がある。これらの装置において、Ｃアームあるいはガントリを回転させることにより、Ｘ線源と検出器の対を被写体の周囲で回転させながらＸ線計測を行うことが可能である。また、回転計測により得られた複数の計測データにそれぞれ補正処理を施して３次元再構成のための１組の投影データを得、得られた１組の投影データに対して３次元再構成アルゴリズムを用いて再構成処理を行い、３次元像を得ることが可能である。これらの３次元計測が非特許文献１に記載されている。

新医療、２００２年１０月、Ｖｏｌ．２９、Ｎｏ．１０、ｐｐ．１０２−１０５

従来のＸ線計測装置においては、厚い被写体を計測すると、被写体を透過して検出器に到達するＸ線量は少量となり、計測されるＸ線像の画質は劣化する。Ｘ線源から照射するＸ線量を強化する、あるいは、Ｘ線源と検出器の距離を短くする等の工夫をして、検出器に到達するＸ線量を増加させると、被写体領域の画質を向上することができる。しかし、一方、被写体の存在しない領域、あるいは被写体の薄い領域では、検出器に到達するＸ線量が増大し、Ｘ線量が検出限界を超えた検出素子では飽和現象が生じ、正しい値を示さなくなる。検出器の飽和を抑制するために、Ｘ線源と被写体の間に金属等からなるフィルタを設置すると、フィルタの種類や厚さによって被写体に入射するＸ線のエネルギー分布が変わる。エネルギー分布の異なるＸ線像を用いて再構成処理を行うと、得られた３次元像は正しい値を示すことができないと言う課題がある。

また、フィルタを設置しない場合やフィルタの種類や厚さが一様な場合では、被写体に入射するエネルギー分布は一様となるが、被写体の種類や厚さによって被写体を透過するうちにＸ線のエネルギー分布が変わる。エネルギー分布の異なるＸ線像を用いて再構成処理を行うと、得られた３次元像は正しい値を示すことができないと言う課題がある。

また、フィルタや被写体から発生した散乱Ｘ線が、検出器に入射してデータに混在する。散乱Ｘ線の混在したＸ線像を用いて再構成処理を行うと、得られた３次元像は正しい値を示すことができないと言う課題がある。

本発明の目的は、これらの課題に対して、３次元像の値の不均一性を補正し、良好な３次元像を得ることが可能なＸ線計測装置を提供することにある。

上記の目的は、検査対象に照射するＸ線を発生するＸ線源と、このＸ線源と検査対象を挟むように対向配置され検査対象の透過Ｘ線を計測データとして検出するＸ線検出器と、Ｘ線源と検査対象との間に設置されたＸ線の透過量を調整するフィルタと、Ｘ線源とＸ線検出器を保持する保持装置と、Ｘ線源およびＸ線検出器を検査対象の周囲に回転させる回転装置と、回転装置によって回転された検査対象に対する複数の角度にてＸ線検出器により検出された計測データの演算処理を行う制御処理装置とを有するＸ線計測装置とし、制御処理装置は、計測データを対数変換して投影データを得、得られた投影データに対応するフィルタのＸ線吸収係数を得、得られたＸ線吸収係数に対して所定の変換式を用いてフィルタの厚さを算出し、算出されたフィルタの厚さにより得られた投影データに対応する補正係数を得、得られた補正係数を投影データに乗算し、補正係数が乗算された投影データを再構成演算して３次元像を得ることにより達成できる。

本発明によれば、Ｘ線の検出素子の飽和現象、フィルタや被写体によるエネルギー分布の変化、あるいは、フィルタや被写体から発生した散乱Ｘ線による影響を除いた３次元像を得ることができる。

図４は本発明を適用するＸ線計測装置の例の側面図を断面の形で示す概念図である。Ｘ線計測装置はＸ線源４０１、検出器４０２、支柱４０３、回転装置４０４、寝台４０５、制御処理装置４０６から成る。Ｘ線源４０１と検出器４０２は支柱４０３に設置されている。支柱４０３にはＣ字型のアームや、コ字型のアームや、ガントリ等が用いられる。図４では、Ｃ字型のアームを示す。支柱４０３を天井から吊るす形態や、支柱４０３を床から支える形態が考えられる。支柱４０３は回転装置４０４により、回転軸４０７を中心として寝台４０５上に横になった被写体４０８の周囲を回転する。

