JPS6364684A - ヘツドスライダ - Google Patents
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- JPS6364684A JPS6364684A JP20903186A JP20903186A JPS6364684A JP S6364684 A JPS6364684 A JP S6364684A JP 20903186 A JP20903186 A JP 20903186A JP 20903186 A JP20903186 A JP 20903186A JP S6364684 A JPS6364684 A JP S6364684A
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Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明は磁気ディスク装置に用いられる正圧浮上型及び
負圧浮上型ヘッドスライダの媒体対向面における媒体と
の非接触面、例えば傾斜面や加工段差面に、ポリテトラ
フルオロエチレン等からなるスライダ本体の構成材料よ
り低い表面エネルギーを有する塵埃付着阻止膜を被覆す
ることにより、塵埃や潤滑剤の付着を阻止し、ヘッドク
ラ・ノシ二の発生を防止するようにしたものである。
負圧浮上型ヘッドスライダの媒体対向面における媒体と
の非接触面、例えば傾斜面や加工段差面に、ポリテトラ
フルオロエチレン等からなるスライダ本体の構成材料よ
り低い表面エネルギーを有する塵埃付着阻止膜を被覆す
ることにより、塵埃や潤滑剤の付着を阻止し、ヘッドク
ラ・ノシ二の発生を防止するようにしたものである。
本発明は磁気ディスク装置に用いられるヘッドスライダ
の改良に係り、特に浮動スライダの媒体対向面における
媒体との非接触面への塵埃の付着を阻止して、ヘッドク
ラッシュを防止したヘッドスライダに関するものである
。
の改良に係り、特に浮動スライダの媒体対向面における
媒体との非接触面への塵埃の付着を阻止して、ヘッドク
ラッシュを防止したヘッドスライダに関するものである
。
近来、磁気ディスク装置においては、磁気ディスクの磁
性膜の薄膜化や磁気ヘッドの低浮上化などによって高記
録密度化が急速に図られている。
性膜の薄膜化や磁気ヘッドの低浮上化などによって高記
録密度化が急速に図られている。
特に磁気ヘッド、即ち磁気ヘッドが付設されたヘッドス
ライダの低浮上化は極限的なところまで進められている
。それに伴って回転する磁気ディスり媒体とヘッドスラ
イダ間での摩擦の増大や、その間への塵埃堆積物等の流
入に起因するヘッドクラッシュが益々発生し易くなる傾
向にある。
ライダの低浮上化は極限的なところまで進められている
。それに伴って回転する磁気ディスり媒体とヘッドスラ
イダ間での摩擦の増大や、その間への塵埃堆積物等の流
入に起因するヘッドクラッシュが益々発生し易くなる傾
向にある。
このため、ヘッドスライダの媒体面と接触しない傾斜面
や加工段差面等への塵埃の付着を阻止して、ヘッドクラ
ッシュに対する安全性を高めたヘッドスライダが必要と
されている。
や加工段差面等への塵埃の付着を阻止して、ヘッドクラ
ッシュに対する安全性を高めたヘッドスライダが必要と
されている。
磁気ヘッドが付設されたヘッドスライダとしては、大別
して通常の正圧浮上型と負圧浮上型が知られている。
して通常の正圧浮上型と負圧浮上型が知られている。
従来の正圧浮上型ヘッドスライダは、第７図に示すよう
に、スライダ本体１の媒体対向面の空気流入端側から流
出部側に向って、該空気流入端に傾斜面部３を設けた正
圧発生平面部４を有する一対のサイトレール２を備え、
該スライダ本体１の空気流出部の端面に磁気へフド（図
示せず）が設けられた構成からなり、通常型として一般
的に広く用いられている。
に、スライダ本体１の媒体対向面の空気流入端側から流
出部側に向って、該空気流入端に傾斜面部３を設けた正
圧発生平面部４を有する一対のサイトレール２を備え、
該スライダ本体１の空気流出部の端面に磁気へフド（図
示せず）が設けられた構成からなり、通常型として一般
