JPS6367177B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6367177B2
JPS6367177B2 JP8331981A JP8331981A JPS6367177B2 JP S6367177 B2 JPS6367177 B2 JP S6367177B2 JP 8331981 A JP8331981 A JP 8331981A JP 8331981 A JP8331981 A JP 8331981A JP S6367177 B2 JPS6367177 B2 JP S6367177B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyamide
acid
photosensitive resin
monomer
resin composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP8331981A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57198747A (en
Inventor
Kohei Umetani
Toshiaki Fujimura
Akira Tomita
Shinichi Tanaka
Hisashi Uhara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to JP8331981A priority Critical patent/JPS57198747A/ja
Publication of JPS57198747A publication Critical patent/JPS57198747A/ja
Publication of JPS6367177B2 publication Critical patent/JPS6367177B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は水現像可能なポリアミド系感光性樹脂
組成物に関するものである。 従来より印刷用凸版は、感光性樹脂組成物の層
(以下感光性層と称す)と支持体とからなる感光
性原版の感光性層に透明画像部を有するネガフイ
ルムまたはポジフイルムを通じて露光を行ない、
露光部分の感光性樹脂組成物を硬化させて不溶化
した後、未露光部分の前記樹脂組成物を適当な現
像液により溶解除去して製造されている。このよ
うな感光性樹脂組成物は通常、光重合可能な不飽
和結合を有する単量体、適当な現像液に可溶性の
重合体でしかも前記単量体の光重合により不溶化
する重合体、光増感剤および熱重合防止剤を含
む。未露光部分において該感光性樹脂組成物、特
に前記重合体は適当な現像液に可溶性であるが、
露光部分において該同一溶剤に不溶性となる。ま
た前記重合体は光重合可能な不飽和結合を有する
単量体の光重合後、機械的強度が大きく、有機溶
剤によつて膨潤したりしない重合体である。この
ような重合体としては、アルコール可溶性共重合
ポリアミドが提案され、たとえば特公昭35―
14719号公報、特公昭35―15513号公報、特公昭45
―7330号公報などに記載されている。 ところが、これら前記ポリアミド系感光性樹脂
組成物は全てアルコールには可溶であるが、水に
は不溶であり、従つて上記ポリアミド系版材は、
全て未露光部の樹脂層を溶解除去する現像液とし
て、アルコールなどの有機溶剤を使用しなければ
ならない。これらの有機溶剤を現像液として使用
することは取扱い作業性、貯蔵、廃液、高価な防
爆型現像装置などの点で問題があるだけでなく、
上記ポリアミドがアルコールなどの有機溶剤への
溶解速度が小さいためにそれから作成される組成
物の現像に比較的長い時間を必要とするなどの欠
点を有する。そこで、これらを解決する方法とし
て、水可溶型ポリアミド系重合体を使用した水現
像可能型ポリアミド系感光性樹脂組成物が特公昭
54―22229号公報に記載されている。この方法に
より製造された水現像可能型ポリアミド系感光性
樹脂版は原図に対しての再現性が良好であり、イ
ンキの受理、転移性がさらに向上し、又印刷時の
耐刷性も非常に良好であるが感光性樹脂組成物が
光硬化して生成した硬化物(以下光硬化物と略
す)が硬いのでこの種の感光性樹脂は印刷速度の
遅い平台式印刷機に供され、また印刷される紙も
コート紙等の比較的表面の平らな紙への印刷に限
られてしまう。 しかしながら、近年印刷の省力化、高速化を目
的として印刷速度の速い輪転式印刷機の利用が進
んでおり、また印刷用途も伝票類、コンピユータ
ーフオーム類へも拡大してきており、印刷される
紙が上質紙等の表面の粗な紙へと広がつてきてい
る。この様な新たな用途については従来の光硬化
物のように硬度が比較的硬いものを利用すると、
