JPS6387692A - 半導体メモリ - Google Patents

半導体メモリ

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JPS6387692A
JPS6387692A JP62064319A JP6431987A JPS6387692A JP S6387692 A JPS6387692 A JP S6387692A JP 62064319 A JP62064319 A JP 62064319A JP 6431987 A JP6431987 A JP 6431987A JP S6387692 A JPS6387692 A JP S6387692A
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circuit
transistor
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Hiroshi Iwahashi
岩橋 弘
Masamichi Asano
正通 浅野
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、メモリ読み出し時に現われるハザードを解
消した半導体メモリに関する。
一般に、半導体メモリは、多数のメモリセルと、それを
指定するアドレスデコーダ、読み出されたデータを出力
する出力回路等の周辺回路から構成されている。このよ
うな半導体メモリから、メモリセルに記憶された内容を
読み出すために、アドレスデータを入力し、アドレス指
定を行ない、メモリセルを選択する必要がある。この時
アドレスデータが変化した時に、過渡的に、正しくない
データを出力してしまう現象、すなわち、ノーサードが
起こる場合がある。
具体的には、デコーダによって選択されたメモリセルの
データは「1」、「0」をセンスアンプで判別し、それ
を出力回路で外部へ出力している。
しかしながら、このような回路では、一般に、メモリセ
ルの接続される列線の電位をrlJ  rOJに判断し
て、メモリセルの記憶情報としてそのまま出力している
。そのため、デコーダの出力の変化時に、どのメモリセ
ルも指定されない状態、あるいは、2つ以上のメモリセ
ルを同時に選択してしまうような場合か発生する。この
時、列線の電位は不安定となり、第1図(A)〜(D)
に示すように、−度違ったデータを出力する場合かある
。すなわち、同図(A)および(B)に示すように、「
1」レベルからrOJレベルに移る場合、逆に「0」レ
ベルから「1」レベルに移る遷移状態で、瞬間的に一変
異なったデータを発生する場合かある。
また、同図(C)および(D)に示すように、「1」か
ら「1」またはrOJから「0」というように、同じ論
理レベルのデータを出力する場合にも、−変異なったデ
ータを瞬間的に発生する場合かある。
また、基板電位が不安定になった場合も、このようなハ
ザードが発生する場合がある。
この発明は、上記のような事情に鑑みなされたもので、
メモリ出力のハザードを解消し、メモリの出力回路に接
続される外部回路の誤動作を確実に防止することができ
るようにした半導体メモリを提供することを目的とする
以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
第2図はその概略的な構成を示したものである。同図に
おいて11はメモリセルアレイで、行線R−Rおよび列
線! 〜! でマトリックo        n   
                o        
mス状にした各交差部に、メモリセル(たとえばMS)
が設けられている。このメモリセルを選択するのか行お
よび列デコーダ12.13である。
行デコーダ12は、図示しないCPU等から供給される
アドレスデータA  −A、により行線R8〜Rnのい
ずれかを指定する。一方、列デコーダ13は、列指定線
C−Cのいずれかを指定すOm る。この列指定線C−Cは、それぞれエンドO[11 ンスメント型MOSトランジスタT  −T  のゲO
m −トに接続されている。このトラジスタT 〜T のソ
ース・ドレインパスの片方は、それぞれ列線f2o−β
□に接続されている。そして、他方は節点Sで共通接続
されており、上記トランジスタT。−Trnで列ゲート
回路14を構成している。
したがって、例えば行線Rが指定され、列指定0゜ 線Cが指定されたとすると、トランジスタT。
が導通状態となり、列線l と行線Rの交差部に位置す
るメモリセルMSの記憶データが上記接点Sに導かれる
状態となる。そして、この接点Sの電位を列ゲート回路
14からの出力信号Hとして出力回路15に供給する。
この出力回路15は、節点Sの電位を検知し、波形整形
および増幅率を行ない、出力信号りとして出力端子OU
Tがら選択されたメモリセルのデータ内容を出力するよ