的に広く用いられている。
また負圧浮上型ヘントスライダは、第８図に示すように
、スライダ本体１１の媒体対向面の空気流入端側から流
出部側に向って、該空気流入側に（ｔＪ斜面部１３を設
けた正圧発生平面部１４を有する一対のサイトレール１
２と、該一対のサイトレール１２間にそのサイトレール
１２と同一平面内で直交する形にクロスレール１５が設
けられ、かつ空気流入側と空気流出部側に前記一対のサ
イトレール１２とクロスレール１５とで囲まれた前方凹
部１７と負圧発生凹部１６を有し、更に該スライダ本体
１１の空気流出部の端面に磁気ヘッド（図示せず）が設
けられた構成からなっている。
、スライダ本体１１の媒体対向面の空気流入端側から流
出部側に向って、該空気流入側に（ｔＪ斜面部１３を設
けた正圧発生平面部１４を有する一対のサイトレール１
２と、該一対のサイトレール１２間にそのサイトレール
１２と同一平面内で直交する形にクロスレール１５が設
けられ、かつ空気流入側と空気流出部側に前記一対のサ
イトレール１２とクロスレール１５とで囲まれた前方凹
部１７と負圧発生凹部１６を有し、更に該スライダ本体
１１の空気流出部の端面に磁気ヘッド（図示せず）が設
けられた構成からなっている。
この負圧浮上型へ７ドスライダは、前記通常の正圧浮上
型へ７ドスライダと比べて磁気ヘッドへの変動荷重や該
磁気ヘッドの姿勢変動に起因する浮上量の変動が小さく
、またジンバルバネ等により軽い荷重を付加するだけで
安定に浮上する特長を有し、ヘッドクラッシュに対する
安全性が比較的高いことから、製品化への開発が注目さ
れている。
型へ７ドスライダと比べて磁気ヘッドへの変動荷重や該
磁気ヘッドの姿勢変動に起因する浮上量の変動が小さく
、またジンバルバネ等により軽い荷重を付加するだけで
安定に浮上する特長を有し、ヘッドクラッシュに対する
安全性が比較的高いことから、製品化への開発が注目さ
れている。
ところで上記した構成の正圧浮上型及び負圧浮上型のヘ
ントスライダにあっては、回転する磁気記録媒体面に対
して浮上動作中にサイトレール２゜１２の空気流入側の
傾斜面部３．１３や該サイトレール２，１２の内側面に
塵埃等が付着し易い。特に負圧浮上型のヘントスライダ
では、クロスレール１５を挟んで設けられた深さが前記
正圧浮上型ヘッドスライダの凹部に比べて略１／２０の
１０μＩ以下と浅く、空気流が廻り込んで澱む現象のあ
る前方凹部１７と後方の負圧発生凹部１６に塵埃が堆積
され、更に前記負圧発生凹部１６では負圧発生に起因す
る断熱膨張等により結露が生じ易いことから、媒体等か
らの潤滑剤等も付着する現象がある。
ントスライダにあっては、回転する磁気記録媒体面に対
して浮上動作中にサイトレール２゜１２の空気流入側の
傾斜面部３．１３や該サイトレール２，１２の内側面に
塵埃等が付着し易い。特に負圧浮上型のヘントスライダ
では、クロスレール１５を挟んで設けられた深さが前記
正圧浮上型ヘッドスライダの凹部に比べて略１／２０の
１０μＩ以下と浅く、空気流が廻り込んで澱む現象のあ
る前方凹部１７と後方の負圧発生凹部１６に塵埃が堆積
され、更に前記負圧発生凹部１６では負圧発生に起因す
る断熱膨張等により結露が生じ易いことから、媒体等か
らの潤滑剤等も付着する現象がある。
従って、このような塵埃等の堆積の剥離微片や該サイト
レール２，１２の正圧発生平面部４，１４の極く近傍に
まで堆積した塵埃が、該サイトレール２．１２と磁気デ
ィスク媒体との微小間隔内に流入し、磁気ディスク媒体
面、或いはサイトレール２゜１２の正圧発生平面部４，
１４、更には図示しない磁気ヘッドの磁極面等を損傷さ
せたり、またヘッドクラッシュを発生させるという問題
があり、磁気ディスク装置を長期間にわたり動作させる
上での信頼性が著しく低下する欠点があった。
レール２，１２の正圧発生平面部４，１４の極く近傍に
まで堆積した塵埃が、該サイトレール２．１２と磁気デ
ィスク媒体との微小間隔内に流入し、磁気ディスク媒体
面、或いはサイトレール２゜１２の正圧発生平面部４，
１４、更には図示しない磁気ヘッドの磁極面等を損傷さ
せたり、またヘッドクラッシュを発生させるという問題
があり、磁気ディスク装置を長期間にわたり動作させる