図４では、最も一般的な形態として、回転軸４０７および寝台４０５が床に平行である場合を示した。支柱４０３および寝台４０５を移動させることにより、回転軸４０７を体軸に対して斜めに設定することも可能である。また、回転軸４０７が床に対して垂直であり、支柱４０３が立位あるいは椅子に座った被写体４０８の周囲を回転する形態も可能である。

図４では、Ｘ線源４０１と検出器４０２が回転装置４０４によって、被写体４０８の周囲を回転軸４０７を中心として回転する場合を示した。Ｘ線源４０１と検出器４０２が固定で、被写体４０８が回転装置４０４によって、回転軸４０７を中心として回転する形態も可能である。あるいは、Ｘ線源４０１、検出器４０２、被写体４０８が回転軸４０７を中心として回転する形態も可能である。いずれの場合も、相対的な回転運動と捉えることにより、同様の回転計測となる。

検出器４０２には平面型Ｘ線検出器、Ｘ線イメージインテンシファイアとＣＣＤカメラの組み合わせ、イメージングプレート、ＣＣＤ検出器、固体検出器等が用いられる。平面型Ｘ線検出器としては、フォトダイオードとアモルファスシリコンＴＦＴを一対としてこれを正方マトリックス上に配置し、これと蛍光体を直接組み合わせたもの等がある。

Ｘ線源４０１から発生されたＸ線は被写体４０８を透過し、検出器４０２によりＸ線強度に応じた電気信号に変換され、制御処理装置４０６に計測データとして入力される。制御処理装置４０６は、Ｘ線源４０１におけるＸ線発生、検出器４０２におけるデータの取得、回転装置４０４における支柱４０３の回転を制御する。これにより、Ｘ線計測装置は、支柱４０３を回転しながらＸ線の発生と計測データの取得を行う回転計測が可能である。制御処理装置４０６は、計測データに対して、対数変換処理や再構成演算処理等を実行し、３次元データを取得することが可能である。図４では制御処理装置４０６は検出器４０２の外部に備えられているが、検出器４０２の内部に備えられる形態も可能である。その場合、高速処理が可能となる。

本発明に係わるＸ線計測装置は、Ｘ線源４０１と検出器４０２の間にフィルタ４１０を設置することが可能である。フィルタ４１０はアルミニウム、銅、真鍮等の金属、セラミック、樹脂等から成る。最も簡便には、プラスチックや樹脂等のケースに入れた液体で作成することも可能である。フィルタ形状は任意であり、後述するデータ補正処理は任意のフィルタ形状に対応可能である。

以下、本発明の第一の実施例を説明する。

本発明の制御処理装置４０６は、３次元像の値の不均一性を補正する処理を実行する。制御処理装置４０６は、内部に記憶装置４０９を有し、補正処理に必要なテーブル等を記憶する。制御処理装置４０６の入力手段としては、図示しないが、キーボードからのキー入力、ファイルからの読み込み、記憶チップの交換が考えられる。制御処理装置４０６は操作メニューとして補正処理の実行の有無を入力するモード、あるいは、スイッチ等を有する。

以下、３次元像の値の不均一性を補正する処理の手順を示す。
（１）感度データ取得：被写体を設置しない状態でＸ線を照射して計測を行い、検出器の感度データを取得する。
（２）オフセット補正処理：Ｘ線を照射しない状態で計測を行い、検出器のオフセットデータを取得する。被写体を設置して回転計測を行い、回転に応じた複数の被写体データを取得する。各被写体データからオフセットデータを減算し、オフセット補正後被写体データを得る。
（３）感度補正処理：感度データからオフセットデータを減算し、オフセット補正後感度データを得る。オフセット補正後被写体データをオフセット補正後感度データで除算し、感度補正後被写体データを得る。
（４）対数変換処理：感度補正後被写体データに対して対数変換処理を行い、−１倍し、投影データを得る。
（５）不均一性補正処理：投影データに対して補正係数Ｇを乗算し、不均一性補正後データを得る。
（６）３次元データ取得：全ての被写体データに対して、上述の処理を終了したら、再構成演算処理を行い、３次元データを得る。

