JPS6394421A - 複合型磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
複合型磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS6394421A JPS6394421A JP23884186A JP23884186A JPS6394421A JP S6394421 A JPS6394421 A JP S6394421A JP 23884186 A JP23884186 A JP 23884186A JP 23884186 A JP23884186 A JP 23884186A JP S6394421 A JPS6394421 A JP S6394421A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、メタルテープ等の尚保持力媒体に高密度記
録を行うVTR装置等に使用される複合型磁気ヘッドの
製造方法に関する。
録を行うVTR装置等に使用される複合型磁気ヘッドの
製造方法に関する。
[従来の技術]
メタルテープ等の高保磁力媒体に高密度記録を行うため
には、磁気ヘッドの発生する磁界が強力でなければなら
ないが、このような高保磁力媒体に適した磁気ヘッドと
して、従来、第11図に示す構造のものがある。この磁
気ヘッドは、高透磁率材料である軟磁性7ヱライトによ
るコア半休1a+1bからなるフェライトコア1のギャ
ップ部2に、パーマロイ、センダスト等の高飽和磁束密
度の軟磁性膜3を形成した?i’ffaで、M I G
(M etel I nG ap)型ヘッドと呼ば
れている。なお、4はトラッり幅を規定するために形成
したトラック幅溝1cにモールドしたガラス等の高硬度
の非磁性材である。5は巻線窓である。
には、磁気ヘッドの発生する磁界が強力でなければなら
ないが、このような高保磁力媒体に適した磁気ヘッドと
して、従来、第11図に示す構造のものがある。この磁
気ヘッドは、高透磁率材料である軟磁性7ヱライトによ
るコア半休1a+1bからなるフェライトコア1のギャ
ップ部2に、パーマロイ、センダスト等の高飽和磁束密
度の軟磁性膜3を形成した?i’ffaで、M I G
(M etel I nG ap)型ヘッドと呼ば
れている。なお、4はトラッり幅を規定するために形成
したトラック幅溝1cにモールドしたガラス等の高硬度
の非磁性材である。5は巻線窓である。
[発明が解決しようとする問題点]
上記従来の磁気ヘッドにおいて、トラック幅寸法B′は
トラック幅溝1cの加工により決定されるが、この上う
な機械加工により充分狭い、かつ、高い寸法精度のトラ
ック幅を得ることは困難である。
トラック幅溝1cの加工により決定されるが、この上う
な機械加工により充分狭い、かつ、高い寸法精度のトラ
ック幅を得ることは困難である。
また、小さな切欠きであるトラック幅溝1cの部分にガ
ラス等の非磁性材4をモールドした構造であること、ま
た、フェライトコア1が接着接合された2つのコア生体
1a、lbからなる(1η造であること等から、機械的
強度が必ずしも充分でない。
ラス等の非磁性材4をモールドした構造であること、ま
た、フェライトコア1が接着接合された2つのコア生体
1a、lbからなる(1η造であること等から、機械的
強度が必ずしも充分でない。
さらに、2つのコア生体1a、IL+を接着材で接合す
る工程、ヘッド単体ごとにトラック幅溝10を形、T&
する工程等、製造工程が繁雑であり、量産性が低い。
る工程、ヘッド単体ごとにトラック幅溝10を形、T&
する工程等、製造工程が繁雑であり、量産性が低い。
本発明は上記事情に濫みてなされたもので、狭トラツク
化が官易に、がっ、高精度に実現され、ヘッドの機械的
強度の向上が図られ、さらに、量産性の高い複合型磁気
ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
化が官易に、がっ、高精度に実現され、ヘッドの機械的
強度の向上が図られ、さらに、量産性の高い複合型磁気
ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
E問題点を解決するための手段1
上記問題点を解決する本発明の方法は、高透磁率の軟磁
性ブロックに巻線溝を形成する工程と、前記巻線溝の開
