JPS6351482B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6351482B2
JPS6351482B2 JP17537281A JP17537281A JPS6351482B2 JP S6351482 B2 JPS6351482 B2 JP S6351482B2 JP 17537281 A JP17537281 A JP 17537281A JP 17537281 A JP17537281 A JP 17537281A JP S6351482 B2 JPS6351482 B2 JP S6351482B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
sliced veneer
knife
knife mark
receiver
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP17537281A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5876709A (ja
Inventor
Yutaka Abe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP17537281A priority Critical patent/JPS5876709A/ja
Publication of JPS5876709A publication Critical patent/JPS5876709A/ja
Publication of JPS6351482B2 publication Critical patent/JPS6351482B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/25Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacture Of Wood Veneers (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はスライサの刃こぼれや異物のつまり等
によつてスライス単板表面に生じるナイフマーク
を検出するためのナイフマーク検査機に関するも
のである。
第1図は従来のナイフマーク検査機を示し、ス
ライス単板1の移送路上に、帯状の投光をスライ
ス単板1に対し浅い角度で照射するように投光器
2を配置するとともに、この投光器2からの帯状
の投光がスライス単板1表面に入射する部分の直
上方に、ライン状の受光部を有する受光器3を配
置してある。ここで受光器3は第1スリツト板4
とシリンドリカルレンズ5と第2スリツト板6と
光電子増倍管のような受光素子7とから構成さ
れ、帯状投光がスライス単板1に入射するライン
状の入射部からの反射光がその全長に亘つて受光
素子7に入射されるようにしてある。かくてこの
従来のナイフマーク検査機にあつては、スライス
単板1を順次連続的に移送している状態で、受光
器3により投光器2からの帯状投光のスライス単
板1表面での反射光を受光し、この受光光量の変
化によりナイフマークXを検出するのである。
ところがかかる従来例にあつては、第2図aに
示すような対称な断面形状ナイフマークXの場
合、同図bのように輝度レベルの上昇を伴う反射
光が得られて適確なナイフマークXの検出が可能
である他、第3図aに示すような投光側に深い切
り込みを有する断面形状のナイフマークXの場合
も同図bのような輝度レベルの上昇があつてナイ
フマークXの検出ができるのであるが、第4図a
に示すような反投光側に深い切り込みを有する断
面形状のナイフマークXの場合、同図bに示すよ
うに反射光の輝度レベルの上昇が極めて小さく、
ナイフマークXの検出が非常に困難である問題が
あつた。
本発明は上述の点に鑑みて提供したものであつ
て、コンベア上を流れてくるスライス単板にナイ
フマークが発生した場合、このナイフマークと同
一形状のナイフマークを有するスライス単板が複
数枚必らず続いてくることに着目し、ナイフマー
ク発生を見逃すことなく確実に検出でき、しかも
2台の投光器により互いに反対方向から投光する
ことによる検出出力の極性の反転にも適確に対応
した信号処理回路を構成して誤動作のおそれをな
くし、構造簡単で安価なナイフマーク検査機を提
供することを目的とするものである。
以下本発明の一実施例を図面により詳述する。
第5図は本発明実施例の斜視図を示し、前記第1
図従来例の装置に対し、投光器2からの帯状投光
がスライス単板1に入射する入射部に垂直な面を
中心として上記投光器2と面対称に別の投光器2
Aを配置し、スライス単板1移送方向の受光器3
に対する前方及び後方に夫々投光器2及び2Aが
配置されるようにしたものであり、両投光器2,
2Aからの帯状投光のスライス単板1表面での反
射光は従来例と同一構成の単一の受光器3で受光
できるようにしてある。かくて上記実施例にあつ
ては、連続して順次送られてくる各スライス単板
1に対し上記両投光器2,2Aからの投光を交互
に行なうようにし、この投光による反射光を受光
器3で受光検出してナイフマークXの検出を行な
うのである。ここで一般に一枚のスライス単板1
にナイフマークXが発生すると、これに続く次の
スライス単板1にも同一形状のナイフマークXが
発生するものであるから、仮にナイフマークXが
ある一枚目のスライス単位1において投光器2又
は2Aからの帯状投光の投光方向とスライス単板
1上のナイフマークXの断面形状とが合致せず、
ナイフマークXの検出ミスを生じた場合において
も、次に移送されてきたスライス単板1において
は投光状態の投光器2,2Aが切り換り、投光器
2A又は2からの帯状投光とナイフマークXの断
面形状とが合致し、ナイフマークXの検出を行な
うことが可能になるのである。従つて受光器3の
出力をハイパスフイルタ8を介して2値化回路9
に入力することにより、この2値化回路9出力と
してナイフマークXの有無についてのデータを得
ることができるのであるが、スライス単板1が移
