JPS6372054A - 試料面分析装置 - Google Patents
試料面分析装置Info
- Publication number
- JPS6372054A JPS6372054A JP61215409A JP21540986A JPS6372054A JP S6372054 A JPS6372054 A JP S6372054A JP 61215409 A JP61215409 A JP 61215409A JP 21540986 A JP21540986 A JP 21540986A JP S6372054 A JPS6372054 A JP S6372054A
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- Japan
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- sample
- motor
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- electron beam
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Links
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 title 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 13
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は、電子ビーム等の荷電粒子線を試料表面に照射
し、試料より発生する電子、Ｘ線等を用いて試料物性を
分析する装置において、試料の広範囲表面における分析
をする装置に関する。
し、試料より発生する電子、Ｘ線等を用いて試料物性を
分析する装置において、試料の広範囲表面における分析
をする装置に関する。
口、従来の技術
］ンピュータによって試料面のカラーマツピング等が可
能になり、電子線マイクロアナライザー＜ＥＰＭＡ）に
おいても試料表面の広領域の定性分析や特定元素の定量
分析ご行うことか求められるようになってきた。
能になり、電子線マイクロアナライザー＜ＥＰＭＡ）に
おいても試料表面の広領域の定性分析や特定元素の定量
分析ご行うことか求められるようになってきた。
しかし、従来それは平面の試料をＸ−Ｙ方向に移動して
行うことのみが可能で、しかもＥ Ｐ Ｍ Ａ等は本来
試料の局所（１μｍオーダー）を分析する装置であり、
広範囲な試料面に対してはＪ、料を２次元に駆動させる
と共に、分析面積を画素に分割し、−画素毎にＸ線測定
をしなければならず測定には非常な時間がかかる。これ
に加えて現実の測定は試料をＸ方向へ順次一画素づつ移
動しては止め、また移動すると言った繰り返しで一木の
線上の走査を終了すると、次にＹ方向に一画素移動して
再び次の線上をＸ方向へ移動する方式をとっており、機
構の慣性等のためにスロースタート、スローストップを
繰り返しており、次の走査位置に移る場合にはバックラ
ッシュの除去も必要で試料の移動のために測定時間の何
倍もの時間を要し、一つの面の測定に数時間〜１０数時
間かかると言ったこともある。
行うことのみが可能で、しかもＥ Ｐ Ｍ Ａ等は本来
試料の局所（１μｍオーダー）を分析する装置であり、
広範囲な試料面に対してはＪ、料を２次元に駆動させる
と共に、分析面積を画素に分割し、−画素毎にＸ線測定
をしなければならず測定には非常な時間がかかる。これ
に加えて現実の測定は試料をＸ方向へ順次一画素づつ移
動しては止め、また移動すると言った繰り返しで一木の
線上の走査を終了すると、次にＹ方向に一画素移動して
再び次の線上をＸ方向へ移動する方式をとっており、機
構の慣性等のためにスロースタート、スローストップを
繰り返しており、次の走査位置に移る場合にはバックラ
ッシュの除去も必要で試料の移動のために測定時間の何
倍もの時間を要し、一つの面の測定に数時間〜１０数時
間かかると言ったこともある。
ハ９発明が解決しようとする間居点
本発明は、上述したような試料の移動における無駄な時
間を除去し、試料を高速にて数ｍｍ’〜数ｃｍ２の広範
囲の試料面を走査可能にすることを目的とする。
間を除去し、試料を高速にて数ｍｍ’〜数ｃｍ２の広範
囲の試料面を走査可能にすることを目的とする。
二１問題点解決のための手段
電子線等によって試料を励起させ、試料がら放射される
放射線を測定することによって、試料面の物性を分析す
る試料面分析装置において、試料面な円筒面に形成した
試料を円筒面の軸を回転軸として回転させる手段と、試
料を軸方向に移動させる手段を設けた。
放射線を測定することによって、試料面の物性を分析す
る試料面分析装置において、試料面な円筒面に形成した
試料を円筒面の軸を回転軸として回転させる手段と、試
料を軸方向に移動させる手段を設けた。
ホ、ｆヤ用
従来、測定域の走査は試料をＸ方向に往復移動させて行
