JPS6453759U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6453759U JPS6453759U JP15041087U JP15041087U JPS6453759U JP S6453759 U JPS6453759 U JP S6453759U JP 15041087 U JP15041087 U JP 15041087U JP 15041087 U JP15041087 U JP 15041087U JP S6453759 U JPS6453759 U JP S6453759U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrates
- glow discharge
- film
- discharge decomposition
- stacks
- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は実施例に示すグロー放電分解装置の概
略図、第２図はスペーサの斜視図、そして、第３
図は従来の基板固定方法を示す概略図である。 ２，７……円筒状基板、５……グロー放電用電
極板、８……スペーサ、９……細管状熱源。
略図、第２図はスペーサの斜視図、そして、第３
図は従来の基板固定方法を示す概略図である。 ２，７……円筒状基板、５……グロー放電用電
極板、８……スペーサ、９……細管状熱源。
Claims (1)
- 成膜用ガスが導入される反応室内部に、複数の
円筒状基板をその中心軸が実質上同一となるよう
に積み重ね、グロー放電によつて基板周面に成膜
するグロー放電分解装置において、前記基板が固
定されるように個々の基板間にスペーサを設置し
たことを特徴とするグロー放電分解装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15041087U JPS6453759U (ja) | 1987-09-29 | 1987-09-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15041087U JPS6453759U (ja) | 1987-09-29 | 1987-09-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6453759U true JPS6453759U (ja) | 1989-04-03 |
Family
ID=31423529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15041087U Pending JPS6453759U (ja) | 1987-09-29 | 1987-09-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6453759U (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6132851A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-02-15 | Toshiba Corp | アモルフアスシリコン感光体の製造方法 |
-
1987
- 1987-09-29 JP JP15041087U patent/JPS6453759U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6132851A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-02-15 | Toshiba Corp | アモルフアスシリコン感光体の製造方法 |