JPS637660A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPS637660A
JPS637660A JP61150850A JP15085086A JPS637660A JP S637660 A JPS637660 A JP S637660A JP 61150850 A JP61150850 A JP 61150850A JP 15085086 A JP15085086 A JP 15085086A JP S637660 A JPS637660 A JP S637660A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
potential
mos transistor
substrate
point
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61150850A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Suzuki
明 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP61150850A priority Critical patent/JPS637660A/ja
Publication of JPS637660A publication Critical patent/JPS637660A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は半導体装置に係9、特に基板にバイアス電位を
供給するための基板バイアス回路に関する。
(従来の技術) たとえばM OS トランジスタ等を集積化した半導体
集積回路において、単一電源を用いる場合に、この電源
とは逆極性の電位を発生して半導体基板にバイアス電位
として与えるための基板バイアス回路が設けられている
。この基板バイアス回路として、電源電圧の変動に対し
て安定な基板電のを、本願出願人は既に特願昭56−5
7580号によシ提案している。しかし、さらに集積回
路の種類の増大に伴って基板バイアス電位の深さを任意
に設定し得る、換言すれば集積回路の種類に応じて最適
値に設定し得る簡易な手段の具体化が要望されている。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、上記したような基板バイアス電位の深さを任
意に設定したいという要望を具体的に実現するためにな
されたもので、基板バイアス出力ノード近傍のノードの
容量の設定値を変えるだけで所望の深さの基板バイアス
電位を得ることが可能な半導体装置を提供することを目
的とする。
〔発明の構成〕
(問題点を解決するための手段) 本発明は、発振回路の出力を利用して基板バイアスを発
生する単一電源式の半導体装置において、発振回路の出
力に基いて2個のMOSトランジスタを所定のタイミン
グ関係でスイッチ制御することによって所定のノードに
三値レベルを有する・ザルスミ圧を発生させ、このノー
ドと接地端との間に2個の容量を直列に接続し、この2
個の容量の相互接続点と接地端および基板電位出力端と
の間にそれぞれダイオード接続されたMOSトランジス
タを接続してなる基板バイアス回路を具備することを特
徴とするものである。
(作 用) 上記三値レベルの最大値から最小値への電圧変化が2個
の容量により分圧され、この分圧点電圧よシ1個のMO
Sトランジスタのオン状態の電圧降下分だけ低い負電圧
が基板電位出力端に現われるようになる。したがって、
2個の容量の比を変えることによって基板電位を任意の
値に設定することが可能になる。
(実施例) 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明す
る。第1図は半導体集積回路に設けられたNチャネルM
O8(絶縁ゲート型)FET(電界効果トランジスタ)
を用いた基板バイアス回路を示しておシ、1ノは一定周
期の方形波パルス信号aを発生する発振回路、12はこ
の発振回路11から90’位相の異なる2つのパルス信
号1、bを受けて・母ルス信号cを発生するノアゲート
、13tdこのノアゲート12からの/ぐルス信号Cお
よび前記発振回路11からの・fルス信号a’z受けて
集積回路基板に与える基板電位VBUBを発生する基板
電位発生回路である。上記発振回路11は、インバータ
3段のリングオシレータであシ、4個のインバータ■1
〜■4.2個の抵抗素子R8゜R7およびVsm電源ノ
ード(接地電位)に−端が接続された2個の容fkc1
.C2とからなシ、上記インバータI、、I、から互い
に90°位相の異なる方形波・4ルス信号a、bを出力
する。上記インバータI、の出力パルスaはインバータ
I4の出力パルスbよ、Q90°位相が遅れているので
、これらが入力するノアゲート12から上記・ザルス信
となるτアユーティ比のパルス信号Cが出力する。
前記基板電圧発生回路13は、上記ノアゲート12から
の出力パルスCがゲートに入力し、ドレインがVDD電
源ノードに接続されたデイグレッジ1ン型(D型)のM
OSトランジスタQ1と、上記ノアゲート12からの出
力パルスCを反転させるインパータエ、と、このインパ
ータエ、の出力端と前記MOSトランジスタQ、のソー
スとの間に接続された容量C8と、前記発振回路1ノか
らの出力パルスaがゲートに入力し、ソースがVat電
源ノードに接続され、ドレインが前記MOSトランジス
タQ1のソースに接続されたエンハンスメント型(E型
)のMOsトランジスタQt と、このMOSトランジ
スタQ、のドレインに一端が接続された容量C4と、こ
の容量C2の他端にゲート書ドレインが接続され、ソー
スがVsa電源ノードに接続されたE型のMOsトラン
ジスタQ、と、前記容量C1の他端にソースが接続され
、ゲート・ドレインが基板電位出力端に接続されたE型
のMOSトランジスタQ4と、前記容量C4の他端と接
地端との間に接続された基板電位設定制御用の容量Cs
とを具備している。
次に、上記基板バイアス回路の動作を第2図のタイムチ
ャートを参照して説明する。発振回路1ノの出力・やル
スaが論理レベル″1′の期間t1〜t、は、MOSト
ランジスタQ、はオンとなり、そのドレイン(e点)T
jL圧は上記トランジスタQ。