上での信頼性が著しく低下する欠点があった。
本発明は上記のような従来の欠点に鑑み、正圧浮上型及
び負圧浮上型のへ７ドスライダの媒体対向面における正
圧発生平面部以外の塵埃や潤滑剤等が付着し易い領域面
の表面エネルギーを低下させて撥水性及び撥油性を有す
る面にして、塵埃や潤滑剤等の付着を阻止し、ヘッドク
ラッシュの発生を防止した新規なヘッドスライダを揚供
することを目的とするものである。
び負圧浮上型のへ７ドスライダの媒体対向面における正
圧発生平面部以外の塵埃や潤滑剤等が付着し易い領域面
の表面エネルギーを低下させて撥水性及び撥油性を有す
る面にして、塵埃や潤滑剤等の付着を阻止し、ヘッドク
ラッシュの発生を防止した新規なヘッドスライダを揚供
することを目的とするものである。
本発明は上記目的を達成するため、磁気ヘッドが付設さ
れた正圧浮上型及び負圧浮上型スライダの媒体対向面に
おける媒体との非接触面に、表面エネルギーを低下させ
るための、例えばポリテトラフルオロエチレン（（−Ｃ
Ｆ２ ＣＦ２−）ｎ ）からなる塵埃付着阻止膜を被
覆した構成とする。
れた正圧浮上型及び負圧浮上型スライダの媒体対向面に
おける媒体との非接触面に、表面エネルギーを低下させ
るための、例えばポリテトラフルオロエチレン（（−Ｃ
Ｆ２ ＣＦ２−）ｎ ）からなる塵埃付着阻止膜を被
覆した構成とする。
本発明のヘッドスライダでは、媒体対向面における媒体
面との非接触面、例えば傾斜面や加工段差面に撥水性と
撥油性を有する表面エネルギーが低い、例えばポリテト
ラフルオロエチレン（（−ＣＦ２ＣＦ２−）ｎ ）から
なる塵埃付着阻止膜が被覆されているため、これら塵埃
付着阻止膜への塵埃や潤滑剤の付着が阻止される。この
ため磁気ディスク媒体面と浮上するヘッドスライダとの
微小間隔内に堆積した塵埃等が流入する現象が解消され
、その結果ヘッドクラッシュの発生が防止される。
面との非接触面、例えば傾斜面や加工段差面に撥水性と
撥油性を有する表面エネルギーが低い、例えばポリテト
ラフルオロエチレン（（−ＣＦ２ＣＦ２−）ｎ ）から
なる塵埃付着阻止膜が被覆されているため、これら塵埃
付着阻止膜への塵埃や潤滑剤の付着が阻止される。この
ため磁気ディスク媒体面と浮上するヘッドスライダとの
微小間隔内に堆積した塵埃等が流入する現象が解消され
、その結果ヘッドクラッシュの発生が防止される。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明に係るヘッドスライダの一実施例構造を
正圧浮上型ヘッドスライダに用いた場合の例で示す斜視
図である。
正圧浮上型ヘッドスライダに用いた場合の例で示す斜視
図である。
図において、１はスライダ本体、２は媒体に対向する正
圧発生平面部４を有する一対のサイトレールであり、そ
の空気流入端に傾斜面部３が、また空気流出部の端面に
磁気へフド（図示せず）が設けられている。
圧発生平面部４を有する一対のサイトレールであり、そ
の空気流入端に傾斜面部３が、また空気流出部の端面に
磁気へフド（図示せず）が設けられている。
そして前記スライダ本体１における一対のサイトレール
２の正圧発生平面部４以外の媒体と対向する領域面に、
通常テフロンとも呼ばれているポリテトラフルオロエチ
レン（（−ＣＦ２ ＣＦ２−）ｎ ）からなる塵埃付
着阻止膜２２を１〜２μｍの膜厚で被覆した構造とする
。
２の正圧発生平面部４以外の媒体と対向する領域面に、
通常テフロンとも呼ばれているポリテトラフルオロエチ
レン（（−ＣＦ２ ＣＦ２−）ｎ ）からなる塵埃付
着阻止膜２２を１〜２μｍの膜厚で被覆した構造とする
。
かくすれば、前記ポリテトラフルオロエチレンからなる
塵埃付着阻止膜２２は、表面エネルギーが低く、撥水性
と撥油性を有しているため、塵埃や潤滑剤の付着が阻止
されるので、該塵埃や潤滑剤の付着に起因するヘンドク
ラソシュの発生を防止することが可能となった。
塵埃付着阻止膜２２は、表面エネルギーが低く、撥水性
と撥油性を有しているため、塵埃や潤滑剤の付着が阻止
されるので、該塵埃や潤滑剤の付着に起因するヘンドク
ラソシュの発生を防止することが可能となった。