紙面表の凹凸の部分の凸部にのみインキが転位さ
れ、凹部にはインキののらない印刷物(通常イン
キのカスレと称するもの)が得られてしまう。こ
の欠点を解決するためには光硬化物の硬度が比較
的柔らかく、印刷時に加圧される印圧により紙表
面に接している部分の光硬化物が紙の凹凸に応じ
て変形し、密着不良部がなくなる様にしなくては
ならない。 本発明者らは以上のような欠点を解消すべく、
光硬化物の硬度が柔らかく、高速印刷や表面の粗
な紙への印刷に供してもインキのカスレのない良
好な印刷物を与え、しかも機械的強度に優れ、耐
刷力の優れた、水現像可能型ポリアミド系感光性
樹脂組成物について種々鋭意研究した結果、本発
明を完成するに到つた。すなわち本発明は、塩基
性窒素を有するポリアミド、光重合可能な不飽和
結合を有する単量体および光重合開始剤からなる
感光性樹脂組成物において、光重合可能な不飽和
結合を有する単量体の全部または一部として下記
一般式()で表わされる化合物を、前記ポリア
ミドに対して重量比で0.02以上0.40未満、かつ前
記塩基性窒素に対してモル比で0.05〜1.00含有す
ることを特徴とする感光性樹脂組成物。 (式中、Xは炭素原子数1〜24の二価の炭化水
素基または分子中に―O―、―COO―、―
NHCO―を有する炭素原子数1〜24の二価の炭
化水素基を示す。) 本発明の感光性樹脂組成物は主材となるポリア
ミドが、塩基性窒素を有するポリアミドと一般式
()で示される光重合可能な不飽和結合を有す
る単量体と一部もしくは全部イオン結合して生成
するアンモニウム塩型窒素原子を有する重合体で
あるため、水の容易に溶解し、水による現像が可
能となる。さらに該感光性樹脂組成物は一般式
()で表わされる化合物とのイオン結合により、
主材となるポリアミドの水素結合が立体障害のた
め減少し、可塑効果が働いて柔軟になり、さらに
光硬化した場合、一般式()で表わされる化合
物が単独で重合あるいは他の光重合可能な不飽和
結合を有する単量体と共重合するので、光重合生
成物の3次元的結合の網目が粗になり、そのため
柔軟になる。しかも光硬化後の感光性樹脂では、
ポリアミドと光重合可能な不飽和結合を有する単
量体の光重合体とがイオン結合しているので、耐
湿性、耐溶剤性がよく、かつ力学的特性、特に耐
摩耗性のすぐれたものが得られる。 本発明において、光重合可能な不飽和結合を有
する単量体の全部または一部として使用される一
般式()で表わされる化合物は、たとえば下記
式で示される化合物である。 などがある。これらの単量体を単独あるいは2種
以上混合して使用する。これらの単量体は塩基性
窒素を含有するポリアミドに対して四級化剤とし
て反応する。四級化剤として一般式()で示す
化合物の他に、塩酸、硫酸などの無機酸、蟻酸、
酢酸、クロル酸、マレイン酸、フタル、アジピン
酸、アクリル酸、メタクリル酸などの有機酸も利
用できる。また、前記一般式()で示す化合物
を含む四級化剤の添加量はポリアミド中に存在す
る塩基性窒素の量、水に対する溶解性などを考慮
して適宜選択することができる。一般式()で
表わされる化合物は前記ポリアミドに対して重量
比で0.02以上0.40未満、かつポリアミド中に存在
する塩基性窒素の量に対して、5〜100モル%、
特に50〜100モル%存在することが必要である。
一般式()で表わされる化合物がポリアミドに
対して重量比で0.02未満の場合、光架橋後の感光
性樹脂組成物が必要な柔軟性に欠けるので好まし
くない。 一方0.40以上の場合、光架橋前および/もしく
は光架橋後の感光性樹脂組成物の粘着性が強くな
りすぎ、実際の使用上で問題が起る。また、ポリ
アミド中に存在する塩基性窒素の量に対して5モ
ル%未満では光架橋後の感光性樹脂組成物が必要
な柔軟性に欠けるので好ましくない。 本発明において、併用可能な前記一般式()
で示される化合物以外の光重合し得る不飽和結合
を有する単量体としては、たとえばメチルアクリ
レート、メチルメタアクリレート、ベンジルアク
リレート、トリブロムフエニルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、2―ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、アクリルアミド、メタアクリ
ルアミド、N―メチロールアクリルアミド、n―
ブトキシメチルアクリルアミド、iso―ブトキシ
メチルアクリルアミド、N―t―ブチルアクリル
アミド、アクリロニトリル、スチレン、ビニルピ
リジン等の不飽和二重結合を1個有する単量体、
あるいはアリルメタアクリレート、エチレングリ
コールジアクリレート、エチレングリコールジメ
タアクリレート、1,3―プロパンジオールジア
クリレート、1,3―プロパンジオールメタアク
リレート、1,4―ブタンジオールジアクリレー
