JPH0713939B2 - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
- Publication number
- JPH0713939B2 JPH0713939B2 JP63090717A JP9071788A JPH0713939B2 JP H0713939 B2 JPH0713939 B2 JP H0713939B2 JP 63090717 A JP63090717 A JP 63090717A JP 9071788 A JP9071788 A JP 9071788A JP H0713939 B2 JPH0713939 B2 JP H0713939B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- exposure
- reticle
- wafer
- reduction projection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は縮小投影露光装置に関し、特に周辺露光機構を
有する縮小投影露光装置に関する。
有する縮小投影露光装置に関する。
従来、この種の縮小投影露光装置は、半導体ウェハーの
周辺を露光する周辺露光機構を備えていないために、ウ
ェハーの周辺露光を行なう場合にはパターン投影用の製
品露光用レチクルを取外し、周辺露光用レチクルを縮小
投影露光装置にセットし直して周辺露光を行なってい
た。
周辺を露光する周辺露光機構を備えていないために、ウ
ェハーの周辺露光を行なう場合にはパターン投影用の製
品露光用レチクルを取外し、周辺露光用レチクルを縮小
投影露光装置にセットし直して周辺露光を行なってい
た。
また、その他の周辺露光装置としてはコンタクト式露光
装置と、光ファイバーを用いたウェハー周辺露光装置と
がある。
装置と、光ファイバーを用いたウェハー周辺露光装置と
がある。
上述した従来の縮小投影露光装置を用いてウェハーの周
辺露光を行なう場合には製品用の製品露光用レチクルを
取外し、周辺露光用レチクルを装置にセットし直す必要
があり、作業に時間がかかるという欠点がある。また、
周辺露光専用装置として縮小投影露光装置を使用する場
合は、特に限られた装置台数で露光作業を行なっている
場合、装置の作業能力を超えてしまうという欠点もあ
る。
辺露光を行なう場合には製品用の製品露光用レチクルを
取外し、周辺露光用レチクルを装置にセットし直す必要
があり、作業に時間がかかるという欠点がある。また、
周辺露光専用装置として縮小投影露光装置を使用する場
合は、特に限られた装置台数で露光作業を行なっている
場合、装置の作業能力を超えてしまうという欠点もあ
る。
また、コンタクト式露光装置を用いる場合はマスクとパ
ターンを接触させるためマスクのゴミやウェハー平行出
し板によるキズ、ゴミがパターンをくずす可能性があ
り、光ファイバーによる周辺露光装置はウェハーを回転
させながら露光するためウェハー周辺に近いチップパタ
ーンをくずすことが考えられ、これを防ぐためには製品
毎に光のスポットサイズやウェハーの回転数を変えて周
辺露光を行なわなければならないという煩雑さがある。
ターンを接触させるためマスクのゴミやウェハー平行出
し板によるキズ、ゴミがパターンをくずす可能性があ
り、光ファイバーによる周辺露光装置はウェハーを回転
させながら露光するためウェハー周辺に近いチップパタ
ーンをくずすことが考えられ、これを防ぐためには製品
毎に光のスポットサイズやウェハーの回転数を変えて周
辺露光を行なわなければならないという煩雑さがある。
本発明の目的は上記課題を解消した縮小投影露光装置を
提供することにある。
提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明に係る縮小投影露光装
置は、第１の光学系と、第２の光学系と、ウェハーステ
ージとを有する縮小投影露光装置であって、 第１の光学系と第２の光学系とは、半導体ウェハー上に
パターンを縮小投影するものであり、 第１の光学系は、製品露光用レチクルを有し、 製品露光用レチクルは、半導体ウェハー上に回路パター
ンを露光するパターン形状をなすものであり、 第２の光学系は、周辺露光用レチクルを有し、 製品露光用レチクルは、半導体ウェハー上に露光される
回路パターンを除くウェハー上の周辺不要部分を露光す
るパターン形状をなすものであり、 ウェハーステージは、前記第１の光学系と第２の光学系
との光軸上に選択的に配置して共用され、一方の光学系
で露光処理された半導体ウェハーを搭載したまま他方の
光学系に切替設置するものである。
置は、第１の光学系と、第２の光学系と、ウェハーステ
ージとを有する縮小投影露光装置であって、 第１の光学系と第２の光学系とは、半導体ウェハー上に
