JPS64796B2 - - Google Patents
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- JPS64796B2 JPS64796B2 JP3911382A JP3911382A JPS64796B2 JP S64796 B2 JPS64796 B2 JP S64796B2 JP 3911382 A JP3911382 A JP 3911382A JP 3911382 A JP3911382 A JP 3911382A JP S64796 B2 JPS64796 B2 JP S64796B2
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Landscapes
- Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
- Connections Arranged To Contact A Plurality Of Conductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はガラス表面に撥水膜を有する気密端
子の製造方法に関する。
子の製造方法に関する。
金属外環内にガラスを介してリード線を気密か
つ絶縁して封着した気密端子は、各種の分野に広
く用いられているが、湿気の多い場所あるいは結
露しやすい状態で使用される場合は、金属外環と
リード線との間の耐電圧ないし絶縁抵抗を確保す
るために、ガラス表面にシリコン膜等の撥水膜を
形成している。
つ絶縁して封着した気密端子は、各種の分野に広
く用いられているが、湿気の多い場所あるいは結
露しやすい状態で使用される場合は、金属外環と
リード線との間の耐電圧ないし絶縁抵抗を確保す
るために、ガラス表面にシリコン膜等の撥水膜を
形成している。
例えば第１図および第２図は電気冷蔵庫やルー
ムクーラー等の圧縮機用の気密端子の平面図およ
び断面図を示す。図において、１は鉄または低炭
素鋼よりなる金属外環で、環状部２と天板部３と
フランジ部４と前記天板部３から環状部２の内方
に突出する３個の筒状部５とを有する。前記各筒
状部５にはソーダガラス６を介して鉄・クロム合
金製のリード線７が気密かつ絶縁して封着されて
いる。そして、上記気密端子は、第２図に２点鎖
線で示すように、圧縮機ケース８の孔９に内側か
ら挿入し、フランジ部４を圧縮機ケース８に抵抗
溶接されている。このような圧縮機に用いられる
気密端子では圧縮機ケース８内に充填されている
冷媒のためにガラス６の表面に結露して、金属外
環１とリード線７との間の耐電圧ないし絶縁抵抗
が劣化しやすい。
ムクーラー等の圧縮機用の気密端子の平面図およ
び断面図を示す。図において、１は鉄または低炭
素鋼よりなる金属外環で、環状部２と天板部３と
フランジ部４と前記天板部３から環状部２の内方
に突出する３個の筒状部５とを有する。前記各筒
状部５にはソーダガラス６を介して鉄・クロム合
金製のリード線７が気密かつ絶縁して封着されて
いる。そして、上記気密端子は、第２図に２点鎖
線で示すように、圧縮機ケース８の孔９に内側か
ら挿入し、フランジ部４を圧縮機ケース８に抵抗
溶接されている。このような圧縮機に用いられる
気密端子では圧縮機ケース８内に充填されている
冷媒のためにガラス６の表面に結露して、金属外
環１とリード線７との間の耐電圧ないし絶縁抵抗
が劣化しやすい。
そこで、第３図に示すように、ガラス６の露出
表面にシリコン被膜等の撥水膜１０を形成するよ
うにしている。
表面にシリコン被膜等の撥水膜１０を形成するよ
うにしている。
ところで、上記のようにガラス６の表面に撥水
膜１０を有する気密端子は、従来第４図に示す方
法で製造されていた。すなわち、金属外環１およ
びリード線７を製作し、それぞれに酸化処理を施
して表面に酸化膜を形成する。なお、リード線７
の酸化膜は鉄・クロム合金中のクロムの選択酸化
膜である。一方、ソーダガラスの微粉末を有機バ
インダとともに混練し、所定の形状にプレス成型
後仮焼して有機バインダを焼失せしめてガラスタ
ブレツトを製作しておく。そして、前記金属外環