ト、1,4―ブタンジオールジメタアクリレー
ト、1,6―ヘキサンジオールジアクリレート、
1,6―ヘキサンジオールジメタアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタアクリレート、テト
ラメチロールメタントリアクリレート、トリアク
リロイルオキシエチルホスフエイト、メチレンビ
スアクリルアミド、エチレンビスアクリルアミ
ド、プロピレンビスアクリルアミド、ブチレンビ
スアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミ
ド、エチレンビスメタクリルアミド、プロピレン
ビスメタクリルアミド等の不飽和二重結合を2個
以上有する単量体がある。 なお、ポリアミド中に存在する塩基性窒素の量
に対して、一般式()で表わされる化合物と併
用した前記四級化剤の和の量の比が100モル%以
上になる場合、塩基性窒素のモル量から併用した
四級化剤のモル量を引き、さらに式()の化合
物から残余の等モル量にした量以上の式()の
化合物は便宜上、本発明に於て、併用可能な四級
化剤以外の光重合可能な不飽和結合を有する単量
体の類中に入れる。 本発明において塩基性窒素を有するポリアミド
とは、たとえば下記一般式()〜()で示さ
れる単量体を重合原料として得られるものであ
る。 (上記一般式()〜()において、R,
R′は水素原子または炭素原子数1〜10個の炭化
水素残基、R1,R2,R3は炭素原子数1〜15個の
アルキレン基、R4,R5は炭素原子数1〜10個の
炭化水素残基、A,Bは―NH2、―COOH、―
COOR″を示し、AとBは同時に同じあるいは相
違してもよい。ここでR″は炭素原子数1〜10個
の炭化水素残基を示す。) (上記一般式()において、R6,R7は炭素
原子数1〜10個の炭化水素残基を示す。R6とR7
は共同して環や異節環を形成しても良い。また
R8は炭素原子数1〜3個の低級アルキル基ある
いは
【式】を示す。ここでR6,R7は前 述の基である。Yはγ―アミノプロピル基を示
す。) 前記一般式()で示される具体的な単量体と
してはN,N′―ビス(アミノメチル)―ピペラ
ジン、N,N′―ビス(β―アミノエチル)―ピ
ペラジン、N,N′―ビス(β―アミノエチル)
―メチルピペラジン、N―(アミノメチル)―
N′―(β―アミノエチル)―ピペラジン、N,
N′―ビス(γ―アミノプロピル)―ピペラジン
などのジアミン類、N,N′―ビス(カルボキシ
メチル)―ピペラジン、N,N′―ビス(カルボ
キシメチル)―メチルピペラジン、N,N′―ビ
ス(カルボキシメチル)―2,6―ジメチルピペ
ラジン、N,N′―ビス(β―カルボキシエチル)
―ピペラジン、N,N′―ビス(γ―カルボキシ
プロピル)―ピペラジン、N―(β―カルボキシ
エチル)―N′―(カルボキシメチル)―ピペラ
ジンなどのジカルボン酸類あるいはこれらの低級
アルキルエステル、酸ハロゲン化物およびN―
(アミノメチル)―N′―(カルボキシメチル)―
ピペラジン、N―(アミノメチル)―N′―(β
―カルボキシエチル)―ピペラジン、N―(β―
アミノエチル)―N′―(β―カルボキシエチル)
―ピペラジン、N―(アミノメチル)―N′―
(カルボキシメチル)―2―メチルピペラジンな
どのω―アミノ酸である。 上記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、N―(β―アミノエチル)ピペラジン、
N―(γ―アミノプロピル)ピペラジン、N―
(ω―アミノヘキシル)ピペラジン、N―(δ―
アミノシクロヘキシル)ピペラジン、N―(β―
アミノエチル)―3―メチルピペラジン、N―
(β―アミノエチル)―2,5―ジメチルピペラ
ジン、N―(β―アミノプロピル)―3―メチル
ピペラジン、N―(γ―アミノプロピル)―2,
5―ジメチルピペラジンなどのジアミン類、N―
カルボキシメチルピペラジン、N―(β―カルボ
キシエチル)―ピペラジン、N―(γ―カルボキ
シプロピル)ピペラジン、N―(ω―カルボキシ
ヘキシル)ピペラジン、N―(δ―カルボキシシ
クロヘキシル)ピペラジン、N―(β―カルボキ
シエチル)―3―メチルピペラジン、N―(β―
カルボキシエチル)―2,5―ジメチルピペラジ
ンなどのω―アミノ酸あるいはこれらの低級アル
キルエステル類などである。 前記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、N,N―ジ(β―アミノエチル)エチル
アミン、N,N―ジ(γ―アミノプロピル)メチ
ルアミン、N,N―ジ(β―アミノエチル)―メ
チルアミン、N,N―ジ(γ―アミノプロピル)
―エチルアミン、N,N―ジ(γ―アミノプロピ
ル)イソプロピルアミン、N,N―ジ(γ―アミ
ノプロピル)―シクロヘキシルアミン、N,N―