のオン状態での電圧降下分に相当するVf、 ′4位と
なる。次に、パルス信号a、bが共に論理レベル#On
になるt、〜t1期間は、パルス信号Cが′1ルベルに
なるのでMO8hランジスタQ。
が導通し、そのソース(・点)電位はVDD電位となる
。このとき、インパータエ、の出力信号dは0”レベル
(VL電位)となっているので、容fkcsにはC,(
VDD−VL) ナル’fl荷カ蓄エラレる。また、こ
のときMOSトランジスタQ、はオフになっている。次
に、28時点で前記パルス信号CがuO″レベルになる
と、インバータ1.の出力信号dは11ルベル(Vnt
位)となり、Mos+−ランジスタQ1はオフとなるの
で、e点屯圧はVDD + (VH−VL )となる。
このとき、容量C4の他端(f点)gt位は、〜IOS
トランジスタQ、によシフラングされ、このMOSトラ
ンジスタQ、のオン状態の電圧降下分に相当するVf。
となシ、容量C4、C5の電荷はそれぞれ刈応して C,(vno+(vu−VL) −Vfs)   −・
−41)(’、mVf、         ・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・(2)となる。次に
、t4時点で−パルス信号息が@1”レベルになると、
MOSトランジスタQ、は再びオンになシ、e点電位は
再びVf、に低下する。このとき、f点の電位は、e点
の電位差分と容量 C4,C5の比によって、Vf、か
ら だけ降下して負電位になる。次に、t、時点でパル、’
1.信号aカ″0”レベル、ノ(ルス信号c カ”1”
レベルになると、MOSトランジスタQ、はオフにな、
9、MOSトランジスタQ1が再びオンになるので・点
電位は再びVDD電位になシ、f点電位は だけ上昇する。次に、t6時点でパルス信号Cが″0″
レベルになると、インバータI、の出力信号dが11ル
ベルになシ、MOSトランジスタQ+はオフとなるので
、e点電位は再びVDD十(VH−Vx、 )となシ、
f点電位はVH−VL だけ上昇してVf、になる。し
たがって、f点と基板電位出力端との間のMOSトラン
ジスタQ4のオン状態の電圧降下分に相当する電圧t−
Vf、で表わすと、基板電位VIIUB  は となる。
上式(5)から分るように、v8UB  を任意の値に
設定するためには、それに必要な容量Ca=C5の比を
得るように容量C3を所定値とするように設計すればよ
い。
〔発明の効果〕
上述したように本発明の半導体装置によれば、基板バイ
アス出力ノード近傍のノードの容量の設定値を変えるだ
けで所望の深さの基板バイアス電位を得ることができ、
半導体装置の種類に応じて基板バイアスを最適値に設定
することが容易になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体装置に設けられた基板バイアス
回路の一実施例を示す回路図、第2図は第1図の回路動
作を説明するために示すタイムチャートである。 11・・・発振回路、12・・・ノアゲート、13・・
・基板電位発生回路、Ql 4Q4・・・MOSトラン
ジスタ、C3〜C3・・・容量、工、・・・インバータ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  発振回路の出力を利用して基板バイアスを発生する単
    一電源式の半導体装置において、第1のパルス信号がゲ
    ートに入力し、ドレインが電源に接続されたデプレッシ
    ョン型のMOSトランジスタQ_1と、前記第1のパル
    ス信号を反転させるインバータと、このインバータの出
    力端と前記MOSトランジスタQ_1のソースとの間に
    接続された容量C_3と、前記第1のパルス信号とはデ
    ューティ比が異なる第2のパルス信号がゲートに入力し
    、ソースが接地端に接続され、ドレインが前記MOSト
    ランジスタQ_1のソースに接続されたエンハンスメン
    ト型のMOSトランジスタQ_2と、このMOSトラン
    ジスタQ_2のドレインに一端が接続された容量C_4
    と、この容量C_4の他端にゲート・ドレインが接続さ
    れ、ソースが接地端に接続されたエンハンスメント型の
    MOSトランジスタQ_3と、同じく前記容量C_4の
    他端にソースが接続され、ゲート・ドレインが基板電位
    出力端に接続されたエンハンスメント型のMOSトラン
    ジスタQ_4と、同じく前記容量C_4の他端と接地端
    との間に接続された基板電位設定制御用の容量C_5と
    を具備することを特徴とする半導体装置。
JP61150850A 1986-06-27 1986-06-27 半導体装置 Pending JPS637660A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61150850A JPS637660A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP61150850A JPS637660A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS637660A true JPS637660A (ja) 1988-01-13

Family

ID=15505741

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61150850A Pending JPS637660A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 半導体装置

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JP (1) JPS637660A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7168598B2 (en) 2001-09-04 2007-01-30 L'oreal Device for dispensing a product

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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