図１は、実施例１の不均一性補正処理の手順を示すフローチャートである。図２は、実施例１の不均一性補正処理で使用する変換テーブルＡを示す図、図３は、実施例１の不均一性補正処理で使用する変換テーブルＢを示す図である。

投影データの横方向の座標をｕ、縦方向の座標をｖとする。被写体の投影データＡｓ（ｕ，ｖ）に対して位置ｖを指定する（ステップ１０１）。被写体の投影データＡｓ（ｕ，ｖ）に対して位置ｕを指定する（ステップ１０２）。（※ 図１のｕループの位置を修正） 座標（ｕ，ｖ）に対して変換テーブルＡを検索し、フィルタのＸ線吸収量Ａｆ（ｕ，ｖ）を得る（ステップ１０３）。フィルタＸ線吸収量Ａｆ（ｕ，ｖ）に対して変換式Ａ（後述）により、フィルタＸ線吸収量Ａｆ（ｕ，ｖ）に相当するフィルタの厚さとして等価フィルタ厚さＥｆ（ｕ，ｖ）を算出する（ステップ１０４）。

算出した等価フィルタ厚さＥｆ（ｕ，ｖ）および被写体投影データＡｓ（ｕ，ｖ）に対して変換テーブルＢを検索し、補正係数Ｇ（Ｅｆ，Ａｓ）を得る（ステップ１０５）。（※ 図３のＧの表記を修正。Ｇの表記ですが、前回の修正としてＥｆを下付け表記にしましたが、下付け標記ができないようですので、「Ｇ（Ｅｆ，Ａｓ）」の形に再修正します。文中および図中において、Ｇの表記を「Ｇ（Ｅｆ，Ａｓ）」に統一して下さい。） 変換テーブルＢに、期待する等価フィルタ厚さＥｆ（ｕ，ｖ）および被写体投影データＡｓ（ｕ，ｖ）が無い場合には、近い値から補間演算あるいは外挿演算により補正係数Ｇ（Ｅｆ，Ａｓ）を求める。被写体投影データＡｓ（ｕ，ｖ）に対して、補正係数Ｇ（Ｅｆ，Ａｓ）を乗算する（ステップ１０６）。全ての座標ｕに対して処理を実行する（ステップ１０７）。全ての座標ｖに対して処理を実行する（ステップ１０８）。全ての被写体投影データに対して処理を実行する（ステップ１０９）。

図２に示した変換テーブルＡの求め方を示す。被写体を計測する際に用いるフィルタ４１０を設置し、被写体を設置しないでＸ線を照射し、計測データを取得する。計測データに対して、前述したオフセット補正、感度補正、対数変換処理を実行して投影データを得る。座標（ｕ，ｖ）における投影データの値をフィルタのＸ線吸収量Ａｆ（ｕ，ｖ）とする。投影データの横方向の座標ｕを１から最大値Ｎｕまで変化させ、縦方向の座標ｖを１から最大値Ｎｖまで変化させ、各座標（ｕ，ｖ）においてＡｆ（ｕ，ｖ）を求め、テーブルに格納する。

これらの処理において、同じ条件で取得した投影データを加算平均した投影データを用いることにすれば、統計ノイズを減少させ、精度を向上させることができる。

変換テーブルＡにおいて座標を数点刻みとし、補間演算により任意の座標におけるＸ線吸収量を算出するようにすることも可能である。その場合は、テーブルの記憶容量を低減できる。

