JPS6372868A - 耐食性、耐候性に優れた外装用建材 - Google Patents
耐食性、耐候性に優れた外装用建材Info
- Publication number
- JPS6372868A JPS6372868A JP21593286A JP21593286A JPS6372868A JP S6372868 A JPS6372868 A JP S6372868A JP 21593286 A JP21593286 A JP 21593286A JP 21593286 A JP21593286 A JP 21593286A JP S6372868 A JPS6372868 A JP S6372868A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica
- building material
- corrosion resistance
- stainless steel
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 title claims abstract description 44
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 239000004566 building material Substances 0.000 title claims abstract description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 90
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 10
- 239000010953 base metal Substances 0.000 abstract 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000010965 430 stainless steel Substances 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 5
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 4
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000002917 insecticide Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052909 inorganic silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000256602 Isoptera Species 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 239000000077 insect repellent Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013842 nitrous oxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は加工後においても優れた耐食性、耐候性を有
するシリカ(Si02)被覆を施した外装用ステンレス
建材に関するものである。
するシリカ(Si02)被覆を施した外装用ステンレス
建材に関するものである。
従来の技術
従来より、ステンレス鋼は表面処理を施さず素地のまま
でも使える耐食性構造材料として広く使用されてきた。
でも使える耐食性構造材料として広く使用されてきた。
しかし、最近になってさらにその表面の美麗さからイン
テリア以外にも建材の外板や屋根材などいわゆるエフス
テリアに用いられる事が多くなってきた。このような時
、常に表面を洗浄することができるならともかく、普通
はいったん建造したらそのままにされる場所が少なくな
い、このような箇所では長期使用の間に表面にいわゆる
赤い点さびを生じ、これにより本来子まれるステンレス
鋼表面特有の美麗さが失われてしまう。
テリア以外にも建材の外板や屋根材などいわゆるエフス
テリアに用いられる事が多くなってきた。このような時
、常に表面を洗浄することができるならともかく、普通
はいったん建造したらそのままにされる場所が少なくな
い、このような箇所では長期使用の間に表面にいわゆる
赤い点さびを生じ、これにより本来子まれるステンレス
鋼表面特有の美麗さが失われてしまう。
建材、特に外装に用いられる建材については美観状表面
の美麗さをいつまでも保ち、長期間にわたって表面品質
が保護されることが望まれる。このような観点から、建
