JPS642201B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS642201B2 JPS642201B2 JP57000708A JP70882A JPS642201B2 JP S642201 B2 JPS642201 B2 JP S642201B2 JP 57000708 A JP57000708 A JP 57000708A JP 70882 A JP70882 A JP 70882A JP S642201 B2 JPS642201 B2 JP S642201B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- scanning
- width dimension
- calculated
- value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/04—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring contours or curvatures
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子ビーム走査によるパターン測定法
に関し、特に、基準方向に対し或る角度を持ち且
つエツジ部が一直線状でないパターンの幅を測定
するものである。
に関し、特に、基準方向に対し或る角度を持ち且
つエツジ部が一直線状でないパターンの幅を測定
するものである。
近年、ICからLSI及び超LSIへと集積化が進ん
でおり、それに伴いパターンの微小化がなされて
いる。さて、ウエハ或はマスクブランクへのパタ
ーン描画において、パターンが（実際にはパター
ンの幅が）小さくなるに伴い、ウエハへのパター
ン作成プロセス技術、例えば、エツチング時のガ
ス濃度（プラズマエツチングを行なう場合）も変
わつて来る。従つてパターン寸法（パターンの幅
寸法）に応じた作成プロセス条件を決める為に、
又、微小化されるパターン寸法に応じた作成プロ
セス技術の開発の為に、パターンの形状、実質的
にはパターンの幅寸法を知る必要がある。
でおり、それに伴いパターンの微小化がなされて
いる。さて、ウエハ或はマスクブランクへのパタ
ーン描画において、パターンが（実際にはパター
ンの幅が）小さくなるに伴い、ウエハへのパター
ン作成プロセス技術、例えば、エツチング時のガ
ス濃度（プラズマエツチングを行なう場合）も変
わつて来る。従つてパターン寸法（パターンの幅
寸法）に応じた作成プロセス条件を決める為に、
又、微小化されるパターン寸法に応じた作成プロ
セス技術の開発の為に、パターンの形状、実質的
にはパターンの幅寸法を知る必要がある。
所で、一般に描画されたパターンは、第１図に
示す様に、裾部Ｓを持つので、パターンの幅寸法
を測定する場合、頂部間L1、裾部の適宜点の間
L2、裾部と平地部の境界点間L3の何れを測定す
るのかに依つて値が異なるので、予め何れを測定
するのかを決めておかねばならない。
示す様に、裾部Ｓを持つので、パターンの幅寸法
を測定する場合、頂部間L1、裾部の適宜点の間
L2、裾部と平地部の境界点間L3の何れを測定す
るのかに依つて値が異なるので、予め何れを測定
するのかを決めておかねばならない。
そこで、パターンの何処から何処迄を幅寸法と
して測定するのかを明確にし、統一した指定位置
の幅寸法を各パターンの各場所で自動的に高速高
精度に測定出来るようにした新しいパターン幅寸
法測定方法が考えられている。該方法は、電子ビ
ームによるパターン上の走査により該パターンの
像を、輝度変調により例えばＹ方向に二本のカー
ソルとＸ方向に一本のマーカを表示した陰極線管
画面上に表示し、第２図に示す様に、該パターン
Ｐ上の任意のＸ方向の位置P0にマーカＭを移動
させ、該パターン上で幅寸法として測定すべき位
置（図では裾部Ｓの大略中間点）Ｅ，Ｆをカーソ
ルK1，K2で指定し、該指定した位置上のライン
走査により検出された信号の中で、該指定位置に
対応した信号とピーク値との関係値を演算して記
憶し、以後、パターン上の走査により検出された
信号と前記関係値とから各々の走査における指定
位置間の距離を測定する方法である。
して測定するのかを明確にし、統一した指定位置