動状態のままでナイフマークXの検出が行なわれ
るため、投光器2又は2Aからの投光方向がスラ
イス単板1の移送方向に対して同方向か反対方向
かにより、第6図、第7図に示すように同一断面
形状のナイフマークXであつてもハイパスフイル
タ8の出力の極性に正負の差異を生じる。即ち第
6図及び第7図においてaはスライス単板1の断
面形状、bは受光器2出力、cはハイパスフイル
タ8の出力を夫々示すものであるが、スライス単
板1表面での反射光による誤動作成分を除去する
ためのハイパスフイルタ8の出力は、投光方向が
スライス単板1の移送方向と同方向のとき第6図
cのように正方向にピークを持つて大きく変化
し、逆に投光方向がスライス単板1の移送方向と
逆方向のとき、第7図cに示すように負方向にピ
ークを持つて大きく変化する。従つてこのハイパ
スフイルタ8の出力をそのまま2値化回路9に入
力すると、投光器2による検出動作時と投光器2
Aによる検出動作時とではその検出動作レベルに
差異が生じ、条件によつては検出ミスを生じる場
合もあるという問題がある。そこで本発明にあつ
ては、第8図に示すようにハイパスフイルタ8の
出力を振分け回路10に入力して投光器2の場合
の出力信号と投光器2Aの場合の出力信号とに振
り分け、投光器2による投光を使用したときのハ
イパスフイルタ8の出力信号の場合には振分け回
路10よりそのまま〔正転して〕2値化回路9に
入力し、投光器2Aによる投光を使用したときの
ハイパスフイルタ8の出力信号の場合には振分け
回路10より反転回路11に入力し、反転回路1
1で正負逆転した信号を2値化回路9に入力する
ことになるものである。従つて2値化回路9には
投光器2,2Aいずれを使用している場合にも、
同一レベルの信号が入力することになり、検出ミ
スを生じるおそれを大巾に低減できるものであ
る。
第9図は本発明の、スライス単板1表面の差異
に適合した検出動作レベルの設定を可能にした他
の実施例を示すものである。第8図実施例のもの
においてハイパスフイルタ8の出力を正転又は反
転した信号を2値化回路9に入力するに際し、ス
ライス単板1の表面状態に応じた正規化のための
割算部12を介して入力するようにしたものであ
る。かくて割算部12は振分け回路10側からの
入力をxとし、ローパスフイルタ13からの入力
をyとしたとき、x/yの演算動作を行なうもの
であり、ローパスフイルタ13はスライス単板1
の全体的な表面状態についての情報を出力してく
るため、上記x/yの演算動作によりスライス単
板1の模様や色調等による表面状態に応じて検出
信号の正規化が行なわれることになり、スライス
単板1の表面状態が変化しても常に一定のレベル
の信号が2値化回路9に送られ、ナイフマークX
の有無を判別する2値化信号が出力されることに
なる。従つて上述の正、反転された出力信号をス
ライス単板1の地肌の違いにより正規化処理した
ものであるから、スライス単板1の表面状態が多
種にわたるような場合においても常に一定のレベ
ルでナイフマークの検出判別を行なうことができ
るものである。
本発明は上述のように構成したものであるか
ら、実質的に従来装置に1個の投光器を追加配置
するだけでナイフマークの検出ミスをなくすこと
ができ、投光部のみを2個として受光器は1個で
共用しているため、装置の配設スペースも小さく
でき、装置のコストも安価にできる効果を有し、
しかも投光器の切り換え動作に同期して受光器出
力の正転、反転動作を交互に切り換えるようにし
たので、投光方向が正反方向に交互に切り換えら
れることによる受光信号の変化分の極性の相違に
も適確に対応でき、検出ミスを生じることなく確
実なナイフマーク検出が可能になる効果を奏す
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例の斜視図、第2図乃至第4図
a,bは夫々異なる断面形状を有するナイフマー
クの検出動作を説明するスライス単板の拡大断面
図及び受光器の受光輝度レベル特性図、第5図は
本発明一実施例の斜視図、第6図及び第7図a〜
cは本発明の投光方向が互いに異なる場合の動作
説明図であつて夫々aはナイフマーク断面に対す
る投光状態の説明図、bは受光素子の出力特性
図、cはハイパスフイルタの出力特性図、第8図
は本発明実施例のブロツク図、第9図は本発明の
他の実施例のブロツク図であり、1はスライス単
板、2,2Aは投光器、3は受光器、Xはナイフ
マークである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 スライス単板の移送路上に投光器を配置して
    帯状の投光をスライス単板に対し浅い角度で照射
    し、上記帯状の投光のスライス単板への入射部の
    直上方にライン状の受光器を配置し、この受光器
    への入射光量の変化によりナイフマークを検出す
    るようにしたナイフマーク検査機において、受光
    器配設部に対しスライス単板移送方向の前方及び
    後方に夫々投光器を配置してこれら両投光器から
    の投光の反射光を上記受光器で検出できるように
    し、順次送られてくるスライス単板毎に上記両投
    光器より交互に投光を行なうとともに、上記投光
    器の切り換え動作に同期して受光器出力の正転、
    反転された信号を2値化して成ることを特徴とす
    るナイフマーク検査機。 2 上記投光器の切り換え動作に同期して受光器
    出力の正転、反転動作を交互に切り換え、この
    正、反転された出力信号をスライス単板の地肌の
    違いにより正規化処理し、この正規化処理された
    信号を2値化して成ることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載のナイフマーク検査機。
JP17537281A 1981-10-31 1981-10-31 ナイフマ−ク検査機 Granted JPS5876709A (ja)

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JP17537281A JPS5876709A (