材用材料の耐食性をもっと向上させることが必要となっ
ている。
の美麗さをいつまでも保ち、長期間にわたって表面品質
が保護されることが望まれる。このような観点から、建
材用材料の耐食性をもっと向上させることが必要となっ
ている。
我々は、種々の研究を重ねた結果、非晶質シリカを主成
分とするステンレス鋼皮膜が耐食性を持つことをつきと
めた。そして上記非晶質シリカの製造法として水素ガス
中あるいは水素とアルゴンもしくは窒素などの不活性ガ
スとの混合ガス中で高温処理することにより、ステンレ
ス鋼中に存在するシリコン成分を酸化し、ステンレス鋼
表面にシリカを生成させる方法を示した(特開昭58−
197282号)。
分とするステンレス鋼皮膜が耐食性を持つことをつきと
めた。そして上記非晶質シリカの製造法として水素ガス
中あるいは水素とアルゴンもしくは窒素などの不活性ガ
スとの混合ガス中で高温処理することにより、ステンレ
ス鋼中に存在するシリコン成分を酸化し、ステンレス鋼
表面にシリカを生成させる方法を示した(特開昭58−
197282号)。
また、エチルシリケートを含むアルコール溶液に酸を添
加した溶液を金属表面に塗布し、400〜1200℃の
還元雰囲気中で加熱することにより各種金属表面にシリ
カ分を含む耐食性皮膜を形成する方法を示した(特公昭
60−20462号)。
加した溶液を金属表面に塗布し、400〜1200℃の
還元雰囲気中で加熱することにより各種金属表面にシリ
カ分を含む耐食性皮膜を形成する方法を示した(特公昭
60−20462号)。
また、無機の珪酸塩化合物の水溶液もしくはシリカゾル
の水けんだく液中で処理し、引続き光輝焼鈍を行なうこ
とによりシリカを含む耐食性皮膜を形成する方法も示し
た(特開昭59−1885号)。
の水けんだく液中で処理し、引続き光輝焼鈍を行なうこ
とによりシリカを含む耐食性皮膜を形成する方法も示し
た(特開昭59−1885号)。
しかしながら、従来のステンレス鋼中シリカ成分の酸化
による方法、あるいはエチルシリケート、無機珪酸塩化
合物などの処理後に高温処理を行う方法では、シリカの
含有率が低く、またミクロ的に見て均質かつ平滑なシリ
カ被覆を施すことが難しかった。建材の場合施行時にお
いて、例えば屋根、窓枠、などの接合部分あるいは端部
などが強く加工される事があり、実際に建材が用いられ
る過程を考慮すれば、加工された状態においても優れた
耐食性、耐候性を有する事が必須条件である。しかるに
、前記のシリカ皮膜形成方法では、加工時にミクロクラ
ックの発生あるいは皮膜の剥離等を起こしやすく、強く
加工された部位での耐食性、耐候性は必ずしも充分では
なかった。
による方法、あるいはエチルシリケート、無機珪酸塩化
合物などの処理後に高温処理を行う方法では、シリカの
含有率が低く、またミクロ的に見て均質かつ平滑なシリ
カ被覆を施すことが難しかった。建材の場合施行時にお
いて、例えば屋根、窓枠、などの接合部分あるいは端部
などが強く加工される事があり、実際に建材が用いられ
る過程を考慮すれば、加工された状態においても優れた
耐食性、耐候性を有する事が必須条件である。しかるに
、前記のシリカ皮膜形成方法では、加工時にミクロクラ
ックの発生あるいは皮膜の剥離等を起こしやすく、強く
加工された部位での耐食性、耐候性は必ずしも充分では
なかった。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、加工後においても優れた耐食性、耐候性を有
するシリカ被覆を施した外装用ステンレス建材の開発を
意図したものである。
するシリカ被覆を施した外装用ステンレス建材の開発を
意図したものである。
問題点を解決するための手段
本発明は、ステンレス鋼の表面にPvDあるいはCVD
法によりシリカ皮膜を厚み0.01〜1uLII被覆し
たことを特徴とする耐食性、耐候性に優れた外装用建材
に関するものである。
法によりシリカ皮膜を厚み0.01〜1uLII被覆し
たことを特徴とする耐食性、耐候性に優れた外装用建材
に関するものである。
すなわち、PvDあるいはCVD法を用い、ステンレス
鋼を積極的にシリカコーティングすることにより、より
耐食性に優れ、かつ皮膜自身も加工性のある、外装用建
材を開発したものである。
鋼を積極的にシリカコーティングすることにより、より
耐食性に優れ、かつ皮膜自身も加工性のある、外装用建
材を開発したものである。
本発明は適切な表面清浄化を行なった後、金属材料の表
面にPVDあるいはCVD法によりシリカ皮膜を厚み0
.0l−1h■被覆したことを特徴とする耐食性、耐候
性に優れた外装用建材に関するものである。なお、ここ
で言うところの外装用建材としては、例えば屋根材、雨
樋、ドアー、窓枠、手すり、壁材などであり、これらの
建築材料は施工時にその最終形状に加工されることが多
い。
