JPS6389335A

JPS6389335A - 光学素子の製造法

Info

Publication number: JPS6389335A
Application number: JP23539486A
Authority: JP
Inventors: Masahiko Moriya; 森谷　雅彦; Masahiro Niwano; 庭野　正廣; Kenji Manabe; 真鍋　健二
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1986-10-01
Filing date: 1986-10-01
Publication date: 1988-04-20

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野）本発明は、熱安定性の良好な光学素子の製造方法に関す
る。

例えば光学的に情報の記録、再生を行う光学式ディスク
基板、レンズ、プリズム等の光学素子の製造方法に関す
る。

〈従来の技術〉芳香族ビニル１体由来の重合体とポリフェニレンエーテ
ルとから成る光学素子については、ＵＳＰ４，３７３，
０６５に示されている。

これには、ポリスチレンとポリフェニレンエーテルの混
合組成物から成る光学式ディスク基板が提案されている
。

しかしこのＵＳＰ４，３７３，０６５には、射出成形、
キャスト成形と単なる一般的方法の名称が示されている
にとどまり具体的に光学素子を製造することは示されて
いない。

〈発明が解決しようとする問題点）芳香族ビニル単量体由来の重合体とポリフェニレンエー
テルとの組合せは、光学的異方性を相殺し、複屈折が小
さいのが特徴の１つである。

光学素子を製造する方法として、溶融成形を採用した場
合、この複屈折性はこれらの重合体の分子量の依存性が
大きい。

このポリフェニレンエーテルを含有する樹脂組成物は、
ガラス転移温度が高いため、該樹脂組成物を溶融して成
形加工の際、熱劣化を起し易い。

ポリフェニレンエーテルは熱劣化により一部分の高分子
化が進みこのため光学的異方性が大きくなり複屈折が大
きくなる。

その上該樹脂組成物の不均一、歪みを引き起し、光透過
性の悪化をきたす。

さらに熱劣化は着色や炭化物の発生など光学素子として
悪影響を生ずる。

〈問題点を解決するための手段〉本発明は芳香族ビニル単量体単位を主体とする重合体部
分とポリフェニレンエーテル部分とからなる樹脂に安定
剤を添加してなる樹脂組成物を）８融成形して光学素子
を！！！造する方法である。

本発明の樹脂は、芳香族ビニル単量体単位を主体とする
重合体とポリフェニレンエーテルとの混合物、芳香族ビ
ニル単量体単位を主体とする重合体とポリフェニレンエ
ーテルの重合体部分からなるブロック共重合体もしくは
グラフト共重合体、またはこれらの混合物とからなる。

本発明でいう、芳香族ビニル単量体単位を主体とする重
合体とは、芳香族ビニル単量体単独重合体、及び芳香族
ビニル単足体単位を５０重景％以上含有する共重合体で
あって、芳香族ビニル単量体としては、例えばスチレン
、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチ
ルスチレン、０−クロルスチレン、ｍ−クロルスチレン
、ｐ−クロルスチレン、ｍ−ブロモスチレン、ｐ−ブロ
モスチレン、等が挙げられ、特にスチレンが好適に用い
られる。

また芳香族ビニルｊｔｌｆｆｉ体と共重合する単量体の
例としては、不飽和ニトリル類例えばアクリロニトリル
、メタクリコニトリル；メタクリル酸アルキルエステル
類、例えばメタクリル酸メチル、メタクリルｆｉｎ−プ
ロピル、メタクリル酸１ｓｏ−プロピル、メタクリル酸
ｎ−ブナル、メタクリル酸シクロへキシル；アクリル酸
アルキル類、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル等が挙げら
れ、更にメタクリル酸、アクリル酸、無水マレイン酸、
無水シトラコン酸、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニ
ルマレイミド等が挙げられる。

これら共重合する単量体は各々単独もしくは混合して使
用することができるが、芳香族ビニル単量体との共重合
体及びこれとポリフェニレンエーテルとからなる樹脂材
料の透明性を阻害しない範囲で、組合せ及び使用割合を
調節すればよい。

