JPS6387796A - 基板に導電回路を形成する方法 - Google Patents

基板に導電回路を形成する方法

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JPS6387796A
JPS6387796A JP23392986A JP23392986A JPS6387796A JP S6387796 A JPS6387796 A JP S6387796A JP 23392986 A JP23392986 A JP 23392986A JP 23392986 A JP23392986 A JP 23392986A JP S6387796 A JPS6387796 A JP S6387796A
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copper
plating
layer
layer conductive
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山大 岩佐
洋一 大場
功 師岡
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Asahi Chemical Research Laboratory Co Ltd
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Asahi Chemical Research Laboratory Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、銅箔を用いたプリント基板等の基板に導電回
路を形成する方法に係り、特に新規開発された金属めっ
き性の良好な銅導電ペーストを有効に利用し、基板の片
面に電気的に接続された少なくとも2層の導電回路を形
成する際に、第2層導電回路の電極部分の外周がすべて
第1層導電回路の電極部分の外側に位置するように、し
かも中央に中空部が形成されたリング状に銅導電ペース
トを塗布することによって、第2層導電回路の電極部分
の面積及び外周の長さを増大させ、主として第1層導電
回路に対する第2層導電回路の密着強度を増大させた導
電回路の形成方法に関する。
従来技術 従来、銅箔を用いたプリント基板においては、そこに形
成される導電回路がある程度以上複雑となると、該導電
回路のある部分と他の部分とを電気的に接続する必要性
が生ずるが、従来技術ではプリント基板の片面に2層以
上の導電回路を工業的に形成することはできなかったの
で、このような必要性がある場合には、プリント基板の
両面を用い、該両面に形成された銅箔エツチング回路を
スルホールを用いて電気的に接続したいわゆる両面スル
ホール基板を用いる以外に方法がなかった。
しかし、この両面スルホール基板によると、基板の両面
に銅箔を貼り、かつエツチング加工を施し、なおかつN
C装置等を用いて多数の穴あけ加工を行わなければなら
ないため、材料費、製造費が多くかかり、生産性が悪い
という欠点があった。
そこで上記した従来方法の欠点を改良するものとして、
プリント基板の片面に2層以上の導電回路を工業的に形
成する技術の確立が望まれるが、そのためには導電性及
び金属めっき性、特に銅めっき性が良好な安価な銅導電
ペーストの開発が必要とされた。しかしながら、この銅
導電ペーストによると、ペーストを硬化させるための加
熱が必要となるが、銅はその特性から銀等の貴金属とは
逆に極めて酸化し易いため、この加熱によってペースト
中の銅粉末が酸化して電気抵抗が大きくなると共に半田
付性が悪化するという欠点があり、実用化が困難とされ
て゛いた。また加熱硬化された銅導電ペーストに金属め
っきを施すには、通常その表面をキャタリスト(触媒)
を用いて活性化し、バインダとしての樹脂層から銅粉の
粒子を露出させ、いわゆるめっきの核を作る工程が必要
とされ、多くの工数がかかる欠点があった。
なお、実公昭55−42460には、片面に2層以上の
導電回路を形成するため、絶縁被膜層に高絶縁性レジス
トポリブタジェンを用い、銅被膜で被覆する下地回路に
例えばフェノール樹脂20%、銅粉63%及び溶剤17
