JPS636550B2 - - Google Patents

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JPS636550B2
JPS636550B2 JP51107652A JP10765276A JPS636550B2 JP S636550 B2 JPS636550 B2 JP S636550B2 JP 51107652 A JP51107652 A JP 51107652A JP 10765276 A JP10765276 A JP 10765276A JP S636550 B2 JPS636550 B2 JP S636550B2
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JP
Japan
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formula
reaction
methanol
mixture
trifluoroacetic anhydride
Prior art date
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Application number
JP51107652A
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English (en)
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JPS5236690A (en
Inventor
Jii Raito Aian
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Eli Lilly and Co
Original Assignee
Eli Lilly and Co
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Filing date
Publication date
Application filed by Eli Lilly and Co filed Critical Eli Lilly and Co
Publication of JPS5236690A publication Critical patent/JPS5236690A/ja
Publication of JPS636550B2 publication Critical patent/JPS636550B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/02Preparation
    • C07D501/04Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/26Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、セフアロスポリン化合物、特に遊離
酞の−メトキシメチルセフアロスポリンの補法
に関する。 −メトキシメチルセフアロスポリンはすでに
公知であるが、容易に入手できる出発物質から簡
単で䟿利に補造する方法はただ芋い出されおいな
い。本発明は、このような方法に着目するもので
ある。 −ヒドロキシメチルセフアロスポリンを察応
する−アルコキシメチルセフアロスポリンに倉
換する方法は、米囜特蚱第3658799号および同第
3665003号に開瀺されおいる。 米囜特蚱第3665003号に蚘茉の方法には、ゞア
ゟメタンを甚いる方法が含たれるが、この方法に
は欠点がある。第䞀に、この方法でぱステル保
護基を甚いるので぀の䜙分の反応工皋を必芁ず
する。その䞀぀は保護基を導入するこずであり、
他方はそれを陀去する工皋である。第二に、ゞア
ゟメタンは毒性か぀爆発性であり、埓぀おその利
甚範囲は制限される。 米囜特蚱第3658799号および第3665003号には、
4.0以䞋のpkaを有する酞HXの掻性誘導䜓ず
−ヒドロキシメチルセフアロスポリンずの反応
も開瀺されおいる。この堎合、埗られた−
XCH2セフアロスポリン化合物をアルコヌルある
いはプノヌルず反応させるず所望の−゚ヌテ
ル性ヒドロキシメチル化合物を埗る。酞ずしおは
ハロ酢酞、特にゞクロロ酢酞が奜たしい。しか
し、この方法にも明癜な欠点がある。即ち、䜍
のカルボキシ基が保護されたセフアロスポリンの
䜿甚を必芁ずするのである。これらの特蚱に開瀺
されおいるハロ酢酞を甚いお−ヒドロキシメチ
ルセフアロスポリンの倉換を行なう前に適圓な保
護基で−カルボキシ基を保護しなか぀た堎合に
は、所望でないラクトンが倧量に埗られ、所望の
−メトキシメチルセフアロスポリンは少量埗ら
れるか、あるいは党く埗られないかのいずれかで
ある。埓぀お、繰り返し述べるがハロ酢酞を甚い
る䞊述の぀の特蚱に蚘茉の反応工皋においお
