JPS6380533A - Ｘ線リソグラフイ装置 - Google Patents
Ｘ線リソグラフイ装置Info
- Publication number
- JPS6380533A JPS6380533A JP61223800A JP22380086A JPS6380533A JP S6380533 A JPS6380533 A JP S6380533A JP 61223800 A JP61223800 A JP 61223800A JP 22380086 A JP22380086 A JP 22380086A JP S6380533 A JPS6380533 A JP S6380533A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- sor
- head
- ray
- beam duct
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、Ｘ線リソグラフィ装置に関し、さらに詳し
くいうとＸ線マスク上の微細パタンな、シンクロトロン
放射光を用いた軟Ｘ線照射により、半導体回路基板上に
転写するためのＸ線リソグラフィ装置に関するものであ
る。
くいうとＸ線マスク上の微細パタンな、シンクロトロン
放射光を用いた軟Ｘ線照射により、半導体回路基板上に
転写するためのＸ線リソグラフィ装置に関するものであ
る。
シンクロトロン放射光（以下、ＳＯＲと略記する）を用
いてパタン転写を行うＸ線露光装置として、シンクロト
ロンリングから発生するＳＯＲをビームダク）Ｋよって
Ｘ線露光装置に導入する場合、７本のビームダクトに対
し７台のＸ線露光装置を配置する構成になるものがある
が、これは、ＲＯＲ利用効率がきわめて低い。これを改
善するものとして、例えば、特開昭６０−１３２３２４
号公報に開示されたように、ＳＯＲの放射方向を可変に
して複数台のＸ線露光装置へ導入するものが提案された
。すなわち、第２図に示すように、シンクロトロンリン
グ（１）から発生するＳＯＲをＸ線露光装置に導入する
７本のビームダクト（λ）を複数本に分岐し、この分岐
したビームダクト（Ｊａ） 、 （２ｂ） 、 （ユＣ
）ごとにそれぞれＸ線露光装置（ｊａ） 、 （７ｂ）
、 （７Ｃ）を配宜し、ビームダクト分岐部（ｌＩ）
Ｋ、露光準備が完了しているＸ線露光装置に選択的、か
つ、時分割的にＳＯＲを供給する機能をもたせたもので
ある。
いてパタン転写を行うＸ線露光装置として、シンクロト
ロンリングから発生するＳＯＲをビームダク）Ｋよって
Ｘ線露光装置に導入する場合、７本のビームダクトに対
し７台のＸ線露光装置を配置する構成になるものがある
が、これは、ＲＯＲ利用効率がきわめて低い。これを改
善するものとして、例えば、特開昭６０−１３２３２４
号公報に開示されたように、ＳＯＲの放射方向を可変に
して複数台のＸ線露光装置へ導入するものが提案された
。すなわち、第２図に示すように、シンクロトロンリン
グ（１）から発生するＳＯＲをＸ線露光装置に導入する
７本のビームダクト（λ）を複数本に分岐し、この分岐
したビームダクト（Ｊａ） 、 （２ｂ） 、 （ユＣ
）ごとにそれぞれＸ線露光装置（ｊａ） 、 （７ｂ）
、 （７Ｃ）を配宜し、ビームダクト分岐部（ｌＩ）
Ｋ、露光準備が完了しているＸ線露光装置に選択的、か
つ、時分割的にＳＯＲを供給する機能をもたせたもので
ある。
ビームダクト分岐部（弘）の具体的な構成としては、両
面なＡｕでコートした平面の反射ミラーを備え、この反
射ミラーを回転変位してＳＯＲの進路を変更する。ある
いは、反射方向をそれぞれ限定した反射面角度を有する
複数個の反射ミラーを配置し、選択的に個々の反射ミラ
ーをＳＯＲ光路に挿脱することにより、任意のＸ線露光
装置にＳＯＲを供給する。
面なＡｕでコートした平面の反射ミラーを備え、この反
射ミラーを回転変位してＳＯＲの進路を変更する。ある
いは、反射方向をそれぞれ限定した反射面角度を有する
複数個の反射ミラーを配置し、選択的に個々の反射ミラ
ーをＳＯＲ光路に挿脱することにより、任意のＸ線露光
装置にＳＯＲを供給する。
かようにして、ＳＯＲ利用効率を向上しようとするもの
であった。
であった。
以上のような従来のＸ線リソグラフィ装置け、反射ミラ
ーを用いてＳＯＲ進路変更を行うものであったため、長
期使用により反射ミラーの精度が低下する。換言すれば
、長寿命のものが得られないという問題点があった。ま
た、ＳＯＲは、そのエネルギーが変わると波長領域も変
わるのであるが、これに対応して広範囲な波長領域に適
合する反射ミラーを得ることが、きわめて難しいという
問題点があった。
ーを用いてＳＯＲ進路変更を行うものであったため、長
期使用により反射ミラーの精度が低下する。換言すれば
、長寿命のものが得られないという問題点があった。ま
た、ＳＯＲは、そのエネルギーが変わると波長領域も変
わるのであるが、これに対応して広範囲な波長領域に適
合する反射ミラーを得ることが、きわめて難しいという
問題点があった。
この発明はかような問題点を解消するためになされたも
ので、広範囲な波長領域に対応することができ、かつ、
長寿命なＸ線すソ′グラフィ装置を得ることを目的とす
る。
ので、広範囲な波長領域に対応することができ、かつ、
長寿命なＸ線すソ′グラフィ装置を得ることを目的とす
る。