の幅寸法を各パターンの各場所で自動的に高速高
精度に測定出来るようにした新しいパターン幅寸
法測定方法が考えられている。該方法は、電子ビ
ームによるパターン上の走査により該パターンの
像を、輝度変調により例えばＹ方向に二本のカー
ソルとＸ方向に一本のマーカを表示した陰極線管
画面上に表示し、第２図に示す様に、該パターン
Ｐ上の任意のＸ方向の位置P0にマーカＭを移動
させ、該パターン上で幅寸法として測定すべき位
置（図では裾部Ｓの大略中間点）Ｅ，Ｆをカーソ
ルK1，K2で指定し、該指定した位置上のライン
走査により検出された信号の中で、該指定位置に
対応した信号とピーク値との関係値を演算して記
憶し、以後、パターン上の走査により検出された
信号と前記関係値とから各々の走査における指定
位置間の距離を測定する方法である。
さて、前記方法において、陰極線管画面上に表
示されたパターンが、基準方向（例えばパターン
のＸ方向の幅を測定する場合にはＹ方向）に対
し、即ちカーソルに対し、或る角度を持つている
場合、ウエハステージを回転させるか、ビームの
走査方向を回転させるかしてカーソルをパターン
エツジに合わせるようにしている。しかし、この
様な方法は、何れも測定者の個人差が入つてしま
い、極微の測定だけに大きな誤差を産むようにな
る。更に、前述した様に、一般にパターンは裾部
を持ち、該裾部は一直線状でなく凹凸があるの
で、益々測定者の個人差が入つてしまう。
示されたパターンが、基準方向（例えばパターン
のＸ方向の幅を測定する場合にはＹ方向）に対
し、即ちカーソルに対し、或る角度を持つている
場合、ウエハステージを回転させるか、ビームの
走査方向を回転させるかしてカーソルをパターン
エツジに合わせるようにしている。しかし、この
様な方法は、何れも測定者の個人差が入つてしま
い、極微の測定だけに大きな誤差を産むようにな
る。更に、前述した様に、一般にパターンは裾部
を持ち、該裾部は一直線状でなく凹凸があるの
で、益々測定者の個人差が入つてしまう。
本発明はこの様な点に鑑みてなされたもので、
電子ビームによるパターン上の走査により該パタ
ーンの像を表示装置上に表示し、該パターン像の
裾部の適宜な位置上で幅寸法として測定すべき位
置を指定し、該指定した位置上のライン走査によ
り検出された信号の中で、該指定位置に対応した
信号とピーク値との関係値を演算して記憶し、次
に、パターン幅寸法を測定すべき走査位置の近傍
複数の走査位置を走査することにより検出された
夫々の信号と前記関係値とから各々の走査におけ
る指定位置間の距離を算出し、前記幅寸法測定位
置に対応した位置の値の中、パターンの一方のエ
ツジ部から得られた複数の位置の値と他方のエツ
ジ部から得られた複数の位置の値夫々を最小自乗
法により或る直線を形成する値に近似し、該各々
の直線と前記各々のカーソルとのなす角を夫々求
め、それらの角度に基づいて、パターンの幅寸法
を算出するようにした新規なパターン測定方法を
提供するものである。
電子ビームによるパターン上の走査により該パタ
ーンの像を表示装置上に表示し、該パターン像の
裾部の適宜な位置上で幅寸法として測定すべき位
置を指定し、該指定した位置上のライン走査によ
り検出された信号の中で、該指定位置に対応した
信号とピーク値との関係値を演算して記憶し、次
に、パターン幅寸法を測定すべき走査位置の近傍
複数の走査位置を走査することにより検出された
夫々の信号と前記関係値とから各々の走査におけ
る指定位置間の距離を算出し、前記幅寸法測定位
置に対応した位置の値の中、パターンの一方のエ
ツジ部から得られた複数の位置の値と他方のエツ
ジ部から得られた複数の位置の値夫々を最小自乗
法により或る直線を形成する値に近似し、該各々
の直線と前記各々のカーソルとのなす角を夫々求
め、それらの角度に基づいて、パターンの幅寸法
を算出するようにした新規なパターン測定方法を
提供するものである。
第３図は本発明のパターン測定方法を実施した
装置例を示したものである。
装置例を示したものである。
図中１は電子銃で、該電子銃から射出された電
子ビームは集束レンズ２により前行程でパターン
が描画されたウエハ３上に集束される。又、該電
子線は電子計算機４の指令により作動する走査信
号発生回路５からの走査信号に従つて作動する偏
向器６により、前記ウエハ３上を走査する。該走