l]]部に補強用の非磁性材を充填して開口部を閉ざし
、その上面を軟磁性ブロック上面とともに平坦に研摩仕
上げする工程と、前記研摩仕上げした上面の非磁性材部
分に絶縁材料を物理蒸着した後これを所望のギャップ幅
にエツチングしてギャップスペーサを形成する工程と、
前記イヤツブスペーサが埋まるように軟磁性ブロック上
面に高飽和磁束密度材料を物理蒸着した後所望のトラッ
ク幅にエツチングして複数の高飽和磁束密度材ヘッド先
端部を形成する工程と、前記の各高飽和磁束密度材ヘッ
ド先端部ごとに軟磁性ブロックをヘッドI7みでスライ
スしてヘッド単体を得る工程とを有する製造方法である
。
性ブロックに巻線溝を形成する工程と、前記巻線溝の開
l]]部に補強用の非磁性材を充填して開口部を閉ざし
、その上面を軟磁性ブロック上面とともに平坦に研摩仕
上げする工程と、前記研摩仕上げした上面の非磁性材部
分に絶縁材料を物理蒸着した後これを所望のギャップ幅
にエツチングしてギャップスペーサを形成する工程と、
前記イヤツブスペーサが埋まるように軟磁性ブロック上
面に高飽和磁束密度材料を物理蒸着した後所望のトラッ
ク幅にエツチングして複数の高飽和磁束密度材ヘッド先
端部を形成する工程と、前記の各高飽和磁束密度材ヘッ
ド先端部ごとに軟磁性ブロックをヘッドI7みでスライ
スしてヘッド単体を得る工程とを有する製造方法である
。
[作用]
上記の製造方法において、高飽和磁束密度材ヘッド先端
部、および、ギャップスペーサは、物理蒸着および二/
チングにより形成されるので、トラック幅およびギャッ
プ幅は、エツチング精度で決定される。
部、および、ギャップスペーサは、物理蒸着および二/
チングにより形成されるので、トラック幅およびギャッ
プ幅は、エツチング精度で決定される。
ギャップの形成には、2つのコア半休を突き合わせる等
の繁雑な工程を必要とせず、ギャップ形成加工が簡単で
ある。
の繁雑な工程を必要とせず、ギャップ形成加工が簡単で
ある。
[実施例]
以下、本発明方法の一実施例を第1図〜第1()図を参
照して説明する。
照して説明する。
まず、高透磁率材料の軟磁性フェライト等による直方体
状の軟磁性ブロック11を形成しく第3図)、この軟磁
性ブロック11の上面側に開口部12aの狭まった巻4
Q溝12を形成する(第4図)。
状の軟磁性ブロック11を形成しく第3図)、この軟磁
性ブロック11の上面側に開口部12aの狭まった巻4
Q溝12を形成する(第4図)。
次いで、前記巻線溝12の開口部12a1こ補強として
のガラス等の非磁性材13を光槙する(第5図)。この
場合第5図に示すように8線溝12をドに向けてガラス
モールドする。
のガラス等の非磁性材13を光槙する(第5図)。この
場合第5図に示すように8線溝12をドに向けてガラス
モールドする。
次いで、前記非磁性材13の上面を軟磁性ブロック11
の上面(すなわち、巻線溝12側の而)とともに平坦に
研摩仕上げする(第6図)。
の上面(すなわち、巻線溝12側の而)とともに平坦に
研摩仕上げする(第6図)。
次いで、軟磁性ブロック11の上面をマスキングし二酸
化珪素等の絶縁材料をスパッタリングして、ttS7図
に示すように非磁性材13の上面に絶縁層14°を形成
した後、この絶縁HA 14 ’を、例えばりアクティ
ブ・イオン・エツチング法(RIE法)によりエツチン
グして、第8図に示すように所定の幅〜■のギャップス
ペーサ14を形成する。
化珪素等の絶縁材料をスパッタリングして、ttS7図
に示すように非磁性材13の上面に絶縁層14°を形成
した後、この絶縁HA 14 ’を、例えばりアクティ
ブ・イオン・エツチング法(RIE法)によりエツチン
グして、第8図に示すように所定の幅〜■のギャップス
ペーサ14を形成する。
このギャップスペーサ14の高さくH)Xl畠(〜■)
の寸法は、例えば20 μm(H)Xo、3 μm(W
い)である。
の寸法は、例えば20 μm(H)Xo、3 μm(W
い)である。
次に、第9図tこ示すように軟磁性ブロック11の上面
に前記ギャップスペーサ14が埋まるように高飽和磁束
音度の例えば軟磁性7モル77ス合金をスパッタリング
して、高飽和磁束密度軟磁性膜15゛を形成した後、こ
の軟磁性膜15゛をRIE法により所望のトラック幅B
にエツチングして、第10図のように、複数の高飽和磁