芳香族ビニル単量体は単量体混合物中５０重量％以上で
あることが好ましく、５０重量％以下では得られる樹脂
の吸湿性が大きくなることから好ましくない。

また芳香族ビニル華量体単位を主体とする重合体の溶融
流動性は２３０℃、３．８Ｋｇ荷重でのメルトフローレ
ート（ＶＦＲ）が０．５〜２００であることが、好まし
く更に２〜ｌＯＯが好ましい。

２００を越えると機械的強度が低下することから好まし
くなく、また０、５よりも小さいと複屈折を低減するの
が困又ｔになることから好ましくない。

芳香族ビニル単量体単位を主体とする重合体の製造法と
しては、ラジカル開始剤を用いた塊状重合、懸濁重合、
乳化重合、溶液重合のいずれでもよいが、生産性及び不
純物の混入の少ない重合体を得る目的からは塊状重合ま
たはＱｉ重合が好ましい。

ラジカル開始剤としてはラウロイルパーオキシド、ベン
ゾイルパーオキシド、ジーｔｅｒｔ−ブチルバーオキシ
ド、ジクミルパーオキシド等の過酸化物、２．２°　−
アゾビスイソブチロニトリル、１，１゛　−アゾビス（
１−シクロヘキサンカルボニトリル）等のアゾ化合物を
あげることができる。

また分子量を制御するため、必要であれば、連鎖移動剤
としてｃｅｒｔ−ブチル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチル、
ｎ−ドデシル及びｔｅｒｔ−ドデンルメル力ブタンなど
を添加すれば良い。

重合温度は一般に５０〜１５０　’Ｃの範囲で行われる
。

本発明でいうポリフェニレンエーテルは、一般式、（但し、Ｒ”　、Ｒ’　、Ｒ’　、Ｒ’は水素、ハロゲ
ンまたは炭化水素基を示す。）で表わされる繰返し単位を有する重合体である。

該ポリフェニレンエーテルはフェノール類単量体を酸化
カップリングにより重合した重合体であって、この重合
方法としては例えば特公昭３６−１８６９２号公報に洞
化合物と第３級アミンからなる系、特公昭４７−３６５
１８号公報、特公昭４８−１７３９６号公報、特公昭４
９−１６１２０号公報、特開昭５７−４４６２５号公報
、特開昭５７−１４７５１７号公報、特開昭５８−１９
３２９号公報、特開昭５８−１９３３０号公報、特開昭
５８−１２２９１９号公報等の銅系またはマンガン系の
触媒を用いた公知の方法により容易に製造されるもので
ある。

このポリフェニレンエーテルの具体例は、ポリ　（２，
６−シメチルー１．　４−フェニレン）エーテル、ポリ
　（２−メチル−６−エチル−１゜４−フェニレン）エ
ーテル、ポリ　（２−メチル−６−ブロビルー１．４−
フェニレン）エーテル、ポリ　（２，６−ジプロビルー
１．４−フェニレン）エーテル、ポリ　（２−メチル−
６−ブロム−１，４−フェニレン）エーテル等が挙ケら
れ、特にポリ（２，６−シメチルー１．４−フェニレン
）エーテルが好マシイ。

このポリフェニレンエーテルは、エンジニアリングプラ
スチックとして一般に用いられているものも使用可能で
あるが、より低分子量のものが適している。

つまりポリフェニレンエーテルの平均分子量は、重合体
の極限粘度（クロロホルム、２５℃での測定値）で表わ
して、０．１〜１．　　Ｏでも用いることができるが、
０．３〜０．７がよい。

なかでも０．３〜０．４５が好ましく、更に０．３５〜
０．４２が好ましい。

０．３より小さいと光学素子の機械的強度が小さくなる
。

本発明の樹脂を、芳香族ビニル単量体単位を主体とする
重合体と、ポリフェニレンエーテルを混合して得るには
、ン容融１昆合もしくは７容ン夜ｌ昆合が適している。

熔融混合は、ポリフェニレンエーテルのガラス転移温度
以上にて押出機、バンバリーミキサ−１二一ダープレン
ダー、加熱ロール等の混合機械を用いて高剪断下、行わ
れる。