面にPVDあるいはCVD法によりシリカ皮膜を厚み0
.0l−1h■被覆したことを特徴とする耐食性、耐候
性に優れた外装用建材に関するものである。なお、ここ
で言うところの外装用建材としては、例えば屋根材、雨
樋、ドアー、窓枠、手すり、壁材などであり、これらの
建築材料は施工時にその最終形状に加工されることが多
い。
ここでのPVD法としては例えばイオンブレーティング
、スパッタリング法などがある。スパッタリング法では
、アルゴンなどの不活性ガス中のプラズマ反応により生
じたイオンによりシリカターゲットをスパッタし、基板
にシリカを被覆することができる。あるいは、いわゆる
反応性スパッタリング、例えばシリコンをターゲットと
し、アルゴンなどの不活性ガスと共に酸素など酸素源と
なるガスを用い、スパッタされたシリコンを酸化して基
板上にシリカを被覆することもできる。
、スパッタリング法などがある。スパッタリング法では
、アルゴンなどの不活性ガス中のプラズマ反応により生
じたイオンによりシリカターゲットをスパッタし、基板
にシリカを被覆することができる。あるいは、いわゆる
反応性スパッタリング、例えばシリコンをターゲットと
し、アルゴンなどの不活性ガスと共に酸素など酸素源と
なるガスを用い、スパッタされたシリコンを酸化して基
板上にシリカを被覆することもできる。
また、イオンブレーティング法においても、上記スパッ
タリング法と同様にシリコンを蒸発させ、それを酸化す
ることによりシリカを生成でさる。
タリング法と同様にシリコンを蒸発させ、それを酸化す
ることによりシリカを生成でさる。
CV D 法の一例であるプラズマCVD法においては
、シランガス(Silと共に酸素ガス、笑気ガス(N2
0)などの酸素源となるガスを含む混合ガス中でプラズ
マCVD反応を行なわせることによってシリカ被覆がで
きる。
、シランガス(Silと共に酸素ガス、笑気ガス(N2
0)などの酸素源となるガスを含む混合ガス中でプラズ
マCVD反応を行なわせることによってシリカ被覆がで
きる。
以上述べたPVDあるいはCVD法によれば、良くコン
トロールされた結晶あるいは算結晶シリカを均一かつピ
ンホールなどの欠陥の少ない、従って耐食性に債れたコ
ーティングが可使である。この様な均一かつち密な皮膜
は、充分な耐食性を示す膜厚がQ<、かつ皮膜中のクラ
ックなどの欠陥が少なく、また下地金属との密着性がよ
いために、下地金属の変形、加工時にも、シリカ薄膜が
よく追従し、従って耐食性をあまり損なうことなく加工
できる特徴がある。
トロールされた結晶あるいは算結晶シリカを均一かつピ
ンホールなどの欠陥の少ない、従って耐食性に債れたコ
ーティングが可使である。この様な均一かつち密な皮膜
は、充分な耐食性を示す膜厚がQ<、かつ皮膜中のクラ
ックなどの欠陥が少なく、また下地金属との密着性がよ
いために、下地金属の変形、加工時にも、シリカ薄膜が
よく追従し、従って耐食性をあまり損なうことなく加工
できる特徴がある。
シリカ皮膜の厚みとして0.01 u−以上あれば耐食
性の観点からみて効果があるが、Igmを超えると加工
時に′A離しやすくなり、より好ましくは0.1−=l
JL−である。シリカ皮膜はスパッタリング、イオンブ
レーティングなどのPVD法によっても生成できるが、
生産性、大面植処理した場合の膜の均一性からは、プラ
ズマ−CVD法が望ましい。
性の観点からみて効果があるが、Igmを超えると加工
時に′A離しやすくなり、より好ましくは0.1−=l
JL−である。シリカ皮膜はスパッタリング、イオンブ
レーティングなどのPVD法によっても生成できるが、
生産性、大面植処理した場合の膜の均一性からは、プラ
ズマ−CVD法が望ましい。
生成されるシリカの耐食性はPvDあるいはCVDの操
作条件ならびにコーティング前の表面前処理条件等と密
接に関わっている。加工時においても優れた耐食性、耐
候性を保証するためには、加工時にシリカ皮膜の瀾離は
もちろんミクロクラックなどの皮膜弱点の発生を極力抑
えることが重要である。加工時においても上記皮膜弱点
の発生を防止するためには、金属とシリカの間の密着性
を向上させることが重要である。この目的のためには、
イオンブレーティング法が最も好ましい、イオンブレー
ティング法では、皮膜形成原子のエネルギーが高く、金
属基板に8該原子が激しく衝突し、基板金属のスパッタ
リングあるいは界面近傍の原子が界面相互に移動し、明
確な金属/シリカ界面が消滅し密着性が著しく向上する
。
作条件ならびにコーティング前の表面前処理条件等と密
接に関わっている。加工時においても優れた耐食性、耐
候性を保証するためには、加工時にシリカ皮膜の瀾離は
もちろんミクロクラックなどの皮膜弱点の発生を極力抑
えることが重要である。加工時においても上記皮膜弱点
の発生を防止するためには、金属とシリカの間の密着性
