JPS6367175B2 - - Google Patents
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Description
本発明は水現像可能なポリアミド系感光性樹脂
組成物に関するものである。 従来より印刷用凸板は、感光性樹脂組成物の層
(以下感光性層と称す)と支持体とからなる感光
性原版の感光性層に透明画像部を有するネガフイ
ルムまたはポジフイルムを通じて露光を行ない、
露光部分の感光性樹脂組成物を硬化させて不溶化
した後、未露光部分の前記樹脂組成物を適当な現
像液により溶解除去して製造されている。このよ
うな感光性樹脂組成物は通常、光重合可能な不飽
和結合を有する単量体、適当な現像液に可溶性の
重合体でしかも前記単量体の光重合により不溶化
する重合体、光増感剤および熱重合防止剤を含
む。未露光部分において該感光性樹脂組成物、特
に前記重合体は適当な現像液に可溶性であるが、
露光部分において該同一溶剤に不溶性となる。ま
た前記重合体は光重合可能な不飽和結合を有する
単量体の光重合後、機械的強度が大きく、有機溶
剤によつて膨潤したりしない重合体である。この
ような重合体としては、アルコール可溶性共重合
ポリアミドが提案され、たとえば特公昭35―
14719号公報、特公昭35―15513号公報、特公昭45
―7330号公報などに記載されている。 ところが、これら前記ポリアミド系感光性樹脂
組成物は全てアルコールには可溶であるが、水に
は不溶であり、従つて上記ポリアミド系版材は、
全て未露光部の樹脂層を溶解除去する現像液とし
て、アルコールなどの有機溶剤を使用しなければ
ならない。これらの有機溶剤を現像液として使用
するとは取扱い作業性、貯蔵、廃液、高価な防爆
型現像装置などの点で問題があるだけでなく、上
記ポリアミドがアルコールなどの有機溶剤への溶
解速度が小さいためにそれから作成される組成物
の現像に比較的長い時間を必要とするなどの欠点
を有する。そこで、これらを解決する方法とし
て、水可溶型ポリアミド系重合体を使用した水現
像可能型ポリアミド系感光性樹脂組成物が特公昭
54―22229号公報に記載されている。この方法に
より製造された水現像可能型ポリアミド系感光性
樹脂版は原図に対しての再現性が良好であり、イ
ンキの受理、転移性がさらに向上し、又印刷時の
耐刷性も非常に良好であるが感光性樹脂組成物が
光硬化して生成した硬化物(以下光硬化物と略
す。)が硬いのでこの種の感光性樹脂は印刷速度
の遅い平台式印刷機に供され、また印刷される紙
もコート紙等の比較的表面の平らな紙への印刷に
限られてしまう。 しかしながら近年、印刷の省力化、高速化を目
的として印刷速度の速い輪転式印刷機の利用が進
んでおり、また印刷用途も伝票類、コンピユータ
ーフオーム類へも拡大してきており、印刷される
紙が上質紙等の表面の粗な紙へと広がつてきてい
る。この様な新たな用途については従来の光硬化
物のように硬度が比較的硬いものを利用すると、
紙表面の凹凸の部分の凸部にのみインキが転位さ
れ、凹部にはインキののらない印刷物(通常イン
キのカスレと称するもの)が得られてしまう。こ
の欠点を解決するためには光硬化物の硬度が比較
的柔らかく、印刷時に加圧される印圧により紙表
面に接している部分の光硬化物が紙の凹凸に応じ
て変形し、密着不良部がなくなる様にしなくては
ならない。 本発明者らは以上のような欠点を解消すべく、
光硬化物の硬度が柔らかく、高速印刷や表面の粗
な紙への印刷に供してもインキのカスレのない良
好な印刷物を与え、しかも機械的強度に優れ、耐
刷力の優れた、水現像可能型ポリアミド系感光性
樹脂組成物について種々鋭意研究した結果、本発
明を完成するに到つた。すなわち本発明は、塩基
性窒素を有するポリアミド、光重合可能な不飽和
結合を有する単量体および光重合開始剤からなる
感光性樹脂組成物において、光重合可能な不飽和
結合を有する単量体の全部または一部として下記
一般式()で表わされる化合物を含有すること
を特徴とする感光性樹脂組成物である。 式中、Xは水素またはメチル基、Yは炭素原子
数1〜24の二価の炭化水素基または分子中に―O
―、―COO―、―NHCO―を有する炭素原子数
1〜24の二価の炭化水素基、Zは―COOH、―
SO3H、
組成物に関するものである。 従来より印刷用凸板は、感光性樹脂組成物の層
(以下感光性層と称す)と支持体とからなる感光
性原版の感光性層に透明画像部を有するネガフイ
ルムまたはポジフイルムを通じて露光を行ない、
露光部分の感光性樹脂組成物を硬化させて不溶化
した後、未露光部分の前記樹脂組成物を適当な現
像液により溶解除去して製造されている。このよ
うな感光性樹脂組成物は通常、光重合可能な不飽
和結合を有する単量体、適当な現像液に可溶性の
重合体でしかも前記単量体の光重合により不溶化
する重合体、光増感剤および熱重合防止剤を含
む。未露光部分において該感光性樹脂組成物、特
に前記重合体は適当な現像液に可溶性であるが、
露光部分において該同一溶剤に不溶性となる。ま
た前記重合体は光重合可能な不飽和結合を有する
単量体の光重合後、機械的強度が大きく、有機溶
剤によつて膨潤したりしない重合体である。この
ような重合体としては、アルコール可溶性共重合
ポリアミドが提案され、たとえば特公昭35―
14719号公報、特公昭35―15513号公報、特公昭45
―7330号公報などに記載されている。 ところが、これら前記ポリアミド系感光性樹脂
組成物は全てアルコールには可溶であるが、水に
は不溶であり、従つて上記ポリアミド系版材は、
全て未露光部の樹脂層を溶解除去する現像液とし
て、アルコールなどの有機溶剤を使用しなければ
ならない。これらの有機溶剤を現像液として使用
するとは取扱い作業性、貯蔵、廃液、高価な防爆
型現像装置などの点で問題があるだけでなく、上
記ポリアミドがアルコールなどの有機溶剤への溶
解速度が小さいためにそれから作成される組成物
の現像に比較的長い時間を必要とするなどの欠点
を有する。そこで、これらを解決する方法とし
て、水可溶型ポリアミド系重合体を使用した水現
像可能型ポリアミド系感光性樹脂組成物が特公昭
54―22229号公報に記載されている。この方法に
より製造された水現像可能型ポリアミド系感光性
樹脂版は原図に対しての再現性が良好であり、イ
ンキの受理、転移性がさらに向上し、又印刷時の
耐刷性も非常に良好であるが感光性樹脂組成物が
光硬化して生成した硬化物(以下光硬化物と略
す。)が硬いのでこの種の感光性樹脂は印刷速度
の遅い平台式印刷機に供され、また印刷される紙
もコート紙等の比較的表面の平らな紙への印刷に
限られてしまう。 しかしながら近年、印刷の省力化、高速化を目
的として印刷速度の速い輪転式印刷機の利用が進
んでおり、また印刷用途も伝票類、コンピユータ
ーフオーム類へも拡大してきており、印刷される
紙が上質紙等の表面の粗な紙へと広がつてきてい
る。この様な新たな用途については従来の光硬化
物のように硬度が比較的硬いものを利用すると、
