JPS6387613A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景 技術分野 本発明は磁気記録媒体に関する。

先行技術とその問題点 磁気記録媒体は、基体上に磁性塗料を塗布し磁性層を形
成することによって通常作製されている。　磁性塗料は
、磁性粉、バインダ゛、溶剤等を含むものである。　こ
の場合、バインダは磁性粉をしっかり結合して強靭な磁
性層をつくる働きをし、塩化ビニル樹脂、塩酢ビ樹脂、
塩化ビニリデン樹脂、アクリル樹脂、セルローズ誘導体
、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ウレタン樹脂などか
ら選択配合されて使わわている。

そして、バインダとしてアクリル；ｆ−、＝重結合を有
する放射線硬化型樹脂を用い、磁性塗料の塗膜を放射線
照射によって硬化する方法が近年用いられるようになフ
ている。

このような放射線硬化型樹脂の１つにポリウレタン樹脂
が挙げられる。　ポリウレタン樹脂とは主鎖の繰返し単
位中にウレタン結合−ＮＨＣＯＯ−をもつものであり、
磁性塗料のバインダとして用いられた例としては、特開
昭５８−３２６１７号、同６０−１２０７６５号、同６
０−６５０１７号、同６０−６９８２０号、同６０−８
７４２７号、同６０−８７４２８号、同６０−９３６２
０号、同５Ｑ−９４４１６号、同６０−１０３５１６号
、同６０−１１９６２６号、同６１−９２２号、同６１
−５１６２０号、同６１−５１６２１号、同５７−９２
４２１号、同５７−１６２１２５号、同５７−２１０４
４４号、同５８−３２６１８号、同５８−１８９８２９
号、同５９−５８６２１号、同５９−７２６４５号、同
５９−８４３３７号、同５９−１０１０３０号、同５９
−１０４７２５号、同５９−１６２６２５号、同５９−
１７８６１８号、同５９−１８５０２５号、同５９−１
８６１２１号、同６０−４０５２６号、同６０−４２４
７２号、同６０−４２４７３号、同６０−５０７２０号
、同６０−５０７１９号、同６０−５９５２５号、同６
０−６５０１６号、同６０−６３２２１号、等に記載の
ものを具体的に挙げることができる。

しかし、これらのポリウレタン樹脂を磁性塗料のバイン
ダとして用いた場合磁気記録媒体として耐久性に劣ると
いう欠点があった。

ＩＩ　　発明の目的 本発明の目的は耐久性に優れた磁気記録媒体を提供する
ことにある。

■　発明の開示 この上うなｌ］的は下記の本発明によって達成される。

すなわち、本発明における第１の発明は、ＣＨ２＝ＣＲ
，Ｃｏｏ−Ｌ−Ｕ−０−基（ここで、Ｒ１は水素原子も
しくは低級アルキル基を表わし、Ｌは２価の連結基を表
わし、Ｕはアジピン酸単位を含むポリエーテルポリエス
テルポリウレタンと、ビスフェノールＡ単位を含むポリ
エーテルポリウレタンとを含む２価のポリウレタン残基
を表わす。）が４価のアルコール残基に３個以上結合し
たポリウレタン、アクリロイル基もしくはメタアクリロ
イル基を有する塩化ビニル系共重合体く酸基が１×１０
−６〜１×１０−３当量／ｇ含まれるもの）および磁性
粉を含有する磁性塗料を基体上に塗布し、放射線硬化し
たことを特徴とする磁気記録媒体である。

また、第２の発明はＣＨ２＝ＣＲＩ　Ｃ０Ｏ−Ｌ−Ｕ−
０−基（ここで、Ｒ１は水素原子もしくは低級アルキル
基を表わし、Ｌは２価の連結基を表わし、Ｕはアジピン
酸単位を含むポリエーテルポリエステルポリウレタンと
、スルホイソフタル酸単位を含むポリエーテルポリエス
テルポリウレタンと、ビスフェノールＡ単位を含むポリ
エーテルポリウレタンとを含む２価のポリウレタン残基
を表わす。）ｈ）４仙のアルコール残基に３個以上結合
したポリウレタン、アクリロイル基もしくはメタアクリ
ロイル基を有する塩化ビニル系共重合体（酸基が１×１
０−６〜１×１０−３当量／ｇ含まれるもの）および磁
性粉を含有する磁性塗料を基体上に塗布し、放射線硬化
したことを特徴とする磁気記録媒体である。

また、第３の発明は、ＣＨ２＝ＣＲ，Ｃｏ。

−Ｌ−Ｕ−０−基（ここで、Ｒ１は水素原子もしくは低
級アルキル基を表わし、Ｌは２価の連結基を表わし、Ｕ
はアジピン酸単位を含むポリエーテルポリエステルポリ
ウレタンと、ビスフェノールＡ単位を含むポリエーテル
ポリウレタンと、ポリエーテルポリウレタンおよび／ま
たはアクリロイル基もしくはメタアクリロイル基を有す
るポリエーテルポリウレタンとを含む２価のポリウレタ
ン残基を表わす。）が４価のアルコール残基に３個以上
結合したポリウレタン、アクリロイル基もしくはメタア
クリロイル基を有する塩化ビニル系共重合体（酸基が１
×１０−６〜１×１０−３当量／ｇ含まれるもの）およ
び磁性粉を含有する磁性塗料を基体上に塗布し、放射線
硬化したことを特徴とする磁気記録媒体である。

また、第４の発明は、ＣＨ２＝ＣＲＩ　Ｃｏ。

−Ｌ−Ｕ−０−基（ここで、Ｒ１は水素原子もしくは低
級アルキル基を表わし、Ｌは２価の連結基を表わし、Ｕ
はアジピン酸単位を含むポリエーテルポリエステルポリ
ウレタンと、スルホイソフタル酸単位を含むポリエーテ
ルポリエステルポリウレタンと、ビスフェノールＡ単位
を含むポリエーテルポリウレタンと、ポリエーテルポリ
ウレタンおよび／またはアクリロイル基もしくはメタア
クリロイル基を有するポリエーテルポリウレタンとを含
む２価のポリウレタン残基を表わす。）が４価のアルコ
ール残基に３個以上結合したポリウレタン、アクリロイ
ル基もしくはメタアクリロイル基を有する塩化ビニル系
共重合体く酸基が１×１０−６〜１×１０−”当量／ｇ
含まれるもの）および磁性粉を含有する磁性塗料を基体
上に塗布し、放射線硬化したことを特徴とする磁気記録
媒体である。

■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明の磁気記録媒体における磁性塗料は、下記式（Ａ
）で示されるような ＣＨ２＝ＣＲＩ　Ｃｏｏ−Ｌ−Ｕ−０−基が４価のアル
コール残基に３個以上結合したポリウレタンを含有する
。

式（Ａ） （ＣＨ２＝　　ＣＲｔ　　Ｃ０Ｏ−Ｌ−Ｕ−０＋ＩＴｋ
八　モＯＨ）、。

上記式（Ａ）において、Ｒ１は水素原子もしくは低級ア
ルキル基例えばメチル基、エチル基等を表わす。

ＬｌおよびＲ２はそれぞれ２価の炭化水素基を表わし、
Ｌｌはアルキレン基（炭素数２〜８、好ましくは炭素数
２〜３：例えばエチレン基、１．２−プロピレン基、ト
リメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、
ヘプタメチレン基、オクタメチレン基等）を表わし、Ｒ
２は２価の脂肪族、脂環式もしくは芳香族の炭化水素基
（炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１５：例えば
Ｌｌのところで、列挙したようなアルキレン基０−０−
１ｐ−１フエニレン基、１．２−１１，３−１１，４−
シクロヘキシレン基、 ひＣＨ２べ３ ソー２ を表わす。］を表わす。

Ｕは、下記式（Ａ−１）で示されるようなアジピン酸単
位を含むポリエーテルポリエステルポリウレタンと、下
記式（Ａ−２）で示されるようなビスフェノールＡ単位
を含むポリエーテルポリウレタンとを含む２価のポリウ
レタン残基な表わす。

式（Ａ−１） 式（Ａ−２） 上記式（Ａ−１）において、Ｒ２は式（Ａ）におけるも
のと同義である。　Ｒ３はアルキレン基（炭素数２〜４
：例えばエチレン基、１゜２−プロピレン基、トリメチ
レン基、テトラメチレン基、１．２−ブチレン基、１，
３−ブチレン基、２．３−ブチレン基等）を表わす。