査により前記ウエハ３から発生した反射電子は、
反射電子検出器７に検出される。該検出器の出力
は増幅器８を介して前記電子計算機４へ送られる
のと同時に、前記走査信号発生回路５から前記偏
向器６への出力と同期した出力（走査信号）が供
給されている陰極線管９にも送られる。該陰極線
管はその輝度変調により画面上に、例えばＹ方向
に二本のカーソルK1，K2、Ｘ方向に一本のマー
カＭを出せるようになつており、各々のカーソル
とマーカは、夫々Ｘ方向、Ｙ方向に夫々外部操作
により移動可能となつている。又、該陰極線管の
マーカＭの位置は前記電子計算機４により記憶さ
れるようになつており、前記二本のカーソル間の
距離は該電子計算機により演算される。尚、前記
の様にＹ方向に二本のカーソル、Ｘ方向に一本の
マーカを出したのは、パターンのＸ方向の幅寸法
を測定する為で、Ｙ方向の幅寸法を測定する場合
は、Ｘ方向に二本のカーソル、Ｙ方向に一本のマ
ーカを出す。当然の事乍ら、何れの方向の幅寸法
を測定する場合においても、カーソルやマーカを
前記本数に限定する事は無い。
子ビームは集束レンズ２により前行程でパターン
が描画されたウエハ３上に集束される。又、該電
子線は電子計算機４の指令により作動する走査信
号発生回路５からの走査信号に従つて作動する偏
向器６により、前記ウエハ３上を走査する。該走
査により前記ウエハ３から発生した反射電子は、
反射電子検出器７に検出される。該検出器の出力
は増幅器８を介して前記電子計算機４へ送られる
のと同時に、前記走査信号発生回路５から前記偏
向器６への出力と同期した出力（走査信号）が供
給されている陰極線管９にも送られる。該陰極線
管はその輝度変調により画面上に、例えばＹ方向
に二本のカーソルK1，K2、Ｘ方向に一本のマー
カＭを出せるようになつており、各々のカーソル
とマーカは、夫々Ｘ方向、Ｙ方向に夫々外部操作
により移動可能となつている。又、該陰極線管の
マーカＭの位置は前記電子計算機４により記憶さ
れるようになつており、前記二本のカーソル間の
距離は該電子計算機により演算される。尚、前記
の様にＹ方向に二本のカーソル、Ｘ方向に一本の
マーカを出したのは、パターンのＸ方向の幅寸法
を測定する為で、Ｙ方向の幅寸法を測定する場合
は、Ｘ方向に二本のカーソル、Ｙ方向に一本のマ
ーカを出す。当然の事乍ら、何れの方向の幅寸法
を測定する場合においても、カーソルやマーカを
前記本数に限定する事は無い。
では、第４図に示す如き基準走査方向（例えば
Ｘ方向）に対し或る角度をなし且つ裾部S′に凹凸
を持つパターンP′の走査位置P1部のパターン幅
寸法の測定法を次に説明する。
Ｘ方向）に対し或る角度をなし且つ裾部S′に凹凸
を持つパターンP′の走査位置P1部のパターン幅
寸法の測定法を次に説明する。
先ず、陰極線管９の画面上に表示されたパター
ンP′の走査位置P0に、外部の操作によりマーカ
Ｍを持つて来る。そして、マーク幅寸法を測定す
る位置をカーソルK1，K2で指定する。第４図で
は、パターンの裾部S′の大略中間点Ｅ，Ｆに夫々
カーソルK1，K2を移動させ、これらの位置をマ
ーク幅寸法位置と指定する。以後の動作は全て
（電気的に）自動的に行なわれる。前記走査位置
P0及びカーソルK1，K2の指定位置は電子計算機
４に読み込まれる。該計算機は電子ビームが走査
位置P0を走査した時に、増幅器８を介して検出
器７から送られて来る信号（第５図ａ参照）の、
前記陰極線管の画像上で指定した位置に対する信
号上での位置Ｃ，Ｄに対応したレベル値ａ，a′と
前記検出器７から送られて来た信号の代表的な箇
所のレベル値、例えばピークツーピーク値ｂとを
検出し、指定位置と該ピークツーピーク値との関
係ａ／ｂ，a′／ｂを演算してこれらを記憶する。
次に、走査位置P1部内を微小間隔ずつずらして
走査する。即ち、該P1部内の走査位置P11，P12，
…，P1m，P1nの各走査位置を計算機４の指令に
より行なう。先ず、P11を走査した時に、計算機
４に検出器７から第５図ｂに示す如き信号が入つ
て来たとすれば、該計算機は、該信号のピークツ
ーピーク値b1を検出し、これと、前記関係値ａ／
ｂ及びa′／ｂ夫々との積a1，a′1を演算する。これ
らの積a1，a′1はパターンＰの走査位置P11におけ
る指定マーク幅寸法測定位置に対応している。そ