パターンを縮小投影するものであり、 第１の光学系は、製品露光用レチクルを有し、 製品露光用レチクルは、半導体ウェハー上に回路パター
ンを露光するパターン形状をなすものであり、 第２の光学系は、周辺露光用レチクルを有し、 製品露光用レチクルは、半導体ウェハー上に露光される
回路パターンを除くウェハー上の周辺不要部分を露光す
るパターン形状をなすものであり、 ウェハーステージは、前記第１の光学系と第２の光学系
との光軸上に選択的に配置して共用され、一方の光学系
で露光処理された半導体ウェハーを搭載したまま他方の
光学系に切替設置するものである。
また本発明に係る縮小投影露光装置は、単一の光学系
と、ホルダーとを有する縮小投影露光装置であって、 単一の光学系は、製品露光用レチクルと周辺露光用レチ
クルとを有し、半導体ウェハー上にパターンを縮小投影
するものであり、 製品露光用レチクルは、半導体ウェハー上に回路パター
ンを露光するパターン形状をなすものであり、 周辺露光用レチクルは、半導体ウェハー上に露光される
回路パターンを除くウェハー上の周辺不要部分を露光す
るパターン形状をなすものであり、 ホルダーは、前記光学系に前記製品露光用レチクルと周
辺露光用レチクルとを選択的に装填するものである。
と、ホルダーとを有する縮小投影露光装置であって、 単一の光学系は、製品露光用レチクルと周辺露光用レチ
クルとを有し、半導体ウェハー上にパターンを縮小投影
するものであり、 製品露光用レチクルは、半導体ウェハー上に回路パター
ンを露光するパターン形状をなすものであり、 周辺露光用レチクルは、半導体ウェハー上に露光される
回路パターンを除くウェハー上の周辺不要部分を露光す
るパターン形状をなすものであり、 ホルダーは、前記光学系に前記製品露光用レチクルと周
辺露光用レチクルとを選択的に装填するものである。
以下に本発明の実施例を図によって説明する。
（実施例１） 本実施例は２基の光学系を組合せた例である。第１の光
学系Ｉは回路パターンをウェハー上に縮小投影する系、
第２の光学系IIはウェハーの周辺不要部分を露光する系
である。第１の光学系Ｉは光源１と、遮光板２と、縮小
投影レンズ４とを備え、第２の光学系IIは前記光源１の
光線を反射して系に投光するミラー７と、遮光板８と、
縮小投影レンズ10とを備えている。各々の光学系は独立
した縮小投影露光装置であるが、半導体ウェハー５を搭
載するステージを共用させている。すなわち可動ウェハ
ーステージ６は両光学系I,II間に渡って移動可能に配設
されている。なお、第２の光学系IIにも専用の光源を設
けてもよい。
学系Ｉは回路パターンをウェハー上に縮小投影する系、
第２の光学系IIはウェハーの周辺不要部分を露光する系
である。第１の光学系Ｉは光源１と、遮光板２と、縮小
投影レンズ４とを備え、第２の光学系IIは前記光源１の
光線を反射して系に投光するミラー７と、遮光板８と、
縮小投影レンズ10とを備えている。各々の光学系は独立
した縮小投影露光装置であるが、半導体ウェハー５を搭
載するステージを共用させている。すなわち可動ウェハ
ーステージ６は両光学系I,II間に渡って移動可能に配設
されている。なお、第２の光学系IIにも専用の光源を設
けてもよい。
第１の光学系Ｉには半導体ウェハー５に対する製品露光
用パターン（回路パターン）を有する製品露光用レチク
ル３をセットし、第２の光学系IIにはウェハー５の周辺
不要部分を露光する周辺露光用レチクル９をセットす
る。
用パターン（回路パターン）を有する製品露光用レチク
ル３をセットし、第２の光学系IIにはウェハー５の周辺
不要部分を露光する周辺露光用レチクル９をセットす
る。
まず、ウェハー５を載置した可動ウェハーステージ６を
第１の光学系Ｉの光軸に配置する。光源１を出光した光
を、遮光板２で回路パターンの露光ショットの大きさに
定め、製品露光用レチクル３を通過させ、その回路パタ
ーンを縮小投影レンズ４で縮小し、ウェハー５上に縮小
された回路パターンを投影露光する。ウェハー５上への
回路パターンの露光を完了した後、次いで可動ウェハー
ステージ６を第２の光学系IIの光軸に移し、光学系IIで
はミラー７によって反射された光源１からの光を、遮光
板８をウェハー周辺露光ショットの大きさに定め、周辺
露光用の透明レチクル及び縮小投影レンズ10を経てウェ
ハー５の周辺部を露光する。
第１の光学系Ｉの光軸に配置する。光源１を出光した光
を、遮光板２で回路パターンの露光ショットの大きさに
定め、製品露光用レチクル３を通過させ、その回路パタ
ーンを縮小投影レンズ４で縮小し、ウェハー５上に縮小
された回路パターンを投影露光する。ウェハー５上への
回路パターンの露光を完了した後、次いで可動ウェハー
ステージ６を第２の光学系IIの光軸に移し、光学系IIで
はミラー７によって反射された光源１からの光を、遮光