%からなる接着剤ペーストを用い、該接着剤ペーストに
無電解めっき法で20μmまで肉付けを行い、銅被膜を
被着させる考案が開示されてはいるが、上記のような理
由により、該考案が工業的に実施された例はないのが現
状である。
本願出願人においては、上記のような欠点をすべて除去
し得る銅導電ペーストを開発すべく、多年にわたり研究
を行って来たが、遂にこれを完成し、その工業化に成功
したものである。それは、銅粉末と合成樹脂に加えて特
殊添加剤として例えばアントラセンをit添加したもの
で、■アサヒ化学研究所製銅導電ペーストACP−02
0、ACP−030及びACP−007Pとして実用化
の段階に至らしめたものである。 ACP−020なる
銅導電ペーストは、銅粉末80重量%、合成樹脂20重
量%を生成分とし、導電性の極めて良好なものであるが
、半田付性がやや劣るものである。 ACP−030な
る銅導電ペーストは、銅粉末85重量%、合成樹脂15
重量%を生成分とし、導電性はACP−020より若干
劣るが半田付は性が良好なものである。またACP−0
07Pなる銅導電ペーストは、このACP−030を改
良し、キャタリストなしで金属めっき、例えば銅の化学
めっきをその硬化塗膜の上に施すことができるようにし
たもので、金属めっき性の非常に優れたものである。
そこで本願出願人は、上記新開発された金属めっき性の
良好な銅導電ペーストを用い、これを金属めっきの可能
な第1層導電回路に塗布して加熱硬化させ、その上に金
属めっきを施して第1層導電回路に接続された第2層導
電回路を形成し、基板の片面に少なくとも2暦の導電回
路を形成する方法を、例えば特願昭60−216041
等の出願において提案した。
これらの従来技術においては、第6図及び第7図に示す
ように、基板1に形成された銅箔2等からなる第1層導
電回路C8をエツチング加工により形成し、次いで第1
層導電回路C,と第2層導電回路Ctとを電気的に接続
する必要がある部分2a、  2bを残して基板1に耐
めっきレジスト3を印刷により塗布し、接続の不要な部
分及び第1層導電回路C1の存在しない基板10表面1
aを耐めっきレジスト3 (第6図では耐めっきレジス
ト3が透明であるとして図示を省略)で被覆する。
そして耐めっきレジスト3が塗布されないで残された部
分に金属めっき性の良好な銅導電ペースト4をスクリー
ン印刷により塗布して加熱硬化させて、清浄にした後、
第7図に示すように、銅導電ペースト4に金属めっきの
一例たる銅の化学めっきを施し、銅めっき層5を形成し
、該銅めっき層5と銅導電ペースト4とにより第2層導
電回路C2を形成し、基板1の片面に、電気的に接続さ
れた少なくとも2層の導電回路Cr 、Ctを積層状態
で形成するものである。
しかし、上記従来技術においては、第1層導電回路C1
の銅箔2の電極部分2dに塗布される銅導電ペースト4
の形状には特に考慮が払われず、第6図に示すように、
例えば端部4aが円弧状の単純な棒状に塗布を行ってい
た。一方、銅めっきN5の電極部分2dに対する導電性
の良否は、銅めっき層5の電極部分2dに直接接触して
いる肉厚端面5aの合計面積、即ち導電経路断面積の大
きさで決定され、また第2層導電回路C2の密着強度は
該第2層導電回路C2の電極部分4dの面積及び外周4
8等の合計長さ等で決定される。
このため、第6図に示すような第2層導電回路C2の電
極部分4dの形状では、良好な導電性と、大きな密着強
度を得ることができない欠点があった。
目  的 本発明は、上記した従来技術の欠点を除くためになされ
たものであって、その目的とするところは、第1層導電
回路の電極部分の外側に第2層導電回路の電極部分の外
周がすべて位置するように、かつその中央は中空部とな
るように銅導電ペーストをリング状に塗布し、該電極部
分の内周の全部及び外周の一部において金属めっきの肉
厚端面が第1層導電回路に接続されて金属めっきによる
導電経路断面積が十分に確保されて良好な導電性が得ら
れるようにすることである。また他の目的は、第2層導
電回路の電極部分の面積及び外周の長さを増大させるこ
とによって第1層導電回路に対する第2層導電回路の密
着強度を大幅に増大させることである。