して、計算機は値a1，a′1が得られた信号上での
位置C1，D1間の距離l1を測定し、この測定値を走
査位置P11におけるパターンＰの幅寸法と仮定す
る。この距離l1は、走査開始点を原点とし、信号
上の検出位置C1，D1の夫々のＸ座標をc1、d1と
し、該座標の差を計算機が演算することにより求
められる。この様にして、計算機に走査位置P12，
…，P1m，P1nの各走査により、各走査位置P12，
…，P1m，P1nにおける指定マーク幅寸法測定位
置に対応した積a2，a′2，…，am，am′，an，
an′が得られた位置の座標c2、d2、…、cm、dm、
cn、dn及び仮幅寸法l2，…，lm，lnを測定し、記
憶する。そして次の演算を行なう。
ンP′の走査位置P0に、外部の操作によりマーカ
Ｍを持つて来る。そして、マーク幅寸法を測定す
る位置をカーソルK1，K2で指定する。第４図で
は、パターンの裾部S′の大略中間点Ｅ，Ｆに夫々
カーソルK1，K2を移動させ、これらの位置をマ
ーク幅寸法位置と指定する。以後の動作は全て
（電気的に）自動的に行なわれる。前記走査位置
P0及びカーソルK1，K2の指定位置は電子計算機
４に読み込まれる。該計算機は電子ビームが走査
位置P0を走査した時に、増幅器８を介して検出
器７から送られて来る信号（第５図ａ参照）の、
前記陰極線管の画像上で指定した位置に対する信
号上での位置Ｃ，Ｄに対応したレベル値ａ，a′と
前記検出器７から送られて来た信号の代表的な箇
所のレベル値、例えばピークツーピーク値ｂとを
検出し、指定位置と該ピークツーピーク値との関
係ａ／ｂ，a′／ｂを演算してこれらを記憶する。
次に、走査位置P1部内を微小間隔ずつずらして
走査する。即ち、該P1部内の走査位置P11，P12，
…，P1m，P1nの各走査位置を計算機４の指令に
より行なう。先ず、P11を走査した時に、計算機
４に検出器７から第５図ｂに示す如き信号が入つ
て来たとすれば、該計算機は、該信号のピークツ
ーピーク値b1を検出し、これと、前記関係値ａ／
ｂ及びa′／ｂ夫々との積a1，a′1を演算する。これ
らの積a1，a′1はパターンＰの走査位置P11におけ
る指定マーク幅寸法測定位置に対応している。そ
して、計算機は値a1，a′1が得られた信号上での
位置C1，D1間の距離l1を測定し、この測定値を走
査位置P11におけるパターンＰの幅寸法と仮定す
る。この距離l1は、走査開始点を原点とし、信号
上の検出位置C1，D1の夫々のＸ座標をc1、d1と
し、該座標の差を計算機が演算することにより求
められる。この様にして、計算機に走査位置P12，
…，P1m，P1nの各走査により、各走査位置P12，
…，P1m，P1nにおける指定マーク幅寸法測定位
置に対応した積a2，a′2，…，am，am′，an，
an′が得られた位置の座標c2、d2、…、cm、dm、
cn、dn及び仮幅寸法l2，…，lm，lnを測定し、記
憶する。そして次の演算を行なう。
先ず、第６図に示す様に、各走査位置P11，
P12，…，P1m，P1nに対するパターンの一方のエ
ツジ部からの座標値c1、c2、…、cm、cn及び他
方のエツジ部からの座標値d1、d2、…、dm、dn
が夫々形成する曲線θ，θ′を夫々最小自乗法によ
り直線近似させる。Ｔ，T′がこの結果得られた
直線である。そして、各々の直線とカーソルK1，
K2とのなす角θ，θ′を算出し、その平均値
（θ＋θ′／２）θ0を算出する。この平均角度θ0をパ
タ ーンP′の走査位置P1部の基準方向（Ｘ方向）に
対する角度とする。又、各走査位置P11，P12，
…，P1m，P1nにおける仮幅寸法l1，l2，…，lm，
lnの平均値（l1＋l2＋…＋lm＋ln／ｎ）l0を算出し、 この値を走査位置P1部の基準方向の幅寸法とす
る。そして、該寸法値l0とcosθ0の積を演算し、
この値を走査位置P1部のパターンの幅寸法とす
る。更に、パターンの別の位置P2部分の幅寸法
を測定する場合も、前記と同様に該P2部分内を
微小間隔ずつずらして順次走査し、前記関係ａ／
ｂ，a′／ｂを用いて、各走査位置P21，P22…にお
ける指定マーク幅寸法測定位置に対応した積（実
質的にはカウンタ値）及び仮幅寸法を測定して、
これらを記憶し、前述の如き演算により、位置
P2部分のパターンの幅寸法を算出する。
