JPS648442B2 - - Google Patents

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JPS648442B2
JPS648442B2 JP54167849A JP16784979A JPS648442B2 JP S648442 B2 JPS648442 B2 JP S648442B2 JP 54167849 A JP54167849 A JP 54167849A JP 16784979 A JP16784979 A JP 16784979A JP S648442 B2 JPS648442 B2 JP S648442B2
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JP
Japan
Prior art keywords
oxide
zinc oxide
voltage
mol
zno
Prior art date
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Expired
Application number
JP54167849A
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English (en)
Other versions
JPS5690504A (en
Inventor
Takao Matsumura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
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Publication of JPS5690504A publication Critical patent/JPS5690504A/ja
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Granted legal-status Critical Current

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  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は電圧非直線抵抗体用焼結体の製造方法
に関する。 電圧非直線抵抗体(以下、バリスタと称す)は
サージ吸収素子、電圧安定化素子、避雷器等に広
く用いられている。 従来、これらの用途には、シリコン・カーバイ
ド・バリスタ、シリコン・バリスタ、セレン整流
器、亜酸化銅整流器等が供されていた。 しかし、これらのバリスタは、電圧非直線係数
(これをαと記す)が小さい、特性を任意に調整
できない、あるいは形状が大きい等のいずれかの
欠点を有しており、その用途は、おのずから制限
されていた。 これらの欠点を改善するものとして酸化亜鉛を
主成分とする酸化亜鉛系焼結体からなるバリスタ
が開発された。この酸化亜鉛系バリスタは優れた
電圧非直線係数を有しているため、その用途は広
く確実に拡大されようとしている。しかし、高度
に発達した通信機器等の電子回路には、まだ不十
分な点が多い。 一般にバリスタの電圧非直線性は、次式で示す
電圧非直線係数α、及びそれに要する印加電圧
Viの値で評価される。 I/i=(V/Vi)〓α ……(1) ここでIはバリスタに流れる電流であり、Vは
印加電圧である。通常iの値として1mAをと
り、V1mAを立ち上り電圧と称している。 バリスタの電気特性を示す上でαおよびV1m
Aは実用上重要な定数である。αはバリスタを挿
入した電気回路の電圧が、いかに制御されるかを
示すものであり、αが大きい程、立ち上りが優れ
ている。V1mAは実際に使用される電圧が、い
くらであるかによつて定められる値であり、それ
ぞれの製品により、あらかじめ指定された値に調
整されるものである。 ところで、バリスタは、一般に通信機器や電気
回路中において一定電力負荷が、かかつた状態で
使用され、スイツチの開閉時に生じる大電流パル
スや誘導雷による大電流パルスを吸収するサージ
吸収素子として使用される。 しかしながら、酸化亜鉛系バリスタの高電流領
域における非直線性は、必ずしも望ましいもので
はなく、通信機器のサージ吸収素子として使用す
る場合、この大電流領域での電圧非直線性の改善
が要求されている。 本発明の目的は、前記欠点を除去し高電流域に
おける非直線性の良好な電圧非直線抵抗体用焼結
体をより良い特性を実現するように製造する製造
条件を提供することである。 本発明を適用する電圧非直線抵抗体用焼結体の
組成は、酸化亜鉛(ZnO)を主成分とし副成分と
して酸化コバルト(CoO)、酸化マンガン
(MnO)、酸化アンチモン(Sb2O3)および酸化
クロム(Cr2O3)のうちから少くとも3成分を、