は、セフアロスポリン出発物質のカルボキシル基
を最初に保護し、反応終了埌に保護基を陀去する
必芁がある。 本発明はこれらの欠点を克服し、察応する遊離
酞である−ヒドロキシメチルセフアロスポリン
から遊離酞の−メトキシメチルセフアロスポリ
ンを倧量補造する方法を提䟛するものである。セ
フアロスポリンのカルボキシル基を保護し、さら
に保護基を陀去する際に芁する時間ず費甚は、本
発明の基瀎を構成する発明で避けるこずができ
る。 本発明は、䞀般匏 〔匏䞭、はアシルアミノたたはアシルむミノを
衚わすものずする〕 で衚わされる化合物を、無氎トリフルオロ酢酞、
の少くずも圓量ず反応させ、埗られる䞭間䜓を
メタノヌルず反応させるものであり、奜たしく
は、前蚘原料物質を少なくずも圓量の掻性化剀
無氎トリフルオロ酢酞などず奜たしくは枩床
箄−30℃〜20℃においお反応させ、混液を奜たし
くは玄50℃以䞋、枛圧状態で凊理しお䞭間䜓を過
剰の掻性化剀から分離し、奜たしくは玄45〜75℃
においお䞭間䜓を過剰のメタノヌルず反応させお
䞀般匏 で衚わされる−メトキシメチルセフアロスポリ
ンを補造する方法に関する。 前述のように、本発明は察応する遊離−ヒド
ロキシメチルセフアロスポリンから遊離−メト
キシメチルセフアロスポリンを補造する方法に関
する。この反応には、䜍のカルボキシル基を適
圓に保護しないで先行技術に埓぀おセフアロスポ
リンを補造した堎合に容易に生じる倚量のラクト
ン生成を避けるために特に遞別した詊薬ず反応条
件が含たれる。 本発明工皋の出発物質ずしおは、皮々の−ア
シルアミノ−および−アシルむミノセフアロス
ポリンを甚いるこずができる。䜍における特定
のアシルアミノおよびアシルむミノ基の皮類は、
反応の実斜に関䞎しない。奜たしくは、本発明工
皋の反応条件に察しお䞍掻性な基を甚いる。しか
しながら、たずえ䜍の眮換基に本発明工皋の反
応条件䞋においお掻性な分子が含たれおいたずし
おも、これは䜍の眮換基が出発物質ず最終産物
で異なるだけで、本発明で定矩された反応に実質
的な圱響を及がすものではない。埓぀お皮々の
−眮換基を甚いるこずができる。しかし、前蚘の
ように、䜍の特定の眮換基は本発明に甚いる詊
薬あるいは反応条件に察しお掻性な分子を含たな
いこずが奜たしい。 本発明工皋の出発物質−ヒドロキシメチルセ
フアロスポリンの代衚的な−アシルアミノおよ
び−アシルむミノ基は前蚘匏䞭ではで瀺さ
れ、 (1) 匏 で衚わされるむミド基匏䞭、R1はC2〜C4ア
ルキレンたたは・−プニレンを衚わすも
のずする (2) 匏 で衚わされるアミド基匏䞭、R2は (a) 氎玠、C1〜C3アルキル、ハロメチル、
−アミノ−−カルボキシブチル、−保護
アミノ−−保護カルボキシブチル、ベンゞ
ルオキシ、−ニトロベンゞルオキシ、−
ブチルオキシ、・・−トリクロロ゚ト
キシ、−メトキシベンゞルオキシ、−
−クロロプニル−−メチルむ゜オキ
サゟル−−むル (b) 基R′䜆し、R′は・−シクロヘキサゞ
゚ニル、プニルたたは〜個のハロゲ
ン、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、ニトロ、
シアノ、トリフルオロメチル、C1〜C4アル
キルあるいはC1〜C4アルコキシで眮換され
たプニル (c) 匏 R′−n−CH2− で衚わされる基䜆し、R′は前蚘ず同意矩
ずし、はたたはである (d) 匏 で衚わされる基䜆し、R′はR″、−チ゚
ニル、−チ゚ニルを衚わし、R′は前蚘ず
同意矩を有するはヒドロキシ、保護ヒド
ロキシ、カルボキシ、保護カルボキシ、アミ
ノあるいは保護アミノを衚わす (e) 匏 −CH2− で衚わされる基䜆し、は−チ゚ニ
ル、−チ゚ニル、−フリル、−フリ
ル、−チアゟリル、−テトラゟリル、
−テトラゟリル、たたは−む゜オキサゟリ
ルを衚わす (3) 匏 で衚わされるむミダゟリゞニル基匏䞭、は
ニトロ゜たたはアセチルを衚わし、R′は前蚘
ず同意矩ずする を衚わす。 前蚘のように、本発明工皋に甚いる−ヒドロ
キシメチルセフアロスポリンの−アミド基ずし
おは、 が奜たしい。 R2の具䜓䟋には以䞋のものが含たれる 氎玠、メチル、゚チル、−プロピル、む゜プ
ロピル、クロロメチル、プロモメチル、−アミ
ノ−−カルボキシブチル、−アセトアミド−
−−ニトロベンゞルオキシカルボニルブチ
ル、ベンゞルオキシ、−ニトロベンゞルオキ
シ、−ブチルオキシ、・・−トリクロロ
゚トキシ、−メトキシベンゞルオキシ、・
−シクロヘキサゞ゚ニル、プニル、−クロロ
プニル、・−ゞクロロプニル、−クロ
ロ−−フルオロプニル、−ヒドロキシプ
ニル、−ホルミルオキシプニル、−ニトロ
プニル、−シアノプニル、−トリフルオ
ロメチルプニル、−メチルプニル、−゚
チルプニル、−−プロピルプニル、−
−ブチルプニル、−メトキシプニル、
−゚トキシプニル、−む゜プロピルオキシフ
゚ニル、−む゜ブチルオキシプニル、・