変換テーブルＡは、座標を変数としてＸ線吸収量を算出する変換式として保持することも可能である。その場合、テーブルの記憶容量を低減できる。

変換式Ａの求め方を示す。所定の一様な厚さＥｆのフィルタ４１０を設置し、被写体を設置しないでＸ線を照射し、計測データを取得する。計測データに対して、前述したオフセット補正、感度補正、対数変換処理を実行して投影データを得る。投影データにおいて平均値を算出し、これをフィルタ４１０のＸ線吸収量Ａｆとする。フィルタ４１０として、厚さを異にする複数のフィルタを用意して、それぞれの厚さのフィルタに対して投影データを取得し、各々のフィルタ厚さＥｆに対するＸ線吸収量Ａｆを得る。Ｘ線吸収量Ａｆに対するフィルタ厚さＥｆを式（１）で近似し、係数ａ_０，ａ_１，ａ_２，---を求める。

図３に示した変換テーブルＢの求め方を示す。所定の一様な厚さＥｆのフィルタ４１０を設置し、任意の被写体を設置してＸ線を照射し、計測データを取得する。ここでは、任意の被写体としては、円柱形容器や楕円柱容器に水を詰めたものや、アクリル円柱等を用いる。計測データに対して、前述したオフセット補正、感度補正、対数変換処理を実行して投影データＡｓ（ｕ，ｖ）を得る。再構成像の値が均一となる理想的な被写体の投影データＡｏ（ｕ，ｖ）を設定する。各座標（ｕ，ｖ）において、理想投影データＡｏ（ｕ，ｖ）を被写体投影データＡｓ（ｕ，ｖ）で除算し、補正係数Ｇ（Ｅｆ，Ａｓ）を算出する。フィルタ４１０として、厚さを異にする複数のフィルタを用意して、それぞれの厚さＥｆのフィルタに対して同じ任意の被写体を用いて投影データを取得し、各々のフィルタ厚さＥｆにおける被写体投影データＡｓに対する補正係数Ｇ（Ｅｆ，Ａｓ）を求める。被写体投影データＡｓに対する補正係数Ｇ（Ｅｆ，Ａｓ）を式（２）で近似し、係数ｂ_０，ｂ_１，ｂ_２，---を求める。

複数の厚さのフィルタに対してフィルタ厚さＥｆを０から最大値Ｅｍａｘまで変化させ、被写体投影データＡｓを０から最大値Ｓｍａｘまで変化させ、近似式（２）を用いてＧ（Ｅｆ，Ａｓ）を求め、テーブルに格納する。

これらの処理において、同じ条件で取得した投影データを加算平均した投影データを用いることにより、統計ノイズを減少させ、補正係数の算出精度を向上させることができる。

変換テーブルＢにおいて、フィルタ厚さおよび被写体投影データを数点刻みとし、補間演算により補正係数を算出することも可能である。その場合、テーブルの記憶容量を低減できる。

変換テーブルＢは、フィルタ厚さおよび被写体投影データを変数として補正係数を算出する変換式として保持することも可能である。その場合、テーブルの記憶容量を低減できる。

図５（Ａ）−（Ｃ）は、フィルタ４１０をＸ線源４０１の回転面に沿って切った断面（左側）と斜視図（右側）について、３種類の例を示す図である。（Ａ）は、全体が一様な厚さとされたフィルタ４１０の断面図と斜視図、（Ｂ）は、凹面から成る領域と、一様な厚さとされた領域との組み合わせから成るフィルタ４１０の断面図と斜視図、（Ｃ）は、凹面から成る領域と、凸面から成る領域と、一様な厚さとされた領域との組み合わせから成るフィルタ４１０の断面図と斜視図である。断面図に矢印を表示してＸ線と付記したのはＸ線の入射方向を示すためである。Ｘ線の入射方向を矢印と逆方向にすることも可能である。図５（Ａ）−（Ｃ）に示すように、フィルタ形状を左右対称形とすると、フィルタ中心に対してフィルタのＸ線吸収量が左右対称となり、前述した吸収量の算出演算量およびテーブルＡの記憶容量が半減できる。フィルタ形状を断面の奥行き方向に同形とすると、フィルタのＸ線吸収量がどの断面においても同じとなり、吸収量の算出演算量およびテーブルＡの記憶容量を減少できる。

