JPS6356503A - アミノポリカルボン酸型キレ−ト樹脂及びその製造方法 - Google Patents

アミノポリカルボン酸型キレ−ト樹脂及びその製造方法

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JPS6356503A
JPS6356503A JP20110286A JP20110286A JPS6356503A JP S6356503 A JPS6356503 A JP S6356503A JP 20110286 A JP20110286 A JP 20110286A JP 20110286 A JP20110286 A JP 20110286A JP S6356503 A JPS6356503 A JP S6356503A
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JP
Japan
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resin
lysine
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chelate resin
chelate
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JP20110286A
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English (en)
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Toshiro Yokoyama
敏郎 横山
Toshishige Suzuki
敏重 鈴木
Tetsuo Kimura
哲雄 木村
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属イオンに対して優れた錯形成能と1分離
能を有する新規なキレート樹脂及びその製造方法に関し
、さらに詳しくは、L−リシン−(位の7ミノ基を介し
てポリスチレン樹脂に導入してなるニトリロ三酢酸類似
の多座配位子を含む新規な7ミノポリカルポン酸型キレ
ート樹脂、及びその製造方法に関するものでる。
キレート性多座配位子は、単座配位子に比べて金属イオ
ンとより安定な錯体を形成することから、上記多座配位
子を導入したキレート樹脂は良好な金属イオン捕捉材料
となり、金属イオン含有廃水の処理や有価金属の回収な
どに極めて有効である。
従来、キレート性多座配位子の中で特にイミノ二酢酸(
IDA)、ニトリロ三酢酸(NTA)。
エチレンジアミン−N、N、N、N−四酢酸(EDTA
)のようなアミン−N−ポリ酢酸類は多くの金属イオン
と安定な錯体を形成する優れた配位子であることが知ら
れている。このような多座配位子の中で、IDA基を高
分子樹脂に導入したキレート樹脂は合成も容易であり、
また比較的高い重金属イオン捕捉能を有することから、
広く工業的に製造され使用されている。
しかしながら、上記キレート性多座配位子の多くの金属
イオンに対するキレート安定度定数は。
I DA<NTA<EDTAの順となっている( rs
tabilit7 Con5tants or Met
al−Co*plexesjThe Chemical
 5ociety、 London、 1971年)、
またIDA基は玉座配位子であり六配位八面体錯体を形
成する金属イオンを良好に吸着するためには。
やや剛直な高分子骨格内において複数個の配位子が接近
する必要がある。しかしながらIDA基は高分子骨格に
近接して結合しているため、立体的自由度の制約があり
、安定な錯体を形成する上で問題がある。したがってI
DA型キレート4m脂の金属イオン捕捉能は必ずしも充
分満足すべきものではない、このような理由から高分子
樹脂に導入するキレート性多座配位子としては9重金属
イオンとより安定な錯体を形成し得るNTA、lやED
TA基の方が好ましく、既にこれらのキレート性多座配
位子をポリスチレンに導入したキレート樹脂が提案され
ている(例えば、 J、 Am、 Chem。
Sac、 、第81巻377頁1859年、及び 阿a
cromol。
Chew、、第180巻2438頁1978年など)、
ところが。
これらの方法におけるNTA基やEDTA基の導入方法
においても配位子の立体的自由度には問題がある上9反
応経路が複雑であるとか、あるいは低収率であるなどの
欠点を有し、必ずしも工業的製造法として満足されるも
のではない。
