JPS635649U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS635649U JPS635649U JP9800186U JP9800186U JPS635649U JP S635649 U JPS635649 U JP S635649U JP 9800186 U JP9800186 U JP 9800186U JP 9800186 U JP9800186 U JP 9800186U JP S635649 U JPS635649 U JP S635649U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate electrode
- diffusion layer
- semiconductor substrate
- layer regions
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Description
第１図は本考案装置の１実施例の部分断面図、
第２図は同装置の工程説明図、第３図は従来装置
の部分断面図である。 １０…半導体基板、１１…ゲート絶縁膜、１２
…ゲート電極、１３，１４…拡散層領域、１５…
凹部。
第２図は同装置の工程説明図、第３図は従来装置
の部分断面図である。 １０…半導体基板、１１…ゲート絶縁膜、１２
…ゲート電極、１３，１４…拡散層領域、１５…
凹部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 半導体基板と、該半導体基板上にゲート絶
縁膜を介して設けられているゲート電極と、該ゲ
ート電極を挾んで該ゲート電極の両側に設備され
ている一対の拡散層領域とを備え、前記半導体基
板内の、前記ゲート電極直下の前記両拡散層領域
に挾まれている領域にチヤネルを形成するように
構成してなる半導体装置において、前記ゲート電
極はその一部が前記半導体基板の内部に埋没され
ていることを特徴とする半導体装置。 (2) 前記一対の拡散層領域はその下位レベルが
前記ゲート電極の底面よりも下方に位置しており
、該両拡散層領域の、前記下位レベルと前記底面
のレベルとで囲まれる拡散層領域部分が実質的な
拡散層を形成するように構成してなる実用新案登
録請求の範囲第(1)項記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9800186U JPS635649U (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9800186U JPS635649U (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS635649U true JPS635649U (ja) | 1988-01-14 |
Family
ID=30965528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9800186U Pending JPS635649U (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS635649U (ja) |
-
1986
- 1986-06-26 JP JP9800186U patent/JPS635649U/ja active Pending