JPS6359336A - シラン系特殊材料ガスの処理方法 - Google Patents
シラン系特殊材料ガスの処理方法Info
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- JPS6359336A JPS6359336A JP61203029A JP20302986A JPS6359336A JP S6359336 A JPS6359336 A JP S6359336A JP 61203029 A JP61203029 A JP 61203029A JP 20302986 A JP20302986 A JP 20302986A JP S6359336 A JPS6359336 A JP S6359336A
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- silane
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Links
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体製造工場等から排出されて微量であっ
ても人体等に極めて有害なシラン又はその塩素置換化合
物を含むシラン系特殊材料ガスの効率的な処理方法に関
する。
ても人体等に極めて有害なシラン又はその塩素置換化合
物を含むシラン系特殊材料ガスの効率的な処理方法に関
する。
半導体製造工程中に排出される特殊材料ガスは微量であ
りても人体に極めて有害な成分が含まれているので、こ
のガスの有効な処理技術について強く要望されていた。
りても人体に極めて有害な成分が含まれているので、こ
のガスの有効な処理技術について強く要望されていた。
特に、本発明が対象としているシラン又はその塩素置換
化合物を含むシラン系特殊材料ガスに対しては、謀ｎＯ
４溶液、当ヨ央４ＨヒＮＨ，水、Ｎａ２Ｃｏ、溶液、Ｎ
ａＯＨ溶液等が夫々有効とされているが、ガスの特性か
らして有毒成分を実質的に完全に除去する吸収液が必要
であり、従来公知の各処理液に代わるさらに高い除去効
果を奏するものの出現が強く要望されてい念ものである
。
化合物を含むシラン系特殊材料ガスに対しては、謀ｎＯ
４溶液、当ヨ央４ＨヒＮＨ，水、Ｎａ２Ｃｏ、溶液、Ｎ
ａＯＨ溶液等が夫々有効とされているが、ガスの特性か
らして有毒成分を実質的に完全に除去する吸収液が必要
であり、従来公知の各処理液に代わるさらに高い除去効
果を奏するものの出現が強く要望されてい念ものである
。
本発明はかかる実状に鑑みてなされたもので、前記の要
望に答えるべく鋭意研究を進めた結果、シラン又はその
塩素置換化合物を含むシラン系特殊材料ガスを処理する
ために従来知られていた吸収液以外に、他にいくつかの
顕著な除去効果を奏するものを発見し、本発明を完成す
るに至りたるものである。
望に答えるべく鋭意研究を進めた結果、シラン又はその
塩素置換化合物を含むシラン系特殊材料ガスを処理する
ために従来知られていた吸収液以外に、他にいくつかの
顕著な除去効果を奏するものを発見し、本発明を完成す
るに至りたるものである。
本発明は。
ａ、一般式””ｎＨ２ｎ＋２ （” ’ｄ正の整数）の
シラン又はその塩素置換化合物を含むシラン系特殊材料
ガスに対し、 ５０回収液としてＮａＣ１ｏ水、塩素水、ヨウ素水又は
ＮａＨＳＯ３水水を使用して、 Ｃ０前記シラン又はその塩素置換化合物を除去する ｄ・ シラン系特殊材料ガスの処理方法はその要旨を存
するものである。
シラン又はその塩素置換化合物を含むシラン系特殊材料
ガスに対し、 ５０回収液としてＮａＣ１ｏ水、塩素水、ヨウ素水又は
ＮａＨＳＯ３水水を使用して、 Ｃ０前記シラン又はその塩素置換化合物を除去する ｄ・ シラン系特殊材料ガスの処理方法はその要旨を存
するものである。
以下、図面を参照し実施例に基づいて本発明を説明する
。
。
まず、シランのうち、代表的なＳｉＨ４の水及びアルカ
リに対する挙動をみると、 ＳｉＨ４＋ ２Ｈ２０＝ ５ｉｎ２＋ ４Ｈ２０（１
）ｓｓｏ□＋ ２ＮａＯＨ＝ Ｎａ２８１０．＋ １
（２ｏ （２）ＳｌＯ＋ Ｎａ Ｃｏ ＝ Ｎａ
ＳｉＯ＋ Ｃｏ （３）上３式に見られるように
、５ＩＨ４Ｆｉ水と反応して中間的にｓｔｏ が生成
するが、Ｎａ０）を又はＮａｚＣＯ３等のアルカリ水の
中では、直ちに該アルカリ化合物と反応して水溶性のＮ
ａ２５ｉｎ３が生成するものと思料される。しかし、ア
ルカリ化合物による分解が円滑に行われない場合にＦｉ
ｓｔｏ２のスケールが次第に多量に発生することとなる
。
リに対する挙動をみると、 ＳｉＨ４＋ ２Ｈ２０＝ ５ｉｎ２＋ ４Ｈ２０（１
）ｓｓｏ□＋ ２ＮａＯＨ＝ Ｎａ２８１０．＋ １
（２ｏ （２）ＳｌＯ＋ Ｎａ Ｃｏ ＝ Ｎａ
ＳｉＯ＋ Ｃｏ （３）上３式に見られるように
、５ＩＨ４Ｆｉ水と反応して中間的にｓｔｏ が生成
するが、Ｎａ０）を又はＮａｚＣＯ３等のアルカリ水の
中では、直ちに該アルカリ化合物と反応して水溶性のＮ
ａ２５ｉｎ３が生成するものと思料される。しかし、ア
ルカリ化合物による分解が円滑に行われない場合にＦｉ
ｓｔｏ２のスケールが次第に多量に発生することとなる
。
また、５ＩＨ４の塩素置換化合物で、半導体製造工程に
おける代表的な特殊材料ガスである５１Ｈ２Ｃｔ２又は
８１ＣＡ４の場合にありては、ＮａＯＨ等のアルカリ水
溶液は、該塩素置換化合物と中和反応してかなシの程度
吸収されることが判明している。
おける代表的な特殊材料ガスである５１Ｈ２Ｃｔ２又は
８１ＣＡ４の場合にありては、ＮａＯＨ等のアルカリ水
溶液は、該塩素置換化合物と中和反応してかなシの程度
吸収されることが判明している。
これらの知見は、第１図に示されるが如き、実験装置を
使用して行われた予備テｗトの結果判明したものである
。即ち、入口１から装置内に導入されたシラン系特殊材
料ガスはデンｆＰ！から上昇する５ ％ ＮａＯＨに接
触して洗浄２され、更に、隣室の洗浄塔で一ングｐｘか
ら上昇す♂習嘔よって洗浄３されさらに、ミスト除去室
４を通過してファンＰＫより出口５から排出されるよう
にした。
使用して行われた予備テｗトの結果判明したものである
。即ち、入口１から装置内に導入されたシラン系特殊材
料ガスはデンｆＰ！から上昇する５ ％ ＮａＯＨに接
触して洗浄２され、更に、隣室の洗浄塔で一ングｐｘか
ら上昇す♂習嘔よって洗浄３されさらに、ミスト除去室
４を通過してファンＰＫより出口５から排出されるよう
にした。
いま、Ｎ２．ｆス中に５ＩＨ４が、混入されて５ｔａ４
ア、 ５ ｐｐｍ Ｋ調整された特殊材料ガスを試料ガ
スとする実験において第１９に示すような結果が得られ
た。
ア、 ５ ｐｐｍ Ｋ調整された特殊材料ガスを試料ガ
スとする実験において第１９に示すような結果が得られ
た。
第 １ 表
上表から本発明に係るＮａＣｔＤ水、塩素水、目つ素水
及びＮａＨ３Ｏ，水は他の吸収液に較ぺて顕著な除去効
果を奏しつるものであり、＊に塩素水が好ましいことが
判明した。
及びＮａＨ３Ｏ，水は他の吸収液に較ぺて顕著な除去効
果を奏しつるものであり、＊に塩素水が好ましいことが
判明した。
第２表には、実際のエピタキシャル半導体製造工程に発
生するｓ ｔ ｃｔ４及び５ＩＨ２Ｃｔ２を含む特殊材
料ｆスの除去率（イ）が示されている。
生するｓ ｔ ｃｔ４及び５ＩＨ２Ｃｔ２を含む特殊材
料ｆスの除去率（イ）が示されている。
第 ２ 表
Ａ ： ＮａＣＬＯ水（０，５チ）
Ｂ；塩素水（０，３％）
上表の如く、極めて優れた除去効果を有するが、本発明
に係る吸収液を使用した場合にはスケール（ＳＩＯ２）
の発生が殆んど見られないのが重要な特長となっている
。
に係る吸収液を使用した場合にはスケール（ＳＩＯ２）
の発生が殆んど見られないのが重要な特長となっている
。
本発明は以上の構成に基づくものであって、微量であっ
ても極めて有害なため、その除去が実質的に１００チで
あることを必要とする吸収液を提供しつるもので、特殊
材料ガスのうち発生頻度の高いシラン又はその塩素置換
化合物を含むシラン系特殊材料ガスについて良好な除去
率を得られる信頼性の高い吸収液であって実用上極めて
有用である。
ても極めて有害なため、その除去が実質的に１００チで
あることを必要とする吸収液を提供しつるもので、特殊
材料ガスのうち発生頻度の高いシラン又はその塩素置換
化合物を含むシラン系特殊材料ガスについて良好な除去
率を得られる信頼性の高い吸収液であって実用上極めて
有用である。
第１図は本発明の過程において使用された処理装置の一
例を示す説明図である。 出 願 人 協和化工株式会社
