JPS63231205A - 輪郭形状の測定方法 - Google Patents

輪郭形状の測定方法

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JPS63231205A
JPS63231205A JP6687387A JP6687387A JPS63231205A JP S63231205 A JPS63231205 A JP S63231205A JP 6687387 A JP6687387 A JP 6687387A JP 6687387 A JP6687387 A JP 6687387A JP S63231205 A JPS63231205 A JP S63231205A
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JP
Japan
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measured
axis
electron beam
arc
straight line
Prior art date
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Pending
Application number
JP6687387A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhito Nishimura
一仁 西村
Yoshio Taguchi
田口 佳男
Masayuki Kato
加藤 政之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ERIONIKUSU KK
Osaka Diamond Industrial Co Ltd
Original Assignee
ERIONIKUSU KK
Osaka Diamond Industrial Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS63231205A publication Critical patent/JPS63231205A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、工業製品、特にダイヤモンドダイス、バイ
ト等精密な輪郭形状精度が要求される輪郭形状の測定方
法に°関するものである。
〔従来の技術とその問題点〕
例えば、工業製品の部品において、円弧部分が、他の円
や円弧に沿って接触し合い、構造物や部品間の構成の上
で、重要な機能を果たしていることは多く見られること
である。
このような円弧は、加工上の問題から、必ずしも理想的
な円上にあるとは限らず、その表面には、微小な凹凸を
もったうねりの状態が存在する。このうねりの状態は、
接触面のあたり方に大きな影響を与え、形状によっては
、円弧の機能が十分に果されない場合も生じる。このた
め、円弧を設計値通りの機能を果たすように形成するに
は、円弧の全体形状だけでなく、表面のうねりの状態も
正確に把握することが重要である。
このような円弧表面の微小なうねりを知るには、表面形
状をサブミクロン単位のレベルで測定することが必要で
あり、また、求められた測定値から、実際に形成されて
いる円弧がどのような円周上にあるかを正確に決定する
ための評価手段が必要になる。すなわち、どのように慎
重に測定したとしても、測定値には測定誤差が含まれて
おり、この誤差を含む測定値から、実際の円弧の形状を
正確に決定できなければ、円弧表面の微小な凹凸状態を
把握することができないからである。
微小な2点間の距離をサブミクロン単位のし・\ルで測
定する装置としては、従来、走査電子顕微鏡が知られて
いる。この顕微鏡を用いた?ll!l定においては、通
常電子ビームにより対象となる試料間の2点を走査し、
得られる走査像を表示装置に表示し、その表示した像を
写真撮影して、撮影した写真上の2点間の距離を測るよ
うにしている。
しかし、上記の方法は、測定のための手順が面倒で、作
業に長い時間かかると共に、電子ビームによる走査像や
表示装置及び写真撮影カメラにおける像の歪曲、また表
示装置の分解能や倍率誤差などによって10%以上の測
定誤差が生しる。この測定誤差の大きさは、円弧表面の
うねりを測定する上で大きすぎるものである。