うになっている。この出力回路15には、さらに、アド
レスデータA  −A、の変化に応じてパルスを発生す
るパルス発生回路16からの信号Bが供給されている。
上記出力回路15は例えば第3図に示すように構成され
ている。すなわち、列ゲート回路14からの出力信号H
はセンスアンプ151に供給される。このセンスアンプ
151は、インバータ152および、デプレッション型
トランジスタ153から構成されている。なお上記イン
バータ152は、電源Vcおよびアース間にディプレッ
ション型およびエンハンスメント型トランジスタを直列
に接続したものである。センスアンプ151の出力信号
はインバータ154に供給されている。このインバータ
154からの出力信号は、エンハンスメント型トランジ
スタ155、およびインバータ156に供給される。上
記トランジスタ155は、ソースがアース接続されてお
り、ゲートに前記パルス発生回路16がらの出力信号B
が供給されている。すなわち、信号Bか「1」レベルの
状態では、トランジスタ155が導通状態となり、イン
バータ154の出力が強制的にアース電位近辺つまり、
rOJ レベルとされる。インバータ156の出力信号
は、インバータ157およびイネイブル端子をもつ回路
158のディプレッション型トランジスタ159のゲー
トに供給される。この回路158は、電源VCおよびア
ース間にエンハンスメント型トランジスタ16o。
ディプレッション型トランジスタ159、エンハンスメ
ント型トランジスタ161が直列に接続された構成にな
っている。上記トランジスタ160のゲートには、この
半導体メモリが選択された状態で「1」レベルとなるチ
ップセレクト信号C8が供給されている。また、トラン
ジスタ161のゲートには、インバータ157の出力信
号が供給されている。すなわち、この回路158は、チ
ップセレクト信号が「1」レベルの状態で動作状態とな
るもので、インバータ157の出力信号を反転して出力
する。さらにインバータ156および157の出力信号
は、回路158と同様に構成される回路162に供給さ
れており、チップ選択信号C8が「1」の状態で、イン
バータ156の出力信号を回路162で反転して出力す
る。そして、回路158.162の出力信号P、Qはそ
れぞれ、エンハンスメント型トランジスタ163.16
4のドレインに、またエンハンスメント型トランジスタ
165.166のゲートに供給されている。上記トラン
ジスタ163.164はそれぞれソースがアース接続さ
れており、ゲートにチップ選択信号C8の反転信号でI
か供給されている。また、トランジスタ165.166
は電源Vcおよびアース間に直列に接続されており、そ
の接続点の電位を出力信号りとして端子OUTから出力
するようになっている。
すなわち、チップセレクト信号C8かrOJの状態では
、信号で1か「1」となり、トランジスタ163.16
4が導通状態とされ、出力バッファトランジスタ165
.166のゲートは共に「0」レベルとなるので、トラ
ンジスタ165.166は非導通状態で出力信号りはフ
ローティング状態となる。つまり、このメモリが非選択
の状態となる。
また、チップセレクト信号C8が「1」の状態では回路
158.162が動作状態にあり、その出力信号P、Q
によりトランジスタ165.166がオン・オフ制御さ
れ、出力信号りのレベルが決定される。つまり、このメ
モリが選択された状態になっている。
すなわち、このように構成される出力回路15において
、信号C8が「1」の選択状態で、前記列ゲート回路1
4からの出力信号H1つまり選択されたメモリの記憶情
報が、例えばrOJの時、センスアンプ151の出力は
「0」として、イ1<−タ154に入力される。このイ
ンバータ154の出力は、パルス発生回路16からの信
号Bが「0」の状態で、「1」となる。そして、インノ
く一夕156.157及び回路158てそれぞれ反転さ
れ、信号Pは「0」となり、トランジスタ165をオフ
状態とする。また、「1」レベルであるインバータ15
4の出力は、インバータ156、回路162でそれぞれ
反転され、信号Qは「1」となり、トランジスタ166
をオン状態とする。したがって、出力信号りはrOJと
なる。
ここで、第4図に示すように、アドレスデータA  −
A、が変化し、たとえば記憶内容が「0」の他のメモリ
セルが選択される状態となると、パルス発生回路16か
らの信号Bか一定期内例えば、信号Hに選択されたメモ
リセルの情報が現われるまで「1」レベルとなる。した
がって、インバータ154の出力は強制的にrOJレベ
ルとされ、その期間前記インバータ154の出力か「1
」レベルであった場合とは逆に、信号Pは「1」に、信
号Qは「0」になり、出力信号りは「1」となる。その
ため、信号Hにハザードが生じていたとしても、出力信
号りは、信号Bの「1」レベルとなっているパルス幅分
だけ強制的に「1」レベルとされる。したがって、信号
りにはハザードが生じない。同様に、アドレスデータA
  −A、の変化に応じて、信号HがrOJから「1」
に変化する時にハザードが表われていたとしても、信号
Bにより、信号りは強制的に「1」レベルされるのでハ
ザードは生じない。また、同様に信号Hが「1」から「
1」になる場合にも出力信号りにハザードが生じないこ
とになる。
このように、アドレス変化時に、出力信号りのレベルを
強制的に「1」レベルとするため、信号りにはハザード
が生じない。その結果、信号りは、−度「1」レベルと
なった後、メモリセルの記憶情報が出力されることにな
る。
また、このようにすると、アドレス入力が変化した時、
出力端子OUTは「1」になるため、急激に出力を「1
」にする必要はなく、選択されたメモリセルのデータが
信号Hとして圧力されるまでに「1」になっていればよ
い。
一般に半導体メモリの出力端子においては、その出力端
子が供給すべき、電流が決められている。この出力電流
はrOJが出力される時、出力端子が0.45 Vで、
2.1mA程度であるのに対して「1」が出力される時
は、出力が2 、 ’4 Vの時400μA程度でよい
。これは、この出力端子に、1つのTTLか接続される
ことを想定していることによる。
このためトランジスタ165は、トランジスタ166に
比べて、前記電流供給だけを考えれば充分小さくてよい
はずである。ところが、従来このトランジスタ165は
、166とほとんど同じくらいの寸法のトランジスタで
出来ている。これは、この出力端子には通常150PF
の大きな容量が付加されるため、出力を「1」あるいは
「0」にする時、この容量を充放電しなければならない
このため、出力段のトランジスタ165も充分電流供給
能力がないと、出力が「1」レベルになるまでに時間が
かかり、メモリの読み出し速度が遅くなる。このため出
力を急速に「1」レベルにしたいため、このトランジス
タ165の寸法も大きくしであるわけである。
ところが、第3図の様にしておけば、アドレス入力が変
化した時、−度出力は「1」レベルとなるように設定さ
れる。今、選択されたメモリセルが「1」レベルの出力
される情報を記憶していたとする。アドレス変化にとも
ない信号Bが「1」になり、インバータ154の出力は
強制的にrOJレベルとされ、出力りは「1」になる。
そして、信号Hがメモリセルの情報「1」になり、信号
Bが「0」になったとしても、インバータ154の出力
は、信号Hが「1」のため「0」になったままである。
このため出力りは「1」のままである。
すなわち、出力りはアドレス入力か変化してからすぐ「
1」レベルにもっていかれるわけで、従来の様にメモリ
セルの情報を検出してから急激に「1」レベルにする必
要はなくなり、前記した様に、出力端子が2.4Vで4
00tIAの電流能力を持つ様にトランジスタ165を
作ればよく、従来よりもこのトランジスタの寸法を小さ
く出来、また、このトランジスタ165が小さくなれば
、回路158も寸法的に小さくなり、この半導体メモリ
の出力回路自体が小さく構成出来るようになる。
次にパルス発生回路16の具体例を第5図に示す。この
パルス発生回路15は、アドレスデータAo−Aiそれ
ぞれが対応して供給されている′発生回路17o〜17
iを備えている。この発生回路17〜17.はそれぞれ
、対応したアドレスデータA  −A、の論理レベルが
変化した時に、それぞれパルス信号B  −B、を発生
する。この信号B。−Biはノア回路18に供給され、
信号Bとして出力し、さらに、インバーター9を介して
信号Bとして出力するように構成されている。
上記発生回路17〜17.は、同様に構成されているも
ので、例えば発生回路17 を第6図に取り出して示す
。アドレスデータA は、インバ−タ20,21.22
.23でそれぞれ反転され、インバータ23の出力信号
A0は、トランジスタ24のソースに供給される。また
、アドレスデータA は、インバータ20.21.25
でそれぞれ反転され、インバータ25の出力信号X0は
、トランジスタ26のソースに供給される。また、信号
A は、インバータ27まて反転され、トランジスタ2
8およびコンデンサ29により遅延さく13) れ、インバータ3oに供給される。そして、インバータ
30でさらに反転され、トランジスタ31およびコンデ
ンサ32でさらに遅延され、インバータ33に供給され
る。このインバータ33の出力信号Xは、前記トランジ
スタ26のゲートに供給すると共に、インバータ34に
供給される。インバータ34の出力信号yは、前記トラ
ンジスタ24のゲートに供給され、このトランジスタ2
4とトランジスタ26のそれぞれのドレインを接続し、
その接続点の電位を信号B として出力するようにして
いる。
このように構成されるパルス発生回路16にあっては、