−シクロヘキサゞ゚ニルメチル、ベンゞル、−
ブロモベンゞル、・−ゞクロロベンゞル、
−ヒドロキシベンゞル、−クロロアセトキシベ
ンゞル、−ニトロベンゞル、−シアノベンゞ
ル、−トリフルオロメチルベンゞル、−メチ
ルベンゞル、−−ブチルベンゞル、−メト
キシベンゞル、−む゜プロポキシベンゞル、
・−シクロヘキサゞ゚ニルオキシメチル、フ
゚ノキシメチル、−ペヌドプノキシメチル、
−フルオロプノキシメチル、−ベンゞルオ
キシプノキシメチル、−ベンズヒドリルオキ
シプノキシメチル、−ヒドロキシプノキシ
メチル、−トリチルオキシプノキシメチル、
−ニトロベンゞルオキシプノキシメチル、
−トリメチルシリルオキシプノキシメチル、
−ニトロプノキシメチル、−シアノプノキ
シメチル、−トリフルオロメチルプノキシメ
チル、−メチルプノキシメチル、−−プ
ロピルプノキシメチル、−−ブチルプノ
キシメチル、−メトキシプノキシメチル、
−゚トキシプノキシメチル、α−ヒドロキシ
−チ゚ン−−むルメチル、α−ベンズヒドリ
ルオキシ−チ゚ン−−むルメチル、α−−
ニトロベンゞルオキシカルボニル−チ゚ン−
−むルメチル、α−カルボキシ−チ゚ン−−
むルメチル、α−−ブチルオキシカルボニル
アミノ−チ゚ン−−むルメチル、α−アミ
ノ−チ゚ン−−むルメチル、α−ホルミルオ
キシ−チ゚ン−−むルメチル、α−ベンゞル
オキシカルボニル−チ゚ン−−むルメチル、
α−ベンゞルオキシカルボニルアミノ−チ゚ン
−−むルメチル、α−クロロアセトキシ−
・−シクロヘキサゞ゚ニルメチル、α−
−ブチルオキシカルボニル−・−シクロヘ
キサゞ゚ニルメチル、α−−ニトロベンゞルオ
キシカルボニルアミノ−・−シクロヘキサ
ゞ゚ニルメチル、α−ヒドロキシベンゞル、α−
トリチルオキシベンゞル、α−−メトキシベ
ンゞルオキシベンゞル、α−−ブチルオキ
シカルボニルアミノベンゞル、α−・・
−トリクロロ゚トキシカルボニルアミノベン
ゞル、α−カルボキシベンゞル、α−トリメチ
ルシリルオキシ−−ブロモベンゞル、α−ベ
ンズヒドリルオキシカルボニル−−クロロベ
ンゞル、α−アミノベンゞル、α−トリメチル
シリルアミノ−−フルオロベンゞル、α−
−ゞホルミルオキシベンゞル、α−ニトロ
ベンゞルオキシカルボニル−−クロロアセト
キシベンゞル、α−−メトキシベンゞルオキ
シカルボニルアミノ−−ベンズヒドリルオキ
シベンゞル、α−ベンゞルオキシ−−ニトロベ
ンゞル、α−−ニトロベンゞルオキシカルボ
ニル−−シアノベンゞル、α−−ブトキシ
カルボニルアミノ−−トリフルオロメチルベ
ンゞル、α−ホルミルオキシ−−メチルベンゞ
ル、α−ベンゞルオキシカルボニル−−−ブ
チルベンゞル、α−ベンゞルオキシカルボニルア
ミノ−−メトキシベンゞル、α−ホルミルオキ
シ−−む゜プロポキシベンゞル、チ゚ン−−
むルメチル、チ゚ン−−むルメチル、フル−
−むルメチル、フル−−むルメチル、チアゟヌ
ル−−むルメチル、テトラゟヌル−−むルメ
チル、テトラゟヌル−−むルメチル、む゜オキ
サゟヌル−−むルメチル、−−クロロフ
゚ニル−−メチルむ゜オキサゟヌル−−む
ル、など。 䞊蚘具䜓䟋の䞭では、氎玠、メチル、−ニト
ロベンゞルオキシ、ベンゞル、プノキシメチ
ル、チ゚ン−−むルメチル、テトラゟヌル−
−むルメチル、およびα−−ブチルオキシカ
ルボニルアミノベンゞルが奜たしい。 R2の定矩ずしおは、“保護アミノ”、“保護ヒド
ロキシ”、および“保護カルボキシ”の衚珟を甚
いる。 本明现曞で蚀う“保護アミノ”ずは、−ブチ
ルオキシカルボニル、ベンゞルオキシカルボニ
ル、−メトキシベンゞルオキシカルボニル、
−ニトロベンゞルオキシカルボニル、・・
−トリクロロ゚トキシカルボニル、−カルボメ
トキシ−−プロペニルメチルアセトアセテヌ
トず共に圢成、トリメチルシリルなど、通垞の
アミノ保護基で保護したアミノ基を意味する。さ
らに、代衚的なアミノ保護基はJ.W.Bartonによ
り、Protective Groups in Organic Chemistry、
J.F.W.McOmie、Ed.、Plenum Press、New
York、N.Y.1973、Chapter2に蚘茉されおいる。
ここに蚘茉されおいる基は、本明现曞䞭のアミノ
保護基に含たれる。 本明现曞䞭に蚀う“保護ヒドロキシ”ずは、ホ
ルミルオキシ、クロロアセトキシ、ベンゞルオキ
シ、ベンズヒドリルオキシ、トリチルオキシ、
−ニトロベンゞルオキシ、トリメチルシリルオキ
シなどのヒドロキシル基で圢成した、容易に開裂
する基を意味する。他のヒドロキシ保護基ずしお
はC.B.Reese著、Protecting Groups in Organic
Chemistry、同䞊、Chapter3、に蚘茉のものがあ
り、本明现曞で甚いるヒドロキシ保護基に含たれ
る。 本明现曞䞭に蚀う“保護カルボキシ”ずは、化
合物の他の基が反応する間、カルボン酞の反応性
を防ぐために甚いる通垞のカルボン酞保護基で保
