JPS6352463A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPS6352463A
JPS6352463A JP19543386A JP19543386A JPS6352463A JP S6352463 A JPS6352463 A JP S6352463A JP 19543386 A JP19543386 A JP 19543386A JP 19543386 A JP19543386 A JP 19543386A JP S6352463 A JPS6352463 A JP S6352463A
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JP
Japan
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gate
chip
layer
logic
signal
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JP19543386A
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English (en)
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Hidekazu Minami
南 英一
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、LSIチノグを複数個3次元に積層した半導
体集積回路に関する。
〔従来の技術〕
半導体集積回路はゲート7A漢の増大の一途を辿ってお
り、最近では1チツプが数万ゲートー十万ゲートのもの
もできている。半導体集積回路のゲート規模を増大させ
るために採られた手段シでは次のよ5なものがある。
(1)  回路素子を含めた配線の微、細化(ll)半
導体基板の大形化 (+1+)  ノ\イブリッド実装 これらは、いずれも2次元の範囲内でのゲート規模の増
大上ねらったものである。
ところで、今後ゲート規模を飛躍的に拡大するには、チ
ップの3次元積層が必須であり、現に3層の三次元回路
の試作例が公矧(コンビ一一タデザイン(COMPUI
ERDES工GE)、 1985年5月号 P、23〜
24)にある。この例は各チップ層がそれぞれ単独に動
作するものであり、スルーホールによυチップ層間が回
路的にりながり動作をするものではない。しかしチップ
をスルーホールを介し、て回路的につなぐ研究も進んで
お91現に積層さ九たチップがスルーホールで接続され
た多層化回路の試作例が朝日新聞1986年2月5日号
P、16 に紹介されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
3次元回路の研究が進めば、1個の半導体集積回路は数
10万〜数100万ゲートの規模となる。−方、ビン数
は実装上の制約から、ゲート数の増大に比例して増える
ことは期待できない。そのためかかる半導体集積回路の
診断を如何にするかの問題点が生じる。現に今でも診断
データの作成には多大の工数と計算機使用時、Blを要
しているのが実情である。ゲート規模が増えれば、テス
トデータの量を増やしても限られたビン数のもとでは診
断効率の向上が望めな−0またゲート規模が診断プログ
ラムの処理能力を超え、診断データを作成できなくなる
こともあり得る。
本発明の目的は、絶縁物を介して積層された複数個のL
SIテングをスルーホールで接、続した半導体集積回路
において、瞑積層された複数個のチップのうち、少なく
とも1つを選択して診断できる半導体集積回路を提供す
ることにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の特徴とするところは、絶縁物を介して積層され
た複数個のLSIチップをスルーホールで接続した半導
体集積回路において、該積層された複数個のチップのう
ち、少なくとも1つを選択して診断できるようにするた
め、所望の機能を構成する論理部同志を接続するチップ
間論理用スルーホールおよび、該チップ間論理用スルー
ホールとは別に診断用としてチップ間(て設けたチップ
間診断用スルーホールを回路的に接続ならびに切断する
手段を設ける。
〔作用〕
チップ間診断用スルーホールを回路的に接続、−切断す
る手段により、診断時にはチップ間論理用スルーホール
を切断状態、チップ間診断用スルーホールを接続状態と