１は１〜３０の整数を表わす。

上記式（Ａ−２）において、Ｒ２は式（Ａ）におけるも
のと同義である。　　Ｒ６およびＲ７はそれぞれアルキ
レン基（炭素数２〜３：例えばエチレン基、１．２−プ
ロピレン基、トリメチレン基等）を表わす。　ｑおよび
ｒはそれぞれ１〜２０の整数を表わす。

さらに本発明においては、Ｕで表わされる２価のポリウ
レタン残基には、下記式（Ａ−３）で示されるようなス
ルホイソフタル酸単位を含むポリエーテルポリエステル
ポリウレタンが含まれていてもよく、下記式（Ａ−４）
で示されるようなポリエーテルポリウレタンおよび／ま
たは下記式（Ａ−５）で示されるようなアクリロイル基
もしくはメタアクリロイル基を有するポリエーテルポリ
ウレタンが含まれていてもよい。

式（Ａ−３） 式（Ａ−４） 式（Ａ−５） 上記式（Ａ−３）において、Ｒ２は式（Ａ）におけるも
のと同義である。　Ｒ４は式（Ａ−１）におけるものと
同義である。　ｍおよびｎは、それぞれ１〜３０の整数
を表わし、０は１〜５の整数を表わす。　Ｍはアルカリ
金属（例えばＮａ、に、Ｒｂ等）を表わす。

上記式（Ａ−４）において、Ｒ２は式（Ａ）におけるも
のと同義であり、Ｒ４およびｍは式（Ａ−１）における
ものと同義である。

上記式（Ａ−５）において、Ｒ２は式（Ａ）におけるも
のと同義である。、　Ｒ５はド記に示すような酸素を含
む２価の基を表わす。

（ここでＲ３はＨまたはＣＨ３基を表わし、ｐは１〜２
０の整数を表わす。） し１３ （ここで、ＸおよびＮ′は、エチレン基同士の組合わせ
、または１．２−プロピレン基（この場合、ＸとＮ′は
互いに別個に ってよい。）同士の組合せを表わす。〕式（Ａ）におい
て、Ａは４価のアルコール残基を表わす。

例えばペンタエリストール残基、 やＮ、Ｎ、Ｎ′、Ｎ′−テトラヒドロキシプロピルエチ
レンジアミン残基、 やジグリセリンのポリオキシプロピレン付加物の残基、 （ｎ：正の整数）等が挙げられる。

ｋはＯまたは１を表わず。

本発明のポリウレタンの合成法について示す。

ます、式（Ａ−１）におけるアジピン酸単位を含む下記
式（１）で表わされるジオール化合物、 〔ここで、Ｒ３および１は式（Ａ−１）におけるものと
同義である。〕 と式（Ａ−２）におけるビスフェノールＡ単位を含む下
記式（２）で表わされる化合物、し「１３ ・・・・・・・・・（２） 〔ここで、Ｌ、、Ｌ、、ｑおよびｒは式（Ａ−２）にお
けるものと同義である。〕 さらに式（Ａ）におけるＵで表わされる２価のポリウレ
タン残基に式（Ａ−３）、式（Ａ−４）および式（Ａ−
５）で示されるような単位を含む場合は、それぞれ下記
式（３）、（４）、（５）で表わされる化合物、 ・・・・・・・・・（３） 〔ここで、Ｒ４，ｍ、ｎおよびＭは式（Ａ−３）におけ
るものと同義である。〕 ＨＯ（−Ｒ４０チｒＨ・・・・・・・・・（４）〔ここ
で、Ｒ４およびｍは式（Ａ−４）におけるものと同義で
ある。〕 〔ここで、Ｒ５およびＲ２は式（Ａ−５）におけるもの
と同義である。〕 を過剰のジイソシアネート（ＯＣＮ−Ｒ２−ＮＣＯ（こ
こでＲ２は式（Ａ）におけるものと同義である。１）と
反応させ、ウレタン結合を含み、分子末端にイソシアネ
ート基を有するポリマーを得る。

次に上記のようにして得たポリマーに、約１／２当量の 〔ここで、Ｒ，およびＬｌは式（Ａ）におけるものと同
義である。〕を反応させ、分子末端に（メタ）アクリロ
イル含有炭化水素基がウレタン結合を介在させて結合し
たポリマーを得る。

そして、このようにして得られたポリマーに４価のアル
コール 上記の各反応工程においては、適宜、触媒を用いて、反
応を促進させることができる。　また、反応条件等につ
いては、反応させる化合物等に応じて設定することがで
きる。

本発明におけるポリウレタンの数平均分子量は約１万〜
１０万の範囲にあることが好ましい。

スルホイソフタル酸単位を含む場合ポリエーテルポリエ
ステルポリウレタン成分〔式（Ａ−３）〕のポリマー全
体に占める割合は、０．０５〜９０胃１１　、特に０．
１〜７０ｗｔ９６であることが好ましい。

（メタ〉アクリロイル基を有するポリエーテルポリウレ
タン成分〔式（Ａ−５））を含む場合の割合は、９５ｗ
ｔ！ｊｉ以下、特に９０ｗｔ１以下であることが好まし
い。

ポリエーテルポリウレタン成分〔式（Ａ−４）〕を含む
場合、これとアジピン酸単位を含むポリエーテルポリエ
ステルポリウレタン成分〔式（Ａ−１））とビスフェノ
ールＡ単位を含むポリエーテルポリウレタン成分（式（
Ａ−２）〕の合計量の割合は、４．９５〜９９．５ｗｔ
％であることが好ましく、この範囲内で任意の割合をと
ることができる。

また、本発明においてポリマー中に含まれる一５０３Ｍ
の含有率の範囲は、１．０ＸｊＯ−’〜１．３ＸｌＯ−
３当量／ｇ、特に２Ｘ１０−７〜１．０Ｘ１０−３当量
／ｇであることが好ましい。

以下に合成例を示すが、本発明におけるポリウレタンは
これに限定されるものではない。

倉」し例」工 ５−ナトリウムスルホ−イソフタル酸ジメチルエステル
７４ｇ、ポリエチレングリコール（■Ｔ４００）４００
ｇ、酢酸ナトリウム１．０ｇを加え、１３０℃で６時間
反応させた。　この反応生成物には下記の構造式で示さ
れる化合物と未反応のポリエチレングリコールとが含ま
れていた。　この反応生成物（混合物）を化合物ａとす
る。

〔ここで、Ｌ′はポリエチレングリコール（ＴＴ４００
　）のＯＨ基を除いた残基である。〕 ４．４′　−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート
１６７．４ｇ、ジブチルスズジラウレート０．５ｇ、シ
クロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒５５０
ｇを加え、６０℃に加温し、その温度に保ちながら、ポ
リエステルジオール（ＭＷｌｏｏＯのポリブチレンアジ
ペート）１３９．４ｇ、ポリオキシエチレンビスフェノ
ールＡエーテル１１２．２ｇ、ビスフェノールＡアルキ
レンオキサイド誘導体のアクリル酸付加物（化合物すと
いう）３４．６ｇ、上記化合物ａ３５．４ｇ、シクロヘ
キサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒２５０ｇを均
一に混合したものを滴下し、滴下終了後、６０℃で４時
間反応させた。　これに、２−とドロキシエチルアクリ
レート６．７ｇを加え、さらに６０℃で２時間反応させ
た後、４価のアルコール性化合物４．３ｇを加え、６０
℃で４時間反応させ、ポリウレタン（Ｉ）を得た。

分子量　３．４×１０’ スルホン酸Ｎａ塩の含有量 ３．９×１０−５当量／ｇ Ｒ＋　　＝Ｈ，Ｌ＋　　＝　　　　（ＣＨ２）２　−１
Ｌ２−替ＣＨ２＠、 ｋ＝０　〜１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数２　、　４ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数５．６ 式（Ａ−３）で示される構成成分の存在個数０　、　６
９ 式（Ａ−４）で示される構成成分の存在個数１　、　０ 式（Ａ−５）で示される構成成分の存在個数０．３１ Ｌ３　＝　　（ＣＨ２）４−１ Ｌ、ｔ　＝−（ＣＨ２）　２−１ Ｌｓ　　＝Ｌ７　＝　　　（ＣＨ２）２　−１Ｒ２＝Ｈ
，Ｍ＝Ｎａ、　　、Ｑ＝４．　９、金Ｊｄ辻遣 ４．４′　−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート
１８７．３ｇ、ジブチルスズジラウレート０．５ｇ、シ
クロへキサノン５００ｇを加えて６０℃に加温した後、
この温度を保ちながら、ポリエステルジオール（ＷＴｔ
　ｏ　ｏ　ｏのポリブチレンアジペート）４９．５ｇ、
ポリオキシエチレンビスフェノールＡエーテル１５３．
７ｇ、合成例１の化合物ｂ６５．６ｇ、合成例１の化合
物ａ３３．５ｇをシクロへキサノン２５０ｇに溶解混合
したものを滴下し、滴下終了後、６０℃で４時間反応さ
せた。