っているが、上記したように走査時間の短縮に際し、こ
の往復運動が種々の問題の原因である。従って、本発明
は試料面を円筒状にし、試料を回転させながら軸方向に
移動させることにより、励起線が試料面を螺線条に走査
するようにした。従って、試料移動は一方向に対しての
みの移動となるので、ｘ−ｙ方向による走査の時に問題
となるバックラッシュ等は発生しなくなる。連続走査を
行えば、試料ステージ等の慣性によって起こる問題も解
決されて、試料走査を高速に行うことが可能となる。
っているが、上記したように走査時間の短縮に際し、こ
の往復運動が種々の問題の原因である。従って、本発明
は試料面を円筒状にし、試料を回転させながら軸方向に
移動させることにより、励起線が試料面を螺線条に走査
するようにした。従って、試料移動は一方向に対しての
みの移動となるので、ｘ−ｙ方向による走査の時に問題
となるバックラッシュ等は発生しなくなる。連続走査を
行えば、試料ステージ等の慣性によって起こる問題も解
決されて、試料走査を高速に行うことが可能となる。
へ、実施例
第１図に本発明の一実施例を示す、第１図において、Ｓ
は円柱又は円筒状に形成した試料、Ｂは試料Ｓを励起さ
せる電子ビーム、１は電子ビームＢを試料Ｓ上に収束さ
せる電磁レンズ、２は回転ステージ台で、試料Ｓを挟持
する一対の試料固定軸３，３′を内蔵した２対のベアリ
ング４で回転自在に保持する。一方の試料固定軸３の端
にはギャラを設けである。ギャラは回転ステージ台２の
底面又は側面に試料固定軸３と同じ軸方向で設置された
モーター８の軸に設けられたギヤ６とタイミングベルト
７で連結されている。９はＸ移動テーブルで回転ステー
ジ台２を固定軸３と平行なＸ方向に移動させる。１０は
試料Ｓから放出されるＸ線を分光する分光結晶、１１は
分光結晶１０で分光されてＸ線を検出するＸ線検出器、
１２は試料Ｓから放出される２次電子線を検出する検出
器、１３は制御・計測装置でモーター８．Ｘ移動テーブ
ル９を制御して試料Ｓの走査制御を行ったり、分光結晶
１０及びＸ！！検出器１１を駆動して波長走査をしたり
、Ｘ線検出器１１又は検出器１２より得られる信号を処
理して試料元素の濃度分布データ或は試料表面状態の信
号を出力する。
は円柱又は円筒状に形成した試料、Ｂは試料Ｓを励起さ
せる電子ビーム、１は電子ビームＢを試料Ｓ上に収束さ
せる電磁レンズ、２は回転ステージ台で、試料Ｓを挟持
する一対の試料固定軸３，３′を内蔵した２対のベアリ
ング４で回転自在に保持する。一方の試料固定軸３の端
にはギャラを設けである。ギャラは回転ステージ台２の
底面又は側面に試料固定軸３と同じ軸方向で設置された
モーター８の軸に設けられたギヤ６とタイミングベルト
７で連結されている。９はＸ移動テーブルで回転ステー
ジ台２を固定軸３と平行なＸ方向に移動させる。１０は
試料Ｓから放出されるＸ線を分光する分光結晶、１１は
分光結晶１０で分光されてＸ線を検出するＸ線検出器、
１２は試料Ｓから放出される２次電子線を検出する検出
器、１３は制御・計測装置でモーター８．Ｘ移動テーブ
ル９を制御して試料Ｓの走査制御を行ったり、分光結晶
１０及びＸ！！検出器１１を駆動して波長走査をしたり
、Ｘ線検出器１１又は検出器１２より得られる信号を処
理して試料元素の濃度分布データ或は試料表面状態の信
号を出力する。
以上の構成において、モーター８とＸ移動テーブル９に
よって測定点に試料Ｓを移動させ、電子ビームＢを電磁
レンズ１によって試料Ｓ上に焦点を結ばせる。モーター
８を回転させ、試料Ｓをゆっくりと回転させる。モータ
ー８の回転に合わせてＸ移動テーブル９を作動させて、
試料Ｓが一回転に対し１画素分Ｘ方向に移動させる。こ
のように試料Ｓを移動させながら試料Ｓから放出される
Ｘ線や電子線を検出する。その検出信号を制御計測装置
１３により、一定時間（例えば試料の円周方向に沿って
５００画素ら１１５０回転時間）積分して１画素データ
として測定位置（試料角位置とＸ移動テーブルの位Ｔ）
と共に記憶させる。測定が終了すれば記憶データを処理
して表示装置等に元素濃度分布図として表示させる。
よって測定点に試料Ｓを移動させ、電子ビームＢを電磁
レンズ１によって試料Ｓ上に焦点を結ばせる。モーター
８を回転させ、試料Ｓをゆっくりと回転させる。モータ
ー８の回転に合わせてＸ移動テーブル９を作動させて、
試料Ｓが一回転に対し１画素分Ｘ方向に移動させる。こ
のように試料Ｓを移動させながら試料Ｓから放出される
Ｘ線や電子線を検出する。その検出信号を制御計測装置
１３により、一定時間（例えば試料の円周方向に沿って
５００画素ら１１５０回転時間）積分して１画素データ
として測定位置（試料角位置とＸ移動テーブルの位Ｔ）
と共に記憶させる。測定が終了すれば記憶データを処理
して表示装置等に元素濃度分布図として表示させる。
上記実施例では、試料Ｓを円柱形または円筒形としたが
、フィルム、シート、薄板等は円筒形のドラムに巻きつ
けて、上記試料Ｓのかわりすることにより、上記薄板等
の試料の測定も可能となるト、効果 本発明によれば、試料を連続移動させて試料走査を行う