構成 要するに本発明は、基板に金属めっきが可能な第1層導
電回路を形成し、該第1層導電回路の電極部分に金属め
っき性の良好な銅導電ペーストを塗布して加熱硬化させ
、前記第工層導電回路及び該銅導電ペーストに金属めっ
きを施して前記第1層導電回路に電気的に接続された第
2層導電回路を形成して前記基板の片面に少なくとも2
層の導電回路を形成する方法において、前記第1層導電
回路の前記電極部分の外側に前記第2層導電回路の電極
部分の外周がすべて位置するように、かつその中央は中
空部となるように前記銅導電ペーストをリング状に塗布
し、該第2層導電回路の電極部分の面積及び外周の長さ
を増大させると共に、前記中空部の内周の全部及び外周
の一部において前記金属めっきの肉厚端面が前記第1層
導電回路に接続されて導電経路を形成することを特徴と
するものである。
以下本発明を図面に示す実施例に基いて説明する0本発
明に係る基板に導電回路を形成する方法においても、従
来と同様に、まず第2図に示すように、基板21に形成
された銅箔22等からなる第1層導電回路C7をエツチ
ング加工により形成し、次いで第1層導電回路C,と第
2層導電回路C2とを電気的に接続する必要がある部分
22a、22bを残して基板21に耐めっきレジスト2
3を印刷により塗布し、接続の不要な部分及び第1層導
電回路C3の存在しない基板21の表面21aを耐めっ
きレジスト23で被覆する。そして耐めっきレジスト2
3が塗布されないで残された部分に金属めっき性の良好
な銅導電ペースト24をスクリーン印刷により塗布して
加熱硬化させて、清浄にした後、第3図に示すように、
銅導電ペースト24に金属めっきの一例たる銅の化学め
っきを施し、銅めっき層25を形成し、該銅めっき層2
5と銅導電ペースト24とにより第2層導電回路C2を
形成し、基板21の片面に電気的に接続された少なくと
も2層の導電回路C+、Czを積層状態で形成するもの
である。
本発明においては、上記のような方法において、第1層
導電回路CIの電極部分22dの外側22gに第2層導
電回路C2の電極部分24dの外周24eがすべて位置
するように、かつその中央は中空部24cとなるように
銅導電ペースト24をリング状に塗布し、第2層導電回
路C2の電極部分24dの面積及び外周24eの長さを
増大させると共に、中空部24cの内周24f及び外周
24eの一部において銅めっき層25の肉厚端面25a
が第1層導電回路C,に接続されて導電経路を形成する
ようにしたものである。
第1図においては、耐めっきレジスト23は透明である
として図示を省略されており、第2層導電回路C2の銅
導電ペースト24を覆って形成された銅めっき層25の
肉厚端面25aのうち第1図に数点模様で示した部分が
第1層導電回路C3と接続されるわけであり、この合計
面積は銅導電ペースト24が第1層導電回路C,の電極
部分22dの上においてリング状に示されており、また
外周24eが第1層導電回路の電極部分22d以外の部
分を横切る部分の肉厚端面25aも導電経路を形成し、
これらによって大きな4電経路断面積が得られ、また第
1層導電回路C1の外側22gにはみ出して第2層導電
回路C2の電極部分24dが形成されているため、該第
2層導電回路C2の密着強度は非常に大きなものとなる
。ま゛た中空部24cの直径は図示のものより大きくで
きることは明らかであり、内周24fの長さは更に長く
できる。また中空部24cには耐めっきレジスト23が
塗布されないので、第3図に示すように、該中空部に銅
めっきJi25が全面的に形成され、第1層導電回路C
1への該銅めっき層の密着強度が増大し、導電性も良好
となるように構成されている。
このように銅導電ペースト24の電極部分24dの外周
24eに銅めっき層25の肉厚端面25aを形成するた
めには、第2図に示すように、耐めっきレジスト23は
銅導電ペースト24からなる電極部分24dの外周24
eには該銅めっき屡の厚さの分だけ残して隙間16をあ
けて塗布し、中空部24cには塗布しないことが必要で
ある。
なお上記説明においては、第1層導電回路CIは銅箔2
2をエツチングにより形成するように説明したが、これ
はエツチング法に限定されるものではなく、本発明で用