護されたカルボキシ基を意味する。このような保
護カルボキシ基は、加氎分解たたは氎玠化分解に
よ぀お察応するカルボン酞に容易に開裂する。カ
ルボン酞保護基の具䜓䟋には、−ブチル、ベン
ゞル、−メトキシベンゞル、C2〜C6アルカノ
むルオキシメチル、−ペヌド゚チル、−ニト
ロベンゞル、ゞプニルメチルベンズヒドリ
ル、プナシル、−ハロプナシル、ゞメチ
ルアリル、・・−トリクロロ゚チル、スク
シンむミドメチル、および同様な゚ステル圢成基
がある。このような゚ステル圢成基の性質は、圢
成された゚ステルが本発明工皋の反応条件䞋で安
定である限り、重芁でない。さらに、他の既知の
カルボン酞保護基ずしおは、E.Haslam著、
Protective Groups in Organic Chemistry、同
䞊、Chapter5に蚘茉のものがあり、本明现曞で
甚いるカルボン酞保護基に含たれる。 カルボン酞保護基ずしおは、−ブチル、−
メトキシベンゞル、−ニトロベンゞル、ベンズ
ヒドリル、および・・−トリクロロ゚チル
が奜たしい。 前蚘定矩におけるヒドロキシ、アミノ、および
カルボン酞保護基の具䜓䟋はただ他にもある。こ
れらの基の機胜は、所望の生成物を補造する間、
反応性に富む基を保護するこずである。保護基は
その埌、分子のその他の郚䜍に圱響を及がすこず
なく陀去する。このような保護基の倚くは圓業者
に公知であり、本発明工皋に甚い埗る。 本発明工皋における−ヒドロキシメチルセフ
アロスポリンの−眮換基はむミド基、奜たしく
は匏 で衚わされる環状むミド基である。 R1が窒玠原子−カルボニル基ず結合しお定矩
される環状むミド基は、−アミノセフアロスポ
リンの−アミノ基をゞカルボン酞たたは無氎
物、たたは他の反応性誘導䜓ず反応させ、埗られ
た誘導䜓を有機塩基の存圚䞋、C1〜C4アルキル
ハロホルメヌト䟋えば、゚チルクロロホルメヌ
トず反応させるず埗られる。R1はC2〜C4アル
キレンたたは・−プニレンであり、ゞカル
ボン酞の残基䞊蚘の環状むミドはこのようなゞ
カルボン酞から補造する、その無氎物あるいは
適圓な反応性誘導䜓ずも考えられる。環状むミド
は、䟋えばマロン酞、コハク酞、アゞピン酞、グ
ルタヌル酞、フタル酞などの酞、その無氎物、関
連化合物および同様な反応性誘導䜓から補造す
る。定矩されおいる圢の環状無氎物の別の䟋ずし
おはすでに報告されたものがある〔Journal of
Organic Chemistry、26、3365〜3365、
Sept.1961〕。 さらに、本発明工皋におけるは、匏 〔匏䞭、はニトロ゜たたはアセチルR′は
・−シクロヘキサゞ゚ニル、プニルたたは
〜個のハロゲン、ヒドロキシ、保護ヒドロキ
シ、ニトロ、シアノ、トリフルオロメチル、C1
〜C4アルキルあるいはC1〜C4アルコキシで眮換
されたプニルを衚わすものずする〕 で衚わされるむミダゟリゞニル基を衚わす。 こうしお衚わされる基は・−ゞメチル−
−ニトロ゜−−オキ゜−−眮換−むミダゟ
リゞン−−むルたたは・−ゞメチル−−
アセチル−−オキ゜−−眮換−むミダゟリ
ゞン−−むルであり、むミダゟリゞニルの−
眮換基R′の具䜓䟋には、・−シクロヘ
キサゞ゚ニル、プニル、−ブロモプニル、
−クロロプニル、−フルオロプニル、
−ペヌドプニル、−クロロ−−フルオロフ
゚ニル、−クロロ−−ブロモプニル、−
ヒドロキシプニル、−ホルミルオキシプニ
ル、−ホルミルオキシプニル、−ニトロフ
゚ニル、−シアノプニル、−トリフルオロ
メチルプニル、−メチルプニル、−゚チ
ルプニル、−む゜プロピルプニル、−
−ブチルプニル、−メトキシプニル、−
゚トキシプニル、−−プロポキシプニ
ル、−む゜プロポキシプニル、−む゜ブト
キシプニルなどがある。 本発明工皋は䟿宜䞊、二段階の反応ず考えられ
る。第䞀段階は、出発物質である−ヒドロキシ
メチルセフアロスポリンを−オキシ眮換䞭間䜓
に倉換する反応である。この䞭間䜓の構造は反応
に甚いる特定の詊薬に䟝存する。第二段階は、生
成された䞭間䜓を過剰の詊薬から分離し、メタノ
ヌルによ぀おオキシ眮換を促進しお所望の−メ
トキシメチルセフアロスポリン酞を埗る反応であ
る。 本発明工皋の第䞀段階は䞭間䜓の補造であり、
−ヒドロキシメチルセフアロスポリン酞を無氎
トリフルオロ酢酞掻性化剀ず反応させる。以䞋の
議論は本発明を制限するものではないが、本発明
の第䞀段階の反応は、出発物質の二ケ所においお
生じるず考えられる。その構造は で衚わされ、匏䞭は反応に甚いる特定の詊薬に
䟝存する。無氎トリフルオロ酢酞の堎合、は
【匏】 である。 前蚘䞭間䜓の補造には、セフアロスポリン出発
物質モルに察しお少なくずもモルの掻性化剀
を甚いるこずが必芁であるが、所望の䞭間䜓を充
分埗るにはさらに過剰の掻性化剀が必芁である。
埓぀お、セフアロスポリンモルに察しお少なく
ずもモルの掻性化剀を甚いるこずが奜たしい。
モル比以䞊の掻性化剀を甚いおも反応には圱響
を及がさない。埓぀お、経枈的理由を陀けば掻性