９　　ζ これに、２−とドロキシエチルアクリレート６．４ｇを
加え、さらに６０℃で２時間反応させた後、４価のアル
コール性化合物４．０ｇを加え、６０℃で４時間反応さ
せ、ポリウレタン（ＩＩ　）を得た。

分子量　３．６Ｘ１０’ スルホン酸Ｎａ塩の含有量 ３．９Ｘ１０−５当量／ｇ Ｒ＋　＝Ｈ，Ｌｔ　＝　　（ＣＨ２）２−１Ｌ２＝＠Ｃ
Ｈ２＠、 ｋ＝０　〜１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数０　、　９ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数８．１ 式（Ａ−３）て示される構成成分の存在個数０　、　６
９ 式（Ａ−４）で示される構成成分の存在個数２　、　０ 式（Ａ−５）で示される構成成分の存在個数０　、　３
１ Ｌ３＝　　（ＣＨ２）４−１ Ｌ４＝　　（ＣＨ２）２−１ Ｌｓ　＝Ｌ７　＝　　（ＣＨ２）２−１Ｒ２＝　Ｈ、Ｍ
　＝　Ｎ　ａ　、ｋ＝４．９．１＝　１＝８．７、ｏ＝
１．１、 ｐ＝ｑ＝ｌ、３ １攻眉ユ ２．４−トルエンジイソシアネート８６．２ｇ、ジブチ
ルスズジラウレート０．５ｇ、シクロヘキサノンとメチ
ルエチルケトンの混合溶媒５５０ｇを加えて６０℃に加
温した後、この温度を保ちながら、ポリエステルジオー
ル（Ｗ［１０００のポリエチンアシペート）３６４．０
ｇ、ポリオキシエチレンビスフェノールＡエーテル１７
．４ｇ、合成例１の化合物ａ１７．４ｇ、シクロヘキサ
ノンとメチルエチルケトン混合溶媒２００ｇを均一に混
合したものを滴下し、滴下終了後、６０℃で４時間反応
させた。

これに、２−ヒドロキシエチルアクリレート４．７ｇを
加えてさらに６０℃で２時間反応させた後、４価のアル
コール性化合物３．０ｇを加え、６０℃で４時間反応さ
せ、ポリウレタン（ｍ）を得た。

分子量　４．９Ｘ　１０’ スルホン酸Ｎａ塩の含有量 ２．７×１０−５当量／ｇ Ｒ＋　＝Ｈ，Ｌ＋　＝　　（ＣＨ２）２−１に＝ｏ　　
〜　１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数９　、　０ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数１　、　３ 式（Ａ−３）で示される構成成分の存在個数０　、　６
９ 式（Ａ−５）で示される構成成分の存在個数０　、　３
１ Ｌ３＝１−４＝Ｌ６　＝Ｌ７　＝　　（ＣＨ２）２−１
Ｍ＝Ｎａ　、　　　、ｅ＝５．７． ５−ナトリウムスルホ−イソフタル酸ジメチルエステル
７８ｇ１ポリエチレングリコール（ＭＷ２００）４２２
ｇ、酢酸ナトリウム１．０ｇおよび酢酸亜鉛１、Ｏｇを
加え、１３０℃で６時間反応させた。　この反応生成物
には下記の構造式で示される化合物と未反応のポリエチ
レングリコールとが含まれていた。

この反応生成物（混合物）を化合物Ｃとする。

（ここで、Ｌ　″はポリエチレングリコール（ＷＴ２０
０　）の両末端ＯＨ基を除いた残基である。〕 ２．４−トルエンジイソシアネート１１４゜３ｇ、ジブ
チルスズジラウレート０．５ｇ、シクロヘキサノンとメ
チルエチルケトンの混合溶媒５５０ｇを加えて６０℃に
加温した後、この温度を保ちながら、ポリエステルジオ
ール（ｒ’ｒｌ　ＯＯＯのポリエチレンアジペート）２
６６．４ｇ、ポリオキシエチレンビスフエノールＡエー
テル７５．５ｇ、上記化合物Ｃ６，８ｇ、シクロヘキサ
ノンとメチルエチルケトンの混合溶媒２００ｇを均一に
混合したものを滴下し、滴下終了後、６０℃で４時間反
応させた。　これに２−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート２１．２ｇを加えて６０℃で２時間反応させた後、
４価のアルコール性化合物１８゜２ｇを加えて６０℃で
４時間反応させ、ポリウレタン（ｒＶ）を得た。

分子量　１．４Ｘ１０’ スルホン酸Ｎａ塩の含有量 ７．３Ｘ１０−６当量／ｇ Ｒｌ　＝　ＣＨ３、Ｌ　ｌ　＝　　ＣＨ２ｃ　（ＣＨ３
）−Ａ＝ニジクリセリンプロピレンオキサイド付加物（
ＭＷ５００）の末端ＯＨ基を除いた残基に＝ｏ　　〜　
１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数１　、　８ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数１　、　５ 式（Ａ−３）で示される構成成分の存在個数０　、　１
５ 式（Ａ−５）で示される構成成分の存在個数０、　　０
２６ Ｌ３＝Ｌ、＋　＝Ｌ６　＝Ｌ７　＝　　（ＣＨ２）２−
１Ｍ＝Ｎａ、Ｊ２＝５．７、 合成例５ インホロンジイソシアネート１３２．４ｇ、ジブチルス
ズジラウレート０．５ｇ、シクロヘキサノンとメチルエ
チルケトンの混合溶媒５００ｇを加えて６０℃に加温し
た後、この温度を保ちながら、ポリエステルジオール（
Ｗ１８Ｏ４９のポリエチレンアジペート）２７．７ｇ、
ポリオキシプロピレンビスフェノールＡエーテル２３７
．２ｇ、エチレングリコールジグリシジルエーテル誘導
体のメタクリル酸付加物（化合物ｄとする）５７．６ｇ
、合成例４の化合物ｃ４４．３ｇ、シクロヘキサノンと
メチルエチルケトンの混合溶媒２５０ｇを均一に混合し
たものを滴下し、滴下終了後、６０℃で４時間反応させ
た。

２−とドロキシエチルアクリレート６．４ｇを加えて、
さらに６０℃で２時間反応させた後、４価のアルコール
性化合物６．９ｇを加え６０℃で４時間反応させ、ポリ
ウレタン（Ｖ）を得た。

分子量　３．６×１０’ スルホン酸Ｎａ塩の含有量 ２．８Ｘ１０−５当叶／ｇ Ｒｒ　２：Ｈ、Ｌ　ｒ　＝（ＣＨ２）　２−しｒ′ｌ３ Ａ＝ニジグリセリンプロピレンオキサイド付加物（ＷＴ
５００　）の末端ＯＨ基を除いた残基に＝ｏ　　〜　１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数０　、　２
５ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数４　、　８ 式（Ａ−３）で示される構成成分の存在個数１　、　５ 式（Ａ−４）で示される構成成分の存在個数３　、　０ 式（Ａ−５）で示される構成成分の存在個数０　、　２
６ Ｌ３　＝Ｌ４　＝　　（ＣＨ２）ｚ−１Ｌ５＝　　（Ｃ
Ｈ２）２０−１ Ｌ、＝Ｌ７　＝−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−１Ｍ＝Ｎａ、
ｊｉ４＝１１．５ １＝　正＝４．１、ｏ＝１．０、 Ｐ”Ｑ”６ 　ｊ ５−ナトリウムスルホ−イソフタル酸ジメチルエステル
３５ｇ、ポリテトラメチレングリコール４６５ｇ、酢酸
亜鉛１．Ｏｇおよび酢酸ナトリウム１．０ｇを加えて１
３０℃で６時間反応させた。　この反応生成物には下記
の構造式で示される化合物と未反応のポリテトラメチレ
ングリコールとが含まれていた。　この反応生成物（混
合物）を化合物ｅとする。

〔ここで、Ｌ″′はポリテトラメチレングリコールの両
末＠ＯＨ基を除いた残基である。〕インホロンジイソシ
アネート１０５．９ｇ、ジブチルスズジラウレート０．
５ｇ、シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶
媒５００ｇを加えて６０℃に加温し、その温度に保ちな
から、ポリエステルジオール（ＷＴ１０００のポリブチ
レンアジペート）１１７゜９ｇ１ポリオキシエチレンビ
スフエノールＡエーテル１０６．１ｇ、上記化合物ｅ２
０６゜８ｇ、およびシクロヘキサノンとメチルエチルケ
トンの混合溶媒２５０ｇを均一に混合したものを滴下し
、滴下終了後、６０℃で４時間反応させた。　これに２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート５．８ｇを加えて
６０℃で２時間反応させた。　その後、４価のアルコー
ル性化合物６．２ｇを加えて６０℃で４時間反応させ、
ポリウレタン（Ｖｌ）を得た。

分子量　４．４Ｘ１０’ スルホン酸Ｎａ塩の含有量 ６．９Ｘ１０−５当量／ｇ Ｒｒ　＝Ｈ，ＬＩ＝　　（ＣＨ２）２−１Ａ＝ジグリセ
リンのプロピレンオキサイド付加物（ＷＴ５００　）の
末端ＯＨ基を除いた残基に＝ｏ　　〜　１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数２　、　４ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数２　、　４ 式（Ａ−３）で示される構成成分の存在個数３　、　２ 式（Ａ−５）で示される構成成分の存在個数０　、　５
７ Ｌ３＝Ｌ４＝　　（ＣＨ２）４−１ Ｌ　ａ　＝　Ｌ　７＝　　ＣＨ（ＣＨ３）　ＣＨ２−１
Ｍ＝Ｎａ、ｕ＝９．９、 アクリル酸１０５．９ｇとポリプロピレングリコール＃
４００シクリシジルエーテル３９４．１ｇとを加え、６
０℃で６時間反応させ、下記の化合物ｆを得た。

化合物ｆ ４．４′　−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート
１２１．４ｇ、ジブチルスズジラウレート０．５ｇ、お
よびシクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒
５５０ｇを加えて６０℃に加温し、この温度を保ちなが
ら、ポリエステルジオール（ＷＴｌ　０００のポリエチ
レンアジペート）６１．０ｇ、上記化合物ｆ４９．８ｇ
、合成例６の化合物ｅ１００．７ｇ、ポリオキシプロピ
レンビスフェノールＡエーテル１６４．６ｇ、およびシ
クロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒２００
ｇを均一に混合したものを滴下し、滴下終了後、６０℃
で４時間反応させた。　これに、２−ヒドロキシプロピ
ルメタアクリレート３．５ｇを加え、さらに６０℃で２
時間反応させた後、４価のアルコール性化合物１．８ｇ
を加えて６０℃で４時間反応させ、ポリウレタン（■）
を得た。

分子量　８．２ｘ　１０’ スルホン酸Ｎａ塩の含有量 ４．９Ｘ１０−”当量／ｇ Ｒ，＝ＣＨ３、 Ｌｌ　＝　　ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）−１ Ｌ２−＠ＣＨ２＠、 Ａ＝Ｏ〜　１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数２　、　５ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数７　、　５ 式（Ａ−３）で示される構成成分の存在個数４　、　２ 式（Ａ−４）で示される構成成分の存在個数３　、　０ 式（Ａ−５）で示される構成成分の存在個数０　、　７
６ ｔ、３＝−（ＣＨ２）２−１ Ｌ４　＝　　（ＣＨ２）４−１ Ｌ５＝千Ｃ８２０Ｈ（ＣＨ３）０　＋、−Ｃ１１２ＣＨ
（ＣＨ３）０−Ｌｓ　＝Ｌ、＝−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２
−１Ｍ＝Ｎａ、　ｆｌ＝５．７、 合成例８ ２．４−トルエンジイソシアネート１１４゜６ｇ、ジブ
チルラウレート０．５ｇ、シクロヘキサノンとメチルエ
チルケトンの混合溶媒５００ｇを加えて６０℃に加温し
た後、この温度を保ちながら、ポリエステルジオール（
ｖＶｖｒｌｏｏｏのポリエチレンアジペート）２５６゜
２ｇ１ポリオキシエチレンビスフェノールＡエーテル８
９．７ｇ、シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混
合溶媒２５０ｇを均一に混合したものを滴下し、滴下終
了後、６０℃で４時間反応させた。　これに２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート２１．２ｇを加えて６０℃
で２時間反応させた後、４価のアルコール性化合物１８
．３ｇを加えて６０℃で４時間反応させ、ポリウレタン
（■）を得た。

分子量　１．４Ｘ１０’ Ｒ，＝ＣＨ，、 Ｌｒ　＝　　ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−１Ａ−ジグリセリ
ンのプロピレンオキサイド付加物（ＷＴ５００　）の末
端ＯＨ基を除いた残基に＝０〜１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数１　、　７
５ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数１　、　７
５ Ｌ３　＝　　（ＣＨ２）　２−１ Ｌ６　＝Ｌ７　＝−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−１党＝５．
７、Ｙ＝〒＝１．３ １皮負ユ ４．４′　−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート
１６８．１ｇ、ジブチルスズジラウレート０．５ｇ、シ
クロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒５５０
ｇを加えて６０℃に加温した後、この温度を保ちながら
、ポリエステルジオール（ｒｒｌｏｏｏのポリブチレン
アジペート）１５７．５ｇ、ポリオキシエチレンビスフ
ェノールＡエーテル１２８．６ｇ、合成例１の化合物ｂ
３４．８ｇ、シクロヘキサノンとメチルエチルケトン混
合溶媒２５０ｇを均一に混合したものを滴下し、滴下終
了後、６０℃で４時間反応させた。　これに、２−ヒド
ロキシエチルアクリレート６．８ｇを加えて　　ｌ さらに６０℃で２時間反応させた後、４価のアルコール
性化合物４．３ｇを加え、６０℃で４時間反応させ、ポ
リウレタン（ＩＸ）を得た。

分子量　３．４×１０’ Ｒ，＝Ｈ，Ｌ、＝−（ＣＨ２）２−１ Ｌ２＝＠ＣＨ２Ｇ、 ｋ＝Ｏ〜　１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数２　、　７ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数６．３ 式（Ａ−４）で示される構成成分の存在個数１　、　　
Ｏ Ｌｓ　＝（ＣＨ２）　、＋−１ （ＸおよびＸ′はそれぞれ個々に −Ｃ，１１２−ＣＩＩ　（ＣＨ３）−もしくは−ＣＨ（
１３）（：）Ｉ２−を表わす。） ＬＢ＝Ｌ７−　（ＣＨ２）２−１Ｒ２＝Ｈ１ｕ＝４．９
、 ｐ＝ｑ＝１．３ 主皮貫↓Ｊ ４．４′　−ジシクロへキシルメタンジイソシアネート
１９０．７ｇ、ジブチルスズジラウレート０．５ｇ、シ
クロへキサノン５００ｇを加えて６０℃に加温した後、
この温度を保ちながら、ポリエステルジオール（’ｒｗ
−ｉ　ｏ　ｏ　ｏのブチレンアジペート）４８．５ｇ、
ポリオキシエチレンビスフェノールＡエーテル１５２．
８ｇ、ポリエチレングリコール２４．３ｇ、合成例１の
化合物ｂ７２．３ｇ、シクロへキサノン２５０ｇを均一
に混合したものを滴下し、滴下終了後、６０℃で４時間
反応させた。　こ　れに、２−ヒドロキシエチルアクリ
レート７、　０ｇを加えてさらに６０℃で２時間反応さ
せた後、４価のアルコール性化合物４．５ｇを加え、６
０℃で４時間反応させ、ポリウレタン（Ｘ）を得た。