混合度合は両型合体が互いに約１μ以下にまで分散混合
されることが好ましく、更に分子スケールまで混合され
ることが好ましい。

混合状態が分子スケールにまで達したかどうかは混合物
のガラス転移温度が唯一のものとなることで容易に判定
される。

十分満足される混合状態を得るため、混合温度を高める
、混合時間を延長する、更に剪断力を高めるといった方
法が採用される。

さらに熔融混合において両型合体のガラス転移温度を低
下せしめて混合を容易なものとするため可塑剤として有
機溶剤を少量用いることもできる。

有機溶剤としては後述の溶ン＆混合法にて用いられる有
機溶剤を用いることができ、混合終了後、用いた有機溶
剤を蒸発除去すれば良い。

溶液混合は両型合体を有機溶剤に溶解して少なくとも１
重量％の）８液とし、攪拌汗り合により均一混合物とし
た後打ａ溶剤も蒸発除去するかまたは均一混合物に両型
合体の貧溶剤を入れて、混合された両型合体を析出させ
ることができる。

好適な有機溶剤としては、クロロホルム、塩化メチレン
、塩化エチレン、トルエン、ヘンゼン、クロロヘンゼン
等を挙げることができ、また貧ン容斉すとしては、メタ
ノール、エタノール、プロピルアルコール、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−ペンタン等を挙げることができる。

芳香族ビニル単量体単位を主体とする重合体部分とポリ
フェニレンエーテル部分とからなるブロック共重合体あ
るいはグラフト共重合体は、一方の重合体の存在下に他
方のＡ１体を重合して得られる。

具体的には、特公昭４２−２２０６９号、同４７−１２
１０号、同４７−４７８６２号、同５２−３８５９６号
公報等に記載された方法等により、ポリフェニレンエー
テルの存在下、芳香族ビニル単量体を主体とする単量体
を重合する、または芳香族ビニル単量体単位を主体とす
る重合体の存在下に、フェノールｔＪＴｊＡ量体を酸化
カップリング重合してグラフト重合体あるいはブロック
共重合体を製造することができる。

芳香族ビニル単量体単位を主体とする重合体部分とポリ
フェニレンエーテル部分との割合は前者が３０〜７０重
ｗ％好ましくは４０〜５５重量％であり、後者が３０〜
７０重呈％、好ましくは４５〜６０重量％である。

ポリフェニレンエーテル部分が４０重量％未満または７
０重量％を越えると光学素子の複屈折が充分低くならな
い。

その上４０重ｕ％未満では耐熱性も十分でなくなる。

樹脂組成は具体的には、上記の範囲内で成形の方法によ
り、適宜選択する。

本発明で、安定剤として用いる有機リン化合物とは少な
くとも１つのＰ−０結合をもつ３価または５価の有機リ
ン化合物であり、一般式（Ｒ’　、Ｒ”　、Ｒ”のうち少なくとも１つは−ＯＲ
’　　（Ｒ’は水素または有機基）であり、他は有機基
であり、Ｒ’　、Ｒ”、Ｒ’、Ｒ’のうち２つもしくは
３つが結合されていてもよい。

〕で表わされる。

更にくわしくは３価の有機リン化合物とじて一般式（ここでχはＯ〜５の整数であり、Ｒは水素原子、炭素
数が１〜１０のアルキル基、ハロゲン原子または水酸基
であり、Ｒ５とＲ６は水素原子または炭素数が１〜６の
アルキル基である。