して診断を可能とする。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の実施例を図面により説明する。
第1図は本発明の基本となる半導体集積回路の断面斜視
図でらり、半導体集積回路1は絶縁層6を介してテップ
12が複数個積層されている。同図ではチップ層2(は
3個の場合を示している。各チップ層2は、論理部4と
入出力部5から成り、論理s4は集積回路の所定の論理
機能を構成する部分であり、また入出力部5は集積回路
が外部と信号を送受する部分である。
第2図は、最上位層のチップ層2の平面構成図である。
入出力部5には入出力ゲート8がある。
入出力ゲート8の一方は傷号用ポンディングパッド6と
接続し、他方は診断用パッド9を介して論理部4と接続
する。入出力部5には′¥lL源供給用バッド7も複a
個配置きれている。論理部4には集積回路の基本素子で
あるセル10があり、該セル10は図示していない絶縁
層を介して積層された3層の直交する配線で相互に接続
される。即ちこれら配線層は、第1層配縁11、第1層
配線口と直交する第2層配線12、第2/ii配線12
と直交し第1層配線11ど平行する第3層配線13から
成る。第1層配線11はセル10のゲート配線の役目も
有する。第丁層配線11と第214配@12とはチノグ
内第1,1スルーホール14で接、読する。第2層配線
12と第6層配線13とはチップ内:′s2種スルーホ
ール15で接続する。
第3図は下位層のチップ層2の平面構成図である。同一
符号のものは、第2区に述べたものと同一の素子等を示
す。第5図は入出力部5の構成費;武が第2図とAなる
。第3図には入出力ゲート8と信号用ボンディングバッ
ド6がない。全てのチップ層2の電源供給用バッド7は
図示してbないスルーホールを介して接続する。。
第4図は本発明の集積回路の入出力部5におけるチップ
間のつながりを示している。入出力ゲート8と接戊する
診断用バッド9はテップ間捻断用スルーホール16を介
して池のチップ層2の診断用バッド9と接続する。
第5図は本発明の集積回路の論理部4におけるチップ間
りつながりと示している。ゲート10と接続するバンド
18はチップ間論理用スルーホール17を介して他のテ
ップ層2のバッド1Uと接続する。
本発明の半啓体果7漬回路の実A9uでは、各チップ層
2で共通で使用される信号(以下チップノー共用fH号
という)が52)ろ。チップ層共用信号には、スキャン
系信号(スキャンモード(8号、スキャンアドレスi 
号、スキャンクロツク信号、スキャンデータ信号)、シ
ステムリセット信号、システムクロック信−号、チップ
層選択信号がある。
第6図1はスキャンデータ信号を除くチップ層共用信号
の経路に示すコ共、4.!図である。第1テノグ層20
においては1号用ボンデ・fングバノド6が入力ゲート
19の入力端子7c接現する。入力ゲート19の出力端
子はチップ間診断用スルーホール16を介して第2チッ
プ層21及び第3チック層22における論理部4内ゲー
)23.、:4.25の入力端子と接続する。
次にチップ層共用信号のうち、チップ層選択信号につい
て説明する。このチップ層選択信号にはSOと81の2
本がある。Soと81の値を変えることにより、第7図
に示すように4つの状態を作る。
っまりSo、191がともにmowのとき該集積回路は
通常動作状態である。またSOが40“、Slが1″の
とき第1テツグ層2Gが診断状、・店、SOが′1“、
Slが0′のとき第2テツグ層21が診断状態、そして
sO,Slがともに“1“のとき第3テツグ層22が診
断状態となるものである。そこで、通常動作状態ではチ
ップ間論理用スルーホール17は回路的に接続状態とし
、チップ間診断用スルーホール16は回路的に切断状!
凛とする。診断状態ではチップ間論理用スルーホールr
7ij回路的に切断状態、チップ間診断用スルーホール
16は回路的に接続欠、聾とし、所望のチップ層を選択
して診断できる。
以下、通常動作状態とチップ層診断状態について、第8
図〜第10図により述べる。
第8図は、チップ層間スルーホールを回路的に切断又は
接続する1つの回路構成例である。同一符号のものは、
これまでに述べたものと同一の素子等を示す。同図にお
いて、第3チップ層22のトライステートゲート27は
出力端子が該層の他のトライステートゲート64の入力
端子へ、またチップ間滴理用スルーホール17を介して
第2チップ層21のトライステートゲート26の入力端
子へ、さらに第2チップ層21の他のトライステートゲ
ート63の出力端子へそれぞれ接続する。また、第3チ
