JPS638453B2 - - Google Patents

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JPS638453B2
JPS638453B2 JP53096596A JP9659678A JPS638453B2 JP S638453 B2 JPS638453 B2 JP S638453B2 JP 53096596 A JP53096596 A JP 53096596A JP 9659678 A JP9659678 A JP 9659678A JP S638453 B2 JPS638453 B2 JP S638453B2
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tnf
fluorenone
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polyamic acid
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Fuan Tsurunhoto Yan
Chandora Afuja Rameshu
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NEEDERU SENTORARE ORUGANIZATEIE FUOORU TOEGEPASUTO NATSUURUETENSHAPERIJIKU ONDERUTSUOEKU
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Publication date
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Publication of JPS638453B2 publication Critical patent/JPS638453B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 電子写真技術のゼログラフ法においては、電気
をむしろ良く導びく基体により支持される非晶セ
レン、As2Se3、ZnOまたは感光重合体の如き光
導電性材料の自由面をある表面電位にコロナ充電
する。次いで、帯電表面は、複写すべき文書から
の光の反射により形成される明暗像に露光され
る。暗い個所上には電荷が残留し、これに対して
照らされた個所上においては表面電位の減少が表
面に垂直な光電流に基因して生ずる。表面電位の
生成する分布が文書の明暗個所を反復
(replicate)する。次いで、形成した静電像を、
例えば反対電荷を有するトナーを静電像を有する
表面上に付与することによつて現像する。帯電個
所上にはトナーを被覆するのに対して、他の個所
上にはトナーを被覆せず、このためにトナー像が
形成され、例えば紙上に再生される。
上述するように、満足な電子写真被覆
(electrophotographic coating)においては電荷
をすみやかに受け入る(accept)必要があり、そ
の電荷を照らされない個所(non−illuminated
places)上に保守する必要があり(例えば低い暗
崩壊(low dark decay)を有する必要がある)、
その電荷は照らされた個所上において出来るだけ
完全にすみやかに放つ必要があり(すなわち、優
れた光放電特性(light discharge
characteristics)を有する必要があり、および全
可視領域においておよび被覆の全部分上において
均一な光応答(photoresponse)を与える必要が
ある。更に、被覆は、しばしば使用するのに適当
である必要があり、基体によく被覆する必要があ
り、および耐磨耗性および耐引掻性を有する必要
がある。
基体としては、アルミニウムの如き他の金属お
よび紙を用いることができる。
光導電性材料については多くの文献に記載され
ている。最近、ポリイミド類がこの目的のために
記載されている(米国特許第3554744号明細書、
特公昭43−24754号公報、特願昭48−43145および
49−11591号、並びにリサーチ デスクローサ
nr.105、1973年1月、論文10503)。しかしなが
ら、これらのポリアミド類は、その感光性が特に