ジ(δ―アミノ―n―ブチル)フエニルアミン、
N―メチル―N―(β―アミノエチル)―1,3
―プロパンジアミンなどのジアミン類、N,N―
ジ(カルボキシメチル)―メチルアミン、N,N
―ジ(β―カルボキシエチル)メチルアミン、
N,N―ジ(β―カルボキシエチル)―メチルア
ミン、N,N―ジ(β―カルボキシエチル)―イ
ソプロピルアミン、N―カルボキシメチル―N―
(β―カルボキシエチル)―メチルアミンなどの
ジカルボン酸類あるいはこれらの低級アルキルエ
ステル、酸ハロゲン化物、およびN―(アミノメ
チル)―N―(カルボキシメチル)―メチルアミ
ン、N―(β―アミノエチル)―N―(β―カル
ボキシエチル)―メチルアミン、N―(アミノメ
チル)―N―(β―カルボキシエチル)―イソプ
ロピルアミン、N―(γ―アミノプロピル)―N
―(γ―カルボキシルプロピル)―イソプロピル
アミン、N―(γ―アミノプロピル)―N―(β
―カルボキシエチル)―メチルアミンなどのω―
アミン酸類である。 前記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、N,N′―ジメチル―N,N′―ジ―(γ
―アミノプロピル)―エチレンジアミン、N,
N′―ジメチル―N,N′―ジ―(γ―アミノプロ
ピル)―テトラメチレンジアミン、N,N′―ジ
イソブチル―N,N′―ジ―(γ―アミノプロピ
ル)―ヘキサメチレンジアミン、N,N′―ジシ
クロヘキシル―N,N′―ジ―(γ―アミノプロ
ピル)―ヘキサメチレンジアミン、N,N′―ジ
―(γ―アミノプロピル)―2,2,4―トリメ
チル―ヘキサメチレンジアミンなどのジアミン
類、N,N′―ジメチル―N,N′―ジ(カルボキ
シメチル)―エチレンジアミン、N,N′―ジメ
チル―N,N′―ジ―(β―カルボキシエチル)
―エチレンジアミン、N,N―ジメチル―N,
N′―ジ―(γ―カルボキシプロピル)―ヘキサ
メチレンジアミンなどのジカルボン酸類あるいは
これらの低級アルキルエステル、酸ハロゲン化物
およびN,N′―ジメチル―N―(アミノメチル)
―N′―(カルボキシメチル)―エチレンジアミ
ン、N,N′―ジメチル―N―(β―アミノエチ
ル)―N′―(β―カルボキシエチル)―エチレ
ンジアミン、N,N′―ジメチル―N―(アミノ
メチル)―N′―(カルボキシエチル)―ヘキサ
メチレンジアミンなどのω―アミノ酸である。 上記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、6―メチル―6―(N,N′―ジメチル
アミノメチル)―4,8―ジオキサ―ウンデカン
ジアミン、6―メチル―6―(N,N―ジエチル
アミノメチル)―4,8―ジオキサ―ウンデカン
ジアミン、6―エチル―6―(N,N―ジメチル
アミノメチル)―4,8―ジオキサ―ウンデカン
ジアミン、6,6―ビス(N,N―ジメチルアミ
ノメチル)―4,8―ジオキサ―ウンデカンジア
ミンなどのジアミン類である。 これら塩基性窒素を有する単量体を単独もしく
は2種以上用いて縮重合を行いポリアミドを形成
する。すなわち、上記単量体がω―アミノ酸ある
いはそのアルキルエステル類などのように単独重
合によつてポリアミドを形成し得る単量体は単独
で用いることができる。一方、上記単量体がジカ
ルボン酸あるいはそのアルキルエステル類、酸ハ
ロゲン化物などであればジアミンと、また上記単
量体がジアミンであればジカルボン酸あるいはそ
の誘導体と、縮重合させることによつてポリアミ
ドを形成せしめる。 さらに本発明に用いるポリアミドの重合原料と
しては、前記一般式()〜()で示される単
量体のほかに、通常のポリアミドの重合に用いら
れる脂肪族および/または芳香族のジカルボン
酸、ジアミン、ω―アミノ酸、ラクタムなどを併
用してもよい。併用可能なジカルボン酸として
は、たとえばコハク酸、アジピン酸、グルタル
酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボ
ン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、シクロヘキ
サンジカルボン酸などの脂肪族および/または芳
香族のジカルボン酸あるいはこれらの酸の低級ア
ルキルエステル、酸ハロゲン化物などを用いる。
ジアミンとしては、たとえばテトラメチレンジア
ミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチ
レンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチ
レンジアミン、などの直鎖飽和脂肪族ジアミン、
メタキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミ
ンなどの芳香族ジアミン、シクロヘキサンビスメ