この発明に係るＸ線り２グラフイ装置は、複数台のＸ線
露光ヘッドを放射状に備えつけた可回転のマルチヘッド
露光装置がビームダクトに設置されている。
露光ヘッドを放射状に備えつけた可回転のマルチヘッド
露光装置がビームダクトに設置されている。
この発明においては、ＳＯＲによるＳ１ウエハなどへの
４光中にＳｉウェハの装着および脱着作業を行うことが
できる。
４光中にＳｉウェハの装着および脱着作業を行うことが
できる。
第１図はこの発明の一実施例を示し、図において、複数
個のＸ線露光ヘッド（／７ａ）〜（／７１）を放射状に
備えたマルチヘッド露光装置（／３）は、その駆動源（
５）、回転機構（６）によって回転可能になってｂる。
個のＸ線露光ヘッド（／７ａ）〜（／７１）を放射状に
備えたマルチヘッド露光装置（／３）は、その駆動源（
５）、回転機構（６）によって回転可能になってｂる。
以上の構成において、第１図はシンクロトロンリング（
１）からのＳＯＲを、ビームダクト（２）により導き、
１つのＸ線露光ヘッド（／ｙｂ）に露光中を示している
。このとき、露光ヘッド（／３ａ）は露光終了後のウェ
ハ脱着作業を行ない、露光ヘッド（／３ｃ）は、露光前
のウェハ装着を完了している、露光ヘッド（／３ｄ）〜
（／３Ｊ−）は、ウェハ装着作業を適宜に行っている。
１）からのＳＯＲを、ビームダクト（２）により導き、
１つのＸ線露光ヘッド（／ｙｂ）に露光中を示している
。このとき、露光ヘッド（／３ａ）は露光終了後のウェ
ハ脱着作業を行ない、露光ヘッド（／３ｃ）は、露光前
のウェハ装着を完了している、露光ヘッド（／３ｄ）〜
（／３Ｊ−）は、ウェハ装着作業を適宜に行っている。
露光ヘッド（／３ｂ）に対する露光が完了すると、ラド
（／３ｃ）がビームダクト（２］の位置に移り、 ＳＯ
Ｒによる露光が開始される。
（／３ｃ）がビームダクト（２］の位置に移り、 ＳＯ
Ｒによる露光が開始される。
この発明は、以上の説明から明らかなように、ビームダ
クトによるＳＯＲ露光作業中でも他の露光装置によるＳ
１ウエハの脱着、装置作業が可能なマルチヘッド露光装
置をビームダクトに設けたことから、広範囲な波長領域
に対応可能にして長寿命な装置により、高価なＳＯＲ連
続光の利用効率を飛躍的に向上しつる効果がある。
クトによるＳＯＲ露光作業中でも他の露光装置によるＳ
１ウエハの脱着、装置作業が可能なマルチヘッド露光装
置をビームダクトに設けたことから、広範囲な波長領域
に対応可能にして長寿命な装置により、高価なＳＯＲ連
続光の利用効率を飛躍的に向上しつる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例の要部概略平面図、第二図
は従来のＸ線り２グラフイ装置の要部概略平面図である
。 （コ）拳会ビームダクト、（／３ａ）〜（／７ｊ）拳・
Ｘ線露光ヘッド、（／３）・・マルチヘッド露光装置。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 第２図
は従来のＸ線り２グラフイ装置の要部概略平面図である
。 （コ）拳会ビームダクト、（／３ａ）〜（／７ｊ）拳・
Ｘ線露光ヘッド、（／３）・・マルチヘッド露光装置。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 第２図
Claims (1)
- シンクロトロン放射光を用いてＸ線マスク上のパタンを
前記Ｘ線マスク後方に配置した放射線感応材料に転写す
るＸ線リソグラフィ装置において、複数個のＸ線露光ヘ
ッドが放射状に配設された可回転のマルチヘッド露光装
置を、前記シンクロトロン放射光のビームダクトに結合
、設置したことを特徴とするＸ線リソグラフィ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61223800A JPS6380533A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | Ｘ線リソグラフイ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61223800A JPS6380533A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | Ｘ線リソグラフイ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6380533A true JPS6380533A (ja) | 1988-04-11 |
Family
ID=16803914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61223800A Pending JPS6380533A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | Ｘ線リソグラフイ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6380533A (ja) |
-
1986
- 1986-09-24 JP JP61223800A patent/JPS6380533A/ja active Pending
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