P12，…，P1m，P1nに対するパターンの一方のエ
ツジ部からの座標値c1、c2、…、cm、cn及び他
方のエツジ部からの座標値d1、d2、…、dm、dn
が夫々形成する曲線θ，θ′を夫々最小自乗法によ
り直線近似させる。Ｔ，T′がこの結果得られた
直線である。そして、各々の直線とカーソルK1，
K2とのなす角θ，θ′を算出し、その平均値
（θ＋θ′／２）θ0を算出する。この平均角度θ0をパ
タ ーンP′の走査位置P1部の基準方向（Ｘ方向）に
対する角度とする。又、各走査位置P11，P12，
…，P1m，P1nにおける仮幅寸法l1，l2，…，lm，
lnの平均値（l1＋l2＋…＋lm＋ln／ｎ）l0を算出し、 この値を走査位置P1部の基準方向の幅寸法とす
る。そして、該寸法値l0とcosθ0の積を演算し、
この値を走査位置P1部のパターンの幅寸法とす
る。更に、パターンの別の位置P2部分の幅寸法
を測定する場合も、前記と同様に該P2部分内を
微小間隔ずつずらして順次走査し、前記関係ａ／
ｂ，a′／ｂを用いて、各走査位置P21，P22…にお
ける指定マーク幅寸法測定位置に対応した積（実
質的にはカウンタ値）及び仮幅寸法を測定して、
これらを記憶し、前述の如き演算により、位置
P2部分のパターンの幅寸法を算出する。
尚、前記実施例で、値a1が得られる信号上の位
置はC1，D1の他にC′1，D′1もあるが、予め計算機
に、値a1が得られる信号上の位置の内、内側の位
置C1，D1間の距離を測定するように記憶させて
おく。
置はC1，D1の他にC′1，D′1もあるが、予め計算機
に、値a1が得られる信号上の位置の内、内側の位
置C1，D1間の距離を測定するように記憶させて
おく。
又、前記実施例では、マーク幅寸法を測定する
位置をカーソルK1，K2で指定したが、何れか一
つのカーソルで一つ位置を指定し、この指定位置
に対応した信号上のレベル値a″とピークツーピー
ク値ｂとの関係a″／ｂを、マーク幅寸法指定位置
（二つの位置）の関係値として用いてもよい。
位置をカーソルK1，K2で指定したが、何れか一
つのカーソルで一つ位置を指定し、この指定位置
に対応した信号上のレベル値a″とピークツーピー
ク値ｂとの関係a″／ｂを、マーク幅寸法指定位置
（二つの位置）の関係値として用いてもよい。
本発明によれば、パターンの幅寸法測定におい
て、何処から何処迄を幅寸法として測定している
のかが明確になり、統一した指定位置の幅寸法を
各パターンの各場所で自動的に高速高精度に測定
することが出来、特に基準方向に対し或る角度を
持ち且つエツジ部が一直接状でないパターンの幅
を測定する場合、全く測定者の個人差が入らない
ので、精確な測定結果が得られる。
て、何処から何処迄を幅寸法として測定している
のかが明確になり、統一した指定位置の幅寸法を
各パターンの各場所で自動的に高速高精度に測定
することが出来、特に基準方向に対し或る角度を
持ち且つエツジ部が一直接状でないパターンの幅
を測定する場合、全く測定者の個人差が入らない
ので、精確な測定結果が得られる。
第１図はパターンの断面図、第２図は新しいパ
ターン幅寸法測定法の説明を補足する為の図、第
３図は本発明のパターン測定方法を実施した装置
例を示したもの、第４図乃至第６図は本発明の動
作の説明を補足する為の図である。 ３：ウエハ、４：電子計算機、６：偏向器、
７：反射電子検出器、９：陰極線管、K1，K2：
カーソル、Ｍ：マーカ、P11，P12，…，P1m，
P1n：走査位置、Ｐ，P′：パターン、P0：走査位
置、Ｓ，S′：パターンの裾部、ａ：指定位置レベ
ル値、ｂ：ピークツピーク値、l1：距離。
ターン幅寸法測定法の説明を補足する為の図、第
３図は本発明のパターン測定方法を実施した装置
例を示したもの、第４図乃至第６図は本発明の動
作の説明を補足する為の図である。 ３：ウエハ、４：電子計算機、６：偏向器、
７：反射電子検出器、９：陰極線管、K1，K2：
カーソル、Ｍ：マーカ、P11，P12，…，P1m，
P1n：走査位置、Ｐ，P′：パターン、P0：走査位
置、Ｓ，S′：パターンの裾部、ａ：指定位置レベ
ル値、ｂ：ピークツピーク値、l1：距離。
Claims (1)
- １ 電子ビームによるパターン上の走査により該
パターンの像を表示装置上に表示し、該パターン