一方、得られた測定値より、円弧がどのような円周上に
のるかを評価する方法としては、測定値をもとに円弧の
形状を描いて、その円弧と、模範となる円弧図とを合わ
せてその一致度を見る方法と、円弧から3つの座標値を
とり出し、その座標値から円弧の実測半径を決定する方
法が一最に用いられている。
しかし、前者の方法は、作業者の官能による作業になっ
て、円弧形状を数量的に把握できない欠点があり、一方
後者の方法では、とり出す座標値の数が少ないために、
円弧の全体形状を把握する上で、大きな誤差が生しると
いう欠点がある。
ところで、上述した走査電子顕微鏡を用いて2点間の距
離測定する上での問題点を、走査電子顕微鏡に新しい機
能を付加することにより解決をはかった測定装置が提案
されている。(特開昭56−001492号公報) この微小距離測定装置は、電子ビームの軸を移動する軸
移動信号の発生手段と、電子ビームを走査する走査信号
の発生手段と、その軸移動信号と走査信号を用いて電子
ビームの軸を中心として電子ビームを試料上において走
査して情報信号を検出する電子線走査装置と、検出した
情報信号を用いて信号の走査像、又はラインプロファイ
ルを表示する表示装置と、上記軸移動信号を用いて試料
上における電子ビームの軸の移動距離を算出して表示す
る手段とから構成されるものである。第1図はこの測定
装置の一興体例を示している。
図において、1は電子線走査装置で、電子銃2と、その
電子銃2から発射した電子ビームEBを試料3に集束す
る1個以上の集束レンズ4と、電子ビームEBのビーム
軸EB0を移動するコイル5と、電子ビームEBを試料
3上において2次元的に走査する走査コイル6、及び試
料3からの反射電子等への情報信号を検出する検出器7
とを備えている。
軸移動信号の発生手段8は、軸移動信号の発生回路10
と増幅器11とから成り、その出力(軸移動信号)は、
軸移動コイル5と共に、距離演算表示手段12に供給さ
れている。この距離演算表示手段12は、人力する軸移
動信号をもとに、試料3上における電子ビームEBのビ
ーム軸EB。
の移動距離を算出して表示するもので、アナログ信号と
して入力する軸移動信号をデジタル信号に変換するA−
Dコンバータ13と、その出力信号を0倍して較正する
較正回路14と、較正された値を表示するデジタル表示
器15がら成る。
走査信号の発生手段9は、走査信号の発生回路16と2
つの増幅器17.18から成り、その出力(走査)信号
は、電子線走査装置1の走査コイル6と、陰極線管表示
装置(以下CRTとする)19に同時に供給されており
、これにより電子線走査装置1とCRTI9は同期して
走査される。
CRTI9には、情報信号の検出器7の出力信号が、増
幅器20を介して入力され、画面には電子線EBによる
試料3上の走査像が映し出されるようになっている。ま
た、CRTI9の画面には基準線21が十字状に描かれ
ており、この基準線21の交点0は画面の中心に位置し
ている。
この装置を用いての測定手順は、増幅器17を調整して
、試料3上の測定すべき2点AI、Axを含む走査像を
CRTI9上に表示し、次に発生回路10の出力信号(
軸移動信号)を調整して、CRTI 9の画面上で点A
、とOとが一致するように、試料上の点A、に移動させ
る。
この場合、電子ビームEBの軸EB、が無偏向時の試料
上の位置A0から距離X1移動したことで、表示器15
に、距離XIに対応する値が表示される。同様に、軸移
動信号を調節して電子ビームEBの軸EB、を試料3上
の点A2に移動させると、表示器15には、電子ビーム
EBの軸EB。
が点A0から点A2に移動した距離X2が表示される。
このX2と上記のX、を足すことにより点A、 、A2
間の距離Xが得られる。
このように、上記の測定装置は、試料3上の2点AI、
Atの距離X1、X2を、電子ビームEBの軸移動信号
により別々に求めるものであり、電子ビームの走査方法
には依存しないため、走査像の倍率誤差や走査歪などの
影吉を受けることがない。
したがって、得られる精度は大巾に向上したものになり
、測定誤差は1%以下のものが得られる。
〔発明の目的] この発明は、上記の微小距離測定装置を用いて、輪郭形
状を測定し、その形状を構成する真の輪郭形状を求める
と共に、その真の輪郭形状を基準に、実際の形状に面の
うねり状態等を容易に把握することができる測定方法を
提供することを目的とするものである。