化剀の最倧䜿甚量に制限はない。 これらの反応䜓の適量を適圓な溶媒に溶解し、
反応を促進する。溶媒ずしおは䞍掻性な極性有機
溶媒が適する。“䞍掻性”ずは、䜿甚する反応䜓
ず適合し、反応を修食したり、反応に盎接関䞎す
るこずのない溶媒を意味する。このような溶媒の
代衚䟋には以䞋のものがある ニトリルアセトニトリル、プロピオニトリ
ル、など、ハロゲン化炭化氎玠塩化メチル、
塩化メチレン、クロロホルムなど、゚ヌテル
テトラヒドロフラン、゚チル゚ヌテルなど、ケ
トンアセトン、メチル゚チルケトンなど、゚
ステル酢酞゚チルなど、および他の適圓な有
機溶媒。 䜿甚する溶媒は、適床に極性であるこずが奜た
しい。前蚘溶媒はすべお極性であるので奜たし
い。たた、溶媒は比范的揮発性であるこずが望た
しい。この条件を課する目的は以䞋の議論から明
癜である。“比范的揮発性”ずは、埗られた反応
混液を枛圧䞋に玄50℃を越えない枩床での枩床に
加熱しお容易に留去できる特性を瀺す溶媒を意味
する。前蚘溶媒はいずれもこの条件に適する。 さらに、䞊蚘溶媒を混合しお甚いるこずもでき
る。たた、トル゚ン、キシレンなどの芳銙族炭化
氎玠を前蚘溶媒ず組み合わせお甚いるこずもで
き、奜たしい。䟋えば、前蚘䞭間䜓の補造におい
おはアセトニトリルを溶媒に甚いるのが特に奜た
しい。さらに奜たしくは、アセトニトリル溶媒に
実質量のトル゚ンを加え、トル゚ンアセトニト
リル容積比がおよそからおよそ
の範囲内であるようにする。 䞭間䜓の補造は非垞に速く行なわれ、玄30分間
で完了する。代衚的な反応時間は玄〜30分であ
る。䞭間䜓の補造は、比范的䜎枩で行なわれ、䞀
般に玄−30〜20℃で行なわれる。反応枩床ずしお
は玄−10℃〜℃が奜たしい。 前蚘のように、−ヒドロキシメチルセフアロ
スポリン酞ず掻性化剀ずの反応が終わるず過剰の
掻性化剀を含む混液を実質䞊党おの過剰の掻性化
剀ず溶媒の陀去を促進するず同時に、埗られた䞭
間䜓の分解を避けるような条件䞋で凊理する。こ
こで蚀う条件䞋ずは、過剰の掻性化剀ず溶媒を枛
圧䞋に蒞発し、混液を玄50℃以䞋に緩やかに暖め
るこずを包含する。 過剰の掻性化剀ず溶媒を十分に陀去し、残枣を
本発明の第工皋で凊理する。この第工皋は、
䞭間䜓をメタノヌルず反応させお所望の−メト
キシメチルセフアロスポリン酞を埗る反応であ
り、事実、この二぀の詊薬以倖には詊薬を必芁ず
しない。メタノヌルは反応媒質の溶媒ずしお䜜甚
するこずができる。分離溶媒の䜿甚の有無にかか
わらず、過剰のメタノヌルを甚いるのが奜たし
い。䞀般に、メタノヌルずセフアロスポリン酞䞭
間䜓の重量比は少なくずも玄10である。セフ
アロスポリン酞䞭間䜓に察するメタノヌルの量は
も぀ず倚くおも反応に圱響を及がさない。 前蚘のように、分離溶媒を甚いるこずもでき
る。第䞀に、この溶媒は䞭間䜓に察するものであ
り、セフアロスポリン䞭間䜓がメタノヌルに敏速
に付加するためのものである。このような溶媒は
無氎物であり、極性を瀺さなければならない。代
衚的な溶媒ずしおはニトロメタン、アセトニトリ
ル、ニトロベンれン、アセトン、塩化メチレンな
どがある。䞭でもアセトニトリルずアセトンが溶
媒ずしお奜たしく、アセトニトリルが最も奜たし
い。溶媒䜿甚の目的は、セフアロスポリン䞭間䜓
のメタノヌル反応状態ぞの移動および速い分散を
確実にする点にあるので、このような溶媒を甚い
るず、回収されたセフアロスポリン䞭間䜓は濃混
液ずなるような量で溶媒に溶解するこずができ
る。 セフアロスポリン䞭間䜓ずメタノヌルずの反応
枩床は玄45〜75℃である。反応枩床は混液の還流
枩床が奜たしい。䞀般に反応枩床は玄65〜75℃の
範囲であり、反応は短時間、通垞は玄15〜90分間
で完了する。 本発明の第工皋を実斜する際には、セフアロ
スポリン䞭間䜓を適圓な溶媒に溶かした濃混液
を、反応枩床、通垞は還流枩床に保぀たメタノヌ
ルに加えるのが奜たしい。䞀般にセフアロスポリ
ン溶液は滎䞋法によ぀お加え、この方法で実斜す
る堎合、党量滎䞋埌反応混液を同枩に玄15〜20分
間維持するず反応は完了する。 本発明の第工皋においおメタノヌル䞭に無氎
アルカリ金属ペり化物が含たれおいるず非垞に有
益である。このようなアルカリ金属ペり化物に
は、ペり化ナトリりム、ペり化カリりム、および
ペり化リチりムがあり、ペり化ナトリりムが奜た
しい。ペり化物塩を甚いた堎合、そのメタノヌル
䞭の含有量は、メタノヌルず反応するセフアロス
ポリン䞭間䜓ず少なくずも圓量である。アルカリ
金属ペり化物を圓量以䞊甚いおも反応には圱響を
及がさない。事実、ペり化物塩はメタノヌルの飜
和溶液を圢成する量たで存圚し埗る。無氎アルカ
リ金属ペり化物を甚いた堎合の反応は、セフアロ
スポリン䞭間䜓を、加熱したメタノヌル溶液では
なくお、ペり化物塩を含むメタノヌル溶液に滎䞋
する点を陀けば、䞊蚘反応ず同䞀である。前述の
ペり化物塩を甚いるず、望たしくない副産物、即