束Z皮材ヘッド先端部15を形成する。これにより、中
央にギヤップスベーサ14を挟持した高飽和磁束密度材
ヘッド先端部15が形成される。
に前記ギャップスペーサ14が埋まるように高飽和磁束
音度の例えば軟磁性7モル77ス合金をスパッタリング
して、高飽和磁束密度軟磁性膜15゛を形成した後、こ
の軟磁性膜15゛をRIE法により所望のトラック幅B
にエツチングして、第10図のように、複数の高飽和磁
束Z皮材ヘッド先端部15を形成する。これにより、中
央にギヤップスベーサ14を挟持した高飽和磁束密度材
ヘッド先端部15が形成される。
次いで、第10図に矢印で示すように、前記各高飽和磁
束密度材ヘッド先端部15ごとにヘッド厚みで軟磁性ブ
ロック1をスライスし、そして、媒体摺動特性を良くす
るために、高飽和磁束密度材ヘッド先端部15をR状に
研摩仕上げすれば、第1図のごとく単体となった複合型
磁気ヘッド16が得られる。ヘッド先端部15には、円
滑な媒体摺動特性のために、第2図に拡大して示すよう
に、トラック幅方向の両カド部(矢印(イ))にもRを
付けている。なお、軟磁性ブロック1の65分はへノド
の軟磁性フ711Aとなる。
束密度材ヘッド先端部15ごとにヘッド厚みで軟磁性ブ
ロック1をスライスし、そして、媒体摺動特性を良くす
るために、高飽和磁束密度材ヘッド先端部15をR状に
研摩仕上げすれば、第1図のごとく単体となった複合型
磁気ヘッド16が得られる。ヘッド先端部15には、円
滑な媒体摺動特性のために、第2図に拡大して示すよう
に、トラック幅方向の両カド部(矢印(イ))にもRを
付けている。なお、軟磁性ブロック1の65分はへノド
の軟磁性フ711Aとなる。
上記檜成において、トラック幅B1ギャップ幅Wはいず
れもエツチングにより決定される。エツチング法として
実施例のように、例尤ばリアクティブ・イオン・エツチ
ング法を採用すれば、高精度の寸法が得られるので、狭
トラツク、狭ギャップが高精度に実現できる。なお、狭
トラツク化、狭ギャップ化により、ヘッドの感度向上が
図られる。
れもエツチングにより決定される。エツチング法として
実施例のように、例尤ばリアクティブ・イオン・エツチ
ング法を採用すれば、高精度の寸法が得られるので、狭
トラツク、狭ギャップが高精度に実現できる。なお、狭
トラツク化、狭ギャップ化により、ヘッドの感度向上が
図られる。
また、S2造工程については、第11図の従来例のよう
なへ・ノド単体ごとにトラック幅溝ICを加工する工程
、あるいは、2つのコア半休1n、lbをつき合わせ接
着接合する工程等は不要であり、工程が大幅に簡略化さ
れる。このようなことから、本発明の方法は多数個取り
に適しており、量産性が高い。
なへ・ノド単体ごとにトラック幅溝ICを加工する工程
、あるいは、2つのコア半休1n、lbをつき合わせ接
着接合する工程等は不要であり、工程が大幅に簡略化さ
れる。このようなことから、本発明の方法は多数個取り
に適しており、量産性が高い。
そして、小さな切欠きであるトラック幅溝ICにガラス
等がモールドされた従来構造のような佳度的に弱い部分
もなく、ヘッドの成械的強度の向上が図られる。また、
軟磁性コア11Aが一体ものである点でも機械的強度に
優れている。
等がモールドされた従来構造のような佳度的に弱い部分
もなく、ヘッドの成械的強度の向上が図られる。また、
軟磁性コア11Aが一体ものである点でも機械的強度に
優れている。
また、ヘッド先端部15が高飽和磁束密度材であるから
、ギャップ部14の磁気飽和を避けることができ、高保
磁力のメタルテープ等に高密度記録することが可能であ
る。
、ギャップ部14の磁気飽和を避けることができ、高保
磁力のメタルテープ等に高密度記録することが可能であ
る。
[発明の効果]
以上説明したように本発明方法によれば、次のような種
々の優れた効果を奏する。
々の優れた効果を奏する。
(1) トラック幅、ギャップ幅の形成は、いずれもエ
ツチング1こより行うものであるから、狭トラ/り、狭
ギャップが高精度に実現できる。
ツチング1こより行うものであるから、狭トラ/り、狭
ギャップが高精度に実現できる。
(ii) 従来例のごときトラック幅溝加工、2つの
コア半休の接合工程等は不要であり、製造工程が簡略化
され、量産性が11い。
コア半休の接合工程等は不要であり、製造工程が簡略化
され、量産性が11い。