チルアミンなどの脂肪族ジアミンなどを用いる。
ω―アミノ酸としては、たとえばアミノカプロン
酸、アミノヘプタン酸、アミノカプリル酸、アミ
ノカプリン酸、アミノラウリル酸などを用いる。
ラクタムとしては、たとえばε―カプロラクタ
ム、α―メチル―ε―カプロラクタム、ε―メチ
ル―ε―カプロラクタム、シクロヘプタノンイソ
オキシム、シクロオクタノンイソオキシムなどを
用いる。 以上の単量体から得られる塩基性窒素原子を有
するポリアミドの重合方法は従来公知のポリアミ
ドの製造方法に従つて行なうことができる。塩基
性窒素を含有する単量体成分は全ポリアミド構成
成分の5〜100モル%であり、特に20〜50モル%
であることが好ましい。なお、上述に示される塩
基性窒素を含有する単量体の他に、一般式()
で示される化合物と反応し第四級アンモニウム塩
を生成する様な窒素を含有する単量体はすべて利
用できる。 以上の単量体を単独あるいは2種以上混合して
使用する。特に不飽和二重結合を少なくとも2個
以上有する単量体を単独で用いるかあるいは少な
くとも1種以上含む単量体混合物を用いることが
望ましい。該単量体の使用量は、感光性樹脂組成
物中のポリアミドに対し、5〜150重量%、特に
10〜100重量%であることが好ましい。該単量体
が5重量%未満であると、露光部の溶剤に対する
不溶化が充分でなくなる。また150重量%を越え
ると、感光性層の露光後、機械強度が損なわれ
る。 光増感剤は前記ポリアミドのマトリツクス内で
の前期単量体の重合反応を促進させるために添加
する。このような光増感剤としては従来公知のも
のを使用することができる。たとえば9,10―ア
ントラキノン、1―クロルアントラキノン、2―
クロルアントラキノンなどのアントラキノン類、
ベンゾフエノン、p―アミノベンゾフエノン、p
―クロルベンゾフエノンなどのベンゾフエノン
類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、α―メチルベンゾイン
などのベンゾイン類、あるいはベンジル類があ
る。光増感剤の使用量は前記ポリアミド、一般式
()で示される化合物および光重合可能な不飽
和結合を有する単量体との総量に対し、0.01〜5
重量%、特に0.1〜2重量%であることが好まし
い。 熱重合防止剤は感光性樹脂組成物の調合、成
型、加工時の加熱による光重合可能な不飽和基を
有する単量体の熱重合あるいは該感光性樹脂組成
物の保存中の暗反応を防止するために添加する。
このような熱重合防止剤としては従来公知のもの
を用いることができる。たとえばハイドロキノ
ン、モノ―t―ブチルハイドロキノンなどのハイ
ドロキノン類、ベンゾキノン、2,5―ジ―p―
ベンゾキノンなどのベンゾキノン類、カテコー
ル、p―t―ブチルカテコールなどのカテコール
類、ピクリン酸類などがある。熱重合防止剤の使
用量は前記ポリアミドと、式()で示される化
合物および光重合可能な不飽和結合を有する単量
体との総量に対し、0.001〜2重量%、特に0.05
〜0.5重量%であることが好ましい。 以上、一般式()で示される化合物、塩基性
窒素を有するポリアミド、光重合可能な不飽和結
合を有する単量体、光増感剤および熱重合防止剤
を含有する本発明の感光性樹脂組成物は、水、メ
タノール、エタノール、四塩化炭素、トルエンあ
るいはキシレンなどの溶媒に溶解し、この溶液か
ら溶媒のみを蒸発させて均一に混合することによ
つて容易に得られる。 本発明の感光性樹脂組成物は通常シート状物な
どに成形して感光性樹脂原版として用いる。即ち
上述の組成からなる混合物を熱プレス、注型ある
いは溶融押出しなどの方法により所望の厚さの
板、フイルムまたは箔などのシート状物とする。 また、このシート状物を接着剤を介してあるい
は介さずに支持体上に積層する。支持体としては
スチール、アルミニウム、ガラス、プラスチツク
フイルムなど任意のものが使用できる。 得られた感光性樹脂原版は感光性層に透明画像
部を有するネガフイルムまたはポジフイルムを密
着して重ね合せ、その上方から活性光線を照射す
ると、露光部のみ不溶化ならびに硬化する。この
ような活性光線を発する光源としては各種水銀
灯、炭素アーク灯、キセノンランプ、紫外線、螢
光灯などが使用できる。 光照射後は適当な溶剤により非露光部分を溶解
除去すると、鮮明な画像部を有する凸版が得られ
る。本発明においては、基材に一般式()で示
される化合物と塩基性窒素を有するポリアミドと
が反応してできるアンモニウム塩型窒素原子を有
するポリアミドを使用するため、単なる水によつ
て容易に速かに現像することができる。もちろん
各種酸水溶液、水とアルコールの混合液、低級脂
肪族アルコール、低級脂肪族アルコールと塩化カ
ルシウムもしくは塩化亜鉛など結合材のポリアミ