ック層22のトライステートゲート64の出力端子は、
チップ問診所用スルーホール16合弁して第2チツグ層
21のトライステートゲート63の入力端子へ、さらに
別のチップ間診断用スルーホール16を介して第1チッ
プ層20のトライステートゲート62の出力端子並びに
入出力双方向トライステートゲート65の論理部側端子
と接続する。入出力双方向トライステートゲート650
曲の端子はポンディングパッド6と接ν虎する。入出力
双方向トライステートゲート65で出力ドライステート
ゲートのイネーブル端子は出力制御信号01と接続し、
入力ドライステートゲートのイネーブル端子は出力ff
’ll ’A1号01を反転するインバートゲート28
の出力端子と接続する。トライステートゲート62のイ
ネーブル端子はチップ層選択信号SOを反転するインバ
ートゲート29の出力端子と接1虎する。トライステー
トゲート66のイネーブル端子は、a理、漬ゲー)30
の出力し1子と接続する。論理積ゲート30の入力端子
はチップ層選択信号Sj 、 S4の否定言号と接続す
る。トライステートゲート26のイネーブル端子はテン
グM選択信号S1を反転するインバートゲート31の出
力端子と接続する。トライステートゲート64のイネー
ブル端子は論理、漬ゲート32の出力端子と接続する。
論理積ゲー)52の入力端子はチップ層選択信号SQ 
、 s+ と接続する。トライステートゲート27のイ
ネ−モル焔子は排油的論理和ゲート33の否定出力端子
と接続する。排他的論理和ゲート36の入力4子はチッ
プ層選択信号so 、 81と接続する。
以上のよつな構成であるので、チップ層選択信号SQ、
81を次のように選ぶことに:り各テップ層間を回路的
に切断又は接続することができる。
即ち、通常動作時1d So * 81がともに0″で
あり、トライステートゲート62 、26.27が接続
状態、ドライステートゲ−56”s 、 64が切断状
態となる。し7ヒがって、各層の論理部4全てが動作状
態となる。
第1チップ層20の診断時は、SOが“o”、IINが
1″であり、トライステートゲート62が接続状態、ト
ライステートゲート63 、64 、26.27が切断
状態となる。つまシ第1チップ層20のみ導通が確保で
き、該層20の診断ができる。
第2テップ層21の診断時は、SOが1”、81が0″
であり、トライステートゲート65.26が接続状態、
トライステートゲート62 、64 、27が切断状、
弓となるので、第2チップ層21のみの導通が1派でき
、該層】21の診断ができる。
第3テツグ層20の診断時は、So 、 Slがともに
1″であり、ドライステートゲ−)64.27が接続状
態、トライステートゲート62 、65 、26が切断
状態となるので、該層22の診断ができる。
第9図は本発明のチップ間スルーホールヲ回路的に切断
または接続する他の回路構成例である。
第2チップ層21の双方向トライステートゲート37の
出力側端子は、同チップ層21の他の双方向トライステ
ートゲート55の入力側端子、チップ間論理用スルーホ
ール17を介して第3チップ層22の双方向トライステ
ートゲート38の出力側端子、および同チップ層22の
他の双方向トライステートゲート56の入力側端子と接
続する。第2チツプ唱21の双方向トライステートゲー
ト35の出力側端子は、チップ間診断用スルーホール1
6を介して第5チップ層22の双方向トライステートゲ
ート66の出力側端子、また別のチップ間診断用スルー
ホール16を介して第1チップ層20のトライスチート
ゲ−トコ4の出力端子、同チップ層20の人出力部双方
向トライステートゲート600Å力9+ll端子と接続
する。人出力部双方向トライステートゲート60の出力
9111*w 子はポンディングバット°6と接続する
。入出力双方向トライステートゲート60で出力ドライ
ステートゲートのイネーブル端子は出力側・卸信号o2
と縦続し、入力ドライステートゲートのイネーブル端子
は出力側御信号o2を反転するインバートゲート39の
出力端子と接続する。双方向トライステートゲート37
の出力ドライステートゲートのイネーブル端子は比(埋
積ゲート45の出力端子と接続し、入力ドライステート
ゲートのイネーブル端子は論理積ゲート44の出力端子
とt4続する。双方向トライステートゲート35の田カ
ドライステートゲートのイネーブル端子は論理積ゲート
41の出力端子と接続し、入力ドライステートゲートの
イネーブル端子は論理、dRゲート42の出力端子と接
続する。
双方向トライステートゲート38の出力ドライステート
ゲートのイネーブル端子は、1浬、潰ゲート47の出力
4子と接続し、入力ドライステートゲートのイネーブル
端子は論理状ゲート48の出力端子と接続する。双方向
トライステートゲート6乙の出力トラ・イステートゲー
トのイネーブル端子は論理積・ゲート45の出力端子と
接続し、入力ドライステートゲートのイネーブル端子は
論」積ゲート46の出力端子と4M =3する。トライ
ステートゲート34のイネーブル端子はチップ層通択信
号SOを反転するインバートゲート40の出力端子と接
続する。論理積ゲート43の入力端子はSlの否定信号
、出力制御信号05と接続する。論理積ゲート44の入
力端子はSlの否定信号、03の否定信号と接続する。
論理積ゲート41の入力端子はSO傷信号Slの否定信
号、出力制御信号o2の否定信号と接続する。論理積ゲ
ート42の入力端子はSO傷信号Slの否定信号、02
の否定信号と接続する。論理積ゲート470入力端子は
排他的論理和ゲート49の否定出力端子、03の否定信
号と接続する。論理項ゲート48の入力端子は排他的論
理和ゲート49の否定出力端子、03信号と接続する。
排他的論理和ゲート49の入力端子はSo傷信号1信号
と接続する。論理積ゲート45の入力端子はSO傷信号
S1信号、o2信号と接続する。論理積ゲート46の入
力端子はSO傷信号 81信号、02の否定信号と接続
する。
以上のような構成であるので、テップ層選択信号so 
、 Slにより以下の通りテップ層間を回路的て切断ま
たは接続することができる。
通常動作時は信号SQ 、 slがともに“0′″であ
リ、トライステートゲート54が接続状態、双方向トラ
イステートゲート37 、38が接続可能状態、双方内
ドライステートゲ−) 35 、56が切断状態となる
。し比がって、全てのチップ層の論理部4が動作状、標
となる。双方向トライステートゲート67゜68、チッ
プ間論理用スルーホール17を介する信号(・よ03(
3号が0“のときは第3テツグ層22から第2チップ層
21へ流れ、03信号が“1′のときは第2テツグ層2
1から第3チップ層22へ流れる。
SOが0″で、Slが“1″のとき第1テツグ層20、
SOが11′で、Slが“0°のとき第2チップ層21
、so 、 81がともに′1“のとき第3テツグ層z
2コつ各論理部4が選択され、テップ間診断用スルーホ
ール16を介して層別の診断ができる。
第10図は本発明のチップ間スルーホールを回路的に切
断〕たは接続する他の回路構成例であり、荷、でデータ
バス信号に関するものである。
第1チップ層20の双方向ドライステートゲ−h50の
出力測端子は同チップ層20の人出力部双方向トライス
テートゲート61の入力側端子、第2チップ、1112
1の双方向トライステートゲート51の出力測端子、第
5テツグ層22の双方向トライステートゲート52C1
出力側端子と受伏する。チップ層間にテップ間診断用ス
ルーホール16で接続する。人出力部双方向トライステ
ートゲート61の出力測端子はポンディングパッド6と
接続する。入出力双方向トライステートゲート61で出
力ドライステートゲートのイネーブル端子は出力制御信
号04と接続し入力ドライステートゲートのイネーブル
端子は出力制御信号o4を反転するインバートゲート5
5の出力1子と接続する。双方向トライステートゲート
50で出力ドライステートゲートのイネーブル端子は論
理積ゲート54の出力端子と接続し、入力ドライステー
トゲートのイネーブル端子は論理積ゲート55の出力端
子と接続する。双方向トライステートゲート51で出カ
ド2イステートゲートのイネーブル端子は論理積ゲート
56の出力端子と接続し、入力ドライステートゲートの
イネーブル1子は論理積ゲート57の出力−1子と接続
する。双方向トライステートゲート52で出力ドライス
テートゲートのイネーブル端子は縞理槓ゲート58の出
力端子と接続し、入力ドライステートゲートのイネーブ
ル端子は論理ゲート59の出力端子と接続する。論理積
ゲート54の入力端子は80の否定信号、04店号と接
続する。鍮埴槓ゲート55の入力端子はSOの否定信号
、04の否定信号と接続する。論理積ゲート5♂の入力
端子はSO傷信号Slの否定信号、04信号と接続する
。論理積ゲート570入力端子はSO傷信号Slの否定
信号、04の否定信号と接続する。論理積ゲート58の
入力端子はSO傷信号S1信号、o44号と接続する。
論理ゲート59の入力端子はSO傷信号S1信号、04
の否定信号と接続する。
以上のような構成でめるので、チップ層選択信号so 