例えば第7図に示すように、アドレスデータA′ が、
rOJ  rlJ  rOJと変化する時に、信号A。
も同様にrOJ  rlJ  rOJと変化する。また
信号A は、信号A を反転した形となっている。信号
Xは、トランジスタ28、コンデンサ29およびトラン
ジスタ31、コンデンサ32で遅延されるため、信号A
′ を遅延した形となっている。また、信号yは、信号
Xを反転した形となっている。そして、信号yか「1」
レベルの間、トランジスタ24がオン状態となっている
ので、信号A′ の論理レベル状態が信号B として出
力されるようになる。また、信号Xが「1」レベルの間
、トランジスタ26がオン状態となっているので、信号
A の論理レベル状態が信号B として出力される。し
たがって、信号B は、o             
                         
          O第7図に示すように信号A′ 
がトランジスタ28、コンデンサ29およびトランジス
タ31、コンデンサ32で遅延された時間分だけ、信号
B。
を「1」レベルとする。すなわち、信号B は、アドレ
スデータA が変化した時に、一定時間(BT)だけ「
1」レベルとなり、それによってパルスが発生されたこ
とになる。そして、信号B が反転された形で信号Bが
出力され、さらに反転して信号Bが出力されるようにな
る。同様に、アドレスデータA1〜A、が変化した時に
も、信号Bとしてパルスが発生される。
第8図は、第3図に示した前記出力回路15に係る他の
応用例を示すもので、出力回路15と同一部分は同一符
号をもって示している、前記出力回路15の実施例では
、パルス発生回路16からの信号Bかゲートに供給され
ているエンハンスメント型トランジスタ155を、第8
図において破線で示すようにインバータ154の出力に
対して設けるようにした。しかし、トランジスタ155
と同様のトランジスタを、センスアンプ151の出力に
対して、トランジスタ155aを、あるいは、インバー
タ156の出力に対してトラジスタ155bを設けるよ
うにしてもよい。この場合、パルス信号Bが「1」レベ
ルとなっている間、出力信号りは強制的に「0」レベル
となり、その後選択されたメモリセルのデータが出力さ
れる。
すなわち、トランジスタ155と同様のトランジスタは
、列ゲート回路14からの信号を、出力端子OUTに出
力するまでの、伝達線のどこにでも設けてもよいもので
ある。また、トランジスタ155は信号Bが「1」の時
に導通状態となりアース接続されるようにしたが、これ
は電源VCと接続されるようにしてもよい。
第9図は、前記出力回路15の他の実施例を示すのもで
、センスアンプからの信号は、エンハンスメント型トラ
ンジスタ40のソースに供給される。このトランジスタ
40のゲートには、パルス発生回路16からの信号Bが
供給されている。また、この信号百は、インバータ41
で反転され、エンハンスメント型トランジスタ42のゲ
ートに供給される。上記信号百か「1」レベルの状態で
トランジスタ40はオン状態となり、センスアンプから
の信号をインバータ43.44でそれぞれ反転する。ま
た、信号百がrOJレベルの状態では、トランジスタ4
2がオン状態となり、インバータ44の出力と、トラン
ジスタ40のドレインおよびインバータ43の入力間に
フィードバックパスが形成される。したがって、インバ
ータ44における前の出力が、そのまま保持される状態
となる。すなわち、図中−点斜線で囲んだ部分は一種の
ラッチ回路(記憶回路)39を形成している。
インバータ44の出力は、インバータ45で反転され、
イネイブル端子をもつ回路46へ供給さく17) れる。この回路46は、チップ選択信号C8が「1」レ
ベルの時インバータ45の出力の反転動作を行ない、そ
の出力を出力バッファトランジスタ47のゲートに供給
する。また、インバータ44の出力は回路48に供給さ
れ、チップ選択信号C8が「1」レベルの時、反転され
出力バッファトランジスタ49のゲートに供給される。
トランジスタ47.49は、電源VCおよびアース間に
直列に接続され、その接続点の電位を出力信号りとして
、出力端子OUTから出力するようにしている。
すなわち、このような出力回路にあっては、チップ選択
信号C8か「0」、レベルの時、つまり、その反転信号
C3が「1」レベルの時、トランジスタ50,51がオ
ン状態となり、出力バッファトランジスタ47.49の
ゲートは共に「0」レベルの状態となり、出力はフロー
ティング状態となって、非選択の状態となっている。
また、チップ選択信号C3が「1」レベルの状態では、
例えば第10図(A)に示すように、アトレスデータA
  −A、の変化に応じて、メモリセルのデータが、信
号Hとして、rlj  rOJ  rOJと出力される
場合を考える。この時センスアンプからのデータの変わ