分子量　３．３Ｘ１０’ Ｒｒ　＝Ｈ，Ｌ＋　＝　　（ＣＨ２）２−１Ｌ２＝＠Ｃ
Ｈ２替、 ｋ＝ｏ〜１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数０　、　８ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数７　、　２ 式（Ａ−３）で示される構成成分の存在個数１　、　０ 式（Ａ−４）で示される構成成分の存在個数２　、　　
Ｏ Ｌ３　＝　　（ＣＨ２）　４−１ Ｌ４＝重合体（■）（合成例９）の場合に同じＬｓ　＝
　Ｌｓ　＝　Ｌｔ　＝　　（ＣＩ（２）　２−１Ｒ２＝
Ｈ，１＝４．９、 ｍ＝８．７、ｐ＝ｑ＝ｌ、３ 金」良潜Ｌ１】工 ２．４−トルエンジイソシアネート９９．５ｇ１ジブチ
ルスズジラウレート０．５ｇ、シクロヘキサノンとメチ
ルエチルケトンの混合溶媒５５０ｇを加えて６０℃に加
温した後、この温度を保ちながら、ポリエステルジオー
ル（′Ｗｖｒ１０００のポリエチレンアジペート）２５
４゜０ｇ１ポリオキシエチレンビスフエノールＡエーテ
ル３８．１ｇ、ポリテトラメチレングリコール２１．４
ｇ、シクロヘキサノンとメチルエチルケトン混合溶媒２
００ｇを均一に混合したものを滴下し、滴下終了後、６
０℃で４時間反応させた。　これに、２−ヒドロキシエ
チルアクリレート５．１ｇを加えてさらに６０℃で２時
間反応させた後、４価のアルコール性化合物３．２ｇを
加え、６０℃で４時間反応させ、ポリウレタン（ＸＩ）
を得た。

分子量　４．６Ｘ　１０’ Ｒｒ　＝Ｈ，Ｌ＋　＝　　（ＣＨ２）２−１ｋ＝０　〜
１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数５　、８ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数２　、　５ 式（Ａ−３）で示される構成成分の存在個数０　、　７
５ 式（Ａ−４）で示される構成成分の存在個数３　、　　
Ｏ Ｌｓ　＝　Ｌ６＝Ｌ７　＝　　（ＣＨ２）　２−１Ｌ４
−重合体（ＩＸ）の場合に同じ、 Ｌｓ　＝　（ＣＨ２）４−１ Ｒ２＝Ｈ，ｕ＝５．７、 ｍ＝３．８、ｐ＝ｑ＝ｉ、３ １皮■ユニ ２．４−トルエンジイソシアネート７５．１ｇ１ジブチ
ルスズジラウレート０．５ｇ、シクロヘキサノンとメチ
ルエチルケトンの混合溶媒５００ｇを加えて６０℃に加
温した後、この温度を保ちながら、ポリエステルジオー
ル（Ｗ１８Ｏ４９のポリエチレンアジペート）１４５゜
４ｇ、ポリオキシエチレンビスフェノールＡエーテル２
６１．７ｇ、合成例５の化合物ｄ７．９ｇ、シクロヘキ
サノンとメチルエチルケトン混合溶媒２５０ｇを均一に
混合したものを滴下し、滴下終了後、６０℃で４時間反
応させた。　これに、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト６．６ｇを加えてさらに６０℃で２時間反応させた後
、４価のアルコール性化合物３．３ｇを加え、６０℃で
４時間反応させ、ポリウレタン（Ｘ［Ｉ）を得た。

分子量　４．４×１０’ Ｒ，＝ＣＨ３、 Ｌ　１＝　　ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−１ｋ＝ｏ　　〜　
１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数１　、　６ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数６　、　４ 式（Ａ−３）で示される構成成分の存在個数０　、　５ Ｌ３＝　　（ＣＨ２）２−１ Ｌ　４＝　　ＣＨ２ＣＨ２０−１ Ｌａ　　＝　Ｌ７　　＝　　　ＣＨ（ＣＨ３）　　　Ｃ
Ｈ２−１Ｒ２＝　ＣＨ３、Ｒ，＝　　１　１　　、　５
　、〒−一「＝６ 合成例１３ イソホロンジイソシアネート８８．４ｇ、ジブチルスズ
ジラウレート０．５ｇ、シクロヘキサノンとメチルエチ
ルケトンの混合溶媒５００ｇを加えて６０℃に加温した
後、この温度を保ちながら、ポリエステルジオールＪ　
２０００のポリブチレンアジペート）２０７．７ｇ５ポ
リオキシエチレンビスフエノールＡエーテル１４０．２
ｇ、合成例７の化合物ｆ４７゜１ｇ、シクロヘキサノン
とメチルエチルケトン混合溶媒２５０ｇを均一に混合し
たものを滴下し、滴下終了後、６０℃で４時間反応させ
た。

これに、２−ヒドロキシエチルアクリレート８．０ｇを
加えてさらに６０℃で２時間反応させた後、４価のアル
コール性化合物８．７ｇを加え、６０℃で４時間反応さ
せ、ポリウレタン（層）を得た。

分子量　２．９Ｘ１０’ Ｒ１＝　ＣＨ３、 Ｌ、−（ＣＨ２）２−１ Ａ−ジグリセリンのプロピレンオキサイド付加物（ＷＦ
２００　）の末端ＯＨ基を除いた残基、ｋ＝ｏ　　〜　
１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数１　、　５ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数２　、　２
５ 式（Ａ−４）で示される構成成分の存在個数１　、　０ Ｌ３＝　　（ＣＨ２）２−１ Ｌ６　＝　Ｌ７　　＝　　　ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−１
Ｒ２＝Ｈ，１−ｔ　　１．　５　、 Ｐ　−Ｑ　−６ 合成例１４ ４．４′　−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート
１２２．０ｇ、ジブチルスズジラウレート０．５ｇ、シ
クロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒５５０
ｇを加えて６０℃に加温した後、この温度を保ちながら
、ポリエステルジオール（’ｒｌＶ−１０００のポリエ
チレンアジペート）１８４．９ｇ、ポリオキシエチレン
ビスフェノールＡエーテル１３３．１ｇ、合成例７の化
合物ｆ４６．６ｇ、ポリエチレングリコール７．４ｇ、
シクロヘキサノンとメチルエチルケトン混合溶媒２００
ｇを均一に混合したものを滴下し、滴下終了後、６０℃
で４時間反応させた。　これに、２−ヒドロキシプロピ
ルメタアクリレート４．０ｇを加えてさらに６０℃で２
時間反応させた後、４価のアルコール性化合物２．０１
ｇを加え、６０℃で４時間反応させ、ポリウレタン（Ｘ
ＩＶ）を得た。

分子量　７．３Ｘ１０’ Ｒ，＝ＣＨ３、 Ｌ、＝−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−１ Ｌ２＝替ＣＨ２替、 ｋ＝ｏ〜１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数６　、　７
５ 式（Ａ−２）で示される構成成分の存在個数５　、　４ 式（Ａ−３）で示される構成成分の存在個数１　、　３
５ 式（Ａ−４）で示される構成成分の存在個数２　、　５ Ｌ３　＝　Ｌｓ　−（ＣＨ２）　２−１Ｌ６−　Ｌ７−
−　ＣＨ（ＣＨ３）　ＣＨ２−１Ｒ２＝Ｈ，ｕ＝５．　
７　、 元−＝４．　１　、下−＝「＝６ 比」た論コ支１ト１ インホロンジイソシアネート５７．２ｇ、ジブチルスズ
ジラウレート０．５ｇ、およびシクロヘキサノンとメチ
ルエチルケトンの混合溶媒５００ｇを加えて６０℃に加
温し、この温度に保ちながら、ポリエステルジオール（
ＷＴ２０００のポリブチレンアジペート）４３２．９ｇ
、シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒２
５０ｇを均一に混合したものを滴下し、滴下終了後、６
０℃で４時間反応させた。

これに２−ヒドロキシエチルアクリレート４．８ｇを加
えてさらに６０℃で２時間反応させた後、４価のアルコ
ール性化合物４．６ｇを加えて６０℃で４時間反応させ
、ポリウレタン（ＸＶ）を得た。

分子量　　　　　４．９Ｘ１０” スルホン酸Ｎａ塩の含有量０当量／ｇ。

Ｒ１＝Ｈ，Ｌｌ　＝−（ＣＨ２）２−１ｋ＝Ｏ〜　１ 式（Ａ−１）で示される構成成分の存在個数５　、　２
５ Ｌ３　＝　−（ＣＨ２）４−１ｕ＝９．９几１し叙誠Ｊ
組ス 合成例１において、４価のアルコール性化合物のかわり
に２価のアルコール性化合物を加え、合成例１のポリウ
レタン（Ｉ）に対応する線型のポリウレタン（ＸＶＩ）
を得た。

