JPS6354696B2 - - Google Patents

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JPS6354696B2
JPS6354696B2 JP58175122A JP17512283A JPS6354696B2 JP S6354696 B2 JPS6354696 B2 JP S6354696B2 JP 58175122 A JP58175122 A JP 58175122A JP 17512283 A JP17512283 A JP 17512283A JP S6354696 B2 JPS6354696 B2 JP S6354696B2
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JP
Japan
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reaction
synthesis example
formula
copolymer
fluorine
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Application number
JP58175122A
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English (en)
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JPS6064940A (ja
Inventor
Akira Oomori
Nobuyuki Tomihashi
Hiroshi Inukai
Yoshiki Shimizu
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Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Kogyo Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6354696B2 publication Critical patent/JPS6354696B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C33/00Unsaturated compounds having hydroxy or O-metal groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C33/40Halogenated unsaturated alcohols
    • C07C33/42Halogenated unsaturated alcohols acyclic
    • C07C33/423Halogenated unsaturated alcohols acyclic containing only double bonds as unsaturation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な含フツ素オレフインに関す
る。 本発明に係る新規な含フツ素オレフインは、
式: CF2=CF(CF2)m(CH2)nOH ……(1) (式中、mは0〜2、nは1〜3の整数(但し、
m=0のときn≠1である)を示す)。 で表わされる化合物である。 上記式で表わされる化合物の新規含フツ素オレ
フインは、エチレン性不飽和化合物例えばエチレ
ン、プロピレンなどや他の含フツ素エチレン性不
飽和化合物、例えばテトラフルオロエチレン、ク
ロロトリフルオロエチレン、1,1−ジフルオロ
エチレン等と共重合することにより、フツ素樹脂
系常温硬化塗料やフツ素ゴムの原料として利用す
ることができる。 本発明に係る新規含フツ素オレフイン(1)の合成
法としては、例えば、式: CF2XCFX(CF2)m(CH2)nOH ……(2) (但し、Xは同一又は相異なり塩素又は臭素、m
およびnは前記と同じ。) で表わされる化合物を合成し、つぎにこの化合物
から塩素及び/又は臭素を脱離させる方法があ
る。 上記式(2)で表わされる化合物の合成法は、種種
考えられるが、例えば (a) 式:CF2XCFXCF2COOR (但し、Rは低級脂肪族基又は脂環式基、Xは
前記と同じ。) で表わされる化合物を還元剤で還元して得られ
る。還元剤は、通常還元反応に利用されている
ものを用いることができ、水素(触媒:酸化白