また、キレート性多座配位子の中でアミン−N−酢酸構
造を有する種々のα−アミノ酸類を導入したキレート樹
脂の合成も試みられている。しかしながら、アミノ酸類
の金属イオンに対するキレート安定度定数はI DA 
、NTA 、EDTAと比べて小さいことから、アミノ
酸型キレート樹脂の用途は金属イオン捕捉材料としてよ
りも、むしろタンパク質の分別や光学活性アミノ酸の分
割材料として使用されている(例えば、 J、 Am。
Chera−6ac、 、第94巻2660頁1872
年など)。
本発明者らは、かかる事情に鑑み、従来のIDA型キレ
キレート樹脂ミノ酸型キレート樹脂に比べて、より安定
な錯体を形成し得るNTA類似基を含む多座配位子を導
入して成るアミノポリカルボン酸型キレート樹脂を得る
べく鋭意研究を重ねた結果、まず二塩基性アミノ酸と銅
(II)イオンを反応させて得られる錆化合物を、アミ
ン反応性基を有する高分子樹脂に架橋反応を伴うことな
く導入し9次いで加水分解した後、導入された二塩基性
アミノ酸の第−級及び第二級アミ7基をカルボキシメチ
ル化することにより、その目的を達成しうることを見出
し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち9本発明は、ポリスチレン樹脂母体にニトリロ
三酢酸類似基を含む、下式 で示される多座配位子を導入して成るアミノポリカルボ
ン酸型キレート樹脂、及びクロロメチル化ポリスチレン
とジメチルサルファイドとを反応させて得られるスルホ
ニウム化樹脂に、二塩基性アミノ酸であるL−リシンと
m (II)イオンより成る錯化合物を反応させ、該錯
化合物をL−リシンのε位のアミ7基を介して樹脂母体
中に導入した後、加水分解してL−リシンをその(位の
アミン基を介して含むキレート樹脂を(す、さらに該キ
レート樹脂の第−級及び第二級アミン基にカルボキシメ
チル基を導入することを特徴とする。前記の式で示され
る多座配位子を該樹脂母体中に含むアミノポリカルボン
酸型キレート樹脂の製造方法を提供するものである。
本発明において用いられる二塩基性アミノ酸としては、
α位に一級アミン基を有し、かつ他の位置に少なくとも
一個の一級または二級アミノ基を有するα−アミノ酸誘
導体ならば特に制限はなく、リシン、オルニチン等が用
いられる。好ましくは工業製品としてより安価なL−リ
シンが用いられる。
アミン反応性基を有する高分子樹脂母体に上記二塩基性
アミノ酸を直接反応させてアミノ化を行うと、該二塩基
性アミノ酸は多官能性のために複数個のアミン反応性基
と反応し、高分子鎖内や高分子鎖間で好ましくない架橋
反応を生じる。したがって9次のカルボキシメチル化剤
との反応で生じる多座配位子の構造は乱雑となり9選択
的な金属イオン吸着に悪影響を及ぼす、それ故に9本発
明においては該二塩基性アミノ酸のα位のアミン基を保
護した後、高分子樹脂母体に導入される。
α−アミ7基の保護基としては種々の有機性官能基また
は金属イオンが用いられるが、好ましくは合成及びその
後の反応処理の容易さから金属イオンが用いられる。金
属イオンとしては、α位の7ミノ基とのみ錯形成するこ
とによりこれを保護し、他の位置の7ミノ基とは錯形成
を行わないものであれば特に制限はなく、銅(II−)
イオン、ニッケル(II)イオン、亜鉛(II)イオン
等が用いられる。好適にはα−アミノ酸誘導体とより安
定な錯形成能を持つ銅(II)イオンが用いられる。二
塩基性アミノ酸と銅(Iりイオンの錯形成は公知の方法
によって行われる(例えば、 Inorg、Chem、
、第5巻2110頁1966年)。
本発明における樹脂母体のポリスチレンとしては、スチ
レン単独重合体やスチレンと他のビニル化合物との共重
合体、あるいはこれらの架橋物などを用いることが出来
るが、特にスチレン−ジビニルベンゼン共重合体が好適
である。該樹脂母体中のアミン反応性基としては、二塩
基性アミノ酸とE(II)イオンにより形成される錯化
合物中の反応活性なアミン基と反応し得るものであれば
特に制限はないが、好ましくはクロロメチル基が用いら
れる。しかしながら、該錯化合物は水、または水とアル
コールとの混合溶媒にのみ可溶であるため、疎水的なり
ロロメチル化ポリスチレンとは反応が起こりに〈〈2反
応を完結するには長時間を要する0反応時間を短縮させ
るためには、クロロメチル基をジメチルサルファイドと
反応させてスルホニウム化、あるいはトリエチルアミン
やジメチルアニリン等と反応させて第4級アンモニウム
化する。などの公知の方法(例えば、 J、 A+s。
CheIl、 Sac、、第94!!&2889頁19
