JPS6371349A - ロ−タリ−スクリ−ン印刷方法 - Google Patents
ロ−タリ−スクリ−ン印刷方法Info
- Publication number
- JPS6371349A JPS6371349A JP61216632A JP21663286A JPS6371349A JP S6371349 A JPS6371349 A JP S6371349A JP 61216632 A JP61216632 A JP 61216632A JP 21663286 A JP21663286 A JP 21663286A JP S6371349 A JPS6371349 A JP S6371349A
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- JP
- Japan
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- mask
- ink
- squeezee
- stage
- rack
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 238000010022 rotary screen printing Methods 0.000 title description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 10
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
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- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Screen Printers (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ハイブリッドＩＣ，抵抗器等の電子部品にお
いて、絶縁基体上に厚膜パターンを形成するロータリー
スクリーン印刷方法に関するものである。
いて、絶縁基体上に厚膜パターンを形成するロータリー
スクリーン印刷方法に関するものである。
従来の技術
従来、この種のロータリースクリーン印刷では、第３図
に示すような構成であった。第３図に訃いて、メツシュ
マスク６′の回転とステージ１のスライドとは周速全回
じくシ、板スキージイ５によりインク７をメンシュマス
ク６′の開孔に押し込む形で、絶縁基体２上に形成パタ
ーン７′を形成するものである。
に示すような構成であった。第３図に訃いて、メツシュ
マスク６′の回転とステージ１のスライドとは周速全回
じくシ、板スキージイ５によりインク７をメンシュマス
ク６′の開孔に押し込む形で、絶縁基体２上に形成パタ
ーン７′を形成するものである。
参考までに第４図のような平板スクリーン印刷について
述べると、マスク枠８に取付けられたメツシュマスク６
′と絶縁基体２は固定されており、板スキージイ５の移
動によりインク７をメンシマスク６′の開孔に押し込む
形で、絶縁基体２上に形成パターン７′を形成するもの
である。
述べると、マスク枠８に取付けられたメツシュマスク６
′と絶縁基体２は固定されており、板スキージイ５の移
動によりインク７をメンシマスク６′の開孔に押し込む
形で、絶縁基体２上に形成パターン７′を形成するもの
である。
発明が解決しようとする問題点
ところで、スクリーン印刷技術においては、ポイントと
なるのが均一な膜厚の形成、形成パターンの鮮明な輪郭
及びその再現性である。
なるのが均一な膜厚の形成、形成パターンの鮮明な輪郭
及びその再現性である。
従来の（０−タリー）スクリーン印刷においては、問題
点として第一にスクリーンにメタル全便用することによ
り、形成パターンの鮮明な輪郭及び再現性についてはか
なり解決されるが、均一な膜厚の形成においては、スキ
ージイの印圧の変動等により、均一な膜厚で形成し難い
。
点として第一にスクリーンにメタル全便用することによ
り、形成パターンの鮮明な輪郭及び再現性についてはか
なり解決されるが、均一な膜厚の形成においては、スキ
ージイの印圧の変動等により、均一な膜厚で形成し難い
。
第二に、マスクが円筒の場合、継目のない（段落のない
）マスクの製作が必要となり、コスト的に高いものとな
る。
）マスクの製作が必要となり、コスト的に高いものとな
る。
本発明はこのような問題点を解決するもので、均一な膜
厚で形成可能で、しかも安価に実施できる方法を提供す
ることを目的とするものである。
厚で形成可能で、しかも安価に実施できる方法を提供す
ることを目的とするものである。
問題点を解決するための手段
この問題点を解決するために本発明は、インク金板スキ
ージイで掻き取るという方式ではなく、スキージイ内部
にインク溜めを設け、薄膜メタルマスク（以下、マスク
という）と接する部分に垂直にスリノトヲ入れ、インク
溜内部にある程度の内圧をかけて、マスク上のパターン
形状を被印刷物へ転写全行なう方法である。
ージイで掻き取るという方式ではなく、スキージイ内部
にインク溜めを設け、薄膜メタルマスク（以下、マスク
という）と接する部分に垂直にスリノトヲ入れ、インク
溜内部にある程度の内圧をかけて、マスク上のパターン