金、パラジウム等)、水素化リチウムアルミニ
ウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素
リチウム、等が例示できる。 反応溶媒は水、エーテル類、アルコール類等
が利用され、例えばジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、N−メチルモルホリン、メタノール等が挙
げられる。 反応温度は、5〜100℃、通常は溶媒の還流
温度である。 反応圧力は、通常還元剤として水素を用いる
場合1〜150気圧、その他の還元剤の場合常圧
である。 還元剤の添加量は、通常化学量論量ないしそ
の10倍である。 その他の方法としては (b) 式:CF2XCFX(CF2)mI ……(3) (但し、Xおよびmは前記と同じ。)で表わさ
れる化合物とエチレンとをラジカルを発生する
化合物、例えば過酸化物、アゾ系化合物を触媒
として、あるいは紫外線照射又は加熱するとに
より沃素ラジカルを発生させて反応させ、式: CF2XCFX(CF)mCH2CH2I (但し、Xおよびmは前記と同じ。)で表わさ
れる化合物を得、次ぎに得られた上記化合物を
クロルスルホン酸及び水と順に反応させること
により(2)式化合物を得ることができる。 上記過酸化物としては、t−ブチルパーオキ
シ−i−ブチレート、t−ブチルパーオキシ
(2−エチルヘキサノエート)、i−ブチリルパ
ーオキサイド、ジ−i−プロピルパーオキシジ
カーボネート等、アゾ系化合物としてはアゾビ
スイソブチロニトリル等が例示できる。 反応温度は、上記エチレン付加および酸化反
応とも室温から200℃である。 反応圧力は、前者のエチレン付加反応では常
圧から50気圧、後者の酸化反応では常圧から10
気圧である。 反応溶媒は、前者の反応ではハロゲン化炭化
水素や水素、後者の反応では、ハロゲン化炭化
水素等を使用してもよい。 また (c) 式(3)で表わされる化合物とアリルアルコール
とを上記(b)と同様ラジカル反応させ、式: CF2XCFX(CF2)mCH2CHICH2OH (但し、Xおよびmは前記と同じ。) で表わされる化合物を得、次いでこの化合物を
還元することにより(2)式の化合物を得ることが
できる。 前者反応の反応圧力は通常1〜10気圧、温度は
室温〜150℃である。 後者還元反応は、前記(a)と同様にして行うこと
ができる。 前記(a)、(b)および(c)で示した反応を利用して得
られた式(2)で表わされる化合物は、亜鉛、マグネ
シウム、錫、ナトリウム、カリウム等と反応さ
せ、塩素及び/又は臭素を脱離させる。反応溶媒
としては、水、ジメチルホルムアミド、メタノー
ル、アセトン等が利用できる。反応温度は、通常
0〜150℃、好ましくは50〜100℃で、反応圧力は
常圧〜10気圧である。 次に本発明に係る含フツ素オレフインの合成例
及びその核磁気共鳴分析(NMR)のデータを示
す。 合成例 1 (CF2−CFCH2CH2OHの合成) (1) CF2ClCFClI1モル(279g)およびt−ブチ
ルパーオキシ−i−ブチレート3gを撹拌機、
温度計を備えた1のオートクレーブに入れ、
脱気し、次いでエチレンを供給し内圧を5Kg/
cm2Gに保ちながら70〜80℃で反応を行つた。エ
チレンが消費されなくなつたら反応をやめ反応
混合物を取り出した。得られた反応混合物を精
溜し、CF2ClCFClCH2CH2I(沸点:68〜70℃/
25mmHg)を96%の収率で得た。 (2) CF2ClCFClCH2CH2I0.5モル(151.5g)およ
びクロルスルホン酸1モル(116.5g)を撹拌
機および温度計を備えた1のフラスコに入れ
40℃で24時間反応させた。得られた反応混合物
を水中に滴下し、下層のオイル層を分取して精
溜した。 CF2ClCFClCH2CH2OH82g(収率:83.7%)
を得た。 (3) 水300c.c.および亜鉛100gを撹拌機、温度計、
還流器および滴下ロートを備えた1のフラス
コに入れ、50〜60℃に加熱しながら
CF2ClCFClCH2CH2OH0.5モル(98.5g)を滴
下した。反応が始まると発熱して内温が80まで
上昇した。滴下終了後5時間80℃に保つた。得
られた反応混合物(有機物)を精溜しCF2
CFCH2CH2OH(沸点:93℃/760mmHg)を得
た。上記(1)、(2)、および(3)を通しての収率は、
73%であつた。 NMRデータ (但し のごとくフツ素原子及び水素原子を表示する。)
【表】
【表】 合成例 2 (CF2=CFCF2CF2CH2CH2OHの合成) CF2ClCFClI1モル(279g)、t−ブチルパーオ