）で示される化合物、あるいは一般式（ここにｍは１または２．　Ｘは水素または中棲与、Ｒ
ｆｆ　、Ｒ＠　、Ｒｑ、Ｒ′＠はそれぞれ水水素または
少くとも１６個の炭素原子を含む脂肪族、脂環式及び芳
香族単位系のいずれからかなるもの、Ｙは酸素または硫
黄）で示される化合物、あるいは一般式％式％（）（ここにＲＩ　＋はアルキル、アリール、アラルキルで
表わされる炭化水素基であり、Ｒｌｇ及びＲ１３はＲ目
と同じ炭化水素基または水素原子である。）で表わされ
る化合物、あるいは一般式（ここにＲ１４は第３級ブチル基、第３級アミル基、シ
クロヘキシル基またはフェニル基を示し、ＲＩ５は水素
原子、炭素数１〜５のアルキル基、シクロヘキシル基ま
たはフェニル基を示す。

Ｒ１＆は水素原子またはメチル基を示す。

Ｒ１ｆｆＲ１１１はアルキル基、アリールアルキル基、
分子内にエーテル結合を有するアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基、アルキルアリール基、アルコキシ
アリール基またはシクロアルキルアリール基を示す）で
あられされる化合物、あるいは一般式（式中、Ｒ”は第３級ブチル基、第３級アミル基、シク
ロヘキシル基またはフェニル基を示し、Ｒｚｏは水素原
子、炭素数１〜５のアルキル基、シクロヘキシル基また
はフェニル基を示す。

ＲＺ＋は水素原子またはメチル基を示す。

Ｒ２２は水素原子、アルキル基、了り−ルアルキル基、
分子内にエーテル結合を有するアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基、アルキルアリール基、アルコキシ
アリール基またはシクロアルキルアリール基を示す。）で表わされる化合物である。

具体的に（１）弐で表わされる化合物としては、亜リン
酸ネオペンチルグリコール、亜リン酸１．３−プロパン
ジオール及び亜リン酸１゜３−イソブタンジオールのフ
ェニル、クレジル、キシリル、メシチル、ノニルフェニ
ル及びクロロフェニルエステルでアル。

〔■〕式の化合物は（１）式の化合物とネオペンチルグ
リコールを反応させることで安易に作ることができる。

また〔■〕式で表わされる化合物としてはｔＢｕ　　　
　　　　　　　　　　　　　　　ｔＢｕｔＢｕ　　　　
　　　　　　　　　　　　　　ｔＢｕｔＢｕ　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　ｔＢｕ等が挙げられる。

また（ＴＶ）式で表わされる化合物としてはエチルホス
フォナス酸、プロピルホスフォナス酸、イソプロピルホ
スフォナス酸、イソブチルホスフォナス酸、イソアミル
ホスフォナス酸、ｎ−オクチルホスフォナス酸、ベンジ
ルホスフォナス酸、トリフェニルメチルホスフォナス酸
、フェニルホスフォナス酸、３−メチルフェニルホスフ
ォナス酸、２−メチルフェニルホスフォナス酸、４−メ
チルフェニルホスフォナス酸、４−エチルフェニルホス
フォナス酸、２．４−ジメチルフェニルホスフォナス酸
、２．５−ジメチルフェニルホスフォナス酸、２．４．
５−）ジメチルフェニルホスフォナス酸、２，４．６−
ドリメチルフエニルホスフオナス酸、ｌ−ナフチルホス
フォナス酸、２−ナフチルホスフォナス酸、４−ジフェ
ニルホスフォナス酸、４−ベンジルフェニルホスフォナ
ス酸、トリフェニルメチルホスフォナス酸のメチルエス
テル；フェニルホスフォナス酸のジメチルエステル、ジ
エチルエステル、ジイソプロピルエステル、ジプロピル
エステル、ジイソブチルエステル；４−メチルフェニル
ホスフォナス酸のジエチルエステルｉ２，４．５−）ジ
メチルフェニルホスフォナス酸のジエチルエステル、ジ
フェニルエステル等が挙げられる。