〔目的を達成するための手段〕
上記目的を達成するため、この発明は、被測定物の輪郭
形状上に、任意にn個の測定点を設定し、上記の微小距
離測定装置を用いて、上記の各測定点の、輪郭形状を含
む平面上のX−Y座標に対する座標値(x+ 、Y+ 
)・・・・・・(xn 、  yn )を求め、輪郭の
円弧を測定する場合は、各座標値と、平面上に任意に設
定した座標点(a、b)を中心とし、半径をRとする円
の方程式(x−a)”+(y−b)”=R”とから、最
小自乗法により、上記内弧が構成される最適な実測半径
R′を求め、その実測半径R′と上記各測定点との偏差
量を、半径R′を基準軸にとり、その基準軸と直交する
軸に偏差の大きさをとったグラフ上に表示し、一方、輪
郭の直線部を測定する場合は、各座標値と直線の方程式
y=a+bXから、最小自乗法により、真の直線を求め
、その真の直線と各測定点との偏差量を、真の直線を基
準にとり、その基準軸と直交する軸に偏差の大きさをと
ったグラフ上に表示するものである。
〔実施例〕
ここでは、先ず、第1図の測定装置を用いて、被測定物
の円弧形状を実際に測定・解析する手順について説明す
る。
対象となる円弧30を有する被測定物は、第1図の試料
3が置かれる位置に設置されるものであり、第2図に示
すように、上記円弧30を含む平面上に任意にX−Y座
標を設定すると共に、上記平面に測定のための基準線3
1を設定する。なおこの測定基準は、仮想中心点等であ
ってもよい。
一方、円弧30上には、測定範囲内で、任意にn個の測
定点を設定し、この各測定点と、それに対応する基準線
31上の点2点を、第1図における試料3上の2点A、
 、A、とじて、その間の距離を、電子ビームEBの走
査により測定する。次にこのように得られた各測定値を
、上記平面上に設定したX−Y座標に対する座標値にお
き換え、それぞれの(x+、)’+ )(xz、  y
z)・・・・・・(Xn、y++)を求める。
これ等の座標値は、次のように解析される。
一般に、座標(a、b)を中心とし、半径をRとする円
の方程式は、(x−a)” + (y−b)”= R2
で表わされる。
これを展開して、 2 a x+2 b y−+−R2−a” −b” =
x” +y2ここでR2−R2−b2=Cとおくと、2
 a x+2 b y+C=x” ±y2となる。
上式に、上記の各座標値(X+ 、  )’l )・・
・・・・(xn、yn)を代入すると、一連の次式が得
られる。
2ax、+2by+ +C=x+ ” 十y1 ”2a
xz +2byz +C=x、” +yz ”2 a 
x n + 2 b y 、ll C=x n ” +
 y ll”これにより各式の差、 Zi = (x+ ” +y、” )   (2ax+
 +2by++C) Z2 = (X22+yz 2)  ’(2axz +
2byz+C) Z、=(Xn”+yn”)−(2axn+2by7 +
C) をとり、最小自乗法により、 S=Σ(Zi)” すなわち、S=Σ((2x+ a+2y、b+C)−(
χ、 2 +y、 2 ))2が最小となるa。
b、Cを求める。
これは、 を解くことによって、a、b、Cが決定される。
この円の中心座標(a、b)とCの値を上記R2at 
 bz=Cの式に代入することにより、上記円弧30が
構成される実測半径R′を求めることができる。
このように得られた実測半径R′は、各測定値を平均化
して円弧30に対応する最適な円半径を決定したもので
あり、この実測半径R′と上記各測定点の実測した測定
値との偏差量を対比させることにより、円弧30表面の
うねりの状態を求めることができる。
第3図は、実測半径R′を横軸にとり、縦軸に半径R′
からの偏差の大きさをとったグラフ上に、上記各測定点
の偏差値を円弧30上の各測定位置に対応させてプロッ
トしたものを示している。
このように、実測半径R′を基準として偏差量を対比さ
せると、円弧30のどの部分でどれくらいの大きさの凹
凸が存在するか、目視で簡単にしめることができ、円弧
30の接触面のあたり王台を適確に確認することができ
る。このため、第3図を用いれば、円弧30を、設計値
通りの機能を果たす最適な形状に、効率よく加工修正す
ることが可能になる。
一方、対象となる輪郭形状が直線の場合でも、解析手順
は上述した円弧の場合と同様である。即ち、直線の式を
ywa+bxとおき、この式に各測定点で求めた各座標
