JPWO2006035893A1 - シリコン基板加工方法 - Google Patents
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Abstract
Description
を備えることが好ましい。
(第3比較例)
次に、第1実施形態と対比されるべき第3比較例について説明する。本比較例では、薄膜形成工程S1に供給するシリコン基板の表面処理として、表面の有機物汚染を除去する処理を行った。このシリコン基板表面に第1実施形態で行ったのと同一の条件で炭素薄膜層11を形成した。その後、薄膜部分除去工程S2を経て多孔質領域形成工程S4を実施するためシリコン基板10を弗酸溶液に浸漬した。
第6実施形態では、多孔質領域形成工程S3と薄膜残存部除去工程S4との間において、マスク層13上に更に炭素膜を形成する工程、その炭素膜に開口を形成する工程、及び、多孔質シリコン領域に不純物としての添加物をドープする工程を更に有する。
Claims (12)
- シリコン基板の少なくとも一主面上に炭素を主成分とする薄膜を形成する薄膜形成工程と、
前記薄膜形成工程で形成された薄膜のうち前記一主面上の一部領域にある薄膜部分を除去する薄膜部分除去工程と、
前記薄膜部分除去工程を経た後の前記シリコン基板を、弗酸を含有する電解液中で陽極酸化することにより、前記一部領域を含む周囲領域に選択的に多孔質シリコン領域を形成する多孔質領域形成工程と、
前記多孔質領域形成工程を経た後の前記シリコン基板の前記一主面上にある前記薄膜の残存部を酸化性雰囲気で除去すると同時に、前記多孔質シリコン領域の少なくとも一部を酸化する薄膜残存部除去工程と、
を備えることを特徴とするシリコン基板加工方法。 - 前記薄膜形成工程において形成される薄膜が硬質炭素膜であることを特徴とする請求項1記載のシリコン基板加工方法。
- 前記薄膜形成工程において、前記シリコン基板の少なくとも一主面の表面に水素終端化処理を施した後、炭素を主成分とする前記薄膜を形成することを特徴とする請求項1記載のシリコン基板加工方法。
- 前記薄膜残存部除去工程において、前記薄膜の残存部を酸化性雰囲気で除去すると同時に、前記多孔質シリコン領域の全てを酸化する、ことを特徴とする請求項1記載のシリコン基板加工方法。
- 前記薄膜残存部除去工程における酸化性雰囲気が酸素を含有する500℃以上の雰囲気であることを特徴とする請求項1記載のシリコン基板加工方法。
- 前記薄膜残存部除去工程における酸化性雰囲気が酸素を主成分とするプラズマ雰囲気であることを特徴とする請求項1記載のシリコン基板加工方法。
- 前記薄膜残存部除去工程における酸化性雰囲気がオゾン雰囲気であることを特徴とする請求項1記載のシリコン基板加工方法。
- 前記薄膜残存部除去工程における酸化性雰囲気が強酸化性の液体雰囲気であることを特徴とする請求項1記載のシリコン基板加工方法。
- 前記多孔質形成工程によって形成された前記多孔質シリコン領域に添加物を添加する添加工程を備え、
前記薄膜残存部除去工程において、前記添加工程を経た後の前記シリコン基板の前記一主面上にある前記薄膜の残存部を酸化性雰囲気で除去すると同時に、前記多孔質シリコン領域の少なくとも一部を酸化することを特徴とする請求項1記載のシリコン基板加工方法。 - 前記薄膜残存部除去工程を経た後の前記シリコン基板が有する前記多孔質シリコン領域に添加物を添加する添加工程を更に備えることを特徴とする請求項1記載のシリコン基板加工方法。
- 前記多孔質領域形成工程を経た後の前記シリコン基板の前記一主面上に炭素を主成分とする第2薄膜を形成する第2薄膜形成工程と、
前記第2薄膜のうち前記多孔質シリコン領域上に位置する部分の一部を除去する第2薄膜部分除去工程と、
前記第2薄膜のうち前記第2薄膜部分除去工程によって除去された部分を通して前記多孔質シリコン領域に添加物を添加する添加工程と、
前記添加工程を経た後の前記一主面上にある前記第2薄膜の残存部を酸化性雰囲気で除去すると同時に、前記多孔質シリコン領域の少なくとも一部を酸化する第2薄膜残存部除去工程と、
を備えることを特徴とする請求項1記載のシリコン基板加工方法。 - 前記多孔質領域形成工程を経た後の前記シリコン基板の前記一主面上に炭素を主成分とする第2薄膜を形成する第2薄膜形成工程と、
前記第2薄膜のうち前記多孔質シリコン領域上に位置する部分の一部を除去する第2薄膜部分除去工程と、
前記第2薄膜のうち前記第2薄膜部分除去工程によって除去された部分を通して前記多孔質シリコン領域に添加物を添加する添加工程と、
を備え、
前記薄膜残存部除去工程では、前記添加工程を経た後の前記一主面上にある炭素を主成分とする薄膜の残存部を酸化性雰囲気で除去すると同時に、前記多孔質シリコン領域の少なくとも一部を酸化することを特徴とする請求項1記載のシリコン基板加工方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004287679 | 2004-09-30 | ||
JP2004287679 | 2004-09-30 | ||
PCT/JP2005/018000 WO2006035893A1 (ja) | 2004-09-30 | 2005-09-29 | シリコン基板加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006035893A1 true JPWO2006035893A1 (ja) | 2008-05-15 |
JP4654195B2 JP4654195B2 (ja) | 2011-03-16 |
Family
ID=36119039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006537817A Expired - Fee Related JP4654195B2 (ja) | 2004-09-30 | 2005-09-29 | シリコン基板加工方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080206952A1 (ja) |
JP (1) | JP4654195B2 (ja) |
WO (1) | WO2006035893A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008117703A1 (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-02 | Hamamatsu Photonics Kk | 複合光導波路 |
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Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2005
- 2005-09-29 WO PCT/JP2005/018000 patent/WO2006035893A1/ja active Application Filing
- 2005-09-29 JP JP2006537817A patent/JP4654195B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-09-29 US US11/664,158 patent/US20080206952A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006035893A1 (ja) | 2006-04-06 |
JP4654195B2 (ja) | 2011-03-16 |
US20080206952A1 (en) | 2008-08-28 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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