板８をウェハー周辺露光ショットの大きさに定め、周辺
露光用の透明レチクル及び縮小投影レンズ10を経てウェ
ハー５の周辺部を露光する。
（実施例２） 第２図は本発明の第２の実施例を示す構成図である。本
実施例は単一の光学系を用い、レチクルを交換する例で
ある。すなわち、光源1,遮光板2,縮小投影レンズ４を有
する光学系に製品露光用レチクル３と、周辺露光用レチ
クル９とを保持させたレチクルホルダー11を摺動可能に
装備したものである。
実施例は単一の光学系を用い、レチクルを交換する例で
ある。すなわち、光源1,遮光板2,縮小投影レンズ４を有
する光学系に製品露光用レチクル３と、周辺露光用レチ
クル９とを保持させたレチクルホルダー11を摺動可能に
装備したものである。
本実施例ではウェハーステージ12は光学系の定位置に設
置されており、まずレチクルホルダー11上の製品露光用
レチクル３を光学系にセットし、パターンの露光後、レ
チクルホルダー11を移動させて、製品露光用レチクル３
を周辺露光用レチクル９に切り替えてこれを光学系にセ
ットし、同一位置でウェハー周辺の露光を行なう。
置されており、まずレチクルホルダー11上の製品露光用
レチクル３を光学系にセットし、パターンの露光後、レ
チクルホルダー11を移動させて、製品露光用レチクル３
を周辺露光用レチクル９に切り替えてこれを光学系にセ
ットし、同一位置でウェハー周辺の露光を行なう。
以上説明したように本発明の縮小投影露光装置によれ
ば、ウェハー上への回路パターン露光終了後、簡単にウ
ェハー周辺露光を行なうことができ、作業時間を短縮で
きる。さらに、ウェハーの周辺不要部分はレチクルのパ
ターン形状により露光するものであるため、従来のよう
にウェハーを回転させる必要がなく、回路パターンが形
成されたウェハーをそのままの姿勢で第２の光学系に移
し替えてウェハーの周辺不要部分を露光することとな
り、ウェハー周辺不要部分での露光領域が例えば矩形状
の場合のようなときに、ウェハーを回転させる場合のよ
うな未露光領域を残すことなく完全に露光することがで
き、製品露光ショットのパターンを崩すことを防止でき
る。また、周辺露光用レチクルは自動あるいは手動でセ
ットできる透明なレチクルを使用し、各々の製品に対し
ては自動的に遮光板の遮光部の大きさを調整することに
より、各製品毎にレチクルを取替えることなくウェハー
上の所望の部分への露光が可能となり、製品露光ショッ
トのパターンをくずすことなく、ウェハーの周辺露光が
でき、高品質の製品が得られる効果がある。
ば、ウェハー上への回路パターン露光終了後、簡単にウ
ェハー周辺露光を行なうことができ、作業時間を短縮で
きる。さらに、ウェハーの周辺不要部分はレチクルのパ
ターン形状により露光するものであるため、従来のよう
にウェハーを回転させる必要がなく、回路パターンが形
成されたウェハーをそのままの姿勢で第２の光学系に移
し替えてウェハーの周辺不要部分を露光することとな
り、ウェハー周辺不要部分での露光領域が例えば矩形状
の場合のようなときに、ウェハーを回転させる場合のよ
うな未露光領域を残すことなく完全に露光することがで
き、製品露光ショットのパターンを崩すことを防止でき
る。また、周辺露光用レチクルは自動あるいは手動でセ
ットできる透明なレチクルを使用し、各々の製品に対し
ては自動的に遮光板の遮光部の大きさを調整することに
より、各製品毎にレチクルを取替えることなくウェハー
上の所望の部分への露光が可能となり、製品露光ショッ
トのパターンをくずすことなく、ウェハーの周辺露光が
でき、高品質の製品が得られる効果がある。
第１図は第１の発明の縮小投影露光装置の一実施例を示
す構成図、第２図は第２の発明の縮小投影露光装置の一
実施例を示す構成図である。 １…光源、2,8…遮光板 ３…製品露光用レチクル、4,10…縮小投影レンズ ５…ウェハー、６…可動ウェハーステージ ７…ミラー、９…周辺露光用レチクル 11…レチクルホルダー、12…ウェハーステージ
す構成図、第２図は第２の発明の縮小投影露光装置の一
実施例を示す構成図である。 １…光源、2,8…遮光板 ３…製品露光用レチクル、4,10…縮小投影レンズ ５…ウェハー、６…可動ウェハーステージ ７…ミラー、９…周辺露光用レチクル 11…レチクルホルダー、12…ウェハーステージ
Claims (2)
- 【請求項１】第１の光学系と、第２の光学系と、ウェハ
ーステージとを有する縮小投影露光装置であって、 第１の光学系と第２の光学系とは、半導体ウェハー上に
パターンを縮小投影するものであり、 第１の光学系は、製品露光用レチクルを有し、 製品露光用レチクルは、半導体ウェハー上に回路パター
ンを露光するパターン形状をなすものであり、 第２の光学系は、周辺露光用レチクルを有し、 製品露光用レチクルは、半導体ウェハー上に露光される