いる銅導電ペースト24を基板21に塗布して加熱硬化
させ、これに化学銅めっきを全面的に施したものであっ
てもよく、また銅基外の金属を用いた導電回路であって
もよいことは明らかである。
なお耐めっきレジスト23としては、例えば■アサヒ化
学研究所製耐めっきレジス) CR−2001を塗布し
、例えば150℃で30分間加熱して硬化させる。
またその他の条件について説明すると、銅導電ペースト
24は、例えば■アサヒ化学研究所製鋼導電ペーストA
CP−007Pをスクリーン印刷により塗布して、温度
150℃にて30乃至60分間加熱して硬化させる。
また銅めっき層25を形成するためのめっき前処理につ
いて説明すると、このめっき前処理は、例えば力性ソー
ダ(NaOH)の4乃至5重量%の水溶液で数分間洗浄
し、塩酸(HCI)  5乃至10重量%の水溶液で数
分間表面処理を行う。この表面処理によって銅導電ペー
スト24の表面にはそのバインダの間から銅粉の粒子が
多数現われ、銅めっきを行う赳めの核が容易に形成され
る。従って通常の無電解めっきにおけるようなキャタリ
スト処理は不要である。
次に化学銅めっきについて説明すると、基板21を化学
銅めっき欲に浸して銅導電ペースト24の表面に、第3
図に示すように、化学銅めっきを施し、この結果鋼めっ
きjiJ25が形成されるのであるが、この化学銅めっ
き欲は、PHII乃至13、温度65乃至75℃で銅め
っきN25の厚さは5μm以上とする。この場合のめっ
き速度は毎時1.5乃至3μmである。
そして第1図及び第3図に示すように、銅めっき層25
が形成された基板21にはその表面にオーバコート(図
示せず)(例えば■アサヒ化学研究所製耐めっきレジス
トCR−2001)を塗布して加熱硬化させ、片面に2
層の導電回路C+、Ctが形成された基板21が完成す
る。
なお上記実施例においては、銅導電ペースト24に施す
金属めっきは銅めっきとして説明したが、これは銅めっ
きに限定されるものではなく、銀めっき、金めつき等の
貴金属めっきでもよいことは明らかである。また上記実
施例においては、基板21の片面に2層の導電回路C,
,C,を形成するように説明したが、これはオーバコー
トの上に上記のような工程を反復することによって3層
以上の導電回路を形成することができることも明らかで
ある。
次に第1図から第3図に示す本発明の第1実施例におい
ては、第2層導電回路C2の電極部分24dの外周24
e及び内周24fは、円形に形成されているのに対して
、第4図に示す第2実施例においては、電極部分24d
の外周24eは同様に円形に形成されているが、その内
周24fは円弧で結ばれた十字形に形成されており、第
1図に示す第1実施例の場合よりも銅めっき[25の肉
厚端面25aの長さが長くなっており、銅めっき層25
による導電経路断面積がより大きくされ、また第1層導
電回路C3に対する密着強度もより向上している。
次に第5図に示す第3実施例について説明すると、この
実施例においては第1層導電回路C1に重ねて形成され
る第2層導電回路C2の電極部分24dの外周24eは
円形に形成されているが、内周24fは、円弧で結ばれ
て連続した波形に形成されており、第1実施例に比べて
内周24fにおける銅めっき層25の肉厚端面25aの
合計長さがより長くされ、従って銅めっき層25による
導電経路断面積を更に増大させるようにしたものである
。またこのように内周24fを波形に形成することによ
って、第2層導電回路C2の第1層導電回路C,に対す
る密着強度もより向上するようにしている。
次に、本発明に用いる上記銅導電ペースト24及び耐め
っきレジスト23について詳細に説明する。
まず銅導電ペースト24の一例たる■アサヒ化学研究所
製ACP−007Pなる銅めっき性の良好な銅導電ペー
ストについて説明する。一般に銅は酸化され易い金属で
あり、特に粉末においては表面積が大きいためより酸化
し易い。従って非酸化性貴金属粉末を用いる貴金属ペー
ストと異なり、銅粒子の酸化膜の除去と再酸化防止とが
できるペースト組成物の設計が必要となる。鋼化学めっ
きがし易くて、しかも基材に対する接着性が高い銅導電
ペーストを設計するにはその構成成分である銅粉末、バ