ドを可溶化し得る溶剤によつても現像できる。 このようにして得られる本発明の凸版は、露光
および現像に要する時間が極めて短いため得られ
る画像は非常にシヤープな輪廓を有する。しかも
該凸版は、式()で示される化合物の効果によ
り非常に柔軟になり、上質紙等粗面を有する紙上
にもきれいにインキが転移し、輪転印刷機で高速
印刷してもインキのカスレがなく、非常に鮮明で
ある。 以下本発明を実施例により詳細に説明する。な
お、実施例中において単に部とあるのはいずれも
重量部を示す。 参考例 1 N,N′―ビス(γ―アミノプロピル)ピペラ
ジンアジペート40部とε―カプロラクタム60部を
反応容器に加え、充分な窒素置換を行つたのち、
密閉して徐々に加熱した。内圧が10Kg/m2に達し
た時点から、その圧力を保持できなくなるまで水
を留出させ、約1時間で常圧にもどし、その後
1.5時間常圧で反応させた。得られた重合体は比
粘度1.59、軟化点110℃の乳白色ポリアミドであ
り、中性水には実質的に不溶であつた。 実施例 1 下記式(1)で示される化合物24部、参考例1で得
られたポリアミド100部、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルとアクリル酸の1:2縮合物
30部、ベンゾフエノン2部およびハイドロキノン
0.2部をメタノール300部に加え加熱して溶解し
た。この溶液をガラス板上に流延して減圧下に放
置して完全にメタノールを除去すると厚さ0.6mm
の透明なフイルム状の感光性樹脂組成物が得られ
た。この組成物は常温の水に容易に溶解した。 得られたフイルムを、厚さ0.25mmのポリエステ
ルフイルム上に貼着して、感光性原版を得た。 この原版の感光性層に、133線の網分解した写
真像ネガフイルムを密着させて、大日本スクリー
ン製露光機P―113―Dで4分間露光した。露光
後、大日本スクリーン製プリンタイトウオツシヤ
ーBR―A3で2分間現像し、乾燥後後露光した。
得られた凸版は原像を忠実に再現していた。次に
この凸版を浮田工業製凸版輪転印刷機BF―201に
装着して印刷を行つたところ、シヤドウ部のカス
レがなく、またハイライト部の太りもなく、非常
に良好な印刷物が得られた。また上記凸版の20
℃、65%RHでの硬度は28゜(シヨア―D)でかな
り柔軟であつた。 実施例 2 下記式(2)で示される化合物20部、参考例1で得
られたポリアミド100部、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルとアクリル酸1:2縮合物30
部、ベンゾフエノン2部、ハイドロキノン0.2部
をメタノール300部に加え加熱して溶解した。こ
の溶液から実施例1と同様な方法で感光性原版を
得、露光、現像、乾燥、後露光を行つた。得られ
た凸版は原像を再現していた。このレリーフを実
施例1と同様に印刷したところ非常に良好な印刷
物が得られた。また凸版の硬度は33゜であつた。 比較例 1 メタアクリル酸10部、参考例1で得られたポリ
アミド100部、エチレングリコールジグリシジル
エーテルとアクリル酸1:2縮合物30部、ベンゾ
フエノン2部、ハイドロキノン0.2部をメタノー
ル300部に加え加熱して溶解した。この溶液から
実施例1と同様な方法で感光性原版を得、露光、
現像、乾燥、後露光を行つた。得られた凸版を用
いて実施例1と同様にして印刷を行つたところ、
シヤドウ部にカスレを生じ、印刷物は良好でなか
つた。また凸版の硬度は50゜(シヨア―D)であり
柔軟性に欠けていた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 塩基性窒素を有するポリアミド、光重合可能
    な不飽和結合を有する単量体および光重合開始剤
    からなる感光性樹脂組成物において、光重合可能
    な不飽和結合を有する単量体の全部または一部と
    して下記一般式()で表わされる化合物を、前
    記ポリアミドに対して重量比で0.02以上0.40末
    満、かつ前記塩基性窒素に対してモル比で0.05〜
    1.00含有することを特徴とする感光性樹脂組成
    物。 (式中、Xは炭素原子数1〜24の二価の炭化水
    素基または分子中に―O―、―COO―、―
    NHCO―を有する炭素原子数1〜24の二価の炭
    化水素基を示す。)
JP8331981A 1981-05-29 1981-05-29 Photosensitive resin composition Granted JPS57198747A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8331981A JPS57198747A (en) 1981-05-29 1981-05-29 Photosensitive resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8331981A JPS57198747A (en) 1981-05-29 1981-05-29 Photosensitive resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57198747A JPS57198747A (en) 1982-12-06