、 sl により以下の逼りテップ層間を回路的に切v
rまたは接続することができる。
通常勤咋時および第1テソグノー診断時は信号SQが“
0“でるり、双方向トライステートゲート50が接続可
能状態、双方向トライステートゲート51゜52が切断
状態となる。双方向トライステートゲート50dU4信
号が0″のときデータをLSIの外から取り込み、04
信号が“1″のときデータをLSIの外へ取り出す。
SOが1″で、Slが0″のとき第2チップ層21、S
o、81がともに′1“のとき第6チップ層22の論理
部が選択され、テップ間診断用スルーホール16を介し
て層別の診断ができる。
なお、第1図はチップ層が3個の場合を示したが、2個
以上であれば本発明の本質は変わらない。
また、第7図はチップ層選択信号が2つ(So 。
81)の場合を示したが、積層するチップ層の数に合わ
せて増してもよい。さらに、通常動作と診断動作の切り
換え、およびチップ層の選択は2つのテップ/n選択信
号(So、S+)で兼ねたが、通常動作と診断動作の切
り換え用の信号を別に1つ設け、前記チップ層選択信号
はチップ層の選択のみに使用するようにしてもよい。
また、チップ間診断用スルーホール16オよび診断用バ
ッド9は入出力部5に示したが、論理部4に設けてもよ
い。
また、本発明の実施例では、一つのチップ層2単位に診
断する場合を示したが、複数のチップ層2単位に診断す
るようにしてもよい。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明は、半導体集積回路チップを
複数1i!3久元−A装した半導体集積回路において、
チップra間の1逓信号を回路的に切断する手段、およ
びチップ間診断用スルーホールを介して接続する手段を
設けた0で積ノ&された複数1固のチップの55少なく
とも1°りを選択して診断できる。このため次のような
効果が!!!侍できる。
(a)  fi積回路のビンが診断時に増えたのと等価
な効果が得られる。
(A)  診断データの作成効率が向上する。少ないス
テップ数で診断率を上げることができる。
(C)  診断データ作成グログラムの処理可能なゲー
ト規模を超えた集積回路であっても、積層された個々の
チップのゲート規模が診断データ作成グログラムの処理
可能な範囲であれば船断データを作成することができる
【図面の簡単な説明】
第1因は本発明の一実施例である半導体集積回路の断面
斜視図、第2図および第5図は第1図に示すチップ層の
平面構成図、第4図は第1図に示す入出力部の部分拡大
斜視・図、第5図は第1図に示す論理部の部分拡大斜視
図、第6図は第1図の入出力部の1部を示す回路図、第
7図はチップ層選択信号を説明する図、落8色乃至第1
0図は論理部、入出力部の構成例を示す回路図である。 1・・・半導体集積回路    2・・・チップ層4・
・・論理部        5・・・入出力部6.7・
・・ポンディングパッド 8・・・入出力ゲート 16・・・チップ間論理用スジーホール17・・・チッ
プ間診断用スルーホール。 第 1 図 ! 1:千導体集内10ふ 2ミ +5.7ブ1 3二 i?−9己、、! 4−?論理部 5;入出力芋P 篤 + 図 又ルー、t、−ノし 詰軌5己ηス几−、文−ル ;テも  乙   固 カ 7 ! 箒 8 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. LSIチップを絶縁物を介して複数個積層した3次元実
    装の半導体集積回路において、所定の論理機能を果たす
    各層における論理部と、該論理部と外部回路とを接続す
    る入出力部と、積層されたチップの論理部同志を接続す
    るチップ間論理用スルーホールと、チップ間論理用スル
    ーホールとは別に診断用としてチップ間に設けた診断用
    スルーホールと、前記チップ間論理用スルーホール及び
    チップ間診断用スルーホールを回路的に接続、切断する
    手段とからなり、該手段は集積回路の通常動作時には前
    記チップ間論理用スルーホールを接続状態、前記チップ
    間診断用スルーホールを切断状態とし、診断時にはチッ
    プ間論理用スルーホールを切断状態、前記チップ間診断
    用スルーホールを接続状態とするよう制御し、積層され
    た複数個のチップのうち、少なくとも1つを選択して診
    断できるようにしたことを特徴とする半導体集積回路。
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