形状を被印刷物へ転写全行なう方法である。
作用
この構成により、所定のパターン形状に開孔されたマス
クを円筒状に配置し、インク溜とインク吐出用スリット
をもったスキージイ全マスク内側に接するように配置し
、マスクの回転による周速と、被印刷物の移動速度を同
一とする装置を備え、マスク回転時にスキージイのイン
ク溜に内圧をかけておくと、マスク接触部（開孔されて
いない部分）ではインク吐出されないが、マスク開孔部
では負圧が生じ、マスク厚み分のインク吐出が行なわれ
、所定の形状パターンを均一な厚みで被印刷物に転写を
行なうものである。
クを円筒状に配置し、インク溜とインク吐出用スリット
をもったスキージイ全マスク内側に接するように配置し
、マスクの回転による周速と、被印刷物の移動速度を同
一とする装置を備え、マスク回転時にスキージイのイン
ク溜に内圧をかけておくと、マスク接触部（開孔されて
いない部分）ではインク吐出されないが、マスク開孔部
では負圧が生じ、マスク厚み分のインク吐出が行なわれ
、所定の形状パターンを均一な厚みで被印刷物に転写を
行なうものである。
実施例
第１図、第２図は本発明の実施例である。第１図は、マ
スク全円筒状に配置したもので、ステージ１に絶縁基体
２及びラック３が固定され、このラック３にピニオン４
が噛み合い、同ピツチ円周上にマスク枠８及びマスク６
が固定されている。
スク全円筒状に配置したもので、ステージ１に絶縁基体
２及びラック３が固定され、このラック３にピニオン４
が噛み合い、同ピツチ円周上にマスク枠８及びマスク６
が固定されている。
さらに、この円筒内にスキージイ５がインク吐出口（ス
リット部）９でマスク６に接するように配置され、圧力
Ｐによりインク７の供給全行なう。
リット部）９でマスク６に接するように配置され、圧力
Ｐによりインク７の供給全行なう。
１０はインク溜りである。第２図は第１図の断面図であ
る。
る。
動きとして、ステージ１全スライドさせることにより、
ラック３及びピニオン４全経て、マスク６がステージ１
と同周速で回転を行なう。その時、スキージイ５のイン
ク吐出口（スリット部）９よリインク７がマスクθのパ
ターン形状内で吐出され、絶縁基体２上に形成パターン
７′を形成する。
ラック３及びピニオン４全経て、マスク６がステージ１
と同周速で回転を行なう。その時、スキージイ５のイン
ク吐出口（スリット部）９よリインク７がマスクθのパ
ターン形状内で吐出され、絶縁基体２上に形成パターン
７′を形成する。
発明の効果
以上のように本発明によれば、次のような効果が得られ
る。
る。
（１） 従来スクリーン印刷技術において、均一な膜
厚を形成する上で、印刷性を支配する重要変動因子とし
てスキージイの印圧があげられるが、この発明により、
その因子全削除することにより、膜圧及びその再現性に
おいて、より大きな効果音もたらす。
厚を形成する上で、印刷性を支配する重要変動因子とし
てスキージイの印圧があげられるが、この発明により、
その因子全削除することにより、膜圧及びその再現性に
おいて、より大きな効果音もたらす。
（２） マスクにメタルを使用することにより、形成
パターンの鮮明な輪郭及びその再現性にすぐれている。
パターンの鮮明な輪郭及びその再現性にすぐれている。
（３） マスクの継目に段差等が生じても問題はなく
、従ってマスク製作が安価にでき、しかもマスク張りに
熟練全装しない。
、従ってマスク製作が安価にでき、しかもマスク張りに
熟練全装しない。
（４） ロータリ一式のため、コンパクトな印刷機械
となる。
となる。
（５）ロータリ一式のため、高速印刷が可能である。
（６） インクの完全密封のため埃等の混入防止及び
作業環境面の良化につながる。
作業環境面の良化につながる。
（η インクの供給は、直接機械内に触れないため、安
全性が高い。
全性が高い。
第１図は本発明の一実施例によるロータリースクリーン
印刷方法を用いた装置の概略構成図、第２図は同装置の
要部の断面図、第３図及び第４図はそれぞれ従来のロー
タリースクリーン印刷方法を示す概略構成図である。 １・・・・・・ステージ、２・・・・・・絶縁基体、３
・・・・・・ラック、４・・・・・・ピニオン、６・・
・・・・スキージイ、６・・・・・・マスク、７・・・
・・・インク、７′・・・・・・形成パターン、８・・
・・・・マスク枠、９・・・・・・インク吐出口、１ｏ
・・・・・・インク溜り。 第２図 第 ３ 図
印刷方法を用いた装置の概略構成図、第２図は同装置の
要部の断面図、第３図及び第４図はそれぞれ従来のロー
タリースクリーン印刷方法を示す概略構成図である。 １・・・・・・ステージ、２・・・・・・絶縁基体、３
・・・・・・ラック、４・・・・・・ピニオン、６・・
・・・・スキージイ、６・・・・・・マスク、７・・・
・・・インク、７′・・・・・・形成パターン、８・・
・・・・マスク枠、９・・・・・・インク吐出口、１ｏ
・・・・・・インク溜り。 第２図 第 ３ 図
Claims (1)
- 所定のパターン形状に開孔された薄膜メタルマスクを
円筒状に配置し、インク溜とインク吐出用スリットをも
ったスキージイを薄膜メタルマスク内側に接するように
配置し、薄膜メタルマスクの回転による周速と被印刷物
の移動速度を同一とする装置を設け、マスク回転時、ス