72年、及びInd、Eng。
Chell、、第59巻147頁1887年など)によ
り処理し。
樹脂母体に親水性を付与させればよい0反応温度、及び
導入率の関係から、特に好適にはスルホニウム化した樹
脂が用いられる。
前記樹脂母体に対する該錆化合物の導入は、水とアルコ
ールとの混合溶液中に該樹脂と該錯化合物を加え、 p
)12)!!整後かきまぜながら加熱塁流することによ
り達成される。この反応により、該二塩基性アミノ酸は
選択的にα位のアミノ基を除く他のアミン基と反応し、
このアミン基を介して樹脂母体中に導入される。この反
応における溶媒であるが、木だけの場合には該錯化合物
の導入率が低下するので、好ましくは水とアルコールの
混合溶媒が用いられる。アルコールとしてはメタノール
、エタノール、プロパツールなどが用いられる。水に対
するアルコールの添加量であるが、該錆化合物の沈殿が
生成しない範囲であれば特に制限はないが、好適にはl
:l〜3:1の範囲が用いられる0反応溶液のpHは9
〜11に制御する必要がある。これ以下のpHJi域で
は錯化合物の解離やアミン基のプロトン化が起こり、こ
れ以上のpH領域では該錯化合物の沈殿が生成するなど
、良好な導入率は得られない、 PH副制御用いるアル
カリ溶液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化リチウム等が用いられる。炭酸ナトリラム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩溶液は該錯
化合物の導入率が低下するので好ましくない、また反応
温度は50〜80℃の範囲が好ましく1反応時間は樹脂
母体のアミン反応性基の違いにもよるが12〜72時間
が望ましい、さらに。
該錯化合物の添加量であるが、樹脂母体中のアミン反応
性基に対して1〜2等量用いればよく、未反応のものは
水洗により除去・回収することができる。
このようにして該錯化合物を導入して成る樹脂は9次い
で塩酸、硝酸、硫酸などの鉱酸、あるいはアンモニア水
、EDTA溶液等により、容易に加水分解されて金属イ
オンを解離し、定量的に下式 で示されるキレート樹脂(I)に転化する。
上記キレート樹脂はそのまま金属イオン捕捉材料として
使用できるが9本発明においてはさら級アミノ基とカル
ボキシメチル化剤を反応させることにより、下式 で示されるキレート樹脂(rr)へ誘導する。該キレー
ト樹脂とカルボキシメチル化剤との反応は公知の方法で
行われ、カルボキシメチル化剤としてはモノクロロ酢酸
ナトリウム、またはモノブロム酢酸ナトリウムが用いら
れる。このようにして得られた本発明のキレート樹脂は
、架橋構造を伴うことなく、末端にニトリロ三酢酸類似
基を有している。この配位基はテトラメチレンアミノ基
というスペーサーを介して高分子樹脂母体に導入されて
おり立体的自由度が高く、またこの配位基は円座配位子
として作用することから9種々の金属イオンと極めて安
定な1:1錯体を形成する。それ故に9本キレート樹脂
は金属イオン含有水溶液から、該金属イオンを選択的に
、かつ高い効率で除去・回収することが出来る。特に本
発明のキレート樹脂は銅(II) 、ニッケル(II)
 、亜鉛(II) 、コノ(ルト(II)、鉛(II)
 、カドミウム(mイオンなどの重金属イオンの除去、
またガリウム(III)、インジウム(III)  、
希土類金属(111)イオンの捕集にも有効である。
次に実施例によ、って本発明をさらに詳細に説明する。
なお、実施例において用いた錯化合物は、二塩基性アミ
ノ酸であるL−リシン−塩酸塩と塩基性炭酸銅より公知
の方法で合成したものである。またスルホニウム化ポリ
スチレン樹脂は、ジビニルベンゼン架橋の多孔質なMR
型クロロメチル化ポリスチレン(32〜60メツシユ、
CI金含有率■eq/g−樹脂)とジメチルサルファイ
ドより公知の方法で合成したものである。
実施例 水200箇見とエタノール100m文の混合溶液中に該
L−リシンー銅(II)錯体25g、及び該ジメチルス
ルホニウム化ポリスチレン樹脂(S : 11.1%)
150■交(湿潤時)を加え、水酸化ナトリウム溶液で
pHをlOに調整し、窒素気流下70℃にて24蒔間か
きまぜながら還流した0次いで得られた青色樹脂を0別
し、この樹脂に2規定塩酸3001文を加え。
錯体を加水分解することにより銅(II)イオンを除去
した。得られた反応生成物を0別し、2規定の水酸化ナ
トリウムを加えてアルカリ性にしたのち、中性になるま
で充分水で洗浄し、乾燥することにより35.7gの淡
美色のキレート樹脂(1)を得7’、 (N : 4.