り目でハザードか図のように生じていたとする。一方、
パルス発生回路16からの信号百は、通常は「1」レベ
ルでセンスアンプからのデータと同レベルの信号を出力
信号りとしてこの出力回路は出力する。たとえば、セン
スアンプからのデータが「1」レベルとすると、インバ
ータ44の出力は「1」となり、回路46の出力も「1
」となり、回路48の出力は「0」となっているので、
出力信号りは「1」となる。この時、アドレスデータA
  −A、が変化して、信号百が「0」レベルとなった
時、インバータ41の出力Bが「1」となり、トランジ
スタ42がオン状態となる。したがって、前記したよう
にインバータ44の出力と、トランジスタ40のドレイ
ンインバータ43の入力間で、フィードバックパスが形
成され、インバータ44の出力は「1」に保持される。
そして信号百か「1」レベルに戻ると、センスアンプか
らのデータと同レベルの信号か出力信号りとして出力さ
れるようになる。すなわち、アドレスデータA  −A
、が変化して、新l たなメモリセルが選択され、センスアンプの出力に新た
なメモリセルのデータが現われる時に、信号Bを一定時
間「0」レベルとして、前のメモリセルのデータを保持
出力するようにしているので、たとえセンスアンプの出
力にハザードか生じていたとしても、出力信号りにはハ
ザードは生じない。
この出力回路の実施例の場合、信号百、Bの電圧波形は
、第10図(B)に示すよっなり、Bてもよい。すなわ
ち、アドレスデータ変化後、信号Hが十分に安定した状
態の時に、信号Bを「1」レベルとして、その時の信号
Hのレベルを保持し出力するのでハザードは生じない。
このような信号B、Bは、前記したようなパルス発生回
路16から容易に作り出せる。
上記のような信号B、Bを発生する他のパルス発生回路
の実施例を第11図に示す。なお、第2図と同一の部分
は、同一符号をもって示している。
このパルス発生回路61は行線R−RするいOn は、列指定線C−Cの電位レベル変化を検知o    
   m してパルス信号Bを発生するものである。
列線Cの電位はエンハンスメント型トランジスタ62o
のドレインに供給されると共に、インバータ63oを介
して、このトランジスタ62oのゲートに供給されてい
る。上記インバータ63oの出力は、コンデンサ64o
を介して接地されている。そして、上記トランジスタ6
2゜のソースは、節点C′ においてエンハンスメント
型トランジスタ65oのドレインと接続される。
このトランジスタ65oのゲートには、信号Bが帰還入
力されており、この信号Bが「1」となった時、節点C
′ をアース接続する。そして、この節点C′ におけ
る電位をノア回路66に供給している。
同様に、列指定線C1の電位は、トランジスタ621の
ドレインに供給されると共に、インバータ631を介し
て、トランジスタ621のゲートに供給される。そして
、上記インバータ631の(21)         
  −Q−出力は、コンデンサ641を介して接地する
。上記トランジスタ621のソースは、節点c71 に
おいて、トランジスタ651のトレインと接続される。
このトランジスタ651のゲートには、信号Bが入力さ
れており、前記同様「1」レベルとなった時、節点C/
1を「0」レベルとする。この節点C/1における電位
をノア回路66に供給している。
以下、列指定線C2、C3・・・Cについても同■ 様に構成され、それぞれの節点C′2、C10・・・C
′□における電位をノア回路66に供給している。
一方、行線R,R1、・・Rにあっても、上On 配列指定線C,CI、・・・Cと同様に、それそOm れ節点R’  、R’l 、・・・R′ における電位
をノア回n 路67に供給している。
上記ノア回路66.67の出力信号Fl 、F2はそれ
ぞれインバータ68.69に供給される。
このインバータ68.69の出力は、それぞれ積分回路
70.71を介して、信号F3、F4として、ノア回路
72に供給される。そして、ノア回iつ−(22) 路72の出力信号B′をインバータ73で反転して、信
号Bとして前記出力回路15に供給すると共に、ノア回
路74.75に供給する。このノア回路74.75の出
力はそれぞれノア回路66.67に供給されると共に、
ノア回路66.67のそれぞれの出力信号Fl 、F2
をノア回路74.75にそれぞれ入力するようにしてい
る。
すなわち、このように構成されるパルス発生回路61に
あっては、第12図に示すように、アドレスデータA 
 −A、が変化し、たとえば列線Cの電位が「0」レベ
ルから「1」レベルに変化したとする。この時、インバ
ータ63oの出力は「0」レベルとなるが、コンデンサ
64oにより、トランジスタ62oはオン状態を維持し
ている。したがって、節点C′ の電位も、第12図に
示すように、「0」から「1」に立上がる。逆にノア回