また（Ｖ）式で表わされる化合物としては、２．４−ジ
−ｔ−ブチルフェニル・ジイソデシルホスファイト、ト
リス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト
、２．４−ジ−ｔ−ブチルフェニル・ビス（２−シクロ
へキシルフェニル）ホスファイト、２，４−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル・ジシクロへキシルホスファイト、ビス（
２，４−ジーｔブチルフェニル）シクロへキシルホスフ
ァイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル）ホ
スファイト、トリス（２−ｔ−ブチル−４−メチルフェ
ニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル
−５−メチルフェニル）ホスファイト、ビス（２−ｔ−
ブチルフェニル）・イソデシルホスファイト、ジプチル
・２−ｔ−ブチル−４−メチルフェニルホスファイト、
ジヘキシル・２−ｔ−ブチル−４−メチルフェニルホス
ファイト、ビス（２−エチルへキシル）・２−ｔ−ブチ
ル−４−メチルフェニルホスファイト、ジフェニル・２
−ｔ−ブチル−４−メチルフェニルホスファイト、トリ
ス（２−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２−ｔ−
ブチルフェニル・ジステアリルホスファイト、２−ｔ−
ブチルフェニル・ビス（ブトキシエトキシエチル）ホス
ファイト、２．４−’、；−ｔ−アミルフェニル・ジー
２−エチルへキシルホスファイト、２−ｔ−アミルフェ
ニル・フェニル・オクチルホスファイト、トリス（２−
フェニルフェニル）ホスファイト、２−フェニルフェニ
ル・ジベンジルホスファイト、トリス（２−シクロへキ
シルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジーも一
ブチルフェニル）・２−エチルへキシルホスファイト、
ビス（２，４−ジーも一ブチルフェニル）・ベンジルホ
スファイト、ビス（２，４−ジー【−ブチルフェニル）
・ブトキシエトキシエチルホスファイト、２．４−ジ−
ｔ−ブチル−６−メチルフェニル・ビス（２−シクロへ
キシルフェニル）ホスファイト、ビス（２−Ｌ−ブチル
−４−メチルフェニル）・４−メトキシフェニルホスフ
ァイト、２．４−ジ−ｔ−ブチルフェニル・フェニル・
トリデシルホスファイト、２゜４−’；−ｔ−アミルフ
ェニル・ビス（ノニルフェニル）ホスファイト、ビス（
２−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）・２−フェニル
フェニルホスファイト、２−ｔ−アミル−４−メチルフ
ェニル・ビス（４−フェニルフェニル）ホスファイト、
２．４−ジ−ｔ−ブチルフェニル・ビス（ジノニルフェ
ニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジー【−ブチル−
５−メチルフェニル）・　Ｃ＋Ｚ〜１．アルキルホスフ
ァイト、２゜４−ジ−ｔ−ブチルフェニル・２−シクロ
へキシルフェニル・イソデシルホスファイト、ビス（２
，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）・２−シクロへキシル
フェニルホスファイト等が挙げられる。

また（Ｖｌ）式で表わされる化合物としては、ビス（２
−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２−ｔ−
ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、ビス（２
，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（
２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ホスフ
ァイト、ビス（２−ｔ−ブチル−４，６−シメチルフエ
ニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジー【−ブチル−
６−メチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ
−ｔ−アミルフェニル）ホスファイト、２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル・フェニルホスファイト、２．４−ジ
−ｔ−ブチルフェニル・２または４−シクロへキシルフ
ェニルホスファイト、２．４−ジ−ｔ−ブチルフェニル
・イソデシルホスファイト等が挙げられる。

更に５価の有機リン化合物としては一般式％式％（）（ここにＲ１２はベンゼン核、ナフタレン核、またはこ
れらの置換体、或いは炭素数が１〜１８の直鎖または分
岐のアルキル基を示し、Ｒｚ４及びＲｚｓは水素原子、
ベンゼン核、またはその置換体、或いは炭素数が１〜１
０の直鎖または分岐のアルキル基を示す）で表わされる
化合物、あるいは一般式（Ｒ″ｈは炭素数が２〜１０の直鎖または分岐の炭化水
素基）で表わされる化合物である。

