JPS6373637A - 部品処理治具 - Google Patents

部品処理治具

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Publication number
JPS6373637A
JPS6373637A JP61217161A JP21716186A JPS6373637A JP S6373637 A JPS6373637 A JP S6373637A JP 61217161 A JP61217161 A JP 61217161A JP 21716186 A JP21716186 A JP 21716186A JP S6373637 A JPS6373637 A JP S6373637A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tray
cleaning
cover
jig
lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61217161A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Takahashi
健一 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Yonezawa Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Yonezawa Electronics Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61217161A priority Critical patent/JPS6373637A/ja
Publication of JPS6373637A publication Critical patent/JPS6373637A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68313Auxiliary support including a cavity for storing a finished device, e.g. IC package, or a partly finished device, e.g. die, during manufacturing or mounting

Landscapes

  • Cleaning In General (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、部品の処理に利用して有効な治具に関し、特
に電子部品の洗浄に利用して有効な技術忙関する。
〔従来の技術〕
従来の洗浄治具(洗浄搬送用治具)については、特開昭
55−19819号公報に記載されている。
その概要は、対向する一対の枠体と、両枠体な固定的に
連結する隔体と、上記枠体間に緊張支持される複数の線
体枚数の帯体又は、両級を折り曲げた帯体とを具備し、
複数の線体・帯体又は帯体の両縁間に電子製品を弾力的
に挾持するようにしたものである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明者は、上記洗浄搬送用治具(以下洗浄治具とする
)と同様な洗浄治具を用い、被洗浄物として、バクケー
ジの西側面からリードが突出しているIC(以下FPタ
イプICとする)を洗浄しようとした際、以下に示すよ
うな問題があることを明らかにした。
すなわち、ICを弾力的に挾持する構造であるため、F
PタイプICの場合には、線体がリードにあたるため、
リード曲りが発生することになり、洗浄治具を使用する
ことができないといと問題である。
また、FPタイプICは、複数行、複数列に収納可能な
トレーに収納されて製造工程間を搬送されるが、洗浄の
ために、FPタイプICをトレーから取り出し、洗浄治
具にセットする作業が必要となり、洗浄のための段取り
作業に時間がかかるという問題である。
本発明の目的は、ICのリード曲りを発生させることな
く洗浄できる治具を提供することにある。
本発明の他の目的は、IC洗浄のための段取り作業を短
時間で行なうことができる治具を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとうりである。
すなわち、洗浄治具として、トレーごとICを収納する
溝と、前記溝上方に設けられ、トレーに対して押え機能
を有するカバーが設けられた治具を用い、その溝にトレ
ーに入ったICをセットし、上方から、ICを、若干の
すき間をもって覆うとともにトレーをおさえ、トレーご
とICを洗浄するものである。
〔作用〕
上記した手段によれば、FPタイプICは、トレーごと
そのパッケージ部分をおさえられることKなり、ICの
リードが洗浄治具に接触することが低減される。それゆ
え、FPタイプICは、リード曲りを低減して洗浄でき
るものである。
また、FPタイプICは、トレーごと洗浄治具に収納さ
れるため、ICを1個ずつ洗浄治具にセットするものに
比べ、洗浄治具にセットする時間を短縮でき、IC洗浄
のための段取り時間を短縮できるものである。
〔実施例〕
第1図は、本発明の一実施例である部品処理治具に1部
品としてのICが収納されるトレーを収納した状態を示
す一部破砕斜視図である。
@2図は、本発明の一実施例である部品処理治具に、I
Cを、トレーごと収納した状態を示す断面図である。
第1図において、1は部品処理治具(以下洗浄治具とす
る)である。2は、収納レールであり、その長手方向に
渡って、後述するカバー、及びトレーを収納するための
溝が形成されている。この収納レール2は、2本が対向
して1組となり、複数組のレールが、多段に配置される
。3は、第1の溝であり、前記収納レール2の上部に、
その断面がL字状に形成され、後述するカバーを収納し
得るようKなっている。4は、第2の溝であり、前記収
納レール30下部に、その断面がL字状に形成され、後
述するトレーを収納し得るよう罠なっている。5は、押
え部材としての板ばねであり、前記収納レール2Vc、
スペーサ6を介して2個ずつ設けられている。この板ば
ね5は、後述するカバーを、上方から、ばね力をもって
おさえ得るようになっている。7はカバーであり、四方
形状で、前記第1の溝に収納される。このカバー7は、
前記板ばね5のばね作用により、洗浄の際など、後述す
るトレーから、それに収納されたICが飛び出さないよ
うにするためのものである。8は、穴であり、カバー7
に複数段けられ、洗浄時、カバー7下の後述するIC(
図示せず)を、洗浄媒体で有効に洗浄し得るため、さら
に洗浄後、洗浄媒体をすみやかに取り除き得るように設
けられている。9は、第1の枠体であり、前記収納レー
ル2長手方向に直交する方向に、その長手方向が設置さ
れている。この第1の枠体9には、複数本の前記収納レ
ール2の一端が取り付けられ、4本の第1の枠体と、後
述する2本の枠体とで、複数本の前記収納レール2を、
洗浄治具1として組立てるものである。lOは、第2の
枠体であり、前記収納レール2長手方向、及び前記第1
の枠体9長手方向と直交する方向にその長手方向があり
、両端K、前記第1の枠体9が取り付けられることkよ
り、本発明の一実施例である洗浄治具を組立てている。
11は、トレーであり、樹脂等により形成され、後述す