１、リード線７およびガラスタブレツトを、グラ
フアイト製の封着治具を用いて所定の関係位置に
組み立て、全体を加熱してガラスタブレツトを溶
融し、金属外環１とリード線７とをガラス６を介
して封着する。次に、タンプリング加工により金
属外環１およびリード線７の露出部分の酸化膜を
除去し、要すればニツケルメツキ等の仕上げメツ
キを施したのち、ガラス６の露出表面に撥水膜１
０を形成している。
膜１０を有する気密端子は、従来第４図に示す方
法で製造されていた。すなわち、金属外環１およ
びリード線７を製作し、それぞれに酸化処理を施
して表面に酸化膜を形成する。なお、リード線７
の酸化膜は鉄・クロム合金中のクロムの選択酸化
膜である。一方、ソーダガラスの微粉末を有機バ
インダとともに混練し、所定の形状にプレス成型
後仮焼して有機バインダを焼失せしめてガラスタ
ブレツトを製作しておく。そして、前記金属外環
１、リード線７およびガラスタブレツトを、グラ
フアイト製の封着治具を用いて所定の関係位置に
組み立て、全体を加熱してガラスタブレツトを溶
融し、金属外環１とリード線７とをガラス６を介
して封着する。次に、タンプリング加工により金
属外環１およびリード線７の露出部分の酸化膜を
除去し、要すればニツケルメツキ等の仕上げメツ
キを施したのち、ガラス６の露出表面に撥水膜１
０を形成している。
ところで、上記の従来方法によつては、ガラス
６の露出表面のみに撥水膜１０を形成することは
困難であり、金属外環１やリード線７にも撥水膜
が形成される場合がある。もし、金属外環１のフ
ランジ部４に撥水膜が形成されると、前述の圧縮
機ケース８への溶接時に、導通不良のために溶接
不良を生じやすい。また、大出力の圧縮機に用い
られる気密端子では、リード線７と圧縮機ケース
内部のモータおよび外部回路との電気接続抵抗を
可及的に小さくするために、リード線７の内方端
および外方端に端子板（図示せず）を溶接し、こ
の端子板に対して前記モータおよび外部回路から
のリードを溶接するようにしているが、もしリー
ド線７に撥水膜が形成されていると、端子板の溶
接不良も生じる。あるいは、気密端子を圧縮機ケ
ース８に溶接後、圧縮機ケース８に塗装を施す場
合は、撥水膜のために塗装ムラが生じるといつた
各種の問題点がある。
６の露出表面のみに撥水膜１０を形成することは
困難であり、金属外環１やリード線７にも撥水膜
が形成される場合がある。もし、金属外環１のフ
ランジ部４に撥水膜が形成されると、前述の圧縮
機ケース８への溶接時に、導通不良のために溶接
不良を生じやすい。また、大出力の圧縮機に用い
られる気密端子では、リード線７と圧縮機ケース
内部のモータおよび外部回路との電気接続抵抗を
可及的に小さくするために、リード線７の内方端
および外方端に端子板（図示せず）を溶接し、こ
の端子板に対して前記モータおよび外部回路から
のリードを溶接するようにしているが、もしリー
ド線７に撥水膜が形成されていると、端子板の溶
接不良も生じる。あるいは、気密端子を圧縮機ケ
ース８に溶接後、圧縮機ケース８に塗装を施す場
合は、撥水膜のために塗装ムラが生じるといつた
各種の問題点がある。
一方、塗装前に金属外環１やリード線７の露出
表面に形成されている不所望の撥水膜を酸処理等
により除去すると、撥水膜除去工程が必要になり
煩雑であるのみならず、原価高の要因となるし、
さらには塗装前に不所望の撥水膜を簡単に除去す
るためには、撥水膜の種類、厚さ、シリコン濃
度、焼付法等が制限される不便さもあるといつた
問題がある。
表面に形成されている不所望の撥水膜を酸処理等
により除去すると、撥水膜除去工程が必要になり
煩雑であるのみならず、原価高の要因となるし、
さらには塗装前に不所望の撥水膜を簡単に除去す
るためには、撥水膜の種類、厚さ、シリコン濃
度、焼付法等が制限される不便さもあるといつた
問題がある。
それゆえ、この発明の主たる目的は、ガラスの
露出表面のみに撥水膜を有する気密端子が容易か
つ確実に製造できる製造方法を提供することであ
る。
露出表面のみに撥水膜を有する気密端子が容易か
つ確実に製造できる製造方法を提供することであ
る。
この発明は要約すると、酸化膜を除去する前に
撥水膜を形成し、しかるのちに酸化膜を除去する