具体的に〔４３式で表わされる化合物としては、フェニ
ルホスフォニック酸、４−メチルフェニルホスフォニッ
ク酸、２−メチルフェニルホスフォニック酸、４−エチ
ルフェニルホスフォニフク酸、２，４−ジメチルフェニ
ルホスフォニック酸、３，５−ジメチルフェニルホスフ
ォニック酸、２．５−ジメチルフェニルホスフォニック
酸、２，４．５−トリメチルフェニルホスフォニック酸
、２，４．６−）ジメチルフェニルホスフォニック酸、
１−オクチルホスフォニック酸、メチルホスフォニック
酸、エチルホスフォニック酸、プロピルホスフォニック
酸、イソプロピルホスフォニック酸、ブチルホスフォニ
ック酸、イソブチルホスフォニック酸、アミルホスフォ
ニック酸、イソアミルホスフォニック酸、ｎ−へキシル
ホスフォニック酸・ｎ　−ヘプチルホスフォニック酸、
ｎ−オクチルホスフォニック酸、ｎ−ノニルホスフォニ
ック酸、ｎ−デシルホスフォニック酸、ｎ−ドデシルホ
スフォニック酸、ｎ−テトラデシルホスフォニック酸、
ｎ−ヘキサデシルホスフォニック酸及びｎ−オクタデシ
ルホスフォニック酸及びフェニルホスフォニック酸のジ
メチルエステル、モノエチルエステル、ジエチルエステ
ル、ジブチルエステル、ジ−ｎ−アミルエステル、モノ
フェニルエステル、ジフェニルエステルあるいは’；　
−ｐ　−ブチルフェニルエステル：４−メチルフェニル
ホスフォニック酸のジエチルエステル、ジフェニルエス
テルあるいはジーｐ−）リルエステル；メチルホスフオ
ニックス酸のジメチルエステル、ジエチルエステル、ジ
プロピルエステル、ジイソプロピルエステル、ジフェニ
ルエステル、ジ−ｍ−トリルエステルあるいはジーｐ−
）リルエステル；エチルホスフォニックなのジエチルエ
ステルあるいはジブチルエステル；プロピルホスフォニ
ック酸のジエチルエステルあるいはジプロピルエステル
；ブチルホスフォニック酸のジメチルエステルあるいは
ジブチルエステル；イソブチルホスフォニック酸のジイ
ソブチルエステル；アミルホスフォニック酸のジエチル
エステルあるいはジブチルエステル；イソアミルホスフ
ォニック酸のジエチルエステルあるいはジフェニルエス
テル；ｎ−へキシルホスフォニック酸のジエチルエステ
ルあるいはジブチルエステル；ｎ−へブチルホスフォニ
ック酸のジエチルエステルあるいはジブチルエステル：
ｎ−オクチルホスフォニック酸のジエチルエステルある
いはジブチルエステル；ｎ−ノニルホスフォニック酸の
ジエチルエステルあるいはジブチルエステル；ｎ−デシ
ルホスフォニック酸のジエチルエステルあるいはジブチ
ルエステル；ｎ−ドデシルホスフォニック酸のジエチル
エステルあるいはジブチルエステル；ｎ−テトラデシル
ホスフォニック酸のジエチルエステルあるいはジブチル
エステル；ｎ−ヘキサデシルホスフォニック酸のジブチ
ルエステル−〇−オクタデシルホスフォニンク酸のジブ
チルエステル等が挙げられる。

また〔４３式で表わされる化合物しとしては、エチレン
ジアミンテトラ（メチレンホスフォニック酸）、１．２
−プロピレンジアミンテトラ（メチレンホスフォニック
酸）、ｌ、３−プロピレンジアミンテトラ（メチレンホ
スフォニック酸）、テトラメチレンジアミンテトラ（メ
チレンホスフォニック酸）、ペンクメチレンジアミンテ
トラ（メチレンホスフォニック酸）、ヘキサメチレンジ
アミンテトラ（メチレンホスフォニック酸）、ヘプタメ
チレンジアミンテトラ（メチレンホスフォニック酸）、
オクタメチレンジアミンテトラ（メチレンホスフォニッ
ク酸）、ノナメチレンジアミンテトラ（メチレンホスフ
ォニック酸）デカメチレンジアミンテトラ（メチレンホ
スフォニック酸）等が挙げられる。