を向上させることが重要である。この目的のためには、
イオンブレーティング法が最も好ましい、イオンブレー
ティング法では、皮膜形成原子のエネルギーが高く、金
属基板に8該原子が激しく衝突し、基板金属のスパッタ
リングあるいは界面近傍の原子が界面相互に移動し、明
確な金属/シリカ界面が消滅し密着性が著しく向上する
。
また、コーティング前に金属表面を清浄するための前処
理が極めて重要である。この目的のためには、従来より
用いられている、脱脂などが有用であるが、特に真空槽
内でのイオンボンバードあるいは逆スパツタリングによ
るクリーニングが有効である0以上の表面前処理により
密着性が向上し、加工時においてもシリカ皮膜のクラッ
ク発生が抑えられ、建材としての優れた特性を発揮でき
る。
理が極めて重要である。この目的のためには、従来より
用いられている、脱脂などが有用であるが、特に真空槽
内でのイオンボンバードあるいは逆スパツタリングによ
るクリーニングが有効である0以上の表面前処理により
密着性が向上し、加工時においてもシリカ皮膜のクラッ
ク発生が抑えられ、建材としての優れた特性を発揮でき
る。
また、シリカ、アルミナなどのセラミックスは一般には
熱伝導性が金属材料に比較して低く、断熱効果が高いた
めに、建築物の保温効果に優れている。この断熱性は以
上の効果の他にも、屋内外の温度差による結露防止に有
効に働く、これは、結露防止の観点のみでなく、腐食現
象には通常水分が不可欠である事から、結露による水分
の凝縮を防止し、腐食反応の低減へと導き、さらに耐食
性を高める働きをする。
熱伝導性が金属材料に比較して低く、断熱効果が高いた
めに、建築物の保温効果に優れている。この断熱性は以
上の効果の他にも、屋内外の温度差による結露防止に有
効に働く、これは、結露防止の観点のみでなく、腐食現
象には通常水分が不可欠である事から、結露による水分
の凝縮を防止し、腐食反応の低減へと導き、さらに耐食
性を高める働きをする。
また、一般に建材は様々な金属材料が複合して用いられ
ることが多い、この様な場合においても、シリカは絶縁
性にも優れており、建材のうち特に雨樋、屋根材などの
部材において、異種金属との接触部分にシリカ被覆を施
すことにより、異種金属間を電気的に絶縁することがで
き、いわゆる異種金属接触腐食(ガルバニック−コロ−
ジョン)をも防止できる。
ることが多い、この様な場合においても、シリカは絶縁
性にも優れており、建材のうち特に雨樋、屋根材などの
部材において、異種金属との接触部分にシリカ被覆を施
すことにより、異種金属間を電気的に絶縁することがで
き、いわゆる異種金属接触腐食(ガルバニック−コロ−
ジョン)をも防止できる。
さらに、シリカ被覆したステンレス鋼は耐食性が高いこ
とから、耐薬品性、耐汚染性にも優れ。
とから、耐薬品性、耐汚染性にも優れ。
建材のうち特に壁材などの部分に、木製部分の保護ある
いは家屋外での駆除を目的として白蟻防除剤、嫌虫剤な
どの薬品類を塗布することができる。
いは家屋外での駆除を目的として白蟻防除剤、嫌虫剤な
どの薬品類を塗布することができる。
以上の様に、シリカ被覆建材は、本質的に耐食性、耐候
性があるのみでなく、皮膜製造プロセス、前処理を適切
に選択することにより加工時においても耐食性、耐候性
の劣化がなく、また断熱性による結露防止、電気絶縁性
による異種金属接触腐食の防止、薬品類の塗布可能なと
、外装用建材としての優れた特性を示す。
性があるのみでなく、皮膜製造プロセス、前処理を適切
に選択することにより加工時においても耐食性、耐候性
の劣化がなく、また断熱性による結露防止、電気絶縁性
による異種金属接触腐食の防止、薬品類の塗布可能なと
、外装用建材としての優れた特性を示す。
なお、建材としては、製筒性などを目的としてPvDあ
るいはCVD法によりすでに単層あるいは多層にわたり
金属あるいはセラミックスをコーティングした上に、最
終コーティングとしてシリカコートしたものでもよい。
るいはCVD法によりすでに単層あるいは多層にわたり
金属あるいはセラミックスをコーティングした上に、最
終コーティングとしてシリカコートしたものでもよい。
実施例
実施例1
プラズマ−CVDによりシリカ被覆した場合の実施例を
示す、基板の430ステンレス鋼(100X100m5
)の温度を300℃にしたのち、反応ガス種l(シラン
3%、残りアルゴンのガス)ならびに反応ガス種2(笑
気ガス100%)を用い、操作時の圧力を0.1 To
rrに保った。高周波型1tA(300W)を電極間に
印加させ、プラズマを発生し処理を行った。
示す、基板の430ステンレス鋼(100X100m5
)の温度を300℃にしたのち、反応ガス種l(シラン
3%、残りアルゴンのガス)ならびに反応ガス種2(笑
気ガス100%)を用い、操作時の圧力を0.1 To