それぞれ0.05〜10モル%の範囲で添加し、更に酸
化インジウム(In2O3)および酸化アルミニウム
(Al2O3)のうち、どちらか一方または両方を0.1
〜10モル%配合した原料に対し、酸化鉛(PbO)
を70〜90wt%、酸化亜鉛(ZnO)を5〜20wt%
含有する硼珪酸鉛亜鉛ガラスを重量比で1〜30%
添加した組成の焼結体である。こうした酸化亜鉛
系バリスタは、第1図に示す様に、n型半導体性
質を有する酸化亜鉛結晶粒11のまわりを、アン
チモン、クロム、及び硼珪酸鉛亜鉛ガラス等の添
加物より成る粒界層12が、とり囲んでおり、電
圧の非直線性は、主にこの粒界性12の性質によ
ると考えられている。また高電流領域における非
直線性の低下は、酸化亜鉛結晶粒11の抵抗値が
問題のようで、オームの法則に従つて左右される
と考えられている。 本発明の製造方法を適用する組成における特徴
的な添加物であるIn2O3及びAl2O3は酸化亜鉛結
晶粒11中に溶け込んでAl3+、In3+イオンがZn2+
イオン位置を置換し、それによつてできるZn空
位を格子間Znが占める時に生じる電子が酸化亜
鉛結晶粒11中等において、自由キヤリアとして
働くために、高電流領域における非直線性が改善
されると考えられる。 しかし、最終的に得られた組成のみが、この優
れた特性を達成する全てではないことが本発明者
によつて明らかにされた。これが本発明の原点で
ある。すなわち、仮に最終組成が同一らしく見え
るものであつても、その製造工程の組み合せ如何
によつては、その効果を充分には発揮し得ないの
である。第2図Bに示したのは、典型的な従来方
法であり、第2図Aに示した本発明の典型的な実
施例に比較して、工数が少なく、すつきりしてい
るという大きな利点を有する。この利点は実験室
規模の実施においては、ともかく、産業的規模で
量産化するためには捨て難いものである。 がしかし、それによつ最終製品の特性が左右さ
れるのであれば、その利害得失は充分に検討して
しかるべきである。 本発明者によつて明らかにされたのは、
Al2O3In2O3を加えた後に第一仮焼を行わないで、
他の添加物(MnO、Cr2O3、CoO、Sb2O3
CLASS)を加えけ仮焼を行う第2図Bに示した
従来の方法では、ただ1回施す仮焼の段階で、既
にAl2O3、In2O3の他に多くの添加物を含んでい
ることが妨げとなつてAl3+、In3+イオンが思う様
にZn2+イオンと置換せず、ZnO結晶粒の抵抗は思
う様に低下しないという事実である。そしてZnO
結晶粒の抵抗を下げる方法を探索した結果、ZnO
にIn2O3、Al2O3を加えた後、他の添加物を加え
る前に600℃〜900℃で仮焼を行うのが有効である
ことを見い出したのである。この第1仮焼温度を
600℃以上とするときは、添加されたAl3+イオン
の殆どがZn2+イオンと置換し、酸化亜鉛結晶粒
の抵抗は減少し、所期の効果を達成する。しか
し、この第1仮焼温度がが600℃未満の場合は、
添加したAl2O3によるAl3+イオンのうち相当数が
Zn2+イオンと置換せずに残つてしまい酸化亜鉛
結晶粒の抵抗は、第1の仮焼を行なわないもの
と、ほぼ同等の値に終つてしまう。また、この第
1仮焼温度が900℃を越えると酸化亜鉛粒が成長
して大きくなるため成型時にクラツクを生じ易く
なるので好ましくない。 第2図Aでは、この第1仮焼を行つた後、電圧
の非直線性に有用な他の添加物を加え混合後、第
2の仮焼を行うようになつている。この第2仮焼
は強制はしないが、後で加えた添加物を均一に分
布させるため有効であり、行うことが望ましい。 すなわち、本発明は主成分である酸化亜鉛
(ZnO)に酸化インジウム(In2O3)及び酸化アル
ミニウム(Al2O3)のうち、どちらか一方、もし
くは両方を0.1〜10モル%添加した後600〜900℃
で仮焼を行ない、その後酸化コバルト(CoO)、
酸化マンガン(MnO)酸化アンチモン
(Sb2O3)、及び酸化クロム(Cr2O3)のうちから
少くとも3成分を各々0.05〜10モル%添加し、さ
らにこれを酸化鉛(PbO)を70〜90wt%及び酸
化亜鉛(ZnO)を5〜20wt%含有する硼珪酸鉛
亜鉛ガラスを重量比で1〜30wt%添加して得る
ことを特徴とする電圧非直線抵抗体用焼結体の製
造方法である。 以下、本発明を実施の一例に基いて具体的に説
明する。 実施例 純度99%以上の酸化亜鉛(ZnO)を1モル%と
酸化インジウム(In2O3)もしくは、酸化アルミ
ニウム(Al2O3)を3モル%とを秤量し、ボール
ミルで24時間混合し、その後乾燥し、600℃〜900
℃で2時間かけて本発明の第1仮焼を施した。こ
うして得た粉粉末を酸化クロム(Cr2O3)、酸化
コバルト(CoO)酸化アンチモン(Sb2O3)、酸
化マンガン(MnO)を各各1モル%、1モル%、
2モル%、1モル%添加し、さらに所定の硼珪酸