キージイのインク溜りに内圧等をかけることにより、薄
膜メタルマスク上のパターン形状を被印刷物へ転写を行
なうことを特徴とするロータリースクリーン印刷方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61216632A JPS6371349A (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | ロ−タリ−スクリ−ン印刷方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61216632A JPS6371349A (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | ロ−タリ−スクリ−ン印刷方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6371349A true JPS6371349A (ja) | 1988-03-31 |
Family
ID=16691475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61216632A Pending JPS6371349A (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | ロ−タリ−スクリ−ン印刷方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6371349A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2524508A (en) * | 2014-03-25 | 2015-09-30 | Eric Owen | Nozzle arrangement, cartridge for applicator gun, and method of forming bead of sealant or filler |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5519509A (en) * | 1978-07-28 | 1980-02-12 | Ichiro Noguchi | Cylindrical stencil duplicating machine |
| JPS5528862A (en) * | 1978-08-23 | 1980-02-29 | Fujitsu Ltd | Printing control method |
| JPS5534970A (en) * | 1978-09-05 | 1980-03-11 | Rainke Internatl:Kk | Printing method and device |
| JPS59171654A (ja) * | 1982-10-07 | 1984-09-28 | ヨハネス・チンメル | 流動性の媒体を一様に施すための装置 |
| JPS6021866A (ja) * | 1983-07-14 | 1985-02-04 | エレクトロシユメルツヴエルク・ケンプテン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 耐火電導性混合材料及び熱間均衡プレス成形によるその製造法 |
-
1986
- 1986-09-12 JP JP61216632A patent/JPS6371349A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5519509A (en) * | 1978-07-28 | 1980-02-12 | Ichiro Noguchi | Cylindrical stencil duplicating machine |
| JPS5528862A (en) * | 1978-08-23 | 1980-02-29 | Fujitsu Ltd | Printing control method |
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| JPS59171654A (ja) * | 1982-10-07 | 1984-09-28 | ヨハネス・チンメル | 流動性の媒体を一様に施すための装置 |
| JPS6021866A (ja) * | 1983-07-14 | 1985-02-04 | エレクトロシユメルツヴエルク・ケンプテン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 耐火電導性混合材料及び熱間均衡プレス成形によるその製造法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2524508A (en) * | 2014-03-25 | 2015-09-30 | Eric Owen | Nozzle arrangement, cartridge for applicator gun, and method of forming bead of sealant or filler |
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