可視領域において十分でないことから実際上、満
足でない。
より有望な開発については米国特許第3484237
号明細書およびIBMのR.M.Schaffert氏の論文、
J.Res.Develop.、1971年1月、75〜89ページに記
載されており、これらの文献には2・4・7−ト
リニトロ−9−フルオレノン(TNF)を含有す
るポリ−N−ビニルカルバゾールからなる光導電
体について記載されている。TNFの1モルをN
−ビニルカルバゾールの1単量体単位に対して用
いるのが好ましいとされている。これらの文献に
は、1:1モル比を有するかかる組成物の場合
に、感光性が大きいことおよび暗崩壊が正コロナ
帯電(positive corona charging)の場合より負
コロナ帯電(negative corona charging)の場
合に遅いことが記載されている。しかしながら、
TNF含有量を減少する場合には正電荷アセプタ
ンス(positive charge acceptance)が増加し、
負電荷アセプタンス(negative charge
acceptance)が減少する。交さ点は約0.06の
TNF濃度(N−ビニルカルバゾールの単量体単
位当りのTNFのモル)に生し、これはポリ−N
−ビニルカルバゾールに対して約10重量%の
TNFに相当する。
米国特許第3408185号および3408189号明細書に
は、ルイス酸の使用、このうち2・4・7−トリ
ニトロ−9−フルオレノンがポリウレタン樹脂お
よびメラミン樹脂における感光剤として好ましい
化合物の1つであることが記載されている。ま
た、これらの米国特許明細書にはルイス酸のエチ
ルメタクリレート樹脂の如き不活性樹脂への添加
は感光応答(photosensitive response)に影響
を及ぼさないことが記載されている。
英国特許第1150435号明細書には、化学線の不
存在において静電荷を保持しうる有機重合体樹脂
フイルムを該フイルムに光導電性を付与する含浸
剤含有溶液と接触させ、かかる溶液における溶剤
はかかるフイルムに対して殆んど不活性で、しか
も含浸剤を溶解しうる溶剤とする光導電性材料の
製造方法について記載されている。これにより含
浸剤はフイルムの少なくとも1部分に分散し、含
浸作用を所望程度の光導電性がフイルムに付与さ
れるまで継続することができる。1例において
は、2・4・7−トリニトロフルオレノンをベン
ゼンに溶解した溶液をアルミニウム基体上のポリ
イミドフイルムと接触させながら還流する。含浸
フイルムを乾燥し、コロナ放電装置により1000ボ
ルトに充電し、次いで高圧水銀蒸気放電灯により
光シヤドーパターンを露光する。しかしながら、
この試験を繰返す場合には、TNFがポリイミド
フイルムに殆んど混合しないこと、および生成す
るフイルムが可視領域における光源に露光する際
に殆んど感光性を示さないことを確めた。
驚くべきことには、本発明においては基体に式
2: (式中、Rは少なくとも2個の炭素原子を含有す
る四価の有機基を示し、かつ2個以下のカルボニ
ル基がRのいづれの炭素原子に結合し;R1は2
個の窒素原子に結合する少なくとも2個の炭素原
子を有する二価の有機基を示し、かつかかる窒素
原子がかかる二価の基の異なる炭素原子に結合
し;およびR、R1またはこれら両者は6個の炭
素原子の少なくとも1つの芳香族環を含有する)
で表わされる反復単位を有するポリアミド酸
(polyamicacid)および該ポリアミド酸に対して
1〜50重量%の割合の2・4・7−トリニトロ−
9−フルオレノン(TNF)および2・4・5・
7−テトラニトロ−9−フルオレノンからなる群
の1種を含有する有機溶剤溶液を被覆し、この被
覆基体を150℃を越えない温度で加熱して基体上
に感光剤含有ポリイミド被覆を形成することによ
つて優れた光導電性被覆を基体上に得ることを見
出した。
本発明の方法により生成した光導電性被覆は多
くの利点を有しており、可視領域において光に露
光する際に被覆はその電荷をすみやかに放ち、極
めて優れた感光性を示す。この事はポリイミドそ
れ自体が可視領域において極めて低い感光性を示
すことおよび上述する英国特許第1150435号明細
書に記載されているTNFおよびポリイミドの組
合は余り満足でないことから驚くべきことであ
る。このために、UV−光なして帯電された光導