rrに保った。高周波型1tA(300W)を電極間に
印加させ、プラズマを発生し処理を行った。
基板の前処理としては脱脂のみと5分間のイオンボンバ
ードとを用いた。生成した皮膜はエリプソメトリ−によ
り膜厚を測定した。また、加工後の耐食性を試験する目
的で、一部の試料は、2.5T曲げをしたのち腐食試験
を行った。
ードとを用いた。生成した皮膜はエリプソメトリ−によ
り膜厚を測定した。また、加工後の耐食性を試験する目
的で、一部の試料は、2.5T曲げをしたのち腐食試験
を行った。
以上の様にして作成されたシリカ被覆された430ステ
ンレス鋼は、我々により開発された耐食性試験(注1)
により評価した。結果を表1に示す、いずれの試験片も
A : 430ステンレス素地ままの場合に比較して優
れた耐食性を示した。特に、イオンボンバードした試験
片は加工しても耐食性の劣化が殆どみられず、基板の前
処理が重要であることが明らかとなった。
ンレス鋼は、我々により開発された耐食性試験(注1)
により評価した。結果を表1に示す、いずれの試験片も
A : 430ステンレス素地ままの場合に比較して優
れた耐食性を示した。特に、イオンボンバードした試験
片は加工しても耐食性の劣化が殆どみられず、基板の前
処理が重要であることが明らかとなった。
(以下余白)
これらのシリカ被覆試験片は、1ケ月の海岸地区での暴
露試験でも良好な耐食性を示し、5US3041ままよ
りも良い耐食性を示した。また、イオンボンバード処理
した後、シリカを被覆した430ステンレス鋼を2.5
T曲げし、さらに市販の殺虫剤を塗布し、前記と同様に
海岸地区で1ケ月暴露したがwJ著な錆は発生しなかっ
た。
露試験でも良好な耐食性を示し、5US3041ままよ
りも良い耐食性を示した。また、イオンボンバード処理
した後、シリカを被覆した430ステンレス鋼を2.5
T曲げし、さらに市販の殺虫剤を塗布し、前記と同様に
海岸地区で1ケ月暴露したがwJ著な錆は発生しなかっ
た。
実施例2
マグネトロン−スパッタリングによりシリカ被覆した場
合の実施例を示す、基板430ステンレス鋼のサイズは
80X80mmであり、ターゲットは6インチのSio
2を用いた。膜厚は0.5Bmである。耐食性試験の結
果、表2は、プラズマ−〇VDの場合と同様に、5US
430;i’地ままと比較して優れた耐食性を示した。
合の実施例を示す、基板430ステンレス鋼のサイズは
80X80mmであり、ターゲットは6インチのSio
2を用いた。膜厚は0.5Bmである。耐食性試験の結
果、表2は、プラズマ−〇VDの場合と同様に、5US
430;i’地ままと比較して優れた耐食性を示した。
また実施例1と同様に、イオンボンバード処理した後、
シリカを被覆した430ステンレス鋼を2.5丁曲げし
、さらに市販の殺虫剤を塗布し、海岸地帯で1ケ月暴露
したが極僅かなさびしか発生しなかった。
シリカを被覆した430ステンレス鋼を2.5丁曲げし
、さらに市販の殺虫剤を塗布し、海岸地帯で1ケ月暴露
したが極僅かなさびしか発生しなかった。
表 2
実施例3
イオンブレーティングによりシリカ被覆した場合の実施
例を示す、基板5OS430ステンレス鋼(80X 8
0mm)を200℃に設定した後、シリコンの蒸発は、
電子ビーム加熱装置を用い、電圧をl0KVに、エミッ
ション電流を500膳Aに設定し、実施した。
例を示す、基板5OS430ステンレス鋼(80X 8
0mm)を200℃に設定した後、シリコンの蒸発は、
電子ビーム加熱装置を用い、電圧をl0KVに、エミッ
ション電流を500膳Aに設定し、実施した。
シリコンの酸化には、アルボガスと酸素ガスの混合ガス
を用いた。蒸発したシリコンのイオン化にはRF電源(
200w)をとおして行なった。処理時間は約2分であ
った。膜厚は0.5.gmである。実施例1.2と同様
に優れた耐食性を示した。特に、加工時の耐食性に優れ
ていることが明らかとなった。
を用いた。蒸発したシリコンのイオン化にはRF電源(
200w)をとおして行なった。処理時間は約2分であ
った。膜厚は0.5.gmである。実施例1.2と同様
に優れた耐食性を示した。特に、加工時の耐食性に優れ
ていることが明らかとなった。
また、実施例1および2と同様に、イオンボンバード処
理した後、シリカ被覆した430ステンレス鋼を2.5
丁曲げし、さらに市販の殺虫剤を塗布し、海岸地区で1
ケ月暴露したが、顕著なさびは発生しなかった。
理した後、シリカ被覆した430ステンレス鋼を2.5
丁曲げし、さらに市販の殺虫剤を塗布し、海岸地区で1
ケ月暴露したが、顕著なさびは発生しなかった。
(以下余白)
表 3
発明の効果
本発明によるシリカ被覆ステンレス建材は以上に示した
通り、加工時においても優れた耐食性を示し、断熱性に
よる結露防止、電気的絶縁性による異種金属接触腐食の
防止、駆除を目的とした薬品類の塗布再抽など、建材と