ことを特徴とする。
撥水膜を形成し、しかるのちに酸化膜を除去する
ことを特徴とする。
以下、この発明の実施例を図面を参照して説明
する。第５図はこの発明による気密端子の製造方
法について説明するための工程ブロツク図であ
る。まず、金属外環１およびリード線７を製作
し、それぞれに酸化処理を施して表面に酸化膜を
形成する。これらの酸化膜はガラス６との良好な
気密封着を実現するために有用であり、特にリー
ド線７の表面に形成されたクロムの選択酸化膜は
ガラス６と強固な封着を保証する。一方、ソーダ
バリウムガラス、ソーダライムガラス等のソーダ
ガラスの微粉末を有機バインダとともに混練し、
所定形状にプレス成型後、空気中で約550〜650℃
程度の温度で加熱して、有機バインダを焼失せし
めるとともに、ガラス微粉末同士を局部的に結着
してガラスタブレツトを製作しておく。そして、
前記金属外環１、リード線７およびガラスタブレ
ツトを、グラフアイト製の封着治具を用いて所定
の関係位置に組み立て、全体を中性または弱還元
性雰囲気中において約950〜1050℃程度の温度で
加熱して、ガラスタブレツトを溶融せしめたガラ
ス６を介して金属外環１とリード線７とを封着す
る。次に、この気密端子全体にジメチル・ジクロ
ールシラン〔（CH3）2SiCl2〕あるいはジエチル・
ジクロールシラン〔（C2H5）2SiCl2〕等のアルキ
ル基を含むクロルシランを塗布、スプレー、浸漬
法等で被着し、空気中において約100〜250℃の温
度で加熱乾燥して撥水膜１０を形成する。続いて
その気密端子をチプトン3P5とともに振動バレル
に収容し約30〜60分間のタンブリング加工を施し
て、金属外環１およびリード線７の露出表面の酸
化膜を除去する。このとき、酸化膜上に形成され
ていた撥水膜も酸化膜とともに除去される。しか
るのちに、必要により金属外環１およびリード線
７の露出表面に仕上げメツキを施す。
する。第５図はこの発明による気密端子の製造方
法について説明するための工程ブロツク図であ
る。まず、金属外環１およびリード線７を製作
し、それぞれに酸化処理を施して表面に酸化膜を
形成する。これらの酸化膜はガラス６との良好な
気密封着を実現するために有用であり、特にリー
ド線７の表面に形成されたクロムの選択酸化膜は
ガラス６と強固な封着を保証する。一方、ソーダ
バリウムガラス、ソーダライムガラス等のソーダ
ガラスの微粉末を有機バインダとともに混練し、
所定形状にプレス成型後、空気中で約550〜650℃
程度の温度で加熱して、有機バインダを焼失せし
めるとともに、ガラス微粉末同士を局部的に結着
してガラスタブレツトを製作しておく。そして、
前記金属外環１、リード線７およびガラスタブレ
ツトを、グラフアイト製の封着治具を用いて所定
の関係位置に組み立て、全体を中性または弱還元
性雰囲気中において約950〜1050℃程度の温度で
加熱して、ガラスタブレツトを溶融せしめたガラ
ス６を介して金属外環１とリード線７とを封着す
る。次に、この気密端子全体にジメチル・ジクロ
ールシラン〔（CH3）2SiCl2〕あるいはジエチル・
ジクロールシラン〔（C2H5）2SiCl2〕等のアルキ
ル基を含むクロルシランを塗布、スプレー、浸漬
法等で被着し、空気中において約100〜250℃の温
度で加熱乾燥して撥水膜１０を形成する。続いて
その気密端子をチプトン3P5とともに振動バレル
に収容し約30〜60分間のタンブリング加工を施し
て、金属外環１およびリード線７の露出表面の酸
化膜を除去する。このとき、酸化膜上に形成され
ていた撥水膜も酸化膜とともに除去される。しか
るのちに、必要により金属外環１およびリード線
７の露出表面に仕上げメツキを施す。
上記のこの発明により製造した気密端子では、
溶接不良や塗装ムラの発生は100個中０個であつ
た。これに対して、従来方法により製造した気密
端子では、100個中10個に溶接不良あるいは塗装
ムラが発生した。
溶接不良や塗装ムラの発生は100個中０個であつ
た。これに対して、従来方法により製造した気密
端子では、100個中10個に溶接不良あるいは塗装
ムラが発生した。
この発明は以上のように、酸化膜を除去する前