更に、前記ポリテトラフルオロエチレン（以下ＰＴＦＥ
と略称する）からなる塵埃付着阻止膜２２の被覆方法と
しては、第２図に示すように磁気ヘッド（図示せず）が
設けられ、かつ切断分離されたスライダ本体１の媒体対
向面を研削工程によって加工して、略２００μｍの高さ
の一対のサイトレール２及び傾斜面部３を形成する。
と略称する）からなる塵埃付着阻止膜２２の被覆方法と
しては、第２図に示すように磁気ヘッド（図示せず）が
設けられ、かつ切断分離されたスライダ本体１の媒体対
向面を研削工程によって加工して、略２００μｍの高さ
の一対のサイトレール２及び傾斜面部３を形成する。
次にこのように加工されたスライダ本体１の媒体対向面
にＰＴＦＥからなるターゲットを用いたスパッタリング
装置によってＰＴＦＥ膜２１を１〜２μｍの膜厚に被着
する。このスパッタリング法によれば、ＰＴＦＥ膜２１
の膜厚制御は極めて容易に行うことができる。
にＰＴＦＥからなるターゲットを用いたスパッタリング
装置によってＰＴＦＥ膜２１を１〜２μｍの膜厚に被着
する。このスパッタリング法によれば、ＰＴＦＥ膜２１
の膜厚制御は極めて容易に行うことができる。
その後、第３図に示すように前記一対のサイトレール２
を所定の高さとなるように研磨仕上げを行うことにより
、スライダ本体１における一対のサイトレール２の正圧
発生平面部４以外の媒体と対向する領域面に、ＰＴＦＥ
からなる塵埃付着阻止膜２２が被覆された正圧浮上型ヘ
ッドスライダを完成することができる。
を所定の高さとなるように研磨仕上げを行うことにより
、スライダ本体１における一対のサイトレール２の正圧
発生平面部４以外の媒体と対向する領域面に、ＰＴＦＥ
からなる塵埃付着阻止膜２２が被覆された正圧浮上型ヘ
ッドスライダを完成することができる。
なお、上記のようにスパッタリング法により被着された
ＰＴＦＥＩｇ２１としてはＦＴ−ＩＲ分析法（フーリエ
変換・赤外吸光分析法）によりＣＦ２基の存在が確認さ
れている。
ＰＴＦＥＩｇ２１としてはＦＴ−ＩＲ分析法（フーリエ
変換・赤外吸光分析法）によりＣＦ２基の存在が確認さ
れている。
第４図は本発明に係るヘッドスライダの一実施例構造を
代表的な負圧浮上型へ７ドスライダに用いた場合の例で
示す斜視図である。
代表的な負圧浮上型へ７ドスライダに用いた場合の例で
示す斜視図である。
図において、１１はスライダ本体、１２は媒体に対向す
る正圧発生平面部１４を有する一対のサイトレールであ
り、その空気流入端に（ＩＪｉ斜面部１３が、また空気
流出部の端面に磁気ヘッド（図示せず）が設けられてい
る。１５は該一対のサイトレール１２間にそのサイトレ
ール１２と同一平面内で直交する形に設けられたクロス
レールであり、空気流入側と空気流出部側に前記一対の
サイトレール１２とクロスレール１５とで囲まれた前方
凹部１７と負圧発生凹部１６が設けられている。
る正圧発生平面部１４を有する一対のサイトレールであ
り、その空気流入端に（ＩＪｉ斜面部１３が、また空気
流出部の端面に磁気ヘッド（図示せず）が設けられてい
る。１５は該一対のサイトレール１２間にそのサイトレ
ール１２と同一平面内で直交する形に設けられたクロス
レールであり、空気流入側と空気流出部側に前記一対の
サイトレール１２とクロスレール１５とで囲まれた前方
凹部１７と負圧発生凹部１６が設けられている。
そして前記スライダ本体１１における一対のサイトレー
ル１２の正圧発生平面部１４とクロスレール１５面以外
の媒体と対向する領域面に、前記第１図の実施例は同様
にＰＴＦＥからなる塵埃付着阻止膜２２が１〜２μｍの
膜厚で被覆した構造としている。
ル１２の正圧発生平面部１４とクロスレール１５面以外
の媒体と対向する領域面に、前記第１図の実施例は同様
にＰＴＦＥからなる塵埃付着阻止膜２２が１〜２μｍの
膜厚で被覆した構造としている。
従って、この実施例構造においても前記第１図による実
施例と同様にＰＴＦＥからなる塵埃付着阻止膜２２によ
って塵埃や潤滑剤の付着が阻止されので、該塵埃や潤滑
剤の付着に起因するヘッドクラッシュの発生を防止する
ことが可能となる。
施例と同様にＰＴＦＥからなる塵埃付着阻止膜２２によ
って塵埃や潤滑剤の付着が阻止されので、該塵埃や潤滑
