JPS63115211U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS63115211U JPS63115211U JP819287U JP819287U JPS63115211U JP S63115211 U JPS63115211 U JP S63115211U JP 819287 U JP819287 U JP 819287U JP 819287 U JP819287 U JP 819287U JP S63115211 U JPS63115211 U JP S63115211U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- process chamber
- heat dissipation
- heating device
- utility
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例を示す側面図、第２
図は第１図の要部拡大側面図、第３図は他の実施
例の側面図である。 １……プロセスチエンバ、２……カート、３…
…基板、４……基板用ヒータ、４ａ……放熱フイ
ン、６……電極板、７……スペーサ。
図は第１図の要部拡大側面図、第３図は他の実施
例の側面図である。 １……プロセスチエンバ、２……カート、３…
…基板、４……基板用ヒータ、４ａ……放熱フイ
ン、６……電極板、７……スペーサ。
Claims (1)
- プロセスチエンバ内において、基板用ヒータの
一方側面および／または他方側面の一部分に、基
板の温度分布を均一にするための放熱フインが設
けられたことを特徴とするプラズマＣＶＤ装置の
基板加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP819287U JPS63115211U (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP819287U JPS63115211U (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63115211U true JPS63115211U (ja) | 1988-07-25 |
Family
ID=30792347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP819287U Pending JPS63115211U (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63115211U (ja) |
-
1987
- 1987-01-22 JP JP819287U patent/JPS63115211U/ja active Pending