紙表面の凹凸の部分の凸部にのみインキが転位さ
れ、凹部にはインキののらない印刷物(通常イン
キのカスレと称するもの)が得られてしまう。こ
の欠点を解決するためには光硬化物の硬度が比較
的柔らかく、印刷時に加圧される印圧により紙表
面に接している部分の光硬化物が紙の凹凸に応じ
て変形し、密着不良部がなくなる様にしなくては
ならない。 本発明者らは以上のような欠点を解消すべく、
光硬化物の硬度が柔らかく、高速印刷や表面の粗
な紙への印刷に供してもインキのカスレのない良
好な印刷物を与え、しかも機械的強度に優れ、耐
刷力の優れた、水現像可能型ポリアミド系感光性
樹脂組成物について種々鋭意研究した結果、本発
明を完成するに到つた。すなわち本発明は、塩基
性窒素を有するポリアミド、光重合可能な不飽和
結合を有する単量体および光重合開始剤からなる
感光性樹脂組成物において、光重合可能な不飽和
結合を有する単量体の全部または一部として下記
一般式()で表わされる化合物を含有すること
を特徴とする感光性樹脂組成物である。 式中、Xは水素またはメチル基、Yは炭素原子
数1〜24の二価の炭化水素基または分子中に―O
―、―COO―、―NHCO―を有する炭素原子数
1〜24の二価の炭化水素基、Zは―COOH、―
SO3H、
【式】を示し、Rは炭
素原子数1〜10のアルキル基またはフエニル基を
示す。 本発明の感光性樹脂組成物は主材となるポリア
ミドが、塩基性窒素を有するポリアミドと一般式
()で示される光重合可能な不飽和結合を有す
る単量体と一部もしくは全部がイオン結合して生
成するアンモニウム塩型窒素原子を有する重合体
であるため、水に容易に溶解し、水による現像が
可能となる。さらに該感光性樹脂組成物は一般式
()で表わされる化合物とのイオン結合により、
主材となるポリアミドの水素結合が立体障害のた
め減少し、可塑効果が働いて柔軟になり、さらに
光硬化した場合、一般式()で表わされる化合
物が単独で重合あるいは他の光重合可能な不飽和
結合を有する単量体と共重合するので、光重合生
成物の3次元的結合の網目が粗になり、そのため
柔軟になる。しかも光硬化後の感光性樹脂では、
ポリアミドと光重合可能な不飽和結合を有する単
量体の光重合体とがイオン結合しているので、耐
湿性、耐溶剤性がよく、かつ力学的特性、特に耐
摩耗性のすぐれたものが得られる。 本発明において、光重合可能な不飽和結合を有
する単量体の全部または一部として使用される一
般式()で表わされる化合物は、たとえば下記
式で示される化合物である。 などがある。これらの単量体を単独あるいは2種
以上混合して使用する。これらの単量体は塩基性
窒素を含有するポリアミドに対して四級化剤とし
て反応する。四級化剤として一般式()で示す
化合物の他に、塩酸、硫酸などの無機酸、蟻酸、
酢酸、クロル酢酸、マレイン酸、フタル酸、アジ
ピン酸、アクリル酸、メタクリル酸などの有機酸
も利用できる。また、前記一般式()で示す化
合物を含む四級化剤の添加量はポリアミド中に存
在する塩基性窒素の量、水に対する溶解性などを
考慮して適宜選択することができる。ポリアミド
中に塩基性窒素の量に対して、一般式()で表
わされる化合物が5モル%以上、特に50〜100モ
ル%存在することが必要である。一般式()で
表わされる化合物が5モル%未満では光架橋後の
感光性樹脂組成物の必要な柔軟性が欠けるので好
ましくない。 本発明において、併用可能な前記一般式()
で示される化合物以外の光重合し得る不飽和結合
を有する単量体としては、たとえばメチルアクリ
レート、メチルメタアクリレート、ベンジルアク
リレート、トリブロムフエニルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、2―ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、アクリルアミド、メタアクリ
ルアミド、N―メチロールアクリルアミド、n―
ブトキシメチルルアクリルアミド、iso―ブトキ
シメチルアクリルアミド、N―t―ブチルアクリ
ルアミド、アクリロニトリル、スチレン、ビニル
ピリジン等の不飽和二重結合を1個有する単量
体、あるいはフリルメタアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタアクリレート、1,3―プロパンジオール
ジアクリレート、1,3―プロパンジオールメタ
アクリレート、1,4―ブタンジオールジアクリ
レート、1,4―ブタンジオールジメタアクリレ
ート、1,6―ヘキサンジオールジアクリレー
ト、1,6―ヘキサンジオールジメタアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクレート、ト
リメチロールプロパントリメタアクリレート、テ
トラメチロールメタントリアクリレート、トリア
クリロイルオキシエチルホスフエイト、メチレン
ビスアクリルアミド、エチレンビスアクリルアミ
ド、プロピレンビスアクリルアミド、ブチレンビ
スアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミ
ド、エチレンビスメタクリルアミド、プロピレン
ビスメタクリルアミド等の不飽和二重結合を2個
以上有する単量体がある。 なお、ポリアミド中に存在する塩基性窒素の量
に対して、一般式()で表わされる化合物と併
用した前記四級化剤の和の量の比が100モル%以
上になる場合、塩基性窒素のモル量から併用した
四級化剤のモル量を引き、さらに式()の化合
物から残余の等モル量にした量以上の式()の
化合物は便宜上、本発明に於て、併用可能な四級
化剤以外の光重合可能な不飽和結合を有する単量
体の類中に入れる。 本発明において塩基性窒素を有するポリアミド
とは、たとえば下記一般式()〜()で示さ
れる単量体を重合原料として得られるものであ
る。 (上記一般式()〜()において、R,
R′は水素原子または炭素原子数1〜10個の炭化
水素残基、R1,R2,R3は炭素原子数1〜15個の
アルキレン基、R4,R5は炭素原子数1〜10個の
炭化水素残基、A,Bは―NH2、―COOH、―
COOR″を示し、AとBは同時に同じあるいは相
違してもよい。ここでR″は炭素原子数1〜10個
の炭化水素残基を示す。) (上記一般式()において、R6,R7は炭素
原子数1〜10個の炭化水素残基を示す。R6とR7
は共同して環や異節環を形成しても良い。また
R8は炭素原子数1〜3個の低級アルキル基ある
いは
示す。 本発明の感光性樹脂組成物は主材となるポリア
ミドが、塩基性窒素を有するポリアミドと一般式
()で示される光重合可能な不飽和結合を有す
る単量体と一部もしくは全部がイオン結合して生
成するアンモニウム塩型窒素原子を有する重合体
であるため、水に容易に溶解し、水による現像が
可能となる。さらに該感光性樹脂組成物は一般式
()で表わされる化合物とのイオン結合により、
主材となるポリアミドの水素結合が立体障害のた
め減少し、可塑効果が働いて柔軟になり、さらに