剤の付着に起因するヘッドクラッシュの発生を防止する
ことが可能となる。
以上の実施例では代表的な形状の負圧型スライダについ
て説明を行ったが、任意形状の負圧型スライダにも通用
できることは云うまでもない。
て説明を行ったが、任意形状の負圧型スライダにも通用
できることは云うまでもない。
更に、前記ＰＴＦＥからなる塵埃付着阻止膜２２の被覆
方法としては、先ず第５図に示すように磁気ヘッド（図
示せず）が設けられ、かつ切断分離したスライダ本体１
の媒体対向面をイオンミリング工程等によって加工して
、略１０μｍの深さの前方凹部１７と後方の負圧発生凹
部１６を形成することにより一対の号イドレール１２及
びクロスレール１５と傾斜面部１３を設ける。
方法としては、先ず第５図に示すように磁気ヘッド（図
示せず）が設けられ、かつ切断分離したスライダ本体１
の媒体対向面をイオンミリング工程等によって加工して
、略１０μｍの深さの前方凹部１７と後方の負圧発生凹
部１６を形成することにより一対の号イドレール１２及
びクロスレール１５と傾斜面部１３を設ける。
次にこのように加工されたスライダ本体１１の媒体対向
面にＰＴＦＥからなるターゲフトを用いたスパッタリン
グ装置によってｐｒＦＥＩＱ２１を１〜２μｍの膜厚に
被着する。
面にＰＴＦＥからなるターゲフトを用いたスパッタリン
グ装置によってｐｒＦＥＩＱ２１を１〜２μｍの膜厚に
被着する。
その後、第６図に示すように前記一対のサイトレール１
２及びクロスレール１５を所定の高さとなるように研磨
仕上げを行うことにより、スライダ本体１１における一
対のサイトレール１２の正圧発生平面部４及びクロスレ
ール１５面以外の媒体と対向する領域面に、ＰＴＦＥか
らなる塵埃付着阻止膜２２が被覆された負圧浮上型ヘッ
ドスライダを容易に完成することができる。
２及びクロスレール１５を所定の高さとなるように研磨
仕上げを行うことにより、スライダ本体１１における一
対のサイトレール１２の正圧発生平面部４及びクロスレ
ール１５面以外の媒体と対向する領域面に、ＰＴＦＥか
らなる塵埃付着阻止膜２２が被覆された負圧浮上型ヘッ
ドスライダを容易に完成することができる。
なお、ＰＴＦＥ１ｆｆ２１の被覆方法としては、一般的
にＰＴＦＥ微粉末を吹付は等により塗布して熱処理によ
りコーティングする方法が知られている。この方法によ
れば膜厚の制御が難しい点が有るものの、量産が極めて
容易となる。
にＰＴＦＥ微粉末を吹付は等により塗布して熱処理によ
りコーティングする方法が知られている。この方法によ
れば膜厚の制御が難しい点が有るものの、量産が極めて
容易となる。
以上の説明から明らかなように、本発明に係るヘントス
ライダによれば、磁気ヘッドが付設された正圧浮上型及
び負圧浮上型スライダの媒体対向面における媒体との非
接触面に対する塵埃や潤滑剤の付着が被覆された低い表
面エネルギーを有する膜からなる塵埃付着阻止膜により
阻止されることから、ヘッドクラッシュの発生が防止さ
れ、該ヘッドクラッシュに対する安全性に優れた信頼性
の高い長寿命な正圧浮上型及び負圧浮上型へラドスライ
ダを提供することが可能となる。
ライダによれば、磁気ヘッドが付設された正圧浮上型及
び負圧浮上型スライダの媒体対向面における媒体との非
接触面に対する塵埃や潤滑剤の付着が被覆された低い表
面エネルギーを有する膜からなる塵埃付着阻止膜により
阻止されることから、ヘッドクラッシュの発生が防止さ
れ、該ヘッドクラッシュに対する安全性に優れた信頼性
の高い長寿命な正圧浮上型及び負圧浮上型へラドスライ
ダを提供することが可能となる。
従って、この種のヘッドスライダに通用して極めて有利
である。
である。
第１図は本発明に係るヘッドスライダの一実施例構造を
正圧浮上型へラドスライダに 用いた場合の例を示す斜視図、 第２図及び第３図は本発明に係る正圧浮上型ヘッドスラ
イダの製造方法の一実施例を 説明するための斜視図、 第４図は本発明に係るヘントスライダの一実施例構造を
負圧浮上型ヘッドスライダに 用いた場合の例を示す斜視図、 第５図及び第６図は本発明に係る負圧浮上型ヘッドスラ