ので、走査時間の短縮が計れ、測定能率が向上した。
、フィルム、シート、薄板等は円筒形のドラムに巻きつ
けて、上記試料Ｓのかわりすることにより、上記薄板等
の試料の測定も可能となるト、効果 本発明によれば、試料を連続移動させて試料走査を行う
ので、走査時間の短縮が計れ、測定能率が向上した。
図は本発明の一実施例の断面図である。
Ｓ・・・試料、Ｂ・・・電子ビーム、１・・・電磁レン
ズ、２・・・回転ステージ台、３・・・試料固定軸７３
′・・・試料固定軸、４・・・ベアリング、５・・・ギ
ヤ、６・・・ギヤ。 ７・・・タイミングベルト、８・・・モーター、９・・
・Ｘ移動テーブル、１０・・・分光結晶、１１・・・Ｘ
線検出器、１２・・・検出器、１３・・・制御計測装置
。
ズ、２・・・回転ステージ台、３・・・試料固定軸７３
′・・・試料固定軸、４・・・ベアリング、５・・・ギ
ヤ、６・・・ギヤ。 ７・・・タイミングベルト、８・・・モーター、９・・
・Ｘ移動テーブル、１０・・・分光結晶、１１・・・Ｘ
線検出器、１２・・・検出器、１３・・・制御計測装置
。
Claims (1)
- 電子線等によって試料を励起させ、試料から放射される
放射線を測定することによって、試料面の物性を分析す
る装置において、試料面を円筒面に形成した試料を円筒
軸を回転軸として回転させる手段と、試料を軸方向に移
動させる手段を設けたことを特徴とする試料面分析装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61215409A JPH0762990B2 (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | 試料面分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61215409A JPH0762990B2 (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | 試料面分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6372054A true JPS6372054A (ja) | 1988-04-01 |
| JPH0762990B2 JPH0762990B2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=16671844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61215409A Expired - Lifetime JPH0762990B2 (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | 試料面分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0762990B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105793696A (zh) * | 2013-11-12 | 2016-07-20 | X射线光学系统公司 | 非均质样本扫描设备及其x射线分析仪应用 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5979945A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-09 | Shimadzu Corp | 荷電粒子線走査型分析装置 |
| JPS60146438A (ja) * | 1983-12-30 | 1985-08-02 | Shimadzu Corp | イオンビ−ム発生装置 |
-
1986
- 1986-09-12 JP JP61215409A patent/JPH0762990B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5979945A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-09 | Shimadzu Corp | 荷電粒子線走査型分析装置 |
| JPS60146438A (ja) * | 1983-12-30 | 1985-08-02 | Shimadzu Corp | イオンビ−ム発生装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105793696A (zh) * | 2013-11-12 | 2016-07-20 | X射线光学系统公司 | 非均质样本扫描设备及其x射线分析仪应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0762990B2 (ja) | 1995-07-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |