JPS6358095B2 - - Google Patents
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- JPS6358095B2 JPS6358095B2 JP55026460A JP2646080A JPS6358095B2 JP S6358095 B2 JPS6358095 B2 JP S6358095B2 JP 55026460 A JP55026460 A JP 55026460A JP 2646080 A JP2646080 A JP 2646080A JP S6358095 B2 JPS6358095 B2 JP S6358095B2
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
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- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
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-
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- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
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Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はインクオンデマンド型インクジエツト
プリンタの印字ヘツドの製造方法に関し、特に高
集積マルチノズルの印字ヘツドの製造方法に関す
る。
プリンタの印字ヘツドの製造方法に関し、特に高
集積マルチノズルの印字ヘツドの製造方法に関す
る。
従来平面基板にインク供給路、加圧室、インク
射出路をエツチング等で形成し、振動板を接着
し、加圧室に相当する部分に圧電素子を接着した
マルチノズルヘツドは公知である。そして、従
来、印字ヘツドを小型化するとともに射出路、加
圧室等の高集積化を図るため中間基板の両側に射
出路等を形成した両面型マルチノズルヘツドを製
造する提案がなされている。
射出路をエツチング等で形成し、振動板を接着
し、加圧室に相当する部分に圧電素子を接着した
マルチノズルヘツドは公知である。そして、従
来、印字ヘツドを小型化するとともに射出路、加
圧室等の高集積化を図るため中間基板の両側に射
出路等を形成した両面型マルチノズルヘツドを製
造する提案がなされている。
しかしながら、従来の方法は、基本的には基板
両面にそれぞれ流路を形成するものであるため、
従来の方法であると、両面の射出路等の相対的な
位置が多少なりともずれてしまい、射出路を高密
度に形成しようとするとこのずれが無視できなく
なり、印字ヘツドずれのない高精度の印字は非常
に困難であつた。また、位置ずれを解消しようと
すると、両面の射出路等を高精度に位置合わせし
なければならないが、射出路等を高密度化しよう
とすると非常に製造が困難であり、また、このよ
うにしても多少なりとも位置ずれが生じてしまつ
た。
両面にそれぞれ流路を形成するものであるため、
従来の方法であると、両面の射出路等の相対的な
位置が多少なりともずれてしまい、射出路を高密
度に形成しようとするとこのずれが無視できなく
なり、印字ヘツドずれのない高精度の印字は非常
に困難であつた。また、位置ずれを解消しようと
すると、両面の射出路等を高精度に位置合わせし
なければならないが、射出路等を高密度化しよう
とすると非常に製造が困難であり、また、このよ
うにしても多少なりとも位置ずれが生じてしまつ
た。
本願発明はかかる欠点を除去し、基板両面の射
出路等の位置ずれがなく、かつ製造がきわめて容
易な印字ヘツドの製造方法を提供することを目的
とする。
出路等の位置ずれがなく、かつ製造がきわめて容
易な印字ヘツドの製造方法を提供することを目的
とする。
以下第１図〜第１０図により説明する。
第１図は本発明による中間基板の製造工程を説
明する図である。１は所定のパターンが作られた
マスク、２は中間基板となる感光性ガラスで
ClO2，Ag2Oを含むSiO2―Al2O3―Li2O系ガラス
である。３は波長280〜350mmの紫外光である。ａ
図のように配置して露光を行なうと、よく知られ
ているように熱処理前の感光性ガラスは透明なた
め、中間基板２の両面にわたつて紫外光３のあた
つた部分４に Ce3+＋Ag+＋hv→Ce4+＋Ag0 なる反応がおこる。これに第１次熱処理を施し、
Agの金属コロイドを発生させ、さらに第２次熱
処理により、この金属コロイドが核になつて
Li2O―SiO2結晶が発生する。このLi2O―SiO2結
晶はきわめて酸に溶解しやすい。したがつて沸酸
水溶液によつて容易に第１図ｂに示すように中間
基板２の露光部分４は両面からエツチングされ
る。エツチング部５が所定の深さになつた時エツ
チングを止め、次に全体を再び紫外線照射する。
明する図である。１は所定のパターンが作られた
マスク、２は中間基板となる感光性ガラスで
ClO2，Ag2Oを含むSiO2―Al2O3―Li2O系ガラス
である。３は波長280〜350mmの紫外光である。ａ
図のように配置して露光を行なうと、よく知られ
ているように熱処理前の感光性ガラスは透明なた
め、中間基板２の両面にわたつて紫外光３のあた
つた部分４に Ce3+＋Ag+＋hv→Ce4+＋Ag0 なる反応がおこる。これに第１次熱処理を施し、
Agの金属コロイドを発生させ、さらに第２次熱
処理により、この金属コロイドが核になつて
Li2O―SiO2結晶が発生する。このLi2O―SiO2結
晶はきわめて酸に溶解しやすい。したがつて沸酸
水溶液によつて容易に第１図ｂに示すように中間
基板２の露光部分４は両面からエツチングされ
る。エツチング部５が所定の深さになつた時エツ
チングを止め、次に全体を再び紫外線照射する。
一方中間基板２と同材質の振動板６を紫外線照
射し、第１図ｃのように重ねて密着し、第３次熱
処理を施せば、Li2O―2SiO2結晶が発生する。こ
の結果感光しない、酸、熱に強い結晶化ガラスと
なると同時に、中間基板２と振動板６は固着一体
化する。
射し、第１図ｃのように重ねて密着し、第３次熱
処理を施せば、Li2O―2SiO2結晶が発生する。こ
の結果感光しない、酸、熱に強い結晶化ガラスと
なると同時に、中間基板２と振動板６は固着一体
化する。
さらに振動板６上に電極７をCr，Au蒸着ある
いはネサ膜吹付等で作製する。その後振動板上
の、加圧室に相当する部分に表面に電極８の形成
された圧電素子９を接着する。
いはネサ膜吹付等で作製する。その後振動板上
の、加圧室に相当する部分に表面に電極８の形成
された圧電素子９を接着する。
以上述べたように、１枚のマスクを使い、１回
露光することで、中間基板の両面に同一形状のイ
ンク供給路、加圧室（インク射出圧力を形成する
加圧部）、射出路が容易に形成される。
露光することで、中間基板の両面に同一形状のイ
ンク供給路、加圧室（インク射出圧力を形成する
加圧部）、射出路が容易に形成される。
第２図に第１図の実施例で述べたように製作し
た高密度ヘツドを使つた印字について説明する。
ヘツド１１を図のように tanθ＝Ｐ／2C ……式１ たゞしＣ：ノズル91の列Ｊ，Ｋの距離、Ｐ：各
ノズル列のノズルピツチとなる角度θだけ傾けて
印字を行なえば、上下方向に Ｈ＝Ｃ sinθ ……式２ 離れたドツトが印字できる。
た高密度ヘツドを使つた印字について説明する。
ヘツド１１を図のように tanθ＝Ｐ／2C ……式１ たゞしＣ：ノズル91の列Ｊ，Ｋの距離、Ｐ：各
ノズル列のノズルピツチとなる角度θだけ傾けて
印字を行なえば、上下方向に Ｈ＝Ｃ sinθ ……式２ 離れたドツトが印字できる。
式１、式２から
Ｐ＝2H／Cosθ＞2H ……式３
となり片面に必要ノズルを作る場合にくらべ、両
面にノズルを作り、傾けて印字することで半分以
下の集積度で同等の高密度印字が得られる。
面にノズルを作り、傾けて印字することで半分以
下の集積度で同等の高密度印字が得られる。
なお距離Ｃは余り長いと制御回路上の問題が大
きくなり、小さいと両面の相対する加圧室が影響
を及ぼしあうため0.5〜2.5mm程度が望ましい。
きくなり、小さいと両面の相対する加圧室が影響
を及ぼしあうため0.5〜2.5mm程度が望ましい。
第３図に第２図のヘツド１１で印字する場合の
印字パターンを示す。縦方向のノズルは各々同時
にインク射出するようにすれば、図のようにイタ
リツク体の印字が行なわれる。先行のノズル列Ｋ
は、矢印Ｋの列を印字し、後のノズル列Ｊは矢印
Ｊの列を印字し、次の印字タイミングで各々黒丸
で示す印字を行なう。このようにしてヘツドの移
動につれＸ印の印字を行なつて“Ｅ”を完成す
る。
印字パターンを示す。縦方向のノズルは各々同時
にインク射出するようにすれば、図のようにイタ
リツク体の印字が行なわれる。先行のノズル列Ｋ
は、矢印Ｋの列を印字し、後のノズル列Ｊは矢印
Ｊの列を印字し、次の印字タイミングで各々黒丸
で示す印字を行なう。このようにしてヘツドの移
動につれＸ印の印字を行なつて“Ｅ”を完成す
る。
次に第４図に第２図のヘツド１１で印字する別
の印字パターンを説明する。
の印字パターンを説明する。
この例では縦方向のノズルを同時に射出せず、
記録紙上の同一垂直位置に来たノズルだけインク
射出を行なう。これは電気的に各ノズルの射出タ
イミングを遅延させるなどで容易に可能である。
このようにすれば、ヘツド１１を傾けてもイタリ
ツク体でない普通の印字が得られる。また印字時
期が重ならないため、ピーク電流が押えられた
り、マルチプレクス駆動が可能となり、配線数、
ドライバ数等を減らすこともできる。
記録紙上の同一垂直位置に来たノズルだけインク
射出を行なう。これは電気的に各ノズルの射出タ
イミングを遅延させるなどで容易に可能である。
このようにすれば、ヘツド１１を傾けてもイタリ
ツク体でない普通の印字が得られる。また印字時
期が重ならないため、ピーク電流が押えられた
り、マルチプレクス駆動が可能となり、配線数、
ドライバ数等を減らすこともできる。
第５図に第１図マスク１のパターン図の例を示
す。２１はインク供給路、２２はインク溜、２３
は個別供給路、２４，２５は島、２６は加圧室、
２７はインク路、２８は射出路である。
す。２１はインク供給路、２２はインク溜、２３
は個別供給路、２４，２５は島、２６は加圧室、
２７はインク路、２８は射出路である。
島２４によりインク流が加圧室２６内を平均し
て流れ、気泡を除去する場合、気泡がインク流と
ともに容易に排出される効果がある。島２５は加
圧室２６に加わる圧力が逃げないように、また不
規則な高周波振動が発生することを防ぐ。加圧室
２６は図のように射出路２８から不等間隔に配置
され、ヘツド小型化に役立つている。一方このよ
うな配置は各ノズルからの射出インク滴を不ぞろ
いにするため、個別供給路２３、インク路２７は
各々長さ、巾等を変えてインク滴の不ぞろいを補
正してある。
て流れ、気泡を除去する場合、気泡がインク流と
ともに容易に排出される効果がある。島２５は加
圧室２６に加わる圧力が逃げないように、また不
規則な高周波振動が発生することを防ぐ。加圧室
２６は図のように射出路２８から不等間隔に配置
され、ヘツド小型化に役立つている。一方このよ
うな配置は各ノズルからの射出インク滴を不ぞろ
いにするため、個別供給路２３、インク路２７は
各々長さ、巾等を変えてインク滴の不ぞろいを補
正してある。
以上述べた本発明の実施例でわかるように、射
出路、加圧室等を中間基板の両面に容易に製作で
き、小型ヘツドにもかかわらず高密度の印字が可
能となる。
出路、加圧室等を中間基板の両面に容易に製作で
き、小型ヘツドにもかかわらず高密度の印字が可
能となる。
第６図に本発明の他の実施例を示す。第１図の
例と異り、紫外光３をマスク１に対して斜めに照
射することで中間基板２の両面にずらした配置に
射出路が形成できる。このようにすれば、第３図
の印字例とは傾きの異る、あるいは第４図の例と
は印字タイミングの異る印字ができる。
例と異り、紫外光３をマスク１に対して斜めに照
射することで中間基板２の両面にずらした配置に
射出路が形成できる。このようにすれば、第３図
の印字例とは傾きの異る、あるいは第４図の例と
は印字タイミングの異る印字ができる。
第７図に本発明の他の実施例を示す。説明の都
合上、マスク１は中間基板２と同じ大きさで厚さ
は無視して図示してある。本実施例の特徴は、中
間基板２が頂角αのクサビ形である点で、ヘツド
前面６１に平行で、ヘツド上面６２とは第６図の
ような傾きを持つ平行光３で露光する。このよう
にして第８図に示すようなノズル配置のクサビ形
ヘツドをつくる。中間基板２の両面に振動板６、
圧電素子９を配置し、第９図のように印字すれ
ば、記録紙７１とノズル面６１の距離ｙを適当に
選べば、各ノズル列から射出されたインク滴７２
は記録紙７１上に同時に到達し、印字制御の点で
容易さが増す。
合上、マスク１は中間基板２と同じ大きさで厚さ
は無視して図示してある。本実施例の特徴は、中
間基板２が頂角αのクサビ形である点で、ヘツド
前面６１に平行で、ヘツド上面６２とは第６図の
ような傾きを持つ平行光３で露光する。このよう
にして第８図に示すようなノズル配置のクサビ形
ヘツドをつくる。中間基板２の両面に振動板６、
圧電素子９を配置し、第９図のように印字すれ
ば、記録紙７１とノズル面６１の距離ｙを適当に
選べば、各ノズル列から射出されたインク滴７２
は記録紙７１上に同時に到達し、印字制御の点で
容易さが増す。
第１０図に、上述した第１図〜第９図の実施例
におけるノズルの望ましい断面形状の一列を示
す。ここでノズル９１の深さＤは100μｍ、巾Ｗ
は30μｍである。
におけるノズルの望ましい断面形状の一列を示
す。ここでノズル９１の深さＤは100μｍ、巾Ｗ
は30μｍである。
第５図にマスクパターン図として示したインク
供給路２１、インク溜２２、加圧室２６、インク
路２７に相当する部分は、射出速度、印字応答性
向上などの点でなるべく深くエツチングされるこ
とが望ましい。我々の実験によれば60μｍないし
150μｍ以上であると流路部分の抵抗が低くなり
性能が向上する。しかしながらノズル９１の大き
さはインク滴の大きさ、インク射出速度の確保の
点で制限され、大きくできない。上述の条件を満
足するには第１０図に示すようにエツチング巾Ｗ
にくらべエツチング深さＤを長くとれば印字応答
性、インク射出速度向上などがはかれる。ノズル
９１の巾は30μｍないし50μｍ程度が適当であり、
Ｄ／Ｗの値は1.2以上であれば良い。このように
深さ方向へ深くエツチングできるのは感光性ガラ
スの特徴のひとつであり、この特性を有効に利用
してヘツド性能向上をはかるものである。
供給路２１、インク溜２２、加圧室２６、インク
路２７に相当する部分は、射出速度、印字応答性
向上などの点でなるべく深くエツチングされるこ
とが望ましい。我々の実験によれば60μｍないし
150μｍ以上であると流路部分の抵抗が低くなり
性能が向上する。しかしながらノズル９１の大き
さはインク滴の大きさ、インク射出速度の確保の
点で制限され、大きくできない。上述の条件を満
足するには第１０図に示すようにエツチング巾Ｗ
にくらべエツチング深さＤを長くとれば印字応答
性、インク射出速度向上などがはかれる。ノズル
９１の巾は30μｍないし50μｍ程度が適当であり、
Ｄ／Ｗの値は1.2以上であれば良い。このように
深さ方向へ深くエツチングできるのは感光性ガラ
スの特徴のひとつであり、この特性を有効に利用
してヘツド性能向上をはかるものである。
なお第１０図と同様の性能向上をはかるため、
露光およびエツチングを２度にわけて行なうなど
の方法でノズル９１の深さＤを、他の加圧室等の
深さよりも浅くすることも考えられる。このよう
にすれば、製造工程は増加するが、ノズル９１が
正方形に近くなりインク滴の射出安定性は増す。
露光およびエツチングを２度にわけて行なうなど
の方法でノズル９１の深さＤを、他の加圧室等の
深さよりも浅くすることも考えられる。このよう
にすれば、製造工程は増加するが、ノズル９１が
正方形に近くなりインク滴の射出安定性は増す。
以上の各実施例の説明で判るように、本発明に
よれば、感光性ガラスの特性を有効に活用して、
中間基板の両面に流路を形成し、ヘツドを小型に
するとともにノズルの高集積化をはかり印字品質
を向上することができる。
よれば、感光性ガラスの特性を有効に活用して、
中間基板の両面に流路を形成し、ヘツドを小型に
するとともにノズルの高集積化をはかり印字品質
を向上することができる。
またノズルなど流路の形状を最適化することで
印字応答性、インク滴射出速度の向上がはかれ
る。
印字応答性、インク滴射出速度の向上がはかれ
る。
なお本発明の別の応用として両面のインクの色
をかえ、たとえば赤黒２色印字用のヘツドとして
使うことも可能である。また実施例で述べた両面
ヘツドを複数枚並べ、さらに高密度化、あるいは
高速化、あるいは多色化することも可能である。
をかえ、たとえば赤黒２色印字用のヘツドとして
使うことも可能である。また実施例で述べた両面
ヘツドを複数枚並べ、さらに高密度化、あるいは
高速化、あるいは多色化することも可能である。
本発明はシリマルプリンタだけでなくラインプ
リンタ、コピア、フアクスなど各種インクジエツ
ト印刷装置に広く応用できるものである。以上述
べたように、本発明の印字ヘツドの製造方法によ
れば、紫外光による露光で物性が変化し更に熱処
理を受けることによりエツチングを可能にする感
光性ガラスを基材とし、その片面に、インク射出
路等に対応した透光パターンを有するマスクを備
え、マスクを介して第１の基板を紫外光にて露光
し、熱処理を施した後、露光部分を基板の両面側
からエツチングすることにより、基板の片面側か
らの露光で基板の両面に同時にインク射出路等を
形成することが可能となるため、本質的に両面の
インクの射出路等の相対的位置の位置ずれが生ぜ
ず、射出路等の形成密度を非常に高くしても印字
ドツトずれ等が生じない。また、それぞれの面に
別個に流路等を形成する場合に比べて位置精度が
高精度である印字ヘツドをきわめて容易に製造で
きる。
リンタ、コピア、フアクスなど各種インクジエツ
ト印刷装置に広く応用できるものである。以上述
べたように、本発明の印字ヘツドの製造方法によ
れば、紫外光による露光で物性が変化し更に熱処
理を受けることによりエツチングを可能にする感
光性ガラスを基材とし、その片面に、インク射出
路等に対応した透光パターンを有するマスクを備
え、マスクを介して第１の基板を紫外光にて露光
し、熱処理を施した後、露光部分を基板の両面側
からエツチングすることにより、基板の片面側か
らの露光で基板の両面に同時にインク射出路等を
形成することが可能となるため、本質的に両面の
インクの射出路等の相対的位置の位置ずれが生ぜ
ず、射出路等の形成密度を非常に高くしても印字
ドツトずれ等が生じない。また、それぞれの面に
別個に流路等を形成する場合に比べて位置精度が
高精度である印字ヘツドをきわめて容易に製造で
きる。
第１図は本発明による印字ヘツドの製造工程の
実施例を説明する前面図、第２図は第１図の実施
例による印字ヘツドの印字を説明する前面図、第
３図は第２図のようにして印字した場合の印字パ
ターンを示す図、第４図は第３図と異なる印字パ
ターン図、第５図は第１図の実施例における流路
パターンを示す平面図、第６図は本発明の他の実
施例を示す図、第７図は本発明のさらに他の実施
例を示す図、第８図は第７図の実施例で製作した
印字ヘツドの前面図、第９図は第８図の印字ヘツ
ドによる印字を説明する上面図、第１０図は本発
明の実施例における射出路の形状の一例を示す前
面図である。 １……マスク、２……中間基板、３……紫外
光、５……エツチング部、６……振動板、９……
圧電素子、９１……ノズル。
実施例を説明する前面図、第２図は第１図の実施
例による印字ヘツドの印字を説明する前面図、第
３図は第２図のようにして印字した場合の印字パ
ターンを示す図、第４図は第３図と異なる印字パ
ターン図、第５図は第１図の実施例における流路
パターンを示す平面図、第６図は本発明の他の実
施例を示す図、第７図は本発明のさらに他の実施
例を示す図、第８図は第７図の実施例で製作した
印字ヘツドの前面図、第９図は第８図の印字ヘツ
ドによる印字を説明する上面図、第１０図は本発
明の実施例における射出路の形状の一例を示す前
面図である。 １……マスク、２……中間基板、３……紫外
光、５……エツチング部、６……振動板、９……
圧電素子、９１……ノズル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 第１の基板の両面にそれぞれ第２及び第３の
基板を接合し、前記第１の基板と前記第２の基
板、及び前記第１の基板と前記第３の基板の間に
それぞれ複数のインク射出路、該射出路に連通し
た加圧部、該加圧部に連通したインク供給路を形
成する印字ヘツドの製造方法において、 該印字ヘツドが少なくとも、 紫外光による露光で物性が変化し、更に熱処理
を受けることによりエツチングを可能にする感光
性ガラスを基材とする前記第１の基板の一方の基
板面側に、前記インク射出路、前記加圧部及び前
記インク供給路に対応した透光パターンを有する
マスクを備え、該マスクを介して前記第１の基板
を前記紫外光にて露光する工程、 前記第１の基板に熱処理を施す工程、 前記熱処理を施された前記第１の基板の前記露
光部分を基板の両面側からエツチングし、前記第
１の基板の両面に前記透光パターンに対応した凹
凸部を形成する工程、 前記第１の基板の両面に前記第２の基板及び前
記第３の基板を接合し、その間隙にそれぞれ前記
インク噴射路、加圧部、及びインク噴射路を形成
する工程 により製造されることを特徴とする印字ヘツドの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2646080A JPS56121775A (en) | 1980-03-03 | 1980-03-03 | Printing head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2646080A JPS56121775A (en) | 1980-03-03 | 1980-03-03 | Printing head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56121775A JPS56121775A (en) | 1981-09-24 |
| JPS6358095B2 true JPS6358095B2 (ja) | 1988-11-15 |
Family
ID=12194113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2646080A Granted JPS56121775A (en) | 1980-03-03 | 1980-03-03 | Printing head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56121775A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03211058A (ja) * | 1990-01-13 | 1991-09-13 | Fuji Electric Co Ltd | インクジェット記録ヘッド |
| US5314522A (en) * | 1991-11-19 | 1994-05-24 | Seikosha Co., Ltd. | Method of processing photosensitive glass with a pulsed laser to form grooves |
| JP2873412B2 (ja) * | 1991-11-19 | 1999-03-24 | セイコープレシジョン株式会社 | 感光性ガラスの加工方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5435936A (en) * | 1977-08-18 | 1979-03-16 | Preston Lynn Petty | Brake mechanism of front wheel of autobicycle |
| JPS54146633A (en) * | 1978-05-10 | 1979-11-16 | Hitachi Ltd | Nozzle head for ink-jet recording |
| JPS5515841A (en) * | 1978-07-21 | 1980-02-04 | Seiko Epson Corp | Ink jet recording devicesigma 2-side multi-head |
-
1980
- 1980-03-03 JP JP2646080A patent/JPS56121775A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5435936A (en) * | 1977-08-18 | 1979-03-16 | Preston Lynn Petty | Brake mechanism of front wheel of autobicycle |
| JPS54146633A (en) * | 1978-05-10 | 1979-11-16 | Hitachi Ltd | Nozzle head for ink-jet recording |
| JPS5515841A (en) * | 1978-07-21 | 1980-02-04 | Seiko Epson Corp | Ink jet recording devicesigma 2-side multi-head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56121775A (en) | 1981-09-24 |
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