図６（Ａ）−（Ｃ）は、フィルタ４１０の別の形状を示す断面図および平面図である。図６（Ｂ）はＸ線の入射方向から見た平面図であり、図６（Ａ）は、Ａ−Ａ位置で矢印方向に見た断面図、図６（Ｃ）は、Ｂ−Ｂ位置で矢印方向に見た断面図である。図６（Ａ）に示されるように、フィルタ４１０はＡ−Ａ位置で凹面から成る領域と一定値から成る領域の組み合わせから成る。また、Ｂ−Ｂ位置でフィルタは上部で厚さが変化する。

フィルタの形状を、Ｘ線入射方向から見た場合には図６（Ｂ）と同様とし、Ａ−Ａ断面において図５（Ｃ）と同様に凹面から成る領域と、凸面から成る領域と、一様な厚さから成る領域との組み合わせとし、Ｂ−Ｂ断面においてフィルタ上部で厚さが変化し、かつ凹面から成る領域と、一様な厚さから成る領域との境界を凸面形状とすることも可能である。

図５（Ａ）に示すフィルタ４１０は、被写体が計測領域（検出器４０２の検出領域）において比較的平坦であり、検出器４０２の飽和を平均的に防止するような計測の場合に有用であり、図５（Ｂ），（Ｃ）に示すフィルタ４１０は、被写体の厚さが計測領域において両側で急激に減少する計測の場合に有用である。図６の例では、さらに、被写体の厚さが計測領域の上部においても急激に減少する計測の場合に有用である。

具体的に言えば、図５（Ｃ）に示すフィルタ４１０は、フィルタの断面形状が、凹型の円弧の隣に凸型の円弧があり、その隣に直線がある構成をしており、凹型の円弧と凸型の円弧の交点における接線が同じ傾きであり、凸型の円弧と直線の交点における接線が同じ傾きをしていることにより、頭部、腹部、下肢などの人体形状に対して良好な３次元像を得ることができる。さらに、図６の例によれば、フィルタの厚さが回転装置の回転中心軸方向に変化することにより、頭部など、体軸方向に厚さの異なる形状を持つ検査対象に対して良好な３次元像を得ることができる。

実施例１によれば、所定の一様な厚さのフィルタを設置して検査対象を設置しない状態で取得した投影データにおいて平均値を算出し、複数の厚さのフィルタに対して平均値を取得し、フィルタ厚さに対して平均値を多項式で近似し、フィルタのＸ線吸収量とフィルタの厚さの関係を表す変換式を作成することにより、任意の厚さを有するフィルタに対して補正処理が可能となる。

また、実施例１によれば、所定の一様な厚さのフィルタを設置して任意の被写体を設置した状態で投影データを得、再構成像の値が均一となる理想的な検査対象の投影データを求め、理想投影データを検査対象の投影データで除算して補正係数を算出し、複数の厚さのフィルタに対して補正係数を取得し、フィルタの厚さと検査対象の投影データと補正係数の関係を表す変換テーブルを作成することにより、任意の形状を有する検査対象に対して補正処理が可能となる。

また、上述の実施例１を発展させれば、一様な厚さのフィルタに代えて、任意の形状を有するフィルタを設置して検査対象を設置しない状態で投影データを得、投影データの横方向の座標と縦方向の座標を変化させて各座標における投影データの値を求め、検査対象の投影データとフィルタのＸ線吸収量の関係を表す変換テーブルを作成することにより、当該形状を有するフィルタに対して補正処理が可能となる。

また、上述の実施例１を発展させれば、一様な厚さのフィルタに代えて、任意の形状を有するフィルタを設置して任意の被写体を設置した状態で投影データを得、再構成像の値が均一となる理想的な検査対象の投影データを求め、理想投影データを検査対象の投影データで除算して補正係数を算出し、複数の厚さのフィルタに対して補正係数を取得し、フィルタの厚さと検査対象の投影データと補正係数の関係を表す変換テーブルを作成することにより、任意の形状を有する検査対象に対して当該形状を有するフィルタによって補正処理が可能となる。

また、実施例１によれば、任意の被写体として、水円柱、あるいは、水楕円柱を用いることにより、簡便に精度よく検査対象を模擬し、補正係数を求めることができる。

（その他の実施例）
上述した実施例１の補正処理では、変換テーブルおよび変換式を一つずつ準備した場合について述べた。他の実施例では、Ｘ線管電圧、散乱Ｘ線遮蔽グリッド、コリメータなど撮影条件に対応して、あらかじめ複数の変換テーブルおよび変換式を準備することが考えられる。その場合、制御処理装置４０６は、これらの複数の変換テーブルおよび変換式のセットを格納し、これらを撮影条件によって選択して補正処理に使用する。撮影条件に対応した変換テーブルおよび変換式を用いることにより、補正の精度を向上することができる。また、別の実施例では、格納した複数の変換テーブルおよび変換式のセットの中から撮影条件によって複数のセットを選択して、それらの補間演算または外挿演算により任意の撮影条件に適合する補正係数を算出し、補正処理に使用することが考えられる。これにより、任意の撮影条件に対して、精度の高い補正を実現することができる。

本発明によれば、Ｘ線の検出素子の飽和現象、フィルタや被写体によるエネルギー分布の変化、あるいは、フィルタや被写体から発生した散乱Ｘ線による影響を除き、検出器の飽和を抑制し、値の均一性を向上した良好な３次元像を得ることが可能なＸ線計測装置を提供できる。

実施例１の不均一性補正処理の手順を示すフローチャートである。 実施例１の不均一性補正処理で使用する変換テーブルＡを示す図である。 実施例１の不均一性補正処理で使用する変換テーブルＢを示す図である。 本発明を適用するＸ線計測装置の例の側面図を断面の形で示す概念図である。 （Ａ）−（Ｃ）は、フィルタ４１０をＸ線源４０１の回転面に沿って切った断面（左側）と斜視図（右側）について、３種類の例を示す図である。（Ａ）は、全体が一様な厚さとされたフィルタ４１０の断面図と斜視図、（Ｂ）は、凹面から成る領域と、一様な厚さとされた領域との組み合わせから成るフィルタ４１０の断面図と斜視図、（Ｃ）は、凹面から成る領域と、凸面から成る領域と、一様な厚さとされた領域との組み合わせから成るフィルタ４１０の断面図と斜視図である。 （Ａ）−（Ｃ）は、フィルタ４１０の別の形状を示す断面図および平面図であり、（Ｂ）はＸ線の入射方向から見た平面図、（Ａ）は、Ａ−Ａ位置で矢印方向に見た断面図、（Ｃ）は、Ｂ−Ｂ位置で矢印方向に見た断面図である。

符号の説明

４０１：Ｘ線源、４０２：検出器、４０３：支柱、４０４：回転装置、４０５：寝台、４０６：制御処理装置、４０７：回転軸、４０８：被写体、４０９：記憶装置、４１０：フィルタ。

Claims (17)