有機リン化合物の添加量は芳香族ビニル華量体を主体と
する重合体部分とポリフェニレンエーテル部分とからな
る樹脂１００重量部に対してｏ、ｏｉ〜５重量部、好ま
しくは０．０５〜３重量部、更に好ましくは０．１〜１
重量部である。

０．０１重量部未満では、樹脂組成物の熱安定性が向上
しないか、あるいは物性の低下する等好ましくない。

また５重１部を越えて添加しても、量に見合った熱安定
性の向上がみられない。

本発明でいう安定剤の立体障害フェノール化合物として
は、２．６−ジ〜Ｌｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、
２　　ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２
，４−ジノニルフェノール、オクタデシル−３−（３，
５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート、３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−
ハイドロキシベンジルホスフォン酸ジエチルエステル、
２−（３°、５″　−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４°−ハ
イドロキシアニリノ）−４，６−シオクチルチオー１．
３．５−）リアジン等のｍ個フエノール；２，２°　−
メチレン−ビス（４−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェノール）、２．２’　　−メチレンビス（４−エチル
−６−Ｌｅｒｔ−ブチルフェノール）、ブチリデンビス
（メチル−ブチルフェノール）、４．４゛−チオビス（
５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、ｌ、
ｌ−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
１．６−ヘキサンジオール−ビスー３−　（３，５−ジ
ーｔｅｒＬ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート、２．２°　−チオジエチル−ビス（３−（３
，５−ジーｃｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル
）プロピオネート〕、Ｎ、　Ｎ’−へキサメチレン−ビ
ス（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシヒ
ドロシンナマイド）等の二価フェノール；１．３．５−
トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，
６−シメチルベンジル）イソシアヌル酸、２，４．６−
トリス（３’　、５’　　−ジーｔｅｒｔ−ブチル−４
゛　−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン
、３．５−ジーｔａｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシヒド
ロシナミツクアツシドと１．３．５−トリス（２−ヒド
ロキシエチル−８−トリアジン−２，４，６（ＩＨ，３
Ｈ，５Ｈ）−）リオン）との三価エステル、１，１．３
−トリス（２゛　−メチル−４゛−ヒドロキシ−５°−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン等の三価フェノール
、ペンタエリスリチル−テトラキス（３−（３，５−ジ
ー【ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕等の四価フェノールが挙げられる。

立体障害フェノールの添加量は芳香族ビニル単量体単位
を主体とする重合体部分とポリフェニレンエーテル部分
からなる樹脂１００重量部に対して０．０１〜１０重世
部、好ましくは０．０５〜３重世部、更に好ましくは０
．１〜３重量部である。

安定剤の有機リン化合物と、立体障害フェノールとは任
意の割合で併用も可能である。

併用の際の添加量は、樹脂１００重量部に対して０．０
１〜５重量部、好ましくは０．０５〜３重量部、更に好
ましくは０．１〜１［を部である。

安定剤を該樹脂に添加するには、一般に樹脂のなかに安
定剤を混合する周知慣用の方法が用いられる。

例えば前述の、芳香族ビニルＪｔＬ量体単位を主体とす
る重合体と、ポリフエニレンエーテを混合して該樹脂を
得る溶融混合もしくは溶液混合の際に添加する。

溶融混合の場合には、再重合体の混合の場に直接所定量
を供給してもよいし、あらかじめ重合体のいずれか一方
または、両方に混合しておいてもよい。

溶液混合の場合には、再重合体を溶解した溶液のいずれ
か一方、または両方、あるいは両者を混合する時に添加
すればよい。

本発明でいう溶融成形とは樹脂をガラス転移温度以上に
上げ流動させた状態で成形することである。

例えば射出成形、押出成形、圧縮成形等を挙げることが
できる。

成形温度は、樹脂のガラス転移温度以上３５０℃程度ま
でである。

（発明の効果〉本発明により芳香族ビニル単量体単位を主体とする重合
体部分とポリフェニレンエーテルよりなる樹脂へ特定さ
れた安定剤を添加することで従来熱安定性の悪かったポ
リフェニレンエーテルが安定化され、成形時の高温の熱
履歴によっても光透過性が悪くならず、また部分的な劣
化も起こしていない光学素子を得ることができる。