ち、匏 で衚わされる察応する−゚キ゜メチレン−−
メトキシセフアロスポリンの生成を避けるこずが
できる。 前蚘のように、本発明の出発物質ずしお甚いる
−ヒドロキシメチルセフアロスポリン酞は、
䜍に広範囲の眮換基を有する。出発物質の䜍に
おける眮換基は、最終的に、本発明によ぀お埗ら
れる最終生成物における特定の眮換基ずなるよう
に遞ぶこずができる。たた、特定の眮換基は広範
囲の他の眮換基であ぀おもよい。公知の反応技術
を甚いお、本発明生成物の䜍の眮換基を開裂す
るず−アミノ−−メトキシメチル−−セフ
゚ム−−カルボン酞を埗る。このものを再び公
知技術に埓぀おさらにアシル化するず所望の抗生
物質−メトキシメチルセフアロスポリン酞を埗
る。前に指摘したように、出発物質の䜍の眮換
基は、所望の眮換基に修食できるので、特定の眮
換基でなくおもよい。 −アミノデスアセチルセフアロスポリン酞
デスアセチル−ACAから−アミノ−−
メトキシメチル−−セプム−−カルボン酞
を埗る代衚䟋を以䞋に蚘茉する −アミノ−−ヒドロキシメチル−−セフ
゚ム−−カルボン酞デスアセチル−ACA
34.5150moleをビヌカヌ䞭の氎−ア
セトンに懞濁する。ビヌカヌを氷
济に保ち、炭酞氎玠カリりム31310mole
ã‚’æ°Ž150mlに溶かした溶液の玄50を添䞋斗で
加えセフアロスポリン出発物質を溶解する。この
間、PHは8.5〜9.0に䞊昇する。さらに、−ニト
ロベンゞルクロロホルメヌト34.5160
moleを無氎アセトン150mlに溶かした溶液を玄
60分間にわた぀お混液に滎䞋斗で埐々に加え
る。この間、残りの炭酞氎玠カリりム溶液を同時
に滎䞋しお混液のPHを玄〜に維持する。混液
を冷华䞋にPHを玄に保぀お−ニトロベンゞル
クロロホルメヌトを加えたのち、さらに60分間撹
拌する。混液はデカンテヌシペンにより、玄1200
mlの゚ヌテルで回抜出する。デカンテヌシペン
した゚ヌテル局を玄150mlの冷华した皀炭酞化氎
玠カリりム溶液で掗浄し、炭酞氎玠カリりム溶液
を氎局に加える。玄10のメタノヌルを含む酢酞
゚チル1500mlを加え、さらに6N−塩酞を泚意深
く䞔぀玠早く加えおHz2.0に酞性化する。この操
䜜は冷华䞋に行ない、酢酞゚チル局をデカンテヌ
シペンしお氎局を酢酞゚チルで数回掗浄する。こ
の時に沈柱が生じるず局の分離が困難たたは遅く
なる。沈柱が析出しおした぀た堎合には、過助
剀を有益に利甚しお色々な厚さの玙で過す
る。酢酞゚チル局を合しお硫酞ナトリりムで也燥
し、過しお液を枛圧䞋に濃瞮する。䜆し、溶
媒を加熱し過ぎないこず。所望の生成物、即ち、
−−ニトロベンゞルオキシカルバミド−
−ヒドロキシメチル−−セフア゚ム−−カル
ボン酞の酢酞゚チル溶媒和物は、溶媒が適圓な濃
床を圢成する量䞀般には容積玄200〜400mlに
達するず結晶化する。混液にアセトンを少量加え
るず結晶化は促進される。母液をさらに濃瞮する
ず回目の、時には回目の沈柱が析出する。 本発明の出発物質が埗られるず、これを䞞底フ
ラスコに入れ、氷济で冷华しお無氎トル゚ン−無
氎アセトニトリル撹拌䞋に懞濁する。
混液を十分に冷华しお無氎トリフルオロ酢酞を過
剰量加え、出発物質が完党に溶解しお所望のトリ
フルオロ酢酞䞭間䜓が圢成されるたで混液を冷华
䞋に撹拌する。 別々に、たたは同時に、䞉ツ口䞞底フラスコに
マントルヒヌタヌ、冷华噚、撹拌噚および平衡圧
滎䞋斗を備え付ける。滎䞋斗の䞊端から也燥
させた窒玠をフラスコ内に導通し、冷华噚より排
気する。フラスコ内には無氎メタノヌル900ml、
トリメチル−−ホルメヌト50ml、および無氎ペ
り化カリりム150を入れる。トリメチル−−
ホルメヌトを加えたのは、反応系に存圚する氎分
を取り陀くためである。反応混液は埐々に加熱還
流する。 前蚘無氎トリフルオロ酢酞の反応においおは、
無氎トリフルオロ酢酞を加えおから玄15分埌に出
発物質が溶解し、反応が終了する。この混液を枛
圧䞋に玄1/4容積玄75〜100mlに濃瞮し、埗ら
れたシロツプ状の物質をメタノリシス反応に甚い
る滎䞋斗に移す。この堎合、等容積の無氎アセ
トニトリルを数回に分けお甚いる。撹拌還流した
メタノヌル混液のPH緩衝液ずしおリン酞氎玠カリ
りム24.1150moleを加え、さらに、リン
酞氎玠カリりムの付加を確実にするために無氎メ
タノヌル100mlを甚いる。このメタノヌル混液に、
セフアロスポリン䞭間䜓のアセトニトリル濃瞮液
を玄45〜60分間にわた぀お滎䞋する。メタノヌル
蒞気が斗内に入らないように、滎䞋斗内に絶
えず窒玠を流しおおく。セフアロスポリン䞭間䜓
の濃瞮液を加え終わるず混液をさらに15分間加熱
し、枛圧蒞留しお溶媒の玄75を陀去する。この
堎合、反応混液を加熱しすぎないこずに泚意する
必芁がある。埗られた残枣を、酢酞゚チル1200ml
および氷冷皀炭酞氎玠ナトリりム溶液600mlを含
む分液斗に移す。埗られる゚マルゞペンを透明
にするために、この時点でヘプタンを加えおもよ
い。埗られた氎局を分離し、酢酞゚チルで回掗
浄しお぀の酢酞゚チル局を氷冷皀炭酞氎玠ナト
リりム溶液で抜出する。゚マルゞペンが埗られる
堎合にぱタノヌルを加えれば透明にし埗る。こ
の酢酞゚チル局には、所望でない䞭性のラクトン
副生成物が含たれる。たた、炭酞氎玠ナトリりム
局には、所望の−メトキシメチルセフアロスポ
リン酞がナトリりム塩ずしお含たれおいる。所望
の生成物は、氎局を倧きな容噚に移しお芪氎性成
分を酢酞゚チルで保護し、6N塩酞を加えお混液
をPH1.5に酞性化するず回収できる。酢酞゚チ
ル局を分離しお飜和食塩氎で回掗浄し、硫酞ナ
トリりムで也燥する。氎局は再び酢酞゚チルで抜
出し、陀去する。酢酞゚チル局を合しお硫酞ナト
リりムで也燥し、過しお液を枛圧䞋に蒞発也
固する。埗られた泡状の粗補生成物をアセトンた
たぱタノヌルから結晶化するず所望の−
−ニトロベンゞルオキシカルバミド−−メト
キシメチル−−セプム−−カルボン酞を埗
る。 −眮換基は察応する−アミノ化合物に開裂
するこずができ、さらに必芁であれば所望の−
メトキシメチルセフアロスポリン酞に再アシル化
できる。開裂反応は次のように実斜する 枩床蚈、撹拌噚、およびヒヌタヌを備え付けた
䞞底フラスコ内で䞊蚘生成物26.061.5
moleを無氎・−ゞメチルホルムアミド92
mlに溶解する。反応は氎济で行い、氎济の初期枩
床は宀枩ずする。チオプノヌル61ml玄590
moleを混液に加え、撹拌䞋に玄12の亜鉛粉
末を玄10分間にわた぀お埐々に加える。初期の発
熱反応が終了するたで加える亜鉛粉末量を制限す
るよう特に泚意する必芁がある。発熱反応が生じ
るたでの誘導期間は通垞玄〜分である。初期
の発熱反応が終了するず亜鉛粉末をも぀ず速く加
えるこずができるが、反応枩床は玄65℃を越えお
はならない。初期の発熱反応が終了するず氎济を
加熱し、反応混液を玄60〜65℃においお玄時間
保持する。沈柱の圢成ず共に二酞化炭玠が生じ
る。混液を玄℃に冷华し、濃塩酞を充分に加え
おPHを玄1.0〜1.3ずし、沈柱物を溶解する。埗ら
れた冷溶液を過しお残存する亜鉛を陀去し、濃
氎酞化アンモニりムを加えおPHを3.8ずし、生成
物を再沈柱させる。濃氎酞化アンモニりムの添加
は氷济冷华䞋に行なう。混液を〜時間冷华
埌、生成物を取しお゚タノヌルおよびたたは
メタノヌルで掗浄し、過剰の・−ゞメチルホ
ルムアミドおよびチオプノヌルを陀去する。生
成物を枛圧也燥するず−アミノ−−メトキシ
メチル−−セプム−−カルボン酞を埗る。 䞊蚘生成物を公知技術に埓぀おアシル化する
ず、広範囲の−メトキシメチルセフアロスポリ
ン抗生物質を埗る。これらの抗菌掻性化合物を埗
る方法は、圓業者間でよく知られおいる。 本発明は以䞋の実斜䟋でさらに詳述されおい
る。実斜䟋は本発明の補法の具䜓䟋であるが、本
発明はこれらの実斜䟋に制限されるものではな
い。 実斜䟋  無氎アセトニトリルmlおよび無氎トル゚ン
mlから成る混液に−−ニトロベンゞルオキ
シカルボニルアミノ−−ヒドロキシメチル−
−セプム−−カルボン酞1.9684.0
moleを加えお氷济で冷华した。懞濁液に無氎
トリフルオロ酢酞1.2mlを加えるず〜分埌に
−ヒドロキシメチルセフアロスポリン酞は溶解
しお溶液が完成した。混液を回転蒞発に付しお蒞
発也固し、埗られた泡状物質を無氎アセトニトリ
ルに溶解した。メタノヌル36ml、トリメチル−
−ホルメヌトml、ペり化カリりム、および
リン酞氎玠カリりムから成る混液を還流し
お、アセトニトリル溶液を20分間にわた぀お滎䞋
し、曎に15分間還流した。混液を枛圧䞋に玄1/3
容積に濃瞮し、前蚘方法に埓぀お凊理しお所望の
−−ニトロベンゞルオキシカルボニルアミ
ノ−−メトキシメチル−−セプム−−
カルボン酞939mg55.6を埗た。たた、䞭性
の分画ずしお、察応するラクトン副産物922mgを
回収した。 実斜䟋  無氎アセトニトリル15mlおよびトル゚ン15mlか
ら成る混液に−α−−ブトキシカルボニル
アミノ−プニルアセトアミド−−ヒドロキ
シメチル−−セプム−−カルボン酞3.78
8.16moleを加えお氷济で冷华した。無氎ト
リフルオロ酢酞3.2mlを混液に加えるず10〜15分
埌に溶液が完成した。溶液を枛圧䞋に濃瞮しおゎ
ム状の残枣を無氎アセトニトリルに溶解した。無
氎メタノヌル80ml、トリメチル−−ホルメヌト
ml、ペり化ナトリりム40、およびリン酞氎玠
カリりム5.57から成る混液を還流し、アセトニ
トリル溶液を15分間にわた぀お滎䞋し、曎に20分
間還流しお溶媒を枛圧䞋に留去した。残枣は、氎
冷皀炭酞氎玠ナトリりム溶液ず酢酞゚チルの混液
に溶解し、前蚘方法に埓぀お凊理しお粗補の酞性
物質2.65ず察応するラクトン副生産物の䞭性分
画1.76を埗た。NMRより、酞性物質のほが50
は所望の−α−−ブトキシカルボニルア
ミノプニルアセトアミド−−メトキシメチ
ル−−セプム−−カルボン酞であるず同定
された。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  䞀般匏 匏䞭、はアシルアミノたたはアシルむミノを
    衚わすものずする で衚わされる−ヒドロキシメチルセフアロスポ
    リンを無氎トリフルオロ酢酞の少くずも圓量ず
    反応させ、生成する䞭間䜓をメタノヌルず反応さ
    せお䞀般匏 匏䞭、は前蚘ず同意矩を有する で衚わされる−メトキシメチルセフアロスポリ
    ンを埗る方法。  が 匏 で衚わされるむミド基匏䞭、R1はC2〜C4ア
    ルキレンたたは・−プニレンを衚わすも
    のずする 匏 で衚わされるアミド基匏䞭、R2は (a) 氎玠、C1〜C3アルキル、ハロメチル、
    −アミノ−−カルボキシブチル、−保護
    アミノ−−保護カルボキシブチル、ベンゞ
    ルオキシ、−ニトロベンゞルオキシ、−
    ブチルオキシ、・・−トリクロロ゚ト
    キシ、−メトキシベンゞルオキシ、−
    −クロロプニル−−メチルむ゜オキ
    サゟル−−むル (b) 基R′䜆し、R′は・−シクロヘキサゞ
    ゚ニル、プニルたたは〜個のハロゲ
    ン、ヒドロキシ、保護ヒドロキシ、ニトロ、
    シアノ、トリフルオロメチル、C1〜C4アル
    キルあるいはC1〜C4アルコキシで眮換され
    たプニル (c) 匏 R′−n−CH2− で衚わされる基䜆し、R′は前蚘ず同意矩
    ずし、はたたはである (d) 匏 で衚わされる基䜆し、R″はR′・−チ゚
    ニル、−チ゚ニルを衚わし、R′は前蚘ず
    同意矩を有するはヒドロキシ、保護ヒド
    ロキシ、カルボキシ、保護カルボキシ、アミ
    ノあるいは保護アミノを衚わす (e) 匏 −CH2− で衚わされる基䜆し、は−チ゚ニ
    ル、−チ゚ニル、−フリル、−フリ
    ル、−チアゟリル、−テトラゟリル、
    −テトラゟリル、たたは−む゜オキサゟリ
    ルを衚わす あるいは 匏 で衚わされるむミダゟリゞニル基匏䞭、は
    ニトロ゜たたはアセチルを衚わし、R′は前蚘
    ず同意矩ずする を衚わす特蚱請求の範囲蚘茉の方法。  が 匏䞭、R2は氎玠、メチル、−ニトロベンゞ
    ルオキシ、ベンゞル、プノキシメチル、チ゚ン
    −−むルメチル、テトラゟヌル−−むルメチ
    ルたたはα−−ブチルオキシカルボニルアミ
    ノベンゞルを衚わす を衚わす特蚱請求の範囲蚘茉の方法。  −ヒドロキシメチルセフアロスポリンず無
    氎トリフルオロ酢酞ずの反応を䞍掻性極性有機溶
    媒の存圚䞋に行う特蚱請求の範囲蚘茉の方法。  䞍掻性極性有機溶媒がアセトニトリルであ
    り、アセトニトリルトル゚ンの容積比がおよそ
    からおよそである混液ずしお存圚す
    る特蚱請求の範囲蚘茉の方法。  無氎トリフルオロ酢酞を少くずも圓量甚い
    る特蚱請求の範囲蚘茉の方法。  −ヒドロキシメチルセフアロスポリンず無
    氎トリフルオロ酢酞ずの反応を玄−30℃から玄20
    ℃で行う特蚱請求の範囲蚘茉の方法。  メタノヌルず䞭間䜓の重量比が少くずもおよ
    そ10である特蚱請求の範囲蚘茉の方法。  メタノヌルず䞭間䜓の反応を無氎アルカリ金
    属ペり化物の存圚䞋に行う特蚱請求の範囲蚘茉
    の方法。  無氎アルカリ金属ペり化物が䞭間䜓ず少な
    くずも圓量存圚する特蚱請求の範囲蚘茉の方
    法。  無氎アルカリ金属ペり化物が無氎ペり化ナ
    トリりムである特蚱請求の範囲蚘茉の方法。  メタノヌルず䞭間䜓の反応を玄45℃から玄
    75℃で行う特蚱請求の範囲蚘茉の方法。  メタノヌルを過剰量甚いる特蚱請求の範囲
    蚘茉の方法。  䞀般匏 匏䞭、はアシルアミノたたはアシルむミノを
    衚わすものずする で衚わされる−ヒドロキシメチルセフアロスポ
    リンを、無氎トリフルオロ酢酞の少くずも圓量
    ず、玄−30℃から玄20℃においお反応させ、混液
    を玄50℃以䞋、枛圧状態で凊理しお䞭間䜓を過剰
    の掻性化剀から分離し、玄45℃から玄75℃におい
    お䞭間䜓を過剰のメタノヌルず反応させお䞀般匏 匏䞭、は前蚘ず同意矩を有する で衚わされる−メトキシメチルセフアロスポリ
    ンを埗る特蚱請求の範囲蚘茉の方法。
JP51107652A 1975-09-15 1976-09-08 Production of 33methoxymethlcephalosporin Granted JPS5236690A (en)

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GB1563135A (en) 1980-03-19
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