電性被覆(charged photoconductive coating)
を照明することは、放電がオペレータの目を害す
ることがなく、かつ重合体の減成を避けることの
できる利点を有する。
ポリイミド重合体鎖における多くの変形を本発
明の範囲内において実施できる観点において、ポ
リイミドおよびTNFまたは対応するテトラニト
ロ化合物の組合せによつて光導電性被覆のスペク
トル感度を適当に変化することができる。この事
は被覆の特性を所望目的に適応することができ、
このために本発明における光導電性被覆は色再生
に特に適当である。更に、高い感光性のために、
極めてすみやかな光放電(light discharge)が
これまで使用されていたより少量の光りで生ずる
ことができる。最後に、ポリイミドは上述するポ
リ−N−ビニルカルバゾールの如き他の重合体よ
り高いガラス転移温度を有する。このために、そ
の結晶化への傾向が小さく、この事は結晶化が被
覆における輪送バリヤ(transport barriers)を
変化させることから有利である。
上述するタイプのポリアミド酸溶液からポリイ
ミド被覆を形成する方法は米国特許第3179633号、
3179634号および3554744号明細書、およびジヤー
ナル オブ ポリマー サイエンス(J.polymer
Science)におけるC.E.Sroog氏の論文:マクロ
モレキユラー レビユーズ(Macrowolecular
Reviews)、vol.11(1976)、ページ161〜208に記
載されている。一般に、使用されるポリイミド類
は式1: (式中、RおよびR1は上記と同様の意味を有し、
およびnは反復単位の数を示す)で表わされる反
復単位を有する。かかる反復単位の数、米国特許
第3554744号明細書に記載されているように30℃
において濃硫酸の0.5%溶液として測定して少な
くとも0.1の固有粘度を有するようにする。この
反復単位は上述する式2の反復単位を有するポリ
アミド酸を用いることにより作ることができる。
かかるポリアミド酸は式3: で示される二無水物および式4: H2N−R1−NH2 で示されるジアミンから作ることができる。ま
た、ポリイミド類以外にコーポリイミド類を用い
ることができ、このコーポリイミド類は1種以上
のジアミンおよび/または1種以上のテトラカル
ボン酸または二無水物を用いることにより得られ
る。
有機溶剤の溶液中におけるポリアミド酸の濃度
は、ポリアミド酸溶液の粘度に幾分影響されるけ
れども10〜30重量%の範囲が好適である。いづれ
にしても溶液は基体上に被着するのに適当な状態
にする必要がある。
有機溶剤としては感光剤およびポリアミド酸に
対して良好な溶解力を示す溶剤が適当である。
N−メチルピロリドン−2を用いるのが好まし
い。
基体上に溶液を被着する手段はポリイミド類の
製造について記載されている文献に記載されてい
る。
基体上におけるポリアミド酸溶液の加熱は85〜
120℃、特に90〜110℃の温度でポリイミドを形成
するのに十分な時間、例えば10時間またはこれ以
上にわたり行なう。
TNFは感光剤として使用するのが好ましい。
この化合物は式5: を有し、市販から入手することができる。
ポリアミド酸溶液におけるフルオレノン化合物
の濃度はポリアミド酸に対して好ましくは12〜13
重量%、特に15〜20重量%にする。特に好ましく
は、ポリアミド酸の1単量体単位に対して1分子
のTNFまたは相当するテトラニトロ化合物を使
用する。上記使用温度において、フルオレノン化
合物はポリアミド酸の環化を撹活せずにポリイミ
ドを形成することは驚くべきことである。
実際上、ポリアミド酸溶液を基体上に被着させ
および加熱させて得られるポリイミド被覆の厚さ
は5〜40μmの範囲で変化するけれども、必要に
応じてこれより厚くまたは薄くすることができ
る。
次に、本発明を実施例について説明するが、本
発明はこの範囲に制限されるものではない。
実施例 1 種々の量のTNFを、ビス(4−アミノフエニ
ル)エーテルおよびピロメリト酸の二無水物
(pyromellitic dianhydride)の反応により得た
ポリアミド酸20g(Sroog氏、ジヤーナル オブ
ポリマー サイエンス:マクロモレキユラーレ
ビユーズ11(1976)、ページ164;E.I.デユ ポン
ド ラアモールス アンド コンパニー(E.I.