して様々な要件を満たし、建材の寿命を延ばし、美麗な
表面を長期間にわたり、保つことができる。
通り、加工時においても優れた耐食性を示し、断熱性に
よる結露防止、電気的絶縁性による異種金属接触腐食の
防止、駆除を目的とした薬品類の塗布再抽など、建材と
して様々な要件を満たし、建材の寿命を延ばし、美麗な
表面を長期間にわたり、保つことができる。
Claims (1)
- ステンレス鋼表面にPVD法あるいはCVD法によりシ
リカ皮膜を厚み0.01〜1μm被覆したことを特徴と
する耐食性、耐候性に優れた外装用建材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21593286A JPS6372868A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 耐食性、耐候性に優れた外装用建材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21593286A JPS6372868A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 耐食性、耐候性に優れた外装用建材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6372868A true JPS6372868A (ja) | 1988-04-02 |
JPH0468389B2 JPH0468389B2 (ja) | 1992-11-02 |
Family
ID=16680645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21593286A Granted JPS6372868A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 耐食性、耐候性に優れた外装用建材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6372868A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995018878A1 (fr) * | 1994-01-07 | 1995-07-13 | Pechiney Recherche | Bande a base d'aluminium revetue, resistant a la corrosion et deformable |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS589977A (ja) * | 1981-07-10 | 1983-01-20 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 時計用外装部品 |
JPS589979A (ja) * | 1981-07-10 | 1983-01-20 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 腕時計用金属バンド |
JPS58197282A (ja) * | 1982-05-12 | 1983-11-16 | Nippon Steel Corp | 耐銹性ステンレス鋼およびその製造方法 |
JPS61291976A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-12-22 | 新日本製鐵株式会社 | プラズマ利用化学蒸着法によりSiO↓2↓−↓xを被覆したステンレス鋼製物品と該物品の製造方法 |
-
1986
- 1986-09-16 JP JP21593286A patent/JPS6372868A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS589977A (ja) * | 1981-07-10 | 1983-01-20 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 時計用外装部品 |
JPS589979A (ja) * | 1981-07-10 | 1983-01-20 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 腕時計用金属バンド |
JPS58197282A (ja) * | 1982-05-12 | 1983-11-16 | Nippon Steel Corp | 耐銹性ステンレス鋼およびその製造方法 |