1. 検査対象に照射するＸ線を発生するＸ線源と、このＸ線源と前記検査対象を挟むように対向配置され前記検査対象の透過Ｘ線を計測データとして検出するＸ線検出器と、前記Ｘ線源と前記検査対象との間に設置されたＸ線の透過量を調整するフィルタと、前記Ｘ線源と前記Ｘ線検出器を保持する保持装置と、前記Ｘ線源および前記Ｘ線検出器を前記検査対象の周囲に回転させる回転装置と、前記回転装置によって回転された前記検査対象に対する複数の角度にて前記Ｘ線検出器により検出された計測データの演算処理を行う制御処理装置と、を有するＸ線計測装置であって、
   前記制御処理装置は、前記計測データを対数変換して投影データを得、前記得られた投影データに対応する前記フィルタのＸ線吸収係数を得、前記得られたＸ線吸収係数に対して所定の変換式を用いて前記フィルタの厚さを算出し、前記算出されたフィルタの厚さにより前記得られた投影データに対応する補正係数を得、前記得られた補正係数を前記投影データに乗算し、前記補正係数が乗算された投影データを再構成演算して３次元像を得ることを特徴とするＸ線計測装置。
2. 前記制御処理装置は、前記フィルタのＸ線吸収量を前記投影データに対して第１の変換テーブルを検索して得ることを特徴とする請求項１に記載のＸ線計測装置。
3. 前記第１の変換テーブルは、検査対象の計測に先行して、前記フィルタを設置して検査対象を設置しない状態で計測データを得、前記計測データを対数変換して投影データを得、前記投影データの横方向の座標と縦方向の座標を変化させて各座標における投影データの値を求め、検査対象の投影データとフィルタのＸ線吸収量との関係を得て作成されるものである請求項１に記載のＸ線計測装置。
4. 前記制御処理装置は、前記補正係数を前記投影データに対して第２の変換テーブルを検索して得ることを特徴とする請求項１に記載のＸ線計測装置。
5. 前記第２の変換テーブルは、所定の一様な厚さのフィルタを設置して任意の被写体を設置した状態で計測データを得、前記計測データを対数変換して投影データを得、再構成像の値が均一となる理想的な検査対象の投影データを求め、理想投影データを検査対象の投影データで除算して補正係数を算出し、複数の厚さのフィルタに対して補正係数を取得し、フィルタの厚さと検査対象の投影データと補正係数の関係を求めて作成されるものである請求項１に記載のＸ線計測装置。
6. 前記制御処理装置は、前記フィルタのＸ線吸収量を得る際に、同じ条件で取得された投影データを加算平均した投影データを用いることを特徴とする請求項１に記載のＸ線計測装置。
7. 前記制御処理装置は、前記フィルタのＸ線吸収量を得る際に、前記第１の変換テーブルにおいて座標を数点刻みとし、補間演算により任意の座標におけるＸ線吸収量を算出することを特徴とする請求項２に記載のＸ線計測装置。
8. 前記制御処理装置は、前記フィルタのＸ線吸収量を得る際に、前記第２の変換テーブルを座標を変数としてＸ線吸収量を算出する変換式として保持し、前記変換式によってＸ線吸収量を算出することを特徴とする請求項２に記載のＸ線計測装置。
9. 前記制御処理装置は、前記フィルタの厚さを得る際に、同じ条件で取得された投影データを加算平均した投影データを用いることを特徴とする請求項１に記載のＸ線計測装置。
10. 前記制御処理装置は、前記フィルタの厚さを得る際に、前記第２の変換テーブルにおいて座標を数点刻みとし、補間演算により任意の座標におけるＸ線吸収量を算出することを特徴とする請求項４に記載のＸ線計測装置。
11. 前記制御処理装置は、前記フィルタの厚さを得る際に、前記第２の変換テーブルを座標を変数としてＸ線吸収量を算出する変換式として保持し、前記変換式によってＸ線吸収量を算出することを特徴とする請求項４に記載のＸ線計測装置。
12. 前記フィルタは、その形状が左右対称形であることを特徴とする請求項１に記載のＸ線計測装置。
13. 前記フィルタは、その断面の奥行き方向の形状が同形であることを特徴とする請求項１に記載のＸ線計測装置。
14. 前記フィルタは、その断面の形状が凹型の円弧での隣に凸型の円弧があり、その隣に直線がある構成をしており、凹型の円弧と凸型の円弧の交点における接線が同じ傾きであり、凸型の円弧と直線の交点における接線が同じ傾きをしていることを特徴とする請求項１に記載のＸ線計測装置。
15. 前記フィルタは、その厚さが前記回転装置の回転中心軸方向に変化することを特徴とする請求項１に記載のＸ線計測装置。
16. 前記制御処理装置は、水円柱あるいは水楕円柱の形状の任意の被写体の投影データから得る補正係数を備えることを特徴とする請求項１に記載のＸ線計測装置。
17. 前記制御処理装置は、前記検査対象を撮影するための撮影条件に応じて複数の補正係数から補正係数を選択することを特徴とする請求項１に記載のＸ線計測装置。

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