89%)、次に水酸化ナトリウム12g(0,3腸al
)を含む水溶液100霧文を、ブロム酢酸20.8g 
(0,15mol)を含む水溶液100mJl ニ滴下
し、この溶液に上記キレート樹脂(1)を加え。
30℃で3日間かきまぜた。得られた樹脂を0別し、2
規定塩酸で酸性にしたのち、中性になるまで充分水で洗
浄し、乾燥したところ、ニトリロ三酢酸類似基を含むア
ミノポリカルボン酸型キレート樹脂(II)が43.5
 g得られた。このものの元素分析値はN : 4.3
1%であった。
応用例1 実施例で得られたキレート樹脂(II)50(1+gを
20■Nの銅(II)イオンを含む水溶液1001文に
加え。
所定のPHに調整し、室温で24時間かきまぜた後。
樹脂を分離した0次いでこの樹脂に吸着された金属イオ
ンを2規定塩酸を用いて溶出し、溶出液中の金属イオン
濃度を測定することにより、樹脂Ig当りに吸着された
銅(II)イオンの吸着量(ミリモル数)を求めた。同
様の方法によりニッケル(II)、コバルト(II)イ
オンの吸着を試み、樹脂1g当りに吸着された金属イオ
ン量とPHの関係を求めた。その結果を第一図に示す、
第一図において、横軸は溶液のpHを、縦軸は樹脂1g
当りの金属イオン吸着量(ミリモル数)を表わし、実線
は銅(II)イオン、破線はニッケル(II)イオン、
点線はコバルト(II)イオンである。
応用例2 実施例で得られたキレート樹脂(II)500■gを用
い、応用例1と同様の方法でガリウム(III)イオン
、インジウム(III)イオン、及びアルミニウム(I
II)イオンの吸着を試み、樹脂1g当りに吸着!’、
’+計刊9た金属イオン量と2Hの関係を求めた。その
結果を第二図に示す、第二図においても、横軸は溶液の
PHを、縦軸は樹脂1g当りの金属イオン吸着量(ミリ
モルa)を表わし、実線はガリウム(III)イオン、
破線はインジウム(III)イオン。
点線はアルミニウム(III)イオンである。
比較例I L−リシンのα位の7ミノ基を金属イオンで保護するこ
となく直接実施例と同様の方法でスルホニウム化樹脂母
体に導入し1次いでカルボキシメチル化を行ってキレー
ト樹脂(III)を得た。このキレート樹脂(III)
500層gを用い、応用例1と同様の方法によりの銅(
II)イオン、及びニッケル(II)イオンに対する最
大吸着量とPHの関係を求めた。
その結果を第−表に示す。
第−表からも明らかなように、α位のアミン基を保護す
ることにより得られた本発明のキレート樹脂は、無保護
のものと比較し高い金属イオン吸着容量を与える。
比較例2 実施例で合成したキレート樹脂(II)または市販のイ
ミノニ酢酸型キレート樹脂500■gを、銅(II)イ
オンまたはコバル) (II)イオンを含有する濃度1
mMの水溶液100m文に加え、所定のpHに調整し。
室温で7日間振とうしたのち、溶液中の残留金属イオン
濃度を測定し、該樹脂の金属イオンに対する分配係11
1[(樹ff11g当りに吸着する金属イオン量/fe
rn’の溶液中に候留する金属イオン量)とpHの関係
を求めた。その結果を第三図にグラフで示す、第三図に
おいて横軸は溶液のpHを、縦軸は分配係数の常用対数
を表わし、実線は本発明のキレート樹脂と銅(rr)イ
オン、破線は本発明のキレート樹脂とコバル) (II
)イオン、点線は重版イミノニ酢酸型キレート樹脂と銅
(II)イオン。
−点鎖線は市阪イミノニ酢酸型キレート樹脂とコバル)
 (II)イオンの関係をそれぞれ示したものである。
第三図からも明らかなように9本発明のキレート樹脂は
市販のイミノニ酢酸型樹脂と比較し、高い分配係数を与
えることから、低いpH領域においても良好に金属イオ
ンを吸着する。
【図面の簡単な説明】
第一図は応用例1における本発明のキレート樹脂の二価
金属イオン吸着容量と溶液のPHとの関係を表わし、第
二図は応用例2における本発明のキレート樹脂の三価金
属イオン吸着容量と溶液のpHとの関係を表わし、第三
図は比較例2における本発明のキレート樹脂と市販のイ
ミノニ酢酸型キレート樹脂の金属イオンに対する分配係
数と溶液のPHとの関係をそれぞれ示すグラフである。 特許出願人 工業技術院長  #i、Ii1.  幸 
三算−図 算二図 H

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ポリスチレン樹脂母体に、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される多座配位子を導入してなるアミノポリカルボ
    ン酸型キレート樹脂。 2 二塩基性アミノ酸であるL−リシンと銅(II)イオ
    ンを反応させ、該アミノ酸中のα位のアミノ基を錯形成
    により保護した錯化合物を得、次いで該錯化合物をアミ
    ン反応性基を有するポリスチレン樹脂と反応させたのち
    、加水分解することにより、L−リシンをそのε位のア
    ミノ基を介して選択的に導入したキレート樹脂を得、さ
    らに該キレート樹脂中の第一級及び第二級アミノ基にカ
    ルボキシメチル基を導入することを特徴とする、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される多座配位子を含むアミノポリカルボン酸型キ
    レート樹脂の製造方法。 3 アミン反応性基を有するポリスチレン樹脂が、クロ
    ロメチル化ポリスチレン樹脂とジメチルサルファイドと
    の反応により得られるスルホニウム化樹脂である特許請
    求の範囲第2項記載の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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