鉛亜鉛ガラスを各添加物を含んだ上記の組成物に
対して10wt%となるように添加し、ボール・ミ
ルで24時間混合し、その後更に第2の仮焼を施し
再粉砕した。その後、バインダー(PVA5%水溶
液)を加え、直径16mmの円板状にプレス成型し
た。1100℃〜1300℃で1時間焼成し、得られた磁
器を厚さ1mmに切断後、直径8mmの銀電極を焼き
つけた。こうして得られた試料の特性値V1nA
びαは直流電源及びカーブトレーサーにより電圧
−電流特性を測定して算出した。αは1mA/cm2
と10mA/cm2との間の平均的値を用いた。また、
20Aにおける電圧値(V20A)は8×20μSの波形
を持つパルスによつて測定した。また、V1nA
V20Aの間における平均的非直線性指数
(α1nA〜20nA)は(1)式により計算を求めた。表は、
こうして得た諸結果を、まとめて示したものであ
る。 また、酸化亜鉛(ZnO)にAl2O3を3モル%添
加した時の第1仮焼温度と抵抗との関係を示した
のが第3図である。抵抗値は電圧非直線性を示す
のに有効な各元素を酸化物の形で加えた後の焼結
体で評価したものであり、測定は光学的方法によ
つた。第4図は同様にしてIn2O31モル%添加した
粉末を作成し、同様な条件で測定した時の第1仮
焼温度と抵抗との間の関係を示したものである。
この様に酸化亜鉛(ZnO)にIn2O3、Al2O3を添
加し600℃〜900℃で第1仮焼した粉末に、電圧非
直線性を付加するのに有用なCo、Mn、Sb、Cr、
等の元素及び所定の硼珪酸鉛亜鉛ガラスを加える
ことにより酸化亜鉛結晶粒の抵抗の低い、即ち、
高電流領域における非直線性の良好な酸化亜鉛系
バリスタを得ることができる。 以上の様に、本発明により得られる酸化亜鉛系
バリスタは高電流領域における電圧非直線性が良
好であり、電子機器のサージ電圧吸収用として用
いた場合、従来の酸化亜鉛バリスタを用いた場合
に比べ電子機器の信頼性を向上させることができ
る。また、酸化亜鉛結晶粒の抵抗値を低抵抗化し
た結果、高電流域でのジユール熱による発熱を
【表】
【表】 少なくすることができ、この発熱によつて生じる
構造変化に基く特性劣化や自己加熱による特性劣
化を抑えることができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は、酸化亜鉛を主体とした電圧非直線抵
抗体の微細構造を模式的に示したものである。 11……酸化亜鉛結晶粒、12……粒界層、3
1……電極 第2図は、本発明による典型的な製造工程の一
例と、従来の製造工程とのちがいを、工程流れ図
にて示したものである。第2図A……本発明によ
る工程流れ図、第2図B……従来方法による工程
流れ図、第3図は、ZnOにAl2O3を3モル%添加
した後の第1仮焼温度と、さらに各添加物を加え
て焼結した後の酸化亜鉛結晶粒の抵抗率との関係
を示したものである。第4図は、ZnOにIn2O3
1モル%添加した後の第1仮焼温度と、さらに各
種の添加物を加えて焼結した後の酸化亜鉛結晶粒
の抵抗率との関係を示したものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 主成分である酸化亜鉛(ZnO)に、酸化イン
    ジウム(In2O3)及び酸化アルミニウム(Al2O3
    のうちどちらか一方、もしくは両方を0.1〜10モ
    ル%添加した後600〜900℃で仮焼を行なう工程、
    その後、この仮焼粉に酸化コバルト(CoO)、酸
    化マンガン(MnO)、酸化アンチモン(Sb2O3)、
    及び酸化クロム(Cr2O3)のうちから少くとも3
    成分を各々0.05〜10モル%添加し、さらにこれを
    酸化鉛(PbO)を70〜90wt%及び酸化亜鉛
    (ZnO)を5〜20wt%含有する硼珪酸鉛亜鉛ガラ
    スを重量比で1〜30wt%添加、混合し、均一に
    分散させる工程とを備えたことを特徴とする電圧
    非直線抵抗体用焼結体の製造方法。
JP16784979A 1979-12-24 1979-12-24 Method of manufacturing voltage nonnlinear resistor sintered material Granted JPS5690504A (en)

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KR20140027241A (ko) * 2011-05-10 2014-03-06 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 In₂O₃-ZnO계 스퍼터링 타겟

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