光硬化した場合、一般式()で表わされる化合
物が単独で重合あるいは他の光重合可能な不飽和
結合を有する単量体と共重合するので、光重合生
成物の3次元的結合の網目が粗になり、そのため
柔軟になる。しかも光硬化後の感光性樹脂では、
ポリアミドと光重合可能な不飽和結合を有する単
量体の光重合体とがイオン結合しているので、耐
湿性、耐溶剤性がよく、かつ力学的特性、特に耐
摩耗性のすぐれたものが得られる。 本発明において、光重合可能な不飽和結合を有
する単量体の全部または一部として使用される一
般式()で表わされる化合物は、たとえば下記
式で示される化合物である。 などがある。これらの単量体を単独あるいは2種
以上混合して使用する。これらの単量体は塩基性
窒素を含有するポリアミドに対して四級化剤とし
て反応する。四級化剤として一般式()で示す
化合物の他に、塩酸、硫酸などの無機酸、蟻酸、
酢酸、クロル酢酸、マレイン酸、フタル酸、アジ
ピン酸、アクリル酸、メタクリル酸などの有機酸
も利用できる。また、前記一般式()で示す化
合物を含む四級化剤の添加量はポリアミド中に存
在する塩基性窒素の量、水に対する溶解性などを
考慮して適宜選択することができる。ポリアミド
中に塩基性窒素の量に対して、一般式()で表
わされる化合物が5モル%以上、特に50〜100モ
ル%存在することが必要である。一般式()で
表わされる化合物が5モル%未満では光架橋後の
感光性樹脂組成物の必要な柔軟性が欠けるので好
ましくない。 本発明において、併用可能な前記一般式()
で示される化合物以外の光重合し得る不飽和結合
を有する単量体としては、たとえばメチルアクリ
レート、メチルメタアクリレート、ベンジルアク
リレート、トリブロムフエニルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、2―ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、アクリルアミド、メタアクリ
ルアミド、N―メチロールアクリルアミド、n―
ブトキシメチルルアクリルアミド、iso―ブトキ
シメチルアクリルアミド、N―t―ブチルアクリ
ルアミド、アクリロニトリル、スチレン、ビニル
ピリジン等の不飽和二重結合を1個有する単量
体、あるいはフリルメタアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタアクリレート、1,3―プロパンジオール
ジアクリレート、1,3―プロパンジオールメタ
アクリレート、1,4―ブタンジオールジアクリ
レート、1,4―ブタンジオールジメタアクリレ
ート、1,6―ヘキサンジオールジアクリレー
ト、1,6―ヘキサンジオールジメタアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクレート、ト
リメチロールプロパントリメタアクリレート、テ
トラメチロールメタントリアクリレート、トリア
クリロイルオキシエチルホスフエイト、メチレン
ビスアクリルアミド、エチレンビスアクリルアミ
ド、プロピレンビスアクリルアミド、ブチレンビ
スアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミ
ド、エチレンビスメタクリルアミド、プロピレン
ビスメタクリルアミド等の不飽和二重結合を2個
以上有する単量体がある。 なお、ポリアミド中に存在する塩基性窒素の量
に対して、一般式()で表わされる化合物と併
用した前記四級化剤の和の量の比が100モル%以
上になる場合、塩基性窒素のモル量から併用した
四級化剤のモル量を引き、さらに式()の化合
物から残余の等モル量にした量以上の式()の
化合物は便宜上、本発明に於て、併用可能な四級
化剤以外の光重合可能な不飽和結合を有する単量
体の類中に入れる。 本発明において塩基性窒素を有するポリアミド
とは、たとえば下記一般式()〜()で示さ
れる単量体を重合原料として得られるものであ
る。 (上記一般式()〜()において、R,
R′は水素原子または炭素原子数1〜10個の炭化
水素残基、R1,R2,R3は炭素原子数1〜15個の
アルキレン基、R4,R5は炭素原子数1〜10個の
炭化水素残基、A,Bは―NH2、―COOH、―
COOR″を示し、AとBは同時に同じあるいは相
違してもよい。ここでR″は炭素原子数1〜10個
の炭化水素残基を示す。) (上記一般式()において、R6,R7は炭素
原子数1〜10個の炭化水素残基を示す。R6とR7
は共同して環や異節環を形成しても良い。また
R8は炭素原子数1〜3個の低級アルキル基ある
いは
【式】を示す。ここでR6,R7は前
述の基である。Yはγ―アミノプロピル基を示
す。) 前記一般式()で示される具体的な単量体と
してはN,N′―ビス(アミノメチル)―ピペラ
ジン、N,N′―ビス(β―アミノエチル)―ピ
ペラジン、N,N′―ビス(β―アミノエチル)
―メチルピペラジン、N―(アミノメチル)―
N′―(β―アミノエチル)―ピペラジン、N,
N′―ビス(γ―アミノプロピル)―ピペラジン
などのジアミン類、N,N′―ビス―(カルボキ
シメチル)―ピペラジン、N,N′―ビス(カル
ボキシメチル)―メチルピペラジン、N,N′―
ビス(カルボキシメチル)―2,6―ジメチルピ
ペラジン、N,N′―ビス(β―カルボキシエチ
ル)―ピペラジン、N,N′―ビス(γ―カルボ
キシプロピル)―ピペラジン、N―(β―カルボ
キシエチル)―N′―(カルボキシメチル)―ピ
ペラジンなどのジカルボン酸類あるいはこれらの
低級アルキルエステル、酸ハロゲン化物およびN
―(アミノメチル)―N′―(カルボキシメチル)
―ピペラジン、N―(アミノメチル)―N′―
(β―カルボキシエチル)―ピペラジン、N―
(β―アミノエチル)―N′―(β―カルボキシエ
チル)―ピペラジン、N―(アミノメチル)―
N′―(カルボキシメチル)―2―メチルピペラ
ジンなどのω―アミノ酸である。 上記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、N―(β―アミノエチル)ピペラジン、
N―(γ―アミノプロピル)ピペラジン、N―
(ω―アミノヘキシル)ピペラジン、N―(δ―
アミノシクロヘキシル)ピペラジン、N―(β―
アミノエチル)―3―メチルピペラジン、N―
(β―アミノエチル)―2,5―ジメチルピペラ
ジン、N―(β―アミノプロピル)―3―メチル
ピペラジン、N―(γ―アミノプロピル)―2,
5―ジメチルピペラジンなどのジアミン類、N―
カルボキシメチルピペラジン、N―(β―カルボ
キシエチル)―ピペラジン、N―(γ―カルボキ
シプロピル)ピペラジン、N―(ω―カルボキシ
ヘキシル)ピペラジン、N―(δ―カルボキシシ
クロヘキシル)ピペラジン、N―(β―カルボキ
シエチル)―3―メチルピペラジン、N―(β―
カルボキシエチル)―2,5―ジメチルピペラジ
ンなどのω―アミノ酸あるいはこれらの低級アル
キルエステル類などである。 前記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、N,N―ジ(β―アミノエチル)エチル
アミン、N,N―ジ(γ―アミノプロピル)メチ
ルアミン、N,N―ジ(β―アミノエチル)―メ
チルアミン、N,N′―ジ(γ―アミノプロピル)
―エチルアミン、N,N―ジ(γ―アミノプロピ
ル)イソプロピルアミン、N,N―ジ(γ―アミ
ノプロピル)―シクロヘキシルアミン、N,N―
ジ(δ―アミノ―n―ブチル)フエニルアミン、
N―メチル―N―(β―アミノエチル)―1,3
―プロパンジアミンなどのジアミン類、N,N―
ジ(カルボキシメチル)―メチルアミン、N,N
―ジ(β―カルボキシエチル)メチルアミン、
N,N―ジ(β―カルボキシエチル)―メチルア
ミン、N,N―ジ(β―カルボキシエチル)―イ
ソプロピルアミン、N―カルボキシメチル)―N
―(β―カルボキシエチル)―メチルアミンなど
のジカルボン酸類あるいはこれらの低級アルキル
エステル、酸ハロゲン化物、およびN―(アミノ
メチル)―N―(カルボキシメチル)―メチルア
ミン、N―(β―アミノエチル)―N―(β―カ
ルボキシエチル)―メチルアミン、N―(アミノ
メチル)―N―(β―カルボキシエチル)―イソ
プロピルアミン、N―(γ―アミノプロピル)―
N―(γ―カルボキシルプロピル)―イソプロピ
ルアミン、N―(γ―アミノプロピル)―N―
(β―カルボキシエチル)―メチルアミンなどの
ω―アミン酸類である。 前記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、N,N′―ジメチル―N,N′―ジ―(γ
―アミノプロピル)―エチレンジアミン、N,
N′―ジメチル―N,N′―ジ―(γ―アミノプロ
ピル)―テトラメチレンジアミン、N,N′―ジ
イソブチル―N,N′―ジ―(γ―アミノプロピ
ル)―ヘキサメチレンジアミン、N,N′―ジシ
クロヘキシル―N,N′―ジ―(γ―アミノプロ
ピル)―ヘキサメチレンジアミン、N,N′―ジ
―(γ―アミノプロピル)―2,2,4―トリメ
チル―ヘキサメチレンジアミンなどのジアミン
類、N,N′―ジメチル―N,N′―ジ(カルボキ
シメチル)―エチレンジアミン、N,N′―ジメ
チル―N,N′―ジ―(β―カルボキシエチル)
―エチレンジアミン、N,N′―ジメチル―N,
N′―ジ―(γ―カルボキシプロピル)―ヘキサ
メチレンジアミンなどのジカルボン酸類あるいは
これらの低級アルキルエステル、酸ハロゲン化物
およびN,N′―ジメチル―N―(アミノメチル)
―N′―(カルボキシメチル)―エチレンジアミ
ン、N,N′―ジメチル―N―(β―アミノエチ
ル)―N′―(β―カルボキシエチル)―エチレ
ンジアミン、N,N′―ジメチル―N―(アミノ
メチル)―N′―(カルボキシエチル)―ヘキサ
メチレンジアミンなどのω―アミノ酸である。 上記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、6―メチル―6―(N,N,―ジメチル
アミノメチル)―4,8―ジオキサ―ウンデカン
ジアミン、6―メチル―6―(N,N―ジエチル
アミノメチル)―4,8―ジオキサ―ウンデカン
ジアミン、6―エチル―6―(N,N―ジメチル
アミノメチル)―4,8―ジオキサ―ウンデカカ
ンジアミン、6,6―ビス(N,N―ジメチルア
ミノメチル)―4,8―ジオキサンウンデカンジ
アミンなどのジアミン類である。 これら塩基性窒素を有する単量体を単独もしく
は2種以上用いて縮重合を行いポリアミドを形成
する。すなわち、上記単量体がω―アミノ酸ある
いはそのアルキルエステル類などのように単独重
合によつてポリアミドを形成し得る単量体は単独
で用いることができる。一方、上記単量体がジカ
ルボン酸あるいはそのアルキルエステル類、酸ハ
ロゲン化物などであればジアミンと、また上記単
量体がジアミンであればジカルボン酸あるいはそ
の誘導体と、縮重合させることによつてポリアミ
ドを形成せしめる。 さらに本発明に用いるポリアミドの重合原料と
しては、前記一般式()〜()で示される単
量体のほかに、通常のポリアミドの重合に用いら
れる脂肪族および/または芳香族のジカルボン
酸、ジアミン、ω―アミノ酸、ラクタムなどを併
用してもよい。併用可能なジカルボン酸として
は、たとえばコハク酸、アジピン酸、グルタル
酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボ
ン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、シクロヘキ
サンジカルボン酸などの脂肪族および/または芳
香族のジカルボン酸あるいはこれらの酸の低級ア
ルキルエステル、酸ハロゲン化物などを用いる。
ジアミンとしてはたとえばテトラメチレンジアミ
ン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレ
ンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレ
ンジアミン、などの直鎖飽和脂肪族ジアミン、メ
タキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミン
などの芳香族ジアミン、シクロヘキサンビスメチ
ルアミンなどの脂肪族ジアミンなどを用いる。ω
―アミノ酸としては、たとえばアミノカプロン
酸、アミノヘプタン酸、アミノカプリル酸、アミ
ノカプリン酸、アミノラウリル酸などを用いる。
ラクタムとしては、たとえばε―カプロラクタ
ム、α―メチル―εカプロラクタム、ε―メチル
―εカプロラクタム、シクロヘプタノンイソオキ
シム、シクロオクタノンイソオキシムなどを用い
る。 以上の単量体から得られる塩基性窒素原子を有
するポリアミドの重合方法は従来公知のポリアミ
ドの製造方法に従つて行なうことができる。塩基
性窒素を含有する単量体成分は全ポリアミド構成
成分の5〜100モル%であり、特に20〜50モル%
であることが好ましい。なお、上述に示される塩
基性窒素を含有する単量体の他に、一般式()
で示される化合物と反応し第四級アンモニウム塩
を生成する様な窒素を含有する単量体はすべて利
用できる。 以上の単量体を単独あるいは2種以上混合して
使用する。特に不飽和二重結合を少なくとも2個
以上有する単量体を単独で用いるかあるいは少な
くとも1種以上含む単量体混合物を用いることが
望ましい。該単量体の使用量は、感光性樹脂組成
物中のポリアミドに対し、5〜150重量%、特に
10〜100重量%であることが好ましい。該単量体
が5重量%未満であると、露光部の溶剤に対する
不溶化が充分でなくなる。また150重量%を越え
ると、感光性層の露光後、機械強度が損なわれ
る。 光増感剤は前記ポリアミドのマトリツクス内で
の前期単量体の重合反応を促進させるために添加
する。このような光増感剤としては従来公知のも
のを使用することができる。たとえば9,10―ア
ントラキノン、1―クロルアントラキノン、2―
クロルアントラキノンなどのアントラキノン類、
ベンゾフエノン、p―アミノベンゾフエノン、p
―クロルベンゾフエノンなどのベンゾフエノン
類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、α―メチルベンゾイン
などのベンゾイン類、あるいはベンジル類があ
る。光増感剤の使用量は前記ポリアミド、一般式
()で示される化合物および光重合可能な不飽
和結合を有する単量体との総量に対し、0.01〜5
重量%、特に0.1〜2重量%であることが好まし
い。 熱重合防止剤は感光性樹脂組成物の調合、成
型、加工時の加熱による光重合な不飽和基を有す
る単量体の熱重合あるいは該感光性樹脂組成物の
保存中の暗反応を防止するために添加する。この
ような熱重合防止剤としては従来公知のものを用
いることができる。たとえばハイドロキノン、モ
ノ―t―ブチルハイドロキノンなどのハイドロキ
ノン類、ベンゾキノン、2,5―ジ―p―ベンゾ
キノンなどのベンゾキノン類、カテコール、p―
t―ブチルカテコールなどのカテコール類、ピク
リン酸類などがある。熱重合防止剤の使用量は前
記ポリアミドと、式(1)で示される化合物およ
び光重合可能な不飽和結合を有する単量体との総
量に対し、0.001〜2重量%、特に0.05〜0.5重量
%であることが好ましい。 以上、一般式()で示される化合物、塩基性
窒素を有するポリアミド、光重合可能な不飽和結
合を有する単量体、光増感剤および熱重合防止剤
を含有する本発明の感光性樹脂組成物は、水、メ
タノール、エタノール、四塩化炭素、トルエンあ
るいはキシレンなどの溶媒に溶解し、この溶液か
ら溶媒のみを蒸発させて均一に混合することによ
つて容易に得られる。 本発明の感光性樹脂組成物は通常シート状物な
どに成形して感光性樹脂原版として用いる。即ち
上述の組成からなる混合物を熱プレス、注型ある
いは溶融押出しなどの方法により所望の厚さの
板、フイルムまたは箔などのシート状物とする。 またこのシート状物を接着剤を介してあるいは
介さずに支持体上に積層する。支持体としてはス
チール、アルミニウム、ガラス、プラスチツクフ
イルムなどの任意のものが使用できる。 得られた感光性樹脂原版は感光性層に透明画像
部を有するネガフイルムまたはポジフイルムを密
着して重ね合せ、その上方から活性光線を照射す
ると、露光部のみ不溶化ならびに硬化する。この
ような活性光線を発する光源としては各種水銀
灯、炭素アーク灯、キセノンランプ、紫外線、螢
光灯などが使用できる。 光照射後は適当な溶剤により非露光部分を溶解
除去すると、鮮明な画像部を有する凸板が得られ
る。本発明においては、基材に一般式()で示
される化合物と塩基性窒素を有するポリアミドと
が反応してできるアンモニウム塩型窒素原子を有
するポリアミドを使用するため、単なる水によつ
て容易に速やかに現像することができる。もちろ
ん各種酸水溶液、水とアルコールの混合液、低級
脂肪族アルコール、低級脂肪族アルコールと塩化
カルシウムもしくは塩化亜鉛など結合材のポリア
ミドを可溶化し得る溶剤によつても現像できる。 このようにして得られる本発明の凸版は、露光
および現像に要する時間が極めて短いため得られ
る画像は非常にシヤープな輪廓を有する。しかも
該凸版は、式()で示される化合物の効果によ
り非常に柔軟になり、上質紙等粗面を有する紙上
にもきれいにインキが転移し、輪転印刷機で高速
印刷してもインキのカスレがなく、非常に鮮明に
印刷され得る。 以下本発明を実施例により詳細に説明する。な
お、実施例中において単に部とあるのはいずれも
重量部を示す。 参考例 1 N,N′―ビス(γ―アミノプロピル)ピペラ
ジンアジペート40部とε―カプロラクタム60部を
反応容器に加え、充分な窒素置換を行つたのち、
密閉して徐々に加熱した。内圧が10Kg/m2に達し
た時点から、その圧力を保持できなくなるまで水
を留出させ、約1時間で常圧にもどし、その後
1.5時間常圧で反応させた。得られた重合体は比
粘度1.59、軟化点110℃の乳白色ポリアミドであ
り、中性水には実質的に不溶であつた。 実施例 1 下記式()で示される化合物30部、参考例1
で得られたポリアミド100部、エチレングリコー
ルジグリシジルエーテルとアクリル酸の1:2縮
合物30部、ベンゾフエノン2部およびハイドロキ
ノン0.2部をメタノール300部に加え加熱して溶解
した。この溶液をガラス板上に流延して減圧下に
放置して完全にメタノールを除去すると厚さ0.6
mmの透明なフイルム状の感光性樹脂組成物が得ら
れた。この組成物は常温の水に容易に溶解した。 得られたフイルムを、厚さ0.25mmのポリエステ
ルフイルム上に貼着して、感光性原版を得た。 この原版の感光性層に、133線の網分解した写
真像ネガフイルムを密着させて、大日本スクリー
ン製露光機P―113―Dで4分間露光した。露光
後、大日本スクリーン製プリンタイトウオツシヤ
ーBR―A3で2分間現像し、乾燥後後露光した。
得られた凸版は原像を忠実に再現していた。次に
この凸版を浮田工業製凸版輪転印刷機BF―201に
装着して印刷を行つたところ、シヤドウ部のカス
レがなく、またハイライト部の太りもなく、非常
に良好な印刷物が得られた。また上記凸版の20
℃、65%RHでの硬度は30゜(シヨア―D)でかな
り柔軟であつた。 実施例 2 下記式(2)で示される化合物60部、参考例1で得
られたポリアミド100部、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルとアクリル酸の1:2縮合物
30部、ベンゾフエノン2部、ハイドロキノン0.2
部をメタノール300部に加え加熱して溶解した。
この溶液から実施例1と同様な方法で感光性原版
を得、露光、現像、乾燥、後露光を行つた。得ら
れた凸版は原像を再現し、良好な印刷物が得られ
た。また硬度は30゜(シヨア―D)であつた。 実施例 3 下記式(3)で示される化合物25部、参考例1で得
られたポリアミド100部、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルとアクリル酸1:2縮合物30
部、ベンゾフエノン2部、ハイドロキノン0.2部
をメタノール300部に加え加熱して溶解した。こ
の溶液から実施例1と同様な方法で感光性原版を
得、露光、現像、乾燥、後露光を行つた。得られ
た凸版は原像を再現していた。このレリーフを実
施例1と同様に印刷したところ非常に良好な印刷
物が得られた。また凸版の硬度は35゜であつた。 比較例 1 メタアクリル酸10部、参考例1で得られたポリ
アミド100部、エチレングリコールジグリシジル
エーテルとアクリル酸1:2縮合物30部、ベンゾ
フエノン2部、ハイドロキノン0.2部をメタノー
ル300部に加え加熱して溶解した。この溶液から
実施例1と同様な方法で感光性原版を得、露光、
現像、乾燥、後露光を行つた。得られた凸版を用
いて実施例1と同様にして印刷を行つたところ、
シヤドウ部にカスレを生じ、印刷物は良好でなか
つた。また凸版の硬度は50゜(シヨア―D)であり
柔軟性に欠けていた。 実施例 4 下記式(4)で示される化合物21部、参考例1で得
られたポリアミド100部、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルとアクリル酸1:2縮合物30
部、ベンゾフエノン2部、ハイドロキノン0.2部
をメタノール300部に加え加熱して溶解した。こ
の溶液から実施例1と同様な方法で感光性原版を
得、露光、現像、乾燥、後露光を行つた。得られ
た凸版は原像を再現していた。このレリーフを実
施例1と同様に印刷したところ非常に良好な印刷
物が得られた。また凸版の硬度は35゜であつた。
す。) 前記一般式()で示される具体的な単量体と
してはN,N′―ビス(アミノメチル)―ピペラ
ジン、N,N′―ビス(β―アミノエチル)―ピ
ペラジン、N,N′―ビス(β―アミノエチル)
―メチルピペラジン、N―(アミノメチル)―
N′―(β―アミノエチル)―ピペラジン、N,
N′―ビス(γ―アミノプロピル)―ピペラジン
などのジアミン類、N,N′―ビス―(カルボキ
シメチル)―ピペラジン、N,N′―ビス(カル
ボキシメチル)―メチルピペラジン、N,N′―
ビス(カルボキシメチル)―2,6―ジメチルピ
ペラジン、N,N′―ビス(β―カルボキシエチ
ル)―ピペラジン、N,N′―ビス(γ―カルボ
キシプロピル)―ピペラジン、N―(β―カルボ
キシエチル)―N′―(カルボキシメチル)―ピ
ペラジンなどのジカルボン酸類あるいはこれらの
低級アルキルエステル、酸ハロゲン化物およびN
―(アミノメチル)―N′―(カルボキシメチル)
―ピペラジン、N―(アミノメチル)―N′―
(β―カルボキシエチル)―ピペラジン、N―
(β―アミノエチル)―N′―(β―カルボキシエ
チル)―ピペラジン、N―(アミノメチル)―
N′―(カルボキシメチル)―2―メチルピペラ
ジンなどのω―アミノ酸である。 上記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、N―(β―アミノエチル)ピペラジン、
N―(γ―アミノプロピル)ピペラジン、N―
(ω―アミノヘキシル)ピペラジン、N―(δ―
アミノシクロヘキシル)ピペラジン、N―(β―
アミノエチル)―3―メチルピペラジン、N―
(β―アミノエチル)―2,5―ジメチルピペラ
ジン、N―(β―アミノプロピル)―3―メチル
ピペラジン、N―(γ―アミノプロピル)―2,
5―ジメチルピペラジンなどのジアミン類、N―
カルボキシメチルピペラジン、N―(β―カルボ
キシエチル)―ピペラジン、N―(γ―カルボキ
シプロピル)ピペラジン、N―(ω―カルボキシ
ヘキシル)ピペラジン、N―(δ―カルボキシシ
クロヘキシル)ピペラジン、N―(β―カルボキ
シエチル)―3―メチルピペラジン、N―(β―
カルボキシエチル)―2,5―ジメチルピペラジ
ンなどのω―アミノ酸あるいはこれらの低級アル
キルエステル類などである。 前記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、N,N―ジ(β―アミノエチル)エチル
アミン、N,N―ジ(γ―アミノプロピル)メチ
ルアミン、N,N―ジ(β―アミノエチル)―メ
チルアミン、N,N′―ジ(γ―アミノプロピル)
―エチルアミン、N,N―ジ(γ―アミノプロピ
ル)イソプロピルアミン、N,N―ジ(γ―アミ
ノプロピル)―シクロヘキシルアミン、N,N―
ジ(δ―アミノ―n―ブチル)フエニルアミン、
N―メチル―N―(β―アミノエチル)―1,3
―プロパンジアミンなどのジアミン類、N,N―
ジ(カルボキシメチル)―メチルアミン、N,N
―ジ(β―カルボキシエチル)メチルアミン、
N,N―ジ(β―カルボキシエチル)―メチルア
ミン、N,N―ジ(β―カルボキシエチル)―イ
ソプロピルアミン、N―カルボキシメチル)―N
―(β―カルボキシエチル)―メチルアミンなど
のジカルボン酸類あるいはこれらの低級アルキル
エステル、酸ハロゲン化物、およびN―(アミノ
メチル)―N―(カルボキシメチル)―メチルア
ミン、N―(β―アミノエチル)―N―(β―カ
ルボキシエチル)―メチルアミン、N―(アミノ
メチル)―N―(β―カルボキシエチル)―イソ
プロピルアミン、N―(γ―アミノプロピル)―
N―(γ―カルボキシルプロピル)―イソプロピ
ルアミン、N―(γ―アミノプロピル)―N―
(β―カルボキシエチル)―メチルアミンなどの
ω―アミン酸類である。 前記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、N,N′―ジメチル―N,N′―ジ―(γ
―アミノプロピル)―エチレンジアミン、N,
N′―ジメチル―N,N′―ジ―(γ―アミノプロ
ピル)―テトラメチレンジアミン、N,N′―ジ
イソブチル―N,N′―ジ―(γ―アミノプロピ
ル)―ヘキサメチレンジアミン、N,N′―ジシ
クロヘキシル―N,N′―ジ―(γ―アミノプロ
ピル)―ヘキサメチレンジアミン、N,N′―ジ
―(γ―アミノプロピル)―2,2,4―トリメ
チル―ヘキサメチレンジアミンなどのジアミン
類、N,N′―ジメチル―N,N′―ジ(カルボキ
シメチル)―エチレンジアミン、N,N′―ジメ
チル―N,N′―ジ―(β―カルボキシエチル)
―エチレンジアミン、N,N′―ジメチル―N,
N′―ジ―(γ―カルボキシプロピル)―ヘキサ
メチレンジアミンなどのジカルボン酸類あるいは
これらの低級アルキルエステル、酸ハロゲン化物
およびN,N′―ジメチル―N―(アミノメチル)
―N′―(カルボキシメチル)―エチレンジアミ
ン、N,N′―ジメチル―N―(β―アミノエチ
ル)―N′―(β―カルボキシエチル)―エチレ
ンジアミン、N,N′―ジメチル―N―(アミノ
メチル)―N′―(カルボキシエチル)―ヘキサ
メチレンジアミンなどのω―アミノ酸である。 上記一般式()で示される具体的な単量体と
しては、6―メチル―6―(N,N,―ジメチル
アミノメチル)―4,8―ジオキサ―ウンデカン
ジアミン、6―メチル―6―(N,N―ジエチル
アミノメチル)―4,8―ジオキサ―ウンデカン
ジアミン、6―エチル―6―(N,N―ジメチル
アミノメチル)―4,8―ジオキサ―ウンデカカ
ンジアミン、6,6―ビス(N,N―ジメチルア
ミノメチル)―4,8―ジオキサンウンデカンジ
アミンなどのジアミン類である。 これら塩基性窒素を有する単量体を単独もしく
は2種以上用いて縮重合を行いポリアミドを形成
する。すなわち、上記単量体がω―アミノ酸ある
いはそのアルキルエステル類などのように単独重
合によつてポリアミドを形成し得る単量体は単独
で用いることができる。一方、上記単量体がジカ
ルボン酸あるいはそのアルキルエステル類、酸ハ
ロゲン化物などであればジアミンと、また上記単
量体がジアミンであればジカルボン酸あるいはそ
の誘導体と、縮重合させることによつてポリアミ
ドを形成せしめる。 さらに本発明に用いるポリアミドの重合原料と
しては、前記一般式()〜()で示される単
量体のほかに、通常のポリアミドの重合に用いら
れる脂肪族および/または芳香族のジカルボン
酸、ジアミン、ω―アミノ酸、ラクタムなどを併
用してもよい。併用可能なジカルボン酸として
は、たとえばコハク酸、アジピン酸、グルタル
酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボ
ン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、シクロヘキ
サンジカルボン酸などの脂肪族および/または芳
香族のジカルボン酸あるいはこれらの酸の低級ア
ルキルエステル、酸ハロゲン化物などを用いる。
ジアミンとしてはたとえばテトラメチレンジアミ
ン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレ
ンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレ
ンジアミン、などの直鎖飽和脂肪族ジアミン、メ
タキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミン
などの芳香族ジアミン、シクロヘキサンビスメチ
ルアミンなどの脂肪族ジアミンなどを用いる。ω
―アミノ酸としては、たとえばアミノカプロン
酸、アミノヘプタン酸、アミノカプリル酸、アミ
ノカプリン酸、アミノラウリル酸などを用いる。
ラクタムとしては、たとえばε―カプロラクタ
ム、α―メチル―εカプロラクタム、ε―メチル
―εカプロラクタム、シクロヘプタノンイソオキ
シム、シクロオクタノンイソオキシムなどを用い
る。 以上の単量体から得られる塩基性窒素原子を有
するポリアミドの重合方法は従来公知のポリアミ
ドの製造方法に従つて行なうことができる。塩基
性窒素を含有する単量体成分は全ポリアミド構成
成分の5〜100モル%であり、特に20〜50モル%
であることが好ましい。なお、上述に示される塩
基性窒素を含有する単量体の他に、一般式()
で示される化合物と反応し第四級アンモニウム塩
を生成する様な窒素を含有する単量体はすべて利
用できる。 以上の単量体を単独あるいは2種以上混合して
使用する。特に不飽和二重結合を少なくとも2個
以上有する単量体を単独で用いるかあるいは少な
くとも1種以上含む単量体混合物を用いることが
望ましい。該単量体の使用量は、感光性樹脂組成
物中のポリアミドに対し、5〜150重量%、特に
10〜100重量%であることが好ましい。該単量体
が5重量%未満であると、露光部の溶剤に対する
不溶化が充分でなくなる。また150重量%を越え
ると、感光性層の露光後、機械強度が損なわれ
る。 光増感剤は前記ポリアミドのマトリツクス内で
の前期単量体の重合反応を促進させるために添加
する。このような光増感剤としては従来公知のも
のを使用することができる。たとえば9,10―ア
ントラキノン、1―クロルアントラキノン、2―
クロルアントラキノンなどのアントラキノン類、
ベンゾフエノン、p―アミノベンゾフエノン、p
―クロルベンゾフエノンなどのベンゾフエノン
類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、α―メチルベンゾイン
などのベンゾイン類、あるいはベンジル類があ
る。光増感剤の使用量は前記ポリアミド、一般式
()で示される化合物および光重合可能な不飽
和結合を有する単量体との総量に対し、0.01〜5
重量%、特に0.1〜2重量%であることが好まし
い。 熱重合防止剤は感光性樹脂組成物の調合、成
型、加工時の加熱による光重合な不飽和基を有す
る単量体の熱重合あるいは該感光性樹脂組成物の
保存中の暗反応を防止するために添加する。この
ような熱重合防止剤としては従来公知のものを用
いることができる。たとえばハイドロキノン、モ
ノ―t―ブチルハイドロキノンなどのハイドロキ
ノン類、ベンゾキノン、2,5―ジ―p―ベンゾ
キノンなどのベンゾキノン類、カテコール、p―
t―ブチルカテコールなどのカテコール類、ピク
リン酸類などがある。熱重合防止剤の使用量は前
記ポリアミドと、式(1)で示される化合物およ
び光重合可能な不飽和結合を有する単量体との総
量に対し、0.001〜2重量%、特に0.05〜0.5重量
%であることが好ましい。 以上、一般式()で示される化合物、塩基性
窒素を有するポリアミド、光重合可能な不飽和結
合を有する単量体、光増感剤および熱重合防止剤
を含有する本発明の感光性樹脂組成物は、水、メ
タノール、エタノール、四塩化炭素、トルエンあ
るいはキシレンなどの溶媒に溶解し、この溶液か
ら溶媒のみを蒸発させて均一に混合することによ
つて容易に得られる。 本発明の感光性樹脂組成物は通常シート状物な
どに成形して感光性樹脂原版として用いる。即ち
上述の組成からなる混合物を熱プレス、注型ある
いは溶融押出しなどの方法により所望の厚さの
板、フイルムまたは箔などのシート状物とする。 またこのシート状物を接着剤を介してあるいは
介さずに支持体上に積層する。支持体としてはス
チール、アルミニウム、ガラス、プラスチツクフ
イルムなどの任意のものが使用できる。 得られた感光性樹脂原版は感光性層に透明画像
部を有するネガフイルムまたはポジフイルムを密
着して重ね合せ、その上方から活性光線を照射す
ると、露光部のみ不溶化ならびに硬化する。この
ような活性光線を発する光源としては各種水銀
灯、炭素アーク灯、キセノンランプ、紫外線、螢
光灯などが使用できる。 光照射後は適当な溶剤により非露光部分を溶解
除去すると、鮮明な画像部を有する凸板が得られ
る。本発明においては、基材に一般式()で示
される化合物と塩基性窒素を有するポリアミドと
が反応してできるアンモニウム塩型窒素原子を有
するポリアミドを使用するため、単なる水によつ
て容易に速やかに現像することができる。もちろ
ん各種酸水溶液、水とアルコールの混合液、低級
脂肪族アルコール、低級脂肪族アルコールと塩化
カルシウムもしくは塩化亜鉛など結合材のポリア
ミドを可溶化し得る溶剤によつても現像できる。 このようにして得られる本発明の凸版は、露光
および現像に要する時間が極めて短いため得られ
る画像は非常にシヤープな輪廓を有する。しかも
該凸版は、式()で示される化合物の効果によ
り非常に柔軟になり、上質紙等粗面を有する紙上
にもきれいにインキが転移し、輪転印刷機で高速
印刷してもインキのカスレがなく、非常に鮮明に
印刷され得る。 以下本発明を実施例により詳細に説明する。な
お、実施例中において単に部とあるのはいずれも
重量部を示す。 参考例 1 N,N′―ビス(γ―アミノプロピル)ピペラ
ジンアジペート40部とε―カプロラクタム60部を
反応容器に加え、充分な窒素置換を行つたのち、
密閉して徐々に加熱した。内圧が10Kg/m2に達し
た時点から、その圧力を保持できなくなるまで水
を留出させ、約1時間で常圧にもどし、その後
1.5時間常圧で反応させた。得られた重合体は比
粘度1.59、軟化点110℃の乳白色ポリアミドであ
り、中性水には実質的に不溶であつた。 実施例 1 下記式()で示される化合物30部、参考例1
で得られたポリアミド100部、エチレングリコー
ルジグリシジルエーテルとアクリル酸の1:2縮
合物30部、ベンゾフエノン2部およびハイドロキ
ノン0.2部をメタノール300部に加え加熱して溶解
した。この溶液をガラス板上に流延して減圧下に
放置して完全にメタノールを除去すると厚さ0.6
mmの透明なフイルム状の感光性樹脂組成物が得ら
れた。この組成物は常温の水に容易に溶解した。 得られたフイルムを、厚さ0.25mmのポリエステ
ルフイルム上に貼着して、感光性原版を得た。 この原版の感光性層に、133線の網分解した写
真像ネガフイルムを密着させて、大日本スクリー
ン製露光機P―113―Dで4分間露光した。露光
後、大日本スクリーン製プリンタイトウオツシヤ
ーBR―A3で2分間現像し、乾燥後後露光した。
得られた凸版は原像を忠実に再現していた。次に
この凸版を浮田工業製凸版輪転印刷機BF―201に
装着して印刷を行つたところ、シヤドウ部のカス
レがなく、またハイライト部の太りもなく、非常
に良好な印刷物が得られた。また上記凸版の20
℃、65%RHでの硬度は30゜(シヨア―D)でかな
り柔軟であつた。 実施例 2 下記式(2)で示される化合物60部、参考例1で得
られたポリアミド100部、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルとアクリル酸の1:2縮合物
30部、ベンゾフエノン2部、ハイドロキノン0.2
部をメタノール300部に加え加熱して溶解した。
この溶液から実施例1と同様な方法で感光性原版
を得、露光、現像、乾燥、後露光を行つた。得ら
れた凸版は原像を再現し、良好な印刷物が得られ
た。また硬度は30゜(シヨア―D)であつた。 実施例 3 下記式(3)で示される化合物25部、参考例1で得
られたポリアミド100部、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルとアクリル酸1:2縮合物30
部、ベンゾフエノン2部、ハイドロキノン0.2部
をメタノール300部に加え加熱して溶解した。こ
の溶液から実施例1と同様な方法で感光性原版を
得、露光、現像、乾燥、後露光を行つた。得られ
た凸版は原像を再現していた。このレリーフを実
施例1と同様に印刷したところ非常に良好な印刷
物が得られた。また凸版の硬度は35゜であつた。 比較例 1 メタアクリル酸10部、参考例1で得られたポリ
アミド100部、エチレングリコールジグリシジル
エーテルとアクリル酸1:2縮合物30部、ベンゾ
フエノン2部、ハイドロキノン0.2部をメタノー
ル300部に加え加熱して溶解した。この溶液から
実施例1と同様な方法で感光性原版を得、露光、
現像、乾燥、後露光を行つた。得られた凸版を用
いて実施例1と同様にして印刷を行つたところ、
シヤドウ部にカスレを生じ、印刷物は良好でなか
つた。また凸版の硬度は50゜(シヨア―D)であり
柔軟性に欠けていた。 実施例 4 下記式(4)で示される化合物21部、参考例1で得
られたポリアミド100部、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルとアクリル酸1:2縮合物30
部、ベンゾフエノン2部、ハイドロキノン0.2部
をメタノール300部に加え加熱して溶解した。こ
の溶液から実施例1と同様な方法で感光性原版を
得、露光、現像、乾燥、後露光を行つた。得られ
た凸版は原像を再現していた。このレリーフを実
施例1と同様に印刷したところ非常に良好な印刷
物が得られた。また凸版の硬度は35゜であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 塩基性窒素を有するポリアミド、光重合可能
な不飽和結合を有する単量体および光重合開始剤
からなる感光性樹脂組成物において、光重合可能
な不飽和結合を有する単量体の全部または一部と
して下記一般式()で表わされる化合物を含有
することを特徴とする感光性樹脂組成物。 式中、Xは水素またはメチル基、Yは炭素原子
数1〜24の二価の炭化水素基または分子中に―O
―、―COO―、―NHCO―を有する炭素原子数
1〜24の二価の炭化水素基、Zは―COOH、―
SO3H、【式】【式】を示し、Rは炭素 原子数1〜10のアルキル基またはフエニル基を示
す。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7619581A JPS57190045A (en) | 1981-05-19 | 1981-05-19 | Photosensitive resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7619581A JPS57190045A (en) | 1981-05-19 | 1981-05-19 | Photosensitive resin composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57190045A JPS57190045A (en) | 1982-11-22 |
JPS6367175B2 true JPS6367175B2 (ja) | 1988-12-23 |
Family
ID=13598356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7619581A Granted JPS57190045A (en) | 1981-05-19 | 1981-05-19 | Photosensitive resin composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS57190045A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6145226A (ja) * | 1984-08-10 | 1986-03-05 | Ube Ind Ltd | カラ−液晶表示器およびその製法 |
NZ215095A (en) * | 1985-02-12 | 1989-04-26 | Napp Systems Inc | Photosensitive resin compositions |
JP2013040267A (ja) * | 2011-08-12 | 2013-02-28 | Fujifilm Corp | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
-
1981
- 1981-05-19 JP JP7619581A patent/JPS57190045A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57190045A (en) | 1982-11-22 |
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