これらの化合物の同定は、ＩＲ，ＮＭＲ等によった。

本発明における磁性塗料は、アクリロイル基もしくはメ
タアクリロイル基を有する塩化ビニル系共重合体を含有
する。　このような塩化ビニル系共重合体は酸基が１×
１０−６〜１×１０−３当量／ｇ、好ましくは１×１０
−５〜ｌＸ１０−３当量／ｇ含まれるものである。　酸
基の含有量をこのようにするのは、１×１０−６当量／
ｇ未満では磁性粉との十分な分散性が得られないからで
あり、また、Ｉ　Ｘ　１０−３当量／ｇをこえると磁性
粉との分散性は飽和し、他のウレタン樹脂との相溶性か
損なわれる等の不都合が生じるからである。

酸基としては、カルホン酸基、スルホン酸基、硫酸基、
リン酸基、ホスホン酸基、またはそれらの塩が挙げられ
る。

塩を形成する場合の対イオンとしては、Ｎａ”、Ｋ”、
Ｌｉ＋等のアルカリ金属元素等の陽イオンや、アンモニ
ウムイオン等のオニウムイオン等が挙げられる。

塩化ビニル系共重合体は、公知の種々のものであってよ
いが、塩化ビニル−酢酸とニル−マレイン酸共重合体、
塩化ビニル−ビニルアルコール−マレイン酸共重合体、
塩化ビニル−ヒドロキシ（メタ）アクリレート−マレイ
ン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−スチレンスル
ホン酸ナトリウム−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
グリシジル（メタ）アクリレート−酢酸ビニル−スチレ
ンスルホン酸ナトリウム共重合体、塩化ビニル−塩化ビ
ニリデン−ビニルアルコール共重合体等が挙げられる。

この中でも、共重合体に占める塩化ビニルの割合が６０
モル％以上のものがよく、好ましくは６０〜９５モル％
であればよい。

６０モル％未満では、分散性が悪くなり、９５モル％を
こえると溶解性が悪くなるからである。

塩化ビニル系共重合体の合成例について示す。

合成例１゜ トリレンジイソシアネート１７４ｇを６０℃に加熱、攪
拌し、２ヒドロキシアクリレイト１５１ｇをゆっくり滴
下し、さらに６０℃で２時間反応させ、下記の化合物ｅ
を得た。

化合物ｅ 次に平均重合度３４０の塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール−マレイン酸共重合体（下記式でｘ：ｙ：
ｚ：　（ｗ＋ｖ）＝８８：５：６：ｌ’） ７５０ｇをメチルエチルケトン２２５０ｇに溶解し、ジ
ブチルスズジラウレート５０ｇ、上記の化合物ｅ５０ｇ
を加え６０℃で３時間反応させ塩化ビニル系共重合体Ａ
−１を得た。　平均分子量３１００、カルボキシル基含
有量８．５ＸＩＯ−５当量／ｇ。

合成例２゜ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール−マレイン
酸共重合体を平均重合度５００、ｘ：ｙ：ｚ：　　（ｗ
＋ｖ）＝９０：４：５：０．１に変えた以外は合成例１
と同様に操作して塩化ビニル系共重合体Ａ−２を得た。

　平均分子量５００００、カルボキシル基含有量８×１
０−６当量／ｇ。

合成例３゜ 平均重合度２６０の塩化ビニル−グリシジルメチクリレ
ートスチレンスルホン酸ナトリウム共重合体（下記式で
ｘ＋ｕ：５＝８０：３：０．５）７００ｇ。

ｒ）Ｉ− ２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸５
０ｇ、ハイドロキノンモノエチルエーテル０．０７ｇと
を１５００ｇのジメチルホルムアミドに溶解し、６０℃
で３時間攪拌混合した後、大量の水中へ反応液を滴下し
、樹脂を回収した後、水により洗浄、乾燥して、塩化ビ
ニル系共重合体Ｂを得た。　平均分子量２００００、ス
ルホン酸含有量５Ｘ１０−５当量／ｇ。

比較例 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体を
平均重合度５００、）ｃ：ｙ：ｚ：（ｗ＋ｖ）＝８６．
５：　１　：１２．５：０に変えた以外は合成例１と同
様に操作して塩化ビニル系共重合体Ｃを得た。　平均分
子量５００００　。

上記のような塩化ビニル共重合体の数平均分子量は１０
０００〜１０００００である。

本発明において、ポリウレタンと塩化ビニル系共重合体
との配合比率は重量比で５１５以下、好ましくは４／６
以下とするのがよい。

このような配合比率とするのは、ポリウレタン量を５７
５をこえる値にするとバインダーの軟化温度が低下し、
常温における力学的損失係数ｔａｎδが増大し、媒体と
しての耐久性がかえって悪化するからである。

なお、ポリウレタンの重量比の下限は１／９とするのが
よい。　１／９未満となると、破壊強度が小さくなり、
塗膜がもろくなる。

この他に本発明の磁性塗料には、バインダ成分として、
前述のポリウレタンおよび塩化ビニル共重合体の他に、
オリゴマーや千ツマ−を含有させてもよい。

オリゴマー、千ツマ−として本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、１．６−ヘキサングリコールジアク
リレート、１，６−ヘキサングリコールジアクリレート
、Ｎ−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート（メタクリレート）、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート（メタクリレート）、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレー
ト（アロニツクスＭ−７１００、Ｍ−５４００，５５０
０，５７００等、東亜合成）、ウレタンエラストマーに
ッポンラン４０４０）のアクリル変性体、あるいはこれ
らのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入されたもの、トリ
メチロールプロパンジアクリレート（メタクリレート）
フェノールエチレノキシド付加物のアクリレート（メタ
クリレート）、下記一般式で示されるペンタエリスリト
ール縮合環にアクリル基（メタクリル基）またはεカプ
ロラクトン−アクリル基のついた化合物、式中、ｍ＝１
、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペンタエリスリ
トール縮合物Ａという）、 ｍ＝１、ａ−＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１、ａ＝６、ｂ
＝ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物
Ｃという）、ｍ　＝　２、ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以
下、特殊ペンタエリスリトール縮合物りという）、およ
び下記式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げ
られる。

１　）　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＯＨ２）　３−ＣＣＨ２
０Ｈ（特殊アクリレートＡ） ２）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＯＨ２）３−ＣＣＨ２Ｃ
Ｈ３（特殊アクリレートＢ） ３）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ０（ＯＣ３Ｈ８）ｎ　−０
ＣＨ２）３−ＣＣ）１２　ＣＨ３（特殊アクリレートＣ
） （特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝ＣＨ２ （特殊アクリレートＦ） （ｎ中１６）　　　　　　　　　（特殊アクリレートＧ
）８）　　ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４
−ＣＯＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） 覗 ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝ＣＨ２ （特殊アクリレートＩ） （特殊アクリレ−）Ｊ） Ａニアクリル酸　　　Ｘ：多価アルコールＹ：多塩基酸
　　　　　（特殊アクリレートに）１２）　　　　Ａ（
−Ｍ−Ｎ−）、Ｍ−ＡＡニアクリル酸　　　Ｍ：２価ア
ルコールＮ：２塩基酸　　　　　（特殊アクリレートし
）６　に のようなオリゴマーやモノマーの配合比率はポリウレタ
ンと塩化ビニル系共重合体の合計量に対して重量比で５
０％以下、好ましくは、２０％以下とするのがよい。

本発明における磁性塗料は磁性粉を含有する。

このような磁性粉としては、金属磁性粒子、あるいはコ
バルト被着酸化鉄粒子、さらにはγ−Ｆｅ２０３粒子、
バリウムフェライト粒子、ＣｒＯ２等が挙げられる。

本発明に用いる金属磁性粒子は、 １　）　ａ　−Ｆ　ｅ　ＯＯＨ（Ｇｏｅｔｈｉｔｅ）。

β−Ｆ　ｅ　ＯＯＨ（ＡｋａｇａｎｉＬｅ）、ｙ　−Ｆ
　ｅ　ＯＯＨ（Ｌｅｐｉｄｏｃｒｏｃｉｔｅ）等のオキ
シ水酸化鉄や；α−Ｆ　Ｃ２０３、ｙ　−Ｆ　Ｃ２０３
。

Ｆｅ３０４　、Ｙ−Ｆｅ２０３−Ｆｅ３０４　　（固溶
体）等の酸化鉄や： Ｃｏ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｂｉ、Ａｇ等の金属の１つま
たは２つ以上がドープされ、その表面にアルミニウム化
合物またはケイ素化合物を吸着、被着したものを、還元
性ガス気流中で加熱還元して、鉄または鉄を主成分とす
る磁性粉末を製造する方法、 ２）金属塩水溶液よりＮａＢＨ４により液相還元して作
製する方法、 ３）あるいは低圧力の不活性ガス雰囲気中で金属を蒸発
させて作成する方法等により得られる。

金属磁性粒子の組成としては、Ｆｅ、Ｃｏ。

Ｎｉの単体および、これらの合金、またはこれらの単体
および合金に、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ。

Ｎｉ、さらにはＺｎ、Ｃｕ、Ｚｒ、Ａｌ。

Ｔｉ、Ｂｉ、Ａｇ、Ｐｔ等を添加した金属が使用できる
。

また、これらの金属にＢ、Ｃ，Ｓｉ、Ｐ、Ｎなどの非金
属元素を少量添加したものでも本発明の効果は失われな
い。

あるいは、Ｆｅ４Ｎ等、一部室化された金属磁性粒子で
あってもよい。

さらに、金属磁性粒子は、粒子表面に酸化被膜を有する
ものであってもよい。

このような酸化被膜をもつ金属磁性粒子を用いた磁気記
録媒体は、温度湿度等の外部環境による磁束密度の低下
、磁性層のサビの発生による特性劣化に有利であるが、
磁性層の電気抵抗が上昇し、使用時の帯電によるトラブ
ルを生じやすい。

金属磁性粒子は針状形態あるいは粒状形態のものを使用
し、磁気記録媒体として用いる用途によって選択される
。　磁気ディスクに使用する場合は針状形態のものが好
ましい。

また、γ−Ｆｅ２０３粒子としては、α−Ｆ　ｅ　ＯＯ
Ｈ（ｇｏｅｔｈｉｔｅ）を４００℃以上で脱水してａ−
Ｆｅ２０３とし、Ｈ２ガス中で３５０℃以上で還元して
Ｆｅ３Ｏ４とし、さらに２５０℃以下で酸化して作製し
たものを用いればよい。

コバルト被着酸化鉄粒子としては、γ−Ｆｅ２０３粒子
の表面から数１０λ以内のごく薄い層にＣｏ２÷を拡散
させたものを用いればよい。

バリウムフェライトとしては、Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１２０
１９等の六方晶バリウムフェライトやバリウムフェライ
トのＢａ、Ｆｅの一部をＣａ％Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ
、Ｔｉ、Ｃｒ％Ｚｎ％　Ｉ　ｎ。

Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｓｎその他の金属で置
換したもの等が揚げられる。

バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、カラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい。　これらの方
法の詳細については小泡前原、久保修共著“セラミック
ス１Ｂ　（１９８３）Ｎｏ、１０”などを参照すること
ができる。

以上の磁性粉は針状形態、粒状形態あるいは多面体状の
ものを使用し、磁気記録媒体として用いる用途によって
選択される。

このような磁性粉は、通常バインダ１００重量部に対し
２００〜８００重量部含有される。

本発明における磁性塗料には、必要に応じて、溶剤、無
機顔料、分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等を含有させても
よい。

溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル
類、メタノール、エタノール、インプロパツール、ブタ
ノール等のアルコール類、トルエン、キシレン、エチル
ベンゼン等の芳香族炭化水素類、イソプロピルエーテル
、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類、テトラ
ヒドロフラン、フルフラール等のフラン類等を単一溶剤
またはこれらの混合溶剤として用いる。

これらの溶剤はバインダ成分に対して １０〜１００００ｗｔ％、特に１００〜５０００ｗｔ％
の割合で用いる。

無機顔料としては、１）導電性のあるカーホンブラック
、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、ま
た２）無機充填剤としてＳ　ｉ　０２　、ＴｉＯ２、Ａ
ｕ２０３　、Ｃｒ２Ｏ３、Ｓ　ｉ　Ｃ，Ｃａｂ、ＣａＣ
Ｏ３、酸化亜鉛、ゲーサイト、γ−Ｆｅ２Ｏ３、タルク
、カオリン、ＣａＳＯ４、窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫
化モリブデン、ＺｎＳ等がある。　またこの他、次のよ
うな微粒子顔料（エアロジルタイプ、コロイタルタイプ
）：５ｉ０２、ＡＪ１２０３　、Ｔｉ　０２　、ＺｒＯ
２、 Ｃｒ２０３　、Ｙ２０３　、　Ｃｅ　０２、Ｆｅ３０４
　、Ｆｅ２０３　、ＺｒＳｉＯ４、Ｓ　ｂ２０５．５ｎ
０２等も用いられる。　これら微粒子顔料は、例えば５
ｉ０２の場合、■無水硅酸の超微粒子コロイド溶液（ス
ノーテックス、水系、メタノールシリカゾル等、日産化
学）、■特製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超
微粒子状無水シリカ（標準品１００人）（アエロジル、
日本アエロジル株式会社）などが挙げられる。　また、
前記■の超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法
で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸
化チタンおよび前述の微粒子顔料が使用され得る。　こ
の様な無機顔料の使用量は１）に関してはバインダー１
００重量部に対して１〜３０重量部、また２）に関して
は１〜３０重量部が適当であり、これらがあまり多くな
ると、塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多
くなるという欠点がある。

また、無機顔料の径については１）に関しては０．１μ
ｌ以下、さらには０．０５μ重以下が好ましく、２）に
関しては０．７μｍ以下、さらには０．５μＩ以下が好
ましい。

分散剤としては有機チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニン
などの天然界面活性剤：アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤：
高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリ
ジンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウ
ム類などのカチオン界面活性剤：カルボン酸、スルホン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基
を含むアニオン界面活性剤ニアミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル等
の両性活性剤などが使用される。

潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る潤滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および／ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。

脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、バルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣＯ
ＯＨ５Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪
酸エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂
肪酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂
肪酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪酸と
脂肪酸の炭素数と合計して、炭素数が２１〜２３個より
なる一価のアルコールとからなる脂肪酸エステル等が使
用され、また前記脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ
土類金属からなる金属石鹸、レシチン等が使用される。

シリコーンとしては、詣肋酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。　アルコールと
しては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電
解置換、テロメリゼーション、オリゴメリセーション等
によって得られるものが使用される。

帯電防止剤としては、 サポニンなどの天然界面活性剤： アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール
系などのノニオン界面活性剤；高級アルキルアミン類、
第４級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環類、
ホスホニウムまたはスルホニウム類などのカチオン界面
活性剤： カルボン酸、スルホン酸、リン酸、硫酸エステル基、リ
ン酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤ニ アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの
硫酸またはリン酸エステル類等の両性活性剤などが使用
される。

分散剤、潤滑剤および帯電防止剤はバインダに対して０
．１〜２０重量部含ませるがよい。

また、カーボンブラック、グラファイト化カーボンブラ
ック等の導電性顔料を磁性粉１００重量部に対し、２〜
３０重量部含有させてもよい。

磁性塗料を塗布する基体としては、ポリエチレンテレフ
タレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン類、セルローストリアセテート等のセルロー
ス誘導体、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリサルホ
ン、ポリエチレンナフタレート、芳香族アラミド、芳香
族ポリエステル、さらにはアルミニウム等の金属板、ガ
ラス板等が使用されるがこれらに限定されるものではな
い。

これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。

本発明の磁気記録媒体においては、必要に応じて、基体
の片面または両面に磁性塗料が塗布され、磁性層が形成
される。

そして、磁性塗料を塗布した後、放射線硬化する。　放
射線硬化には、公知の種々の方法に従えばよい。

なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、上述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。

この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類
、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノス
ルフィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。

　光重合増感剤はポリマー固形分に対し、０．１〜１０
重量％の範囲が望ましい。

紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等をちもいればよい。

一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧１００〜７５０にＶ、好ましくは１５０〜３０
０に■の放射線加速器を用い、吸収線量を０．５〜２０
メガラツドになるように照射するのが好都合である。

特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および前述した紫外線
を使用する方法が有利である。

硬化後の磁性層の厚さは０．５〜６＃ｒｍ、好ましくは
０．５〜４−とするのがよい。

また必要に応じてアンダーコート、バックコートおよび
トップコートを設けてもよい。

なお、バックコートを設けるときには、バインダー、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。

本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して塗料を調製し、この塗料をポリエステルフィル
ムなどの基体上にグラビアコート、リバースロールコー
ト、エアーナイフコート、エアードクターコート、ブレ
ードコート、キスコート、スプレィコートなどの手法を
用いて塗布し、必要に応じて水平方向や垂直方向の磁場
等による配向処理を行って乾燥し、常法に従い放射線硬
化すればよい。

そして必要に応じてバックコートおよびトップコートを
設ければよい。

本発明の磁気記録媒体は、各種磁気テープ、ハードディ
スク、フロッピーディスク、電子スチルカメラ用磁気シ
ート等に用いて有用である。

■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、好ましくは前記式（Ａ）で示されるポ
リウレタン、アクリロイル基もしくはメタアクリロイル
基を有する塩基ビニル系共重合体（酸基が１×１０−６
〜１×１０−３当量／ｇ含まれるもの）および磁性粉を
含有する磁性塗料を基体上に塗布し、放射線硬化してい
るため、耐久性に優れた磁気記録媒体が得られる。

■　発明の具体的実施例および比較例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。

実施例および比較例 下記組成の磁性塗料を作成した。

（ａ）磁性粉　　　　　　　　　２５０重量部（Ｃｏ−
ｙ−Ｆｅ２０ｓ　） （ｂ）ポリウレタン（表１）　　　４０重量部ポリウレ
タン（Ｉ）、（ＩＩ　）、 （ＴＶ）　〜（Ｘ）、０Ｇｌ）、（ＸＩ［Ｉ）、（ＸＶ
）、（ＸＶＩ） （Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有する塩化ビニル系共
重合体（表１） ６０重量部 塩化ビニル系共重合体 （Ａ−１，Ａ−２，Ｂ、Ｃ） （ｄ）α−Ａ　１１２０３　　　　　　　５重量部（０
，５−粒状） （ｅ）カーボンブラック　　　　　１０重量部（２０戸
粒状） （ｆ）ステアリン酸　　　　　　　　４重量部（ｇ）ス
テアリン酸ブチル　　　　１０重量部（ｈ）溶剤　メチ
ルエチルケトン　５０重量部トルエン　　　　　　５０
重量部 上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、さらに溶
剤メチルエヂルケトン４００重量部、トルエン４００重
量部を加えて４２時間混合分散させ磁性塗料を得た。

上記のような磁性塗料をポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（厚さ７５−）の両面に乾燥厚で１戸となるよう
にグラビアコートにより塗布し、乾燥させた。

表面平滑化処理した後、ＥＳＩ社製エレクトロカーテン
タイプ電子線加速装置を使用して加速電圧１５０ＫｅＶ
、電極電流２０ｍＡ、全照射量５　Ｍ　ｒ　ａ　ｄの条
件下でＮ　２Ｈ囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬化
させた。

塗膜（磁性層）の厚さは０．９ｐＸｎであり、この膜厚
の測定は電子マイクロメータによった。

このようにして作成したものを試料１０１〜１２２（表
１）とする。　これらの試料について特性を調べた。

特性は以下のように評価した。

（１）耐久性 得られたシートをシートを３．５″マイクロフロツピー
サイズに打抜き、センターハブおよびジャケットを取付
けて評価用試料とした。

耐久性は市販の３．５″マイクロフロツピーデイスクド
ライブ（ＮＥＣ製ＦＤ１０３５）を用い、２０トラツク
における２Ｆの再生出力を記録し、出力が８０％になる
バス回数を寿命とした。

なお、評価環境は２３℃６０％ＲＨで行なった。

（２）再生出力 耐久性評価と同様のドライブおよび環境により、最内周
での２Ｆの出力をスペクトラムアナライザーを用いて測
定した。

出力値は標準ディスクとの相対値で示した。

結果を表１に示す。

以上の結果より、本発明の効果は明らかである。

出願人　　ティーディーケイ株式会社 手続ネ甫正書（自発） １、事件の表示 昭和６１年特許願第２３２９０９号 ２、発明の名称 磁気記録媒体 ３、補正をする者 代表者　　佐　藤　　　博 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ６　補正の内容 （１）明細書第８３ベージ２１テ目の「シートをシート
を」を「シートを」とネ甫正する。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）ＣＨ＿２＝ＣＲ＿１ＣＯＯ−Ｌ−Ｕ−Ｏ−基（こ
   こで、Ｒ＿１は水素原子もしくは低級アルキル基を表わ
   し、Ｌは２価の連結基を表わし、Ｕはアジピン酸単位を
   含むポリエーテルポリエステルポリウレタンと、ビスフ
   ェノールＡ単位を含むポリエーテルポリウレタンとを含
   む２価のポリウレタン残基を表わす。）が４価のアルコ
   ール残基に３個以上結合したポリウレタン、アクリロイ
   ル基もしくはメタアクリロイル基を有する塩化ビニル系
   共重合体（酸基が１× １０＾−＾６〜１×１０＾−＾３当量／ｇ含まれるもの
   ）および磁性粉を含有する磁性塗料を基体上に塗布し、
   放射線硬化したことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）ＣＨ＿２＝ＣＲ＿１ＣＯＯ−Ｌ−Ｕ−Ｏ−基（こ
   こで、Ｒ＿１は水素原子もしくは低級アルキル基を表わ
   し、Ｌは２価の連結基を表わし、Ｕはアジピン酸単位を
   含むポリエーテルポリエステルポリウレタンと、スルホ
   イソフタル酸単位を含むポリエーテルポリエステルポリ
   ウレタンと、ビスフェノールＡ単位を含むポリエーテル
   ポリウレタンとを含む２価のポリウレタン残基を表わす
   。）が４価のアルコール残基に３個以上結合したポリウ
   レタン、アクリロイル基もしくはメタアクリロイル基を
   有する塩化ビニル系共重合体（酸基が１×１０＾−＾６
   〜１×１０＾−＾３当量／ｇ含まれるもの）および磁性
   粉を含有する磁性塗料を基体上に塗布し、放射線硬化し
   たことを特徴とする磁気記録媒体。
3. （３）ＣＨ＿２＝ＣＲ＿１ＣＯＯ−Ｌ−Ｕ−Ｏ−基（こ
   こで、Ｒ＿１は水素原子もしくは低級アルキル基を表わ
   し、Ｌは２価の連結基を表わし、Ｕはアジピン酸単位を
   含むポリエーテルポリエステルポリウレタンと、ビスフ
   ェノールＡ単位を含むポリエーテルポリウレタンと、ポ
   リエーテルポリウレタンおよび／またはアクリロイル基
   もしくはメタアクリロイル基を有するポリエーテルポリ
   ウレタンとを含む２価のポリウレタン残基を表わす。）
   が４価のアルコール残基に３個以上結合したポリウレタ
   ン、アクリロイル基もしくはメタアクリロイル基を有す
   る塩化ビニル系共重合体（酸基が１×１０＾−＾６〜１
   ×１０＾−＾３当量／ｇ含まれるもの）および磁性粉を
   含有する磁性塗料を基体上に塗布し、放射線硬化したこ
   とを特徴とする磁気記録媒体。
4. （４）ＣＨ＿２＝ＣＲ＿１ＣＯＯ−Ｌ−Ｕ−Ｏ−基（こ
   こで、Ｒ＿１は水素原子もしくは低級アルキル基を表わ
   し、Ｌは２価の連結基を表わし、Ｕはアジピン酸単位を
   含むポリエーテルポリエステルポリウレタンと、スルホ
   イソフタル酸単位を含むポリエーテルポリエステルポリ
   ウレタンと、ビスフェノールＡ単位を含むポリエーテル
   ポリウレタンと、ポリエーテルポリウレタンおよび／ま
   たはアクリロイル基もしくはメタアクリロイル基を有す
   るポリエーテルポリウレタンとを含む２価のポリウレタ
   ン残基を表わす。）が４価のアルコール残基に３個以上
   結合したポリウレタン、アクリロイル基もしくはメタア
   クリロイル基を有する塩化ビニル系共重合体（酸基が１
   ×１０＾−＾６〜１×１０＾−＾３当量／ｇ含まれるも
   の）および磁性粉を含有する磁性塗料を基体上に塗布し
   、放射線硬化したことを特徴とする磁気記録媒体。