JPS61291976A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-12-22 | 新日本製鐵株式会社 | プラズマ利用化学蒸着法によりSiO↓2↓−↓xを被覆したステンレス鋼製物品と該物品の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995018878A1 (fr) * | 1994-01-07 | 1995-07-13 | Pechiney Recherche | Bande a base d'aluminium revetue, resistant a la corrosion et deformable |
FR2714917A1 (fr) * | 1994-01-07 | 1995-07-13 | Pechiney Recherche | Bande à base d'aluminium revêtue, résistant à la corrosion et déformable, procédé d'obtention et applications. |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0468389B2 (ja) | 1992-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2335576C2 (ru) | Подложки, покрытые смесями титановых и алюминиевых материалов, способы получения подложек и катодные мишени из металлических титана и алюминия | |
KR0179463B1 (ko) | 어닐링된 저복사율의 피막 | |
JP2523561B2 (ja) | ガラスまたはセラミック材料の物体から金属イオンを除去する方法 | |
Kulczyk-Malecka et al. | Diffusion studies in magnetron sputter deposited silicon nitride films | |
Kelesoglu et al. | Corrosion characteristics of plain carbon steel coated with TiN and ZrN under high-flux ion bombardment | |
JPH0456111B2 (ja) | ||
JP2005097685A (ja) | 耐食性部材およびその製造方法 | |
JPH0320457A (ja) | アルミナ被覆Al・Al合金部材の製造方法 | |
JPS6372868A (ja) | 耐食性、耐候性に優れた外装用建材 | |
JP2004512246A (ja) | 仮保護カバーを保有する親水性表面 | |
JPS62103379A (ja) | Cvd装置およびドライ・エツチング装置における真空チヤンバの製造方法 | |
JPH0679444B2 (ja) | 電気皮膜 | |
JPH07180029A (ja) | 耐食性材料及びその製造方法 | |
US5024721A (en) | Method of forming metal surface thin film having high corrosion resistance and high adhesion | |
US5830579A (en) | Strip based on coated aluminum, which is resistant to corrosion and is deformable | |
JP3035209B2 (ja) | 耐食性材料及びその製造方法 | |
KR100967709B1 (ko) | 실리콘 산화물 증착 도금강판 및 그 제조방법 | |
JPH05306460A (ja) | アルミナ膜をコーティングした絶縁材料の製造方法 | |
JPH06299347A (ja) | 電気絶縁性板状材料の製造方法 | |
JPS6187893A (ja) | チタニウム又はチタニウム合金への表面処理方法 | |
Hashimoto et al. | Surface modification of stainless steel in plasma environments | |
Marco et al. | Corrosion behaviour of AlN and TiAlN coatings on iron | |
JP3634460B2 (ja) | 耐ハロゲン系ガス腐食性及び耐ハロゲン系プラズマ腐食性に優れたコーティング膜並びに該コーティング膜を施した積層構造体 | |
JP2000054162A (ja) | 耐溶出性に優れた膜構造 | |
JP2000054114A (ja) | 耐熱性、耐摩耗性に優れた膜構造 |