例を示す説明図である。 出 願 人 協和化工株式会社
Claims (1)
- 一般式Ｓｉ＿ｎＨ＿２＿ｎ＿＋＿２（ｎは正の整数）の
シラン又はその塩素置換化合物を含むシラン系特殊材料
ガスに対し、回収液としてＮａＣｌＯ水、塩素水、ヨウ
素水又はＮａＨＳＯ＿３水を使用し、前記シラン又はそ
の塩素置換化合物を除去することを特徴とするシラン系
特殊材料ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61203029A JPS6359336A (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | シラン系特殊材料ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61203029A JPS6359336A (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | シラン系特殊材料ガスの処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6359336A true JPS6359336A (ja) | 1988-03-15 |
Family
ID=16467168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61203029A Pending JPS6359336A (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | シラン系特殊材料ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6359336A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100439333B1 (ko) * | 2001-02-22 | 2004-07-14 | 주식회사 동방수기 | 내부 순환류 세정식 염소 가스 중화 장치와 침적 고형물생성 억제 방법 |
| CN103908865A (zh) * | 2014-04-16 | 2014-07-09 | 哈尔滨新海德智能环境工程有限公司 | 废气捕集阻火降温装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60150817A (ja) * | 1983-11-24 | 1985-08-08 | ハインリツヒ−ヘルツ−インステイテユ−ト・フユ−ル・ナツハリヒテンテヒニ−ク・ベルリン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 処理排ガスからの有害物質の除去法 |
-
1986
- 1986-08-29 JP JP61203029A patent/JPS6359336A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60150817A (ja) * | 1983-11-24 | 1985-08-08 | ハインリツヒ−ヘルツ−インステイテユ−ト・フユ−ル・ナツハリヒテンテヒニ−ク・ベルリン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 処理排ガスからの有害物質の除去法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100439333B1 (ko) * | 2001-02-22 | 2004-07-14 | 주식회사 동방수기 | 내부 순환류 세정식 염소 가스 중화 장치와 침적 고형물생성 억제 방법 |
| CN103908865A (zh) * | 2014-04-16 | 2014-07-09 | 哈尔滨新海德智能环境工程有限公司 | 废气捕集阻火降温装置 |
| CN103908865B (zh) * | 2014-04-16 | 2017-01-04 | 哈尔滨新海德智能环境工程有限公司 | 废气捕集阻火降温装置 |
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