るICを収納するための凹部12が複数、規則正しく設
けられている。13は、凸部であり、後述するICのパ
ッケージが載置される部分である。
第2図において、14は部品としてのICであリ、後述
するパッケージの西側面から、後述するリードが突出(
図示は二方向のみ)しているFPタイプのICである。
15は、パッケージであり、ICの主要部を、樹脂など
により覆っているものである。16は、リードであり、
ICの内部と、外部との導通をとるためのもので、前記
パッケージ15の四側面から突出している。
なお、第2図かられかるように、カバー7は、板ばね5
によりおさえられるため、カバー7が、トレー11を覆
い、IC14は、トレー11の凹部12から飛び出さな
いようになっている。
以下、上述した構成の、本発明の一実施例について説明
する。
第1図において、カバー7は、それぞれの収納レール2
の第1の溝311C収納される(図示は最上部のみ)。
次いで、製造工程間のIC搬送に用いられるトレー11
に収納されたIC(図示せず)が、トレー11ごと、そ
れぞれの収納レール2の第2の溝4に収納される。この
際、第2図に示されるように、トレー11内のIC14
は、カバー7の覆いにより、トレー11の凹部12から
飛び出すことなく保持される。そして、IC14は、そ
のリード16が、直接おさえられないため、リード曲り
が低減できる。さらに、洗浄時など、洗浄治具1に対し
て衝撃が加わったとしても、IC14は、トレー11の
凹部12、及びカバー7との間の、小さなスペースで動
くことになり、IC14がトレー11の凹部12内で動
いた際の衝撃を低減できるものである。
また、カバー7には、穴8が複数設けられており、カバ
ーに穴がないものに比べ、洗浄時に、洗浄媒体がICI
 4に有効に作用することができる。
このようにICI 4は、本発明の一実施例である洗浄
治具1に、トレー11ごと収納され、図示しない洗浄装
置または、洗浄槽により、自動ないし手動で洗浄処理が
行なわれる。
なお、カバー7の形状及び板ばね5の形状などは、任意
の形状でよく、それぞれ、トレー11内のICを、おさ
え得る構造、あるいは、カバーを上方からばね力をもっ
ておさえ得るような構造であればよい。
また%ICについても、FPタイプICのほかに、トレ
ーに収納可能なものであれば、どんなものにも適用でき
る。
上記より (1)ICを収納したトレーを収納する溝と、前記溝上
方に設けられ、トレーに対して押え機能を有するカバー
が設けられた洗浄治具を用い、ICをトレーごと収納し
て洗浄することにより、ICのリードが直接、洗浄治具
に接触しないため、個々のICを、直接治具にはさみ込
むものに比べ、リード曲りを低減できるという効果が得
られる。
(2+ICを収納したトレーを収納する溝と、前記溝上
方に設けられ、トレーに対して押え機能を有するカバー
が設けられた洗浄治具を用いることにより、ICを1個
ずつ洗浄治具にセットするものに比べ、一度に複数個の
ICを、トレ一単位で洗浄治具にセットすることができ
、洗浄作業における段取り時間を短縮できるという効果
が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづぎ
具体的に説明したが、本発明は、上記実施例に限定され
るものではな(、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。
以上の説明では、主として本発明者によってなされた発
明を、その背景となった利用分野である、ICの製造に
おける洗浄治具に適用した場合について説明したが、そ
れに限定されるものではなく、部品の洗浄、熱処理など
、種々の技術に適用できる。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
すなわち、被洗浄物としてのICの、リード曲りを低減
して洗浄でき得るものである。
さらに、洗浄作業の段取り時間を短縮できるものである
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例である部品処理治具に、部
品としてのICが収納されるトレーを収納した状態を示
す一部破砕斜視図、 第2図は、本発明の一実施例である部品処理治具に、I
Cを、トレーごと収納した状態を示す断面図である。 l・・・部品処理治具(洗浄治具)、2・・・収納レー
ル、3・・・第1の溝、4・・・第2の溝、5・・・板
ばね、6・・・スペーサ、7・・・カバー、8・・・穴
、9・・・第1の枠体、10・・・第2の枠体、11・
・・トレー、12・・・凹部、13・・・凸部、14・
・・IC,15・・・パッケージ、 16・・・リード

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、部品が載置されるトレーを収納するトレー収納溝と
    、前記トレー収納溝上方に設けられたカバーと、前記カ
    バーをトレーの部品載置面方向に押えるための押え部材
    とを設けてなることを特徴とする部品処理治具。 2、部品としては、ICであることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の部品処理治具。
JP61217161A 1986-09-17 1986-09-17 部品処理治具 Pending JPS6373637A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61217161A JPS6373637A (ja) 1986-09-17 1986-09-17 部品処理治具

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61217161A JPS6373637A (ja) 1986-09-17 1986-09-17 部品処理治具

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6373637A true JPS6373637A (ja) 1988-04-04

Family

ID=16699810

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61217161A Pending JPS6373637A (ja) 1986-09-17 1986-09-17 部品処理治具

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JP (1) JPS6373637A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102764751A (zh) * 2012-08-07 2012-11-07 江西联创电子有限公司 触摸屏功能片清洁治具
CN103406321A (zh) * 2013-07-09 2013-11-27 深圳市科利德光电材料股份有限公司 玻璃基板清洗支撑架
JP2014086595A (ja) * 2012-10-24 2014-05-12 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハ収容カセット

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