値を代入し、最小自乗法により、a、bの値を求めるこ
とにより、真の直線を求めることができる。
第4図は、求めた真の直線を横軸にとり、縦軸にその真
の直線からの偏差の大きさをとったグラフ上に、各測定
点の偏差値を、各測定位置に対応させてプロットしたも
のを示している。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明によれば、上記の微小距
離測定装置を用いて極めて少ない測定誤差で求めた測定
値により、輪郭形状を構成する真の基準形状を計算によ
り求めることができ、従来の方法のように、作業者の官
能にたよったり、サンプル不足による測定誤差をなくし
て、正確な基準形状を決定することができる。また、得
られた実測半径又は真の直線に対する円弧又は直線部の
各測定点ごとの偏差量を、実測半径又は真の直線を基準
レベルとしてグラフ上に表示することにより、円弧又は
直線部表面の微小なうねり状態を目視で簡単に把握する
ことができ、輪郭形状を設計値通りの最適な形状に修正
する加工などにおいて、極めて有効な形状の評価手段と
することがでかき
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に用いられる測定装置の実施例を示す
ブロック図、第2図はこの発明における測定値採取のた
めの説明図、第3図はこの発明により得られる実測半径
と円弧上の各測定点との偏差状態を示す図、第4図はこ
の発明より得られる真の直線部上の各測定点との偏差状
態を示す図である。 1・・・・・・電子線走査装置、8・・・・・・軸移動
信号発生手段、S・・・・・・走査信号発生手段、12
・・・・・・距離演算表示手段、19・・・・・・陰極
線管表示装置(CRT)、30・・・・・・円弧。 特許出願人  大阪ダイヤモンド工業株式会社同   
株式会社 エリオニクス 同 代理人  鎌   1)  文   二第3図 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 試料に照射する電子ビームの軸を移動する軸移動信号の
    発生手段と、電子ビームを走査する走査信号の発生手段
    と、その軸移動信号と走査信号を用いて電子ビームの軸
    を中心として電子ビームを試料上において走査して情報
    信号を検出する電子線走査装置と、検出した情報信号を
    用いて試料の走査像、又はラインプロファイルを表示す
    る表示装置と、上記軸移動信号を用いて試料上における
    電子ビームの軸の移動距離を演算して表示する手段とか
    ら成る測定装置を用い、被測定物の輪郭形状上に予め設
    定された任意のn個の測定点の、前記輪郭形状を含む平
    面上のX−Y座標に対する座標値(x_1、y_1)・
    ・・・・・(xn、yn)を求め、輪郭の円弧を測定す
    る場合は、各座標値と、平面上に任意に設定した座標点
    (a、b)を中心とし、半径をRとする円の方程式(x
    −a)^2+(y−b)^2=R^2とから、最小自乗
    法により、上記円弧が構成される最適な実測半径R′を
    求め、その実測半径R′と上記各測定点との偏差量を、
    半径R′を基準軸にとり、その基準軸と直交する軸に偏
    差の大きさをとったグラフ上に表示し、一方、輪郭の直
    線部を測定する場合は、各座標値と直線の方程式y=a
    +bxから、最小自乗法により、真の直線を求め、その
    真の直線と各測定点との偏差量を、真の直線を基準にと
    り、その基準軸と直交する軸に偏差の大きさをとったグ
    ラフ上に表示する輪郭形状の測定方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102628682A (zh) * 2012-04-24 2012-08-08 重庆大学 基于工业ct扫描技术的体积测量方法

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JPS57114807A (en) * 1981-01-08 1982-07-16 Erionikusu:Kk Microdistance measuring device using electron beam
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