回路パターンを除くウェハー上の周辺不要部分を露光す
るパターン形状をなすものであり、 ウェハーステージは、前記第１の光学系と第２の光学系
との光軸上に選択的に配置して共用され、一方の光学系
で露光処理された半導体ウェハーを搭載したまま他方の
光学系に切替設置するものであることを特徴とする縮小
投影露光装置。 - 【請求項２】単一の光学系と、ホルダーとを有する縮小
投影露光装置であって、 単一の光学系は、製品露光用レチクルと周辺露光用レチ
クルとを有し、半導体ウェハー上にパターンを縮小投影
するものであり、 製品露光用レチクルは、半導体ウェハー上に回路パター
ンを露光するパターン形状をなすものであり、 周辺露光用レチクルは、半導体ウェハー上に露光される
回路パターンを除くウェハー上の周辺不要部分を露光す
るパターン形状をなすものであり、 ホルダーは、前記光学系に前記製品露光用レチクルと周
辺露光用レチクルとを選択的に装填するものであること
を特徴とする縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63090717A JPH0713939B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63090717A JPH0713939B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 縮小投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01261821A JPH01261821A (ja) | 1989-10-18 |
| JPH0713939B2 true JPH0713939B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=14006294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63090717A Expired - Lifetime JPH0713939B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0713939B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3384068B2 (ja) * | 1993-12-22 | 2003-03-10 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置 |
| US6628372B2 (en) * | 2001-02-16 | 2003-09-30 | Mccullough Andrew W. | Use of multiple reticles in lithographic printing tools |
| KR100530499B1 (ko) * | 2003-12-26 | 2005-11-22 | 삼성전자주식회사 | 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 레티클, 레티클어셈블리 및노광 장치 |
| JP2006278820A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Nikon Corp | 露光方法及び装置 |
| TW200719095A (en) * | 2005-11-09 | 2007-05-16 | Nikon Corp | Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6060724A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-08 | Toshiba Corp | 半導体露光装置 |
| JPS6179227A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-22 | Sony Corp | 感光性レジストを用いたパタ−ン形成方法 |
| JPS62128121A (ja) * | 1985-11-28 | 1987-06-10 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
-
1988
- 1988-04-13 JP JP63090717A patent/JPH0713939B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01261821A (ja) | 1989-10-18 |
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