インダ、酸化防止用の特殊添加材(例えばアントラセン
、アントラセンカルボン酸、アントラジン、アントラニ
ル酸が有効)、分散剤及び溶剤等の材料選択と適切な分
散混練技術とが重要なポイントである。
銅粉末はその製法によって粒子の形状や粒径が異なり、
電解法(電気分解によって粉末状に銅を析出させる方法
)では樹枝状で純度の高い粉末が、還元法(酸化物を還
元性ガスで還元させて作る方法)では、海綿状の多孔質
な微粒子が提供される。そして上記した本発明の導電回
路を形成するためには銅導電ペーストは次のような特性
を備えていなければならない。
+11  スクリーン印刷性がよく、ファインパターン
が形成できること。
(2)基板との密着性に優れていること。
(3)化学銅めっきの高温アルカリ浴に耐えること。
(4)銅めっきとよく密着すること。
(5)経時変化による粘度変化が少なく、安定した印刷
性が得られること。
このような要求を満たすため上記銅導電ペーストは、銅
粉末としては、電気分解によって析出する樹枝状物を多
く含み、純度の高い電解銅粉と、金属酸化物から還元し
て作った多孔質海綿状の微粉末等を使用している。また
これらの銅粉をフレーク状に加工した粉末(粉砕粉)も
使用される。
銅粉末のペースト中への含率を高めるためには、粒径や
形状の異なる粒子を、最密充填するように配合すること
が必要となる。
次に銅導電ペーストのバインダについて説明すると、バ
インダは、多量の粉末の分散ベヒクとして、また基板へ
の強力な接着剤として働く必要があり、同時に化学銅め
っきのアルカリ浴に十分耐えるものでなければならない
そこでバインダとしては、銅粉末含率が大きく、銅箔及
びガラスエポキシ基板への密着性及びめっきの析出性が
極めて良好で、めっき膜の密着性が極めて良好なエポキ
シ樹脂を配合したものを用いる。
次に上記■アサヒ化学研究所製銅導電ペーストACP−
007Pに析出した銅めっきの特性についてその一例を
説明すると、色調、形状は赤褐色かつペースト状であり
、粘度は25℃において300乃至500psであり、
銅箔上及び樹脂基板上の接着性は何れもテープテストに
合格するものであり、銅めっき後めっきと銅導電ペース
トとの接着性はテープテスト合格であり、半田付性は広
がり率96%以上で、引張り強度(3X3n”)は3.
0 kg以上である。
なお、上記銅導電ペーストの構成成分及び導電特性につ
いての詳細は本願出願人の出願である特願昭55−66
09(特開昭56−103260)及び特願昭60−2
16041に詳細に説明されているのでその説明は省略
する。
次に、耐めつきレジストについて説明すると、本発明で
は■アサヒ化学研究所製CR−2001なる耐めっきレ
ジストを用いるが、この耐めっきレジストは、多層配線
基板回路を形成しようとするとき、第1層導電回路に第
2層導電回路を接続しては不都合な場合、第1層導電回
路の上に耐めっきレジストを印刷法により被覆するが、
絶縁性が良好であると同時に、特に耐アルカリ性に優れ
た性質が要求される。化学銅めっき浴と同じpH12の
アルカリ浴中、70℃にて4時間以上の酸性を持つ耐め
っきレジストとして開発されたのがこのCR−2001
なる耐めっきレジストである。
これは銅導電ペーストACP−007Pと同様な、エポ
キシ樹脂を主成分とするペーストで、180メツシユの
ポリエステルスクリーンを用いて印刷し、150℃にて
30分間加熱して硬化させる。耐薬品性、耐電圧性から
15乃至30μm程度の厚膜が好ましい。その主な特徴
は以下のようである。
即ち、基材に対する密着力が強く、また銅箔に対する接
着性に優れており、耐アルカリ性(pH12)に長時間
浸しても硬化膜が劣化せず、バードナは毒性の弱いアル
カリ性であるので使用上安全である。またこの耐めっき
レジストの使用方法は、塗布方法についてはスクリーン
印刷により、混合比率は主剤100gに対して硬化材が
Logである。また硬化条件は、温度範囲が150乃至
200°C1設定時間が30乃至15分である。
また主な特性としては色調、形状は緑色かつインク状で
あり、密着性(クロスカット)は100/100(銅箔
面)、表面硬度(エンピッ使用)は8H以上、耐溶剤性