JPS6367177B2 true JPS6367177B2 (ja) 1988-12-23

Family

ID=13799100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8331981A Granted JPS57198747A (en) 1981-05-29 1981-05-29 Photosensitive resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS57198747A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4217341B2 (ja) * 1999-05-24 2009-01-28 日本化薬株式会社 芳香族ポリアミド樹脂組成物
JP5206434B2 (ja) * 2009-01-14 2013-06-12 星光Pmc株式会社 凸版製造用感光性樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57198747A (en) 1982-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0085472B1 (en) Photosensitive polymer composition
AU613980B2 (en) Radiation-polymerizable acrylate and alkacrylate compounds
JP2891704B2 (ja) 水現像性感光性樹脂組成物、それを用いた樹脂印刷版および樹脂印刷版の製法
US4287290A (en) Process for producing polymeric image by diffusion step
US4035189A (en) Image forming curable resin compositions
US5175076A (en) Water-developable photosensitive composition for producing relief plates
US3770435A (en) Production of gravure printing plates based on plastics materials
US4145222A (en) Water soluble photosensitive resin composition comprising a polyamide or its ammonium salt
EP0273113B1 (en) Photosensitive polymer composition and master printing plate
US4188221A (en) Photosensitive polyamide resin composition useful for making relief printing plate
JPS6367176B2 (ja)
JPS6367175B2 (ja)
JPS6365932B2 (ja)
JPS6367177B2 (ja)
JP2001272776A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH0327109B2 (ja)
US4271255A (en) Method for the preparation of planographic printing plates
JP3632513B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP2001092132A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2954302B2 (ja) スクリーン印刷版用感光性樹脂組成物
JPS5990845A (ja) 感光性ポリアミド樹脂組成物
JPS6163837A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2000162770A (ja) 感光性樹脂組成物
JPS5811933A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH0363739B2 (ja)