路66の出力信号F1は、「1」レベルから「0」レベ
ルに変化する。そして、この信号F1は、インバータ6
8て反転され、積分回路70の出力信号F3は第12図
に示すように徐々に「1」に立上がるようになる。した
がって、ノア回路72で信号F3を「1」と判断した時
点で、信号B′を「0」レベルとする。すなわち、信号
Bを「1」レベルとする。この「1」レベルとなった信
号Bにより、トランジスタ65oかオン状態とされ、節
点Cか再び「0」レベルとなる。これによって信号F1
か「1」レベルとなり、信号Bは「0」レベルとなる。
したがって、信号Bが「1」レベルとなる期間(パルス
幅BT−)は、積分回路70を構成している抵抗および
コンデンサの値によって決定されることになる。同様に
、行線R−Hのいずれかの電位レベルが変化しOn た時も、信号F2か「1」から「0」レベルとなり、信
号F4は積分回路71によりゆるやかに「1」レベルと
なる。それによって信号Bか「1」レベルとなり、前記
同様にしてパルス信号が発生されることになる。
なお、上記パルス発生回路61において、ノア回路74
.75は特に設けなくてもよい。また、トランジスタ6
4o 164+・・・かオフ状態の時、節点C′、C1
0・・・がフローティング状態となるため、ソースをア
ースし、ゲートをオン状態としているトランジスタをト
ランジスタ65o 、 651と並列して設けてもよい
。この時、このトランジスタの抵抗値は、節点C′、C
10、−・が「0」から「1」レベルになるのを防げな
い程度のものを用いるのがよい。
また、信号Bの立上がりのタイミングは、選択されたメ
モリセルのデータが信号Hとして出力回路15に伝達さ
れた時に始まるのが最適である。
以上述べたように、この発明によればアドレス入力変化
後、特定のレベルのデータを出力した後、選択したメモ
リセルのデータを出力するため、メそり出力のハザード
を解消し、出力回路に接続される回路の誤動作等を確実
に防止することかできるようにした半導体メモリを提供
することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(A) (B) (C) (D)は従来のメモリ
出力におけるハザードを説明する図、第2図はこの発明
の一実施例に係る半導体メモリの構成を示す図、第3図
は上記半導体メモリにおける出力回路の回路図、第4図
は上記出力回路の動作を説明するタイミングチャート、
第5図はパルス発生回路の構成を示す図、第6図は上記
パルス発生回路における発生回路の回路図、第7図は上
記発生回路の動作を説明するタイミングチャート、第8
図は上記出力回路の応用例を説明する回路図、第9図は
上記半導体メモリにおける出力回路の他の実施例を示す
回路図、第10図(A) (B)は第9図における出力
回路の動作を説明するタイミングチャート、第11図は
上記半導体メモリにおけるパルス発生回路の他の実施例
を示す回路構成図、第12図は第11図におけるパルス
発生回路の動作を説明するタイミングチャートである。 11・・・メモリセルアイ、  12・・行デコーダ、
13・・・列デコーダ、 14・・・列ゲート回路、1
5・・・出力回路、 16・・・パルス発生回路、61
・・・パルス発生回路。 第1図 (A) (B) (C) ■ 図面の浄書(内容に変更なし) 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  アドレス入力により選択されるメモリセルと、この選
    択されたメモリセルのデータを出力する出力回路と、ア
    ドレス変化を検知してパルス信号を発生するパルス発生
    回路と、前記出力回路内に設けられ、前記パルス発生回
    路からの前記パルス信号を利用して前記アドレスが変化
    してから所定の期間出力を出さないように前記出力回路
    の出力を特定のレベルに設定するレベル設定手段とを具
    備したことを特徴とする半導体メモリ。
JP62064319A 1987-03-20 1987-03-20 半導体メモリ Granted JPS6387692A (ja)

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JPH0434791A (ja) * 1990-05-31 1992-02-05 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置

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JPS554735A (en) * 1978-06-23 1980-01-14 Toshiba Corp Semiconductor memory
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