に撥水膜を形成し、しかるのちに酸化膜をその上
の撥水膜とともに除去するという簡単な工程変更
のみで、ガラスの露出表面のみに撥水膜を有する
気密端子が製造でき、金属外環やリード線の露出
表面に存在する撥水膜に基因する溶接不良や塗装
ムラ等の問題を一掃でき、しかも不所望部分の撥
水膜を除去するために特別の工程を必要としない
という効果を奏する。
に撥水膜を形成し、しかるのちに酸化膜をその上
の撥水膜とともに除去するという簡単な工程変更
のみで、ガラスの露出表面のみに撥水膜を有する
気密端子が製造でき、金属外環やリード線の露出
表面に存在する撥水膜に基因する溶接不良や塗装
ムラ等の問題を一掃でき、しかも不所望部分の撥
水膜を除去するために特別の工程を必要としない
という効果を奏する。
第１図は圧縮機用気密端子の平面図、第２図は
第１図の−線に沿う断面図、第３図はガラス
の露出表面に撥水膜を有する気密端子の要部断面
図、第４図は従来の気密端子の製造方法について
説明するための工程ブロツク図、第５図はこの発
明の気密端子の製造方法について説明するための
工程ブロツク図である。 １……金属外環、６……ガラス、７……リード
線、１０……撥水膜。
第１図の−線に沿う断面図、第３図はガラス
の露出表面に撥水膜を有する気密端子の要部断面
図、第４図は従来の気密端子の製造方法について
説明するための工程ブロツク図、第５図はこの発
明の気密端子の製造方法について説明するための
工程ブロツク図である。 １……金属外環、６……ガラス、７……リード
線、１０……撥水膜。
Claims (1)
- １ 酸化膜を形成した金属外環とリード線とをガ
ラスを介して気密かつ絶縁して封着する工程と、
少なくともガラスの露出表面に撥水膜を形成する
工程と、金属外環とリード線の露出表面の酸化膜
を除去する工程とを含む気密端子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3911382A JPS58155684A (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | 気密端子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3911382A JPS58155684A (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | 気密端子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58155684A JPS58155684A (ja) | 1983-09-16 |
| JPS64796B2 true JPS64796B2 (ja) | 1989-01-09 |
Family
ID=12544018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3911382A Granted JPS58155684A (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | 気密端子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58155684A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022189682A (ja) * | 2021-06-11 | 2022-12-22 | ショット日本株式会社 | 気密端子および同気密端子の製造方法 |
| CN116114126A (zh) * | 2021-06-11 | 2023-05-12 | 肖特日本株式会社 | 气密端子及该气密端子的制造方法 |
-
1982
- 1982-03-11 JP JP3911382A patent/JPS58155684A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58155684A (ja) | 1983-09-16 |
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