キシ−i−ブチレート5gおよび水100gを撹拌
機および温度計を備えた1のオートクレーブに
入れ、脱気し、次いでテトラフルオロエチレンを
供給し内圧を3Kg/cm2Gに保ちながら70〜80℃で
反応を行つた。テトラフルオロエチレンを1モル
供給したのちしばらく放置してから反応を終了し
た。 このあとは、合成例1の(1)、(2)および(3)と同様
にして標記の化合物(沸点:110℃/200mmHg)
の合成を行つた。 全反応を通しての収率は、77%であつた。 NMRデータ (但し のごとくフツ素原子及び水素原子を表示する。)
【表】
【表】 合成例 3 (CF2=CFCF2CH2OHの合成) 撹拌機、温度計、還流冷却器および滴下ロート
を備えた1のフラスコにLiAlH45.5gを入れ、
フラスコ中の空気を窒素で置換したのち、ジエチ
ルエーテル200mlを滴下ロートから滴下した。そ
の後撹拌しながらCF2ClCFClCF2COOCH30.1モ
ル(26.1g)のジエチルエーテル200ml溶液を滴
下ロートから約2時間で加えた後約15分間加熱し
てジエチルエーテルを還流させた。 次に室温まで冷却し、水を加えて未反応の
LiAlH4を分解し、希塩酸を加えて酸性とした。 有機層を分取し、精溜によつて
CF2ClCFClCF2CH2OH(沸点:85℃/30mmHg)
を単離した。 収率85%。 脱塩素反応は、合成例1の(3)と同様にして行
い、標記の化合物(沸点:96℃/760mmHg)を得
た。 全反応を通しての収率は、70℃であつた。 NMRデータ (但し のごとくフツ素原子及び水素原子を表示する。)
【表】
【表】 合成例 4 (CF2=CFCH2CH2CH2OHの合成) 撹拌機、温度計、還流冷却器および滴下ロート
を備えた1のフラスコにCF2ClCFClI279gとア
ゾビスイソブチロニトリル3.5gを入れ、撹拌下
に90℃に加熱したのち、アリルアルコール75gを
滴下ロートから滴下した。その後90〜95℃にて15
時間反応させて、CF2ClCFClCCH2ICH2OHを得
た。未反応のCF2ClCFClIおよびアリルアルコー
ルを減圧下に除去したのち、LiAlH425gとジエ
チルエーテル1000mlを加えてジエチルエーテル還
流下に還元反応を行い、
CF2ClCFClCH2CH2CH2OHを得た。収率65%。 脱塩素反応は、合成例1の(3)と同様にして行
い、標記の化合物(沸点:95℃/155mmHg)を得
た。 全反応を通しての収率、55%であつた。 NMRデータ 但し のごとくフツ素原子及び水素原子を表示する。
【表】
【表】 合成例 5 (CF2=CFCF2CF2CH2CH2CH2OHの合成) 合成例2で得たCF2ClCFClIのテトラフルオロ
エチレン付加体(CF2ClCFClCF2CF2I)を用い、
合成例4と同様にアリルアルコールと反応させて
CF2ClCFClCF2CF2CH2CH2CH2OHを得、合成
例1の(3)と同様にして脱塩素反応を行い、CF2
CFCF2CF2CH2CH2CH2OH(沸点:117℃/155mm
Hg)を得た。 全反応を通しての収率は、47%であつた。 参考例 1 1ガラスオートクレーブにテトラフルオロジ
クロルエタン400g、水250c.c.、イソプロポキシパ
ーオキサイド(IPP)2gおよび合成例2で合成
したモノマー5.5gを入れ脱気後40℃で撹拌下1,
1−ジフルオロエチレンとトリクロロフルオロエ
チレン(9:1/モル)の混合モノマーで8Kg/
cm2に加圧、重合した(重合中圧力は8Kg/cm2に保
つ)。 5時間毎にIPP1g、合成例2のモノマー5g
を加え21時間重合した。その後圧力を放出し反応
混合物を取り出し水洗後80℃で乾燥し、85gの共
重合体を得た。 共重合体30gを酢酸イソブチル70gに溶解しこ
れにヘキサメチレンジイソシアネートトリマーを
13g加えアルミニウム板上に流し硬化させた。硬
化塗膜は透明で、表面光沢があり、鉛筆硬度2H
であつた。 ウエザーメーターによる促進耐候性試験の結果
4000時間後も塗膜の変化はほとんどなく、同時に
試験したメチルメタクリレート重合体に比べ著し
い耐候性を示した。 参考例 2 250c.c.のオートクレーブに酢酸エチル50c.c.、ジ
イソプロピルパーオキシジカーボネート0.5gお
よび合成例3で得られた式: CF2=CFCF2CH2OH で表わされる単量体25.8gを入れ、窒素で空間部
を充分置換した後、1,1−ジフルオロエチレン
(以下、VdFという。)31.2gを仕込んだ。 該オートクレーブを40℃の恒温槽中に48時間放
置した。その後、得られた反応混合物を石油エー
テル中にあけ、沈殿物を減圧下に乾燥させ、含フ
ツ素共重合体15.6gを得た。 得られた共重合体の分子量は、GPC分析によ
れば1万〜15万の分布を有し、メチルエチルケト
ン中の極限粘度([η])は0.21、示差走査熱量計
(DSC)によるガラス転移温度(Tg)は−8℃、
熱分解温度(Td)は288℃であつた。 トリフルオロ酢酸を外部標準とする 19F核磁気
共鳴分析(NMR)によれば、CF2のシグナルが
δ=14〜55ppmに、CFのシグナルがδ=90〜
110ppmに観測され、赤外吸収分析によれば、
OH、CHおよびCF2の伸縮振動に基づく吸収帯が
それぞれ3200〜3500cm-1、2900〜3000cm-1および
1120〜1280cm-1に観測された。 前記 19FNMRおよび元素分析より、前記得ら
れた共重合体は、VdF/合成例3の単量体=
75/25(モル)の共重合体であつた。 参考例 3 合成例1で得た単量体(CF2
CFCH2CH2OH)を用いたほかは参考例2と同様
にして含フツ素共重合体を得た。得られた共重合
体の分子量は1万〜10万であり、極限粘度[η]
は0.15、Tgは−11℃。、Tdは262℃であつた。ま
19FNMRおよび元素分析の結果によれば、得
られた共重合体はVdF/合成例1の単量体=
70/30(モル)の共重合体であつた。 比較参考例 参考例2において、合成例3の単量体25.8gお
よびVdF31.2gに代えてCF2=CFCH2OH17.5g
およびVdF30gをそれぞれ用いたほかは同参考
例と同様にして共重合体を行い、白色固体の含フ
ツ素共重合体を0.8g得た。収率1.7%。 この共重合体の分子量は500〜3000と低く、極
限粘度[η]は低すぎて測定できなかつた。また
融点は156℃であり、Tdは267℃であつた。 19FNMRおよび元素分析の結果によれば、得
られた共重合体はVdF/単量体=98/2(モル)
の共重合体であつた。 参考例 4 (造膜試験) 参考例2で得られた含フツ素共重合体100重量
部をメチルイソブチルケトン100重量部に溶解し、
更にヘキサメチレンジイソシアネート単量体(硬
化剤)20重量部を加え、よく混合した。 得られた溶液を充分に脱脂した厚さ0.2mmのア
ルミニウム板に塗布し、室温で一週間乾燥した。
乾燥後の塗膜を肉眼で観察したところ、透明性は
良好であり、鉛筆硬度も2H以上であつた。 比較のため、比較参考例で得られた含フツ素共
重合体を上記と同様に濃度となるようにメチルイ
ソブチルケトンに溶解し、ヘキサメチレンジイソ
シアネート単量体を等モル量混合した溶液を上記
と同様の方法で塗布、硬化させたところ、得られ
た膜は白化した。アセトンラビング試験に供した
ところ膜が溶解してしまい、硬化していないこと
がわかつた。なお、膜の鉛筆硬度も3B以下であ
り、実用に耐えないものであつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式: CF2=CF(CF2)m(CH2)nOH (式中、mは0〜2、nは1〜3の整数(但し、
    m=0のときn≠1である)を示す。) で表わされる含フツ素オレフイン。
JP58175122A 1983-09-21 1983-09-21 含フッ素オレフィン Granted JPS6064940A (ja)

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JP58175122A JPS6064940A (ja) 1983-09-21 1983-09-21 含フッ素オレフィン
EP84111202A EP0138091B1 (en) 1983-09-21 1984-09-20 Fluorine-containing olefin
DE8484111202T DE3475187D1 (en) 1983-09-21 1984-09-20 Fluorine-containing olefin
US06/653,006 US4564717A (en) 1983-09-21 1984-09-21 Fluorine-containing olefin

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JPS6064940A JPS6064940A (ja) 1985-04-13
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