また、熱安定性が向上させることにより、加工温度を高
くすることにより樹脂組成物の流動性を高めて加工でき
るので、成形品の内部歪、樹脂成分の配向を少なくする
ことができ、より均一な光の透過性、より小さな複屈折
の光学素子を得ることができる。

〈実施例〉以下実施例をもって詳細に説明するが、下記はもとより
、本発明を限定するものではない。

なお実施例中の部または％はいずれも重量基準である。

また実施例に示す物性は以下の方法により測定した。

・重合体の極限粘度：ウベローデ粘度計を用い、クロロ
ホルム溶媒で、２５℃にて測定、算出した。

・樹脂組成物とする溶融混合と熱履歴の付与はブラベン
ダーブラストグラフにより２８０℃で５分間、１０分間
、２０分間混練することにより行った。

・光線透過率：混練物の粉砕品を２９０℃で１．２ｍｍ
のプレスシートを作成しこれを自記分光光度計日立製作
所！！Ｊ３３０型にて８０Ｑｎｍでの試料厚み１．２ｍ
ｍの透過率を測定した。

・混練物の粉砕品からディスク基板の成形は射出成形機
として住友重機械工業株式会社製マット５／７型、金型
として成形体直径５０ｍｍ厚さ０．５ｍｍのディスク用
金型を使用した。

・異物測定：射出成形により得られた直径５０ｍｍ厚さ
０．５ｍのディスク基板成形品中の黒点を目視観察した
。

実施例１〜３特公昭４７〜３６５１８号公報実施例２、隘９に記載の
方法に従い、塩化マンガン、エタノールアミンを触媒と
して２，６−キシレノールを重合して極限粘度が０．４
０（クロロホルム中、２５℃）のポリ　（２，６−シメ
チルー１．４−フェニレン）エーテル’ｆｒ”Ａ製シｆ
ニー。

このポリフェニレンエーテル５５部、ポリスチレンとし
てニスブライト４−６２Ａ　（住人化学工業５８り４５
部から成る樹脂に安定剤としてフェニルホスフォナスｕ
ｏ、４部、及ヒペンタエリスリチルーテトラキス（３−
（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート）１．６部を充分混合し、得られ
た混合物を溶融混合し熱履歴を付与したものを評価した
。

結果を表１に示す。

実施例４〜６安定剤としてフェニルホスフォナス酸０．４部を用いた
以外は実施例１と同様に行った。

結果を表１に示す。

実施例７〜９安定剤としてジエチルフェニルホスフォネート０．４部
及び２，２°−メチレン−ビス（４−メチル−５−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェノール）０．６部を用いた以外は実施
例１と同様に行った。

結果を表１に示す。

実施例１０〜１２安定剤としてジエチルフェニルホスフォネート０．４部
を用いた以外は実施例１と同様に行った。

結果を表１に示す。

実施例１３〜１５安定剤として２．２゛　−メチレン−ビス（４−メチル
−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）０．６部を用いた
以外は実施例１と同様に行った。

結果を表１に示す。

比較例１〜３安定剤を用いない以外は実施例１と同様に行った。

結果を表１に示す。

表１

Claims

【特許請求の範囲】

（１）芳香族ビニル単量体単位を主体とする重合体部分
とポリフェニレンエーテル部分とからなる樹脂に安定剤
を添加してなる樹脂組成物を溶融成形する光学素子の製
造方法。
（２）安定剤が有機リン化合物及び／または立体障害フ
ェノールである特許請求範囲第１項記載の製造方法。