像の裾部の適宜な位置上で幅寸法として測定すべ
き位置を指定し、該指定した位置上のライン走査
により検出された信号の中で、該指定位置に対応
した信号とピーク値との関係値を演算して記憶
し、次に、パターン上幅寸法を測定すべき走査位
置の近傍複数の走査位置を走査することにより検
出された夫々の信号と前記関係値とから各々の走
査における指定位置間の距離を算出し、前記幅寸
法測定位置に対応した位置の値の中、パターンの
一方のエツジ部から得られ複数の位置の値と他方
のエツジ部から得られた複数の位置の値夫々を最
小自乗法により或る直線を形成する値に近似し、
該各各の直線と測定方向との各々がなす角を夫々
求め、それらの角度に基づいてパターンの幅寸法
を算出するようにしたパターン測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57000708A JPS58117405A (ja) | 1982-01-05 | 1982-01-05 | パタ−ン測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57000708A JPS58117405A (ja) | 1982-01-05 | 1982-01-05 | パタ−ン測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58117405A JPS58117405A (ja) | 1983-07-13 |
| JPS642201B2 true JPS642201B2 (ja) | 1989-01-17 |
Family
ID=11481264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57000708A Granted JPS58117405A (ja) | 1982-01-05 | 1982-01-05 | パタ−ン測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58117405A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63231205A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-27 | Osaka Daiyamondo Kogyo Kk | 輪郭形状の測定方法 |
| KR100383258B1 (ko) * | 2000-11-09 | 2003-05-09 | 삼성전자주식회사 | 주사 전자 현미경을 이용한 측정 장치의 측정 에러 검출방법 |
| JP2007192594A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Horon:Kk | パターン画像取得方法およびパターン画像取得装置 |
| JP5663195B2 (ja) * | 2010-05-21 | 2015-02-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン寸法計測方法、パターン寸法計測装置、パターン寸法計測方法をコンピュータに実行させるプログラム及びこれを記録した記録媒体 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54138467A (en) * | 1978-04-19 | 1979-10-26 | Hitachi Ltd | Scanning type electron microscope or resembling apparatus |
| JPS56164902A (en) * | 1980-05-23 | 1981-12-18 | Kawasaki Steel Corp | Thickness measuring device |
-
1982
- 1982-01-05 JP JP57000708A patent/JPS58117405A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58117405A (ja) | 1983-07-13 |
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