du Pout de Nemours and Company)の市販
製品パイレML(Pyre ML)(RC−5004))を100
mlのN−メチルピロリドン−2に溶解した溶液と
緊密に混合した。生成混合物をスカルペル
(scalpel)でアルミニウム板上に直接被着し、こ
の被覆アルミニウム板を100℃で18時間にわたり
加熱した。生成したポリイミドは式6: で示される反復単位を含有していた。
生成した被覆について多くの試験を行ない、こ
の結果を添付図面について説明する。
(a) ポリイミド被覆の電荷アセプタンスを第1図
に示す装置によつて測定した。測定は、高電圧
供給源1によつてコロナ放電を電極2と光導電
性被覆3を被覆した基体4との間に作用させ、
コロナ放電を電力源6により得られたグリツド
5上の電圧で制御するようにして行なつた。光
導電性被覆として、TNFを用いない場合とお
よびTNFをポリアミド酸に対して20重量%の
割合で用いた場合との2種類のポリイミド層を
上述するようにして作つた。両層の厚さは20μ
mであつた。コロナ電位を一定に維持し、種々
の被覆の表面電位を測定するためにグリツド電
位を変化させた。表面電位は第2および3図に
示すようにグリツド電位に対して殆んど直線的
に増加することを確めた。また、これらの図か
ら負電荷アセプタンス(第2図)および正電荷
アセプタンス(第3図)は根本的に相違しない
ことがわかる。この観点から、本発明により得
られた光導電性組成物は上述したTNF−感光
−ポリ−N−ビニルカルバゾールおよび正電荷
のみを受け入れるセレンから顕著に優れている
ことがわかる。更に、また帯電速度
(charging speed)、すなわち、試料をコロナ
放電装置中に通過させる速度は電荷アセプタン
ス特性に影響を与える。低い帯電速度において
は、表面電位を高くする。
同じ試験において、2・4・5・7−テトラ
ニトロ−9−フルオレノンを用いる場合には、
TNFを用いる場合より幾分低いにもかかわら
ず、生成被覆は電荷をよく受け入れることを確
めた。
γ−ベンゾキノン、γ−クロルアニル、0−
クロルアニル、1・4−ジシアノベンゼン、ピ
クリン酸、テトラシアノエチレンおよび7・
7′・8・8′−テトラシアノキノン ジメタンを
使用する場合には、これらにより得た被覆は電
子写真特性が乏しいことを確めた。
(b) 帯電した光導電性被覆がどうして暗所におい
て電荷を保持するかを確めた。暗崩壊特性を確
めるために、ポリアミド酸に対して15重量%の
TNFを含有しかつ18μmの厚さを有するポリイ
ミドの被覆およびポリアミド酸に対して20重量
%のTNFを含有しかつ20μmの厚さを有するポ
リイミドの被覆を用いた。第4および5図のそ
れぞれにおいて、時間tにおける表面電位およ
び最初の表面電位の商(Vt/Vi)を時間(分)
によつてプロツトした。第4図はViの3つの
異なる値における負電荷の場合に対するVt/
Viの減少する状態を示している。第5図は正
電荷および負電荷の場合に対するVt/Viの減
少する状態を示している。測定は周囲温度で行
なつた。得られた結果から、正電荷および負電
荷の場合に暗崩壊特性が実際使用される期間中
優れていることを確めた。
(c) 帯電した光導電性被覆の光放電特性を測定し
た。TNFを含有しないポリイミド被覆(厚さ
10μm)、5重量%のTNFを含有するポリイミ
ド被覆(厚さ10μm)、および10、15および20
重量%のTNFをそれぞれ含有するポリイミド
被覆(厚さ12μm)(TNFの量はすべてポリア
ミド酸に対する重量%で示した)をそれぞれ
900ルツクスの光源で可視領域において照射し
た。最初の表面電位(Vi)を100ボルトにし、
電荷を負にした。この結果を商Vt/Viを時間
(分)でプロツトした第6図に示す。第6図か
ら明らかなように、感光剤を使用しないポリイ
ミドの場合ではその電荷が照明中不十分な速や
さで放されるが、しかしTNFの含有量が増加
するのにつれて表面電位の減少が極めてすみや
かに生ずる。
また、上述する方法で得たポリアミド酸に対
してTNF20重量%を含有しかつ厚さ10μmのポ
リイミド被覆についての試験の結果を示す
Vt/Vi商を時間(分)に対てプロツトした第
7図から、表面電位がすみやかに減少している
ことがわかる。可視領域における光源は2430ル
ツクの強さを有していた。照明中における負電
荷損失と正電荷損失との間の差は極めて小さい
ことを確めた。
実施例 2 実施例1に記載する方法によつて実施例1に記
載するポリアミドからなるポリイミド被覆を作つ
た。この被覆は20μmの厚さを有し、かつポリア
ミド酸に対して10重量%の2・4・5・7−テト
ラニトロ−9−フルオレノンを含有させた。
この被覆の照明中における負電荷損失を800ボ
ルトの最初の表面電位(Vi)および2400ルツク
の光源によつて測定した。第7図(10重量%
TNF)と比較して、可視領域における照明中の
電荷損失は相当するテトラニトロ化合物の使用に
おけるよりも、TNFの使用の場合の方が僅かに
すみやかに生ずることがわかる。
【図面の簡単な説明】
第1図はポリイミド被覆の電荷アセプタンスを
測定する装置の説明用線図および第2〜8図はか
かる被覆の表面電位の変化を示す比較曲図であ
る。 1……高電圧供給源、2……電極、3……光導
電性被覆、4……基体、5……グリツド、6……
電力源。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 2・4・7−トリニトロ−9−フルオレノン
    (TNF)および2・4・5・7−テトラニトロ−
    9−フルオレノンからなる群の1種を感光剤とし
    て含有するポリイミド光導電性被覆を基体上に形
    成する方法において、基体に式2: (式中、Rは少なくとも2個の炭素原子を含有す
    る四価の有機基を示し、かつ2個以下のカルボニ
    ル基がRのいづれの炭素原子に結合し;R1は2
    個の窒素原子に結合する少なくとも2個の炭素原
    子を有する二価の有機基を示し、かつかかる窒素
    原子がかかる二価の有機基の異なる炭素原子に結
    合し;およびR、R1またはこれら両者は6個の
    炭素原子の少なくとも1つの芳香族環を含有す
    る)で表わされる反復単位を有するポリアミド酸
    および該ポリアミド酸に対して1〜50重量%の割
    合の2・4・7−トリニトロ−9−フルオレノン
    (TNF)および2・4・5・7−テトラニトロ−
    9−フルオレノンからなる群の1種を含有する有
    機溶剤溶液を被覆し、この被覆基体を150℃を越
    えない温度で加熱して基体上に感光剤含有ポリイ
    ミド被覆を形成することを特徴とする光導電性被
    覆を基体上に形成する方法。 2 ポリアミド酸に対して12〜30重量%のTNF
    を含有するポリアミド酸溶液を使用する特許請求
    の範囲第1番目記載の光導電性被覆を基体上に形
    成する方法。 3 ポリアミド酸に対して15〜20重量%のTNF
    を含有するポリアミド酸溶液を使用する特許請求
    の範囲第1〜2番目記載の光導電性被覆を基体上
    に形成する方法。 4 基体上に被着した溶液を85〜120℃、好まし
    くは90〜110℃の温度で加熱する特許請求の範囲
    第1〜3番目記載の光導電性被覆を基体上に形成
    する方法。 5 基体に、式2: (式中、Rは少なくとも2個の炭素原子を含有す
    る四価の有機基を示し、かつ2個以下のカルボニ
    ル基がRのいづれの炭素原子に結合し;R1は2
    個の窒素原子に結合する少なくとも2個の炭素原
    子を有する二価の有機基を示し、かつかかる窒素
    原子がかかる二価の有機基の異なる炭素原子に結
    合し;およびR、R1またはこれら両者は6個の
    炭素原子の少なくとも1つの芳香族環を含有す
    る)で表わされる反復単位を有するポリアミド酸
    および該ポリアミド酸に対して1〜50重量%の割
    合の2・4・7−トリニトロ−9−フルオレノン
    (TNF)および2・4・5・7−テトラニトロ−
    9−フルオレノンからなる群の1種を含有する有
    機溶剤溶液を被覆し、この被覆基体を150℃を越
    えない温度で加熱して基体上に感光剤含有ポリイ
    ミド被覆を形成することにより形成した2・4・
    7−トリニトロ−9−フルオレノン(TNF)お
    よび2・4・5・7−テトラニトロ−9−フルオ
    レノンからなる群の1種を感光剤として含有する
    ポリイミド光導電性被覆で被覆された基体からな
    る光導電性被覆材。
JP9659678A 1977-08-09 1978-08-08 Method for forming photoconductive layer on support and photoconductive coated material Granted JPS5453539A (en)

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