イダの製造方法の一実施例を 説明するための斜視図、 第７図は従来の正圧浮上型ヘントスライダを説明するた
めの斜視図、 第８図は従来の負圧浮上型へラドスライダを説明するた
めの斜視図である。 第１図乃至第６図において １．１１はスライダ本体、２，１２はサイトレール、３
，１３は傾斜面、４，１４は正圧発生平面部、１５はク
ロスレール、１６は負圧発生凹部、１７は前方凹部、２
１はＰＴＦＥＩＪ、２２は塵埃付着阻止膜をそれぞれ示
す。 第１図 第２図 第３図 ＄御す衡シ負岐ツ１醐ｔ３軒技図 第４図 ２ζ桐トＱＪこ−Ｐ丁Ｆε榎形へ゛工孝（Ｇり。 第５図 漆宛ｇ励も匙凌付や肚Ｈλｉ、ｉＮＩ社切第６図
正圧浮上型へラドスライダに 用いた場合の例を示す斜視図、 第２図及び第３図は本発明に係る正圧浮上型ヘッドスラ
イダの製造方法の一実施例を 説明するための斜視図、 第４図は本発明に係るヘントスライダの一実施例構造を
負圧浮上型ヘッドスライダに 用いた場合の例を示す斜視図、 第５図及び第６図は本発明に係る負圧浮上型ヘッドスラ
イダの製造方法の一実施例を 説明するための斜視図、 第７図は従来の正圧浮上型ヘントスライダを説明するた
めの斜視図、 第８図は従来の負圧浮上型へラドスライダを説明するた
めの斜視図である。 第１図乃至第６図において １．１１はスライダ本体、２，１２はサイトレール、３
，１３は傾斜面、４，１４は正圧発生平面部、１５はク
ロスレール、１６は負圧発生凹部、１７は前方凹部、２
１はＰＴＦＥＩＪ、２２は塵埃付着阻止膜をそれぞれ示
す。 第１図 第２図 第３図 ＄御す衡シ負岐ツ１醐ｔ３軒技図 第４図 ２ζ桐トＱＪこ−Ｐ丁Ｆε榎形へ゛工孝（Ｇり。 第５図 漆宛ｇ励も匙凌付や肚Ｈλｉ、ｉＮＩ社切第６図
Claims (3)
- （１）磁気ヘッドが付設されたスライダ本体（１、１１
）の媒体対向面における媒体との非接触面に、該スライ
ダ本体（１、１１）の構成材料より低い表面エネルギー
を有する膜で構成された塵埃付着阻止膜（２２）を設け
たことを特徴とするヘッドスライダ。 - （２）上記塵埃付着阻止膜（２２）がポリテトラフルオ
ロエチレンからなることを特徴とする特許請求の範囲第
（１）項に記載したヘッドスライダ。 - （３）上記スライダ本体（１、１１）が、負圧浮上型で
あることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載
したヘッドスライダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20903186A JPS6364684A (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | ヘツドスライダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20903186A JPS6364684A (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | ヘツドスライダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6364684A true JPS6364684A (ja) | 1988-03-23 |
Family
ID=16566110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20903186A Pending JPS6364684A (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | ヘツドスライダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6364684A (ja) |
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-
1986
- 1986-09-04 JP JP20903186A patent/JPS6364684A/ja active Pending
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