(トリクロルエチレン中)は15秒以上、半田耐熱性(
260℃)は5サイクル以上、表面絶縁抵抗値は5X1
0”Ω以上、体積抵抗値は1×1014Ω−ロ、耐電圧
(15μm)は3.5 kV以上、誘電正接(IMHz
)は0.03以下である。
効果 本発明は、上記のように第1層導電回路の電極部分の外
側に第2層導電回路の電極部分の外周がすべて位置する
ように、かつその中央は中空部となるようにw4導電ペ
ーストをリング状に塗布したので、該電極部分の内周の
全部及び外周の一部において金属めっきの肉厚端面が第
1層導電回路に接続されて金属めっきによる導電経路断
面積が十分に確保されて良好な導電性が得られるという
効果がある。また第2層導電回路の電極部分の面積及び
外周の長さを増大させたので、第1層導電回路に対する
第2層導電回路の密着強度を大幅に増大させることがで
きる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図から第3図は本発明の第1実施例に係り、第1図
は金属めっきの一例たる銅めっきが完了した状態を示す
第1層導電回路と第2層導電回路が形成された基板の部
分平面図、第2図は銅導電ペーストが塗布された状態を
示す第1図のn−m矢視縦断面図、第3図は銅めっきが
完了した状態を示す第1図のn−m矢視縦断面図、第4
図は本発明の第2実施例に係る第1図と同様の部分平面
図、第5図は本発明の第3実施例に係る第1図と同様な
部分平面図、第6図及び第7図は従来例に係り、第6図
は第1図と同様な部分平面図、第7図は第6図の■−■
矢視縦断面図である。 21は基板、22は第1層導電回路を形成する銅箔、2
2dは電極部分、22gは外側、23は耐めっきレジス
ト、24は銅導電ペースト、24cは中空部、24dは
電極部分、24eは外周、25は金属めっきの一例たる
銅めっき層、25aは肉厚端面、C,は第1層導電回路
、C2は第2層導電回路である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 基板に金属めっきが可能な第1層導電回路を形成し
    、該第1層導電回路の電極部分に金属めっき性の良好な
    銅導電ペーストを塗布して加熱硬化させ、前記第1層導
    電回路及び該銅導電ペーストに金属めっきを施して前記
    第1層導電回路に電気的に接続された第2層導電回路を
    形成して前記基板の片面に少なくとも2層の導電回路を
    形成する方法において、前記第1層導電回路の前記電極
    部分の外側に前記第2層導電回路の電極部分の外周がす
    べて位置するように、かつその中央は中空部となるよう
    に前記銅導電ペーストをリング状に塗布し、該第2層導
    電回路の電極部分の面積及び外周の長さを増大させると
    共に、前記中空部の内周の全部及び外周の一部において
    前記金属めっきの肉厚端面が前記第1層導電回路に接続
    されて導電経路を形成することを特徴とする基板に導電
    回路を形成する方法。 2 前記金属めっきは、化学銅めっきであることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項に記載の基板に導電回路を
    形成する方法。 3 前記第2層導電回路の電極部分の外周及び内周は、
    円形に形成されることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項に記載の基板に導電回路を形成する方法。 4 前記第2層導電回路の電極部分の内周は、円弧で結
    ばれた十字形に形成されることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載の基板に導電回路を形成する方法。 5 前記第2層導電回路の電極部分の内周は、円弧で結
    ばれて連続した波形に形成されることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項に記載の基板に導電回路を形成する方
    法。
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