(iii) 小さなトラック幅溝に非磁性材をモール
ドする等の弱い部分がなく、また、軟磁性コアが一体も
のであるから、ヘッドの81械的強度の向上が図られる
。
ドする等の弱い部分がなく、また、軟磁性コアが一体も
のであるから、ヘッドの81械的強度の向上が図られる
。
(iv) へノド先端部に高飽和磁束密度材が使用さ
れているので、メタルテープ等の高保磁力の媒体への高
密度記録が可能である。
れているので、メタルテープ等の高保磁力の媒体への高
密度記録が可能である。
第1図は本発明の一文施例方法により製造された複合型
磁気ヘッドの斜視図、第2図は0′s1図の部分拡大側
面図、第3図、第4図、第5図、第6図、第7図、第8
図、第9図、m10図は第1図の覆合型磁気へノドを製
造する本発明一実施例の製造工程の各段階の図、t!S
11図は従来の成金型磁気ヘッドの斜視図である。 11・・・軟磁性ブロック、IIA・・・軟磁性コア、
12・・・巻線溝、12a・・・開口部、13・・・非
磁性材(ffラス)、14・・・ギャップスペーサ(絶
縁層)、15・・・高飽和磁束密度材ヘッド先端部、1
6・・・複合型磁気ヘッド。
磁気ヘッドの斜視図、第2図は0′s1図の部分拡大側
面図、第3図、第4図、第5図、第6図、第7図、第8
図、第9図、m10図は第1図の覆合型磁気へノドを製
造する本発明一実施例の製造工程の各段階の図、t!S
11図は従来の成金型磁気ヘッドの斜視図である。 11・・・軟磁性ブロック、IIA・・・軟磁性コア、
12・・・巻線溝、12a・・・開口部、13・・・非
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縁層)、15・・・高飽和磁束密度材ヘッド先端部、1
6・・・複合型磁気ヘッド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 高透磁率の軟磁性ブロック(11)に巻線溝(12)を
形成する工程と、 前記巻線溝(12)の開口部(12a)に補強用の非磁
性材(13)を充填して開口部を閉ざし、その上面を軟
磁性ブロック上面とともに平坦に研摩仕上げする工程と
、 前記研摩仕上げした上面の非磁性材部分に絶縁材料を物
理蒸着した後これを所望のギャップ幅にエッチングして
ギャップスペーサ(14)を形成する工程と、 前記ギャップスペーサが埋まるように軟磁性ブロック上
面に高飽和磁束密度材料を物理蒸着した後所望のトラッ
ク幅にエッチングして、複数の高飽和磁束密度材ヘッド
先端部(15)を形成する工程前記の各高飽和磁束密度
材ヘッド先端部ごとに軟磁性ブロックをヘッド厚みでス
ライスしてヘッド単体(16)を得る工程とを有する複
合型磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23884186A JPS6394421A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 複合型磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23884186A JPS6394421A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 複合型磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6394421A true JPS6394421A (ja) | 1988-04-25 |
Family
ID=17036067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23884186A Pending JPS6394421A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 複合型磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6394421A (ja) |
-
1986
- 1986-10-07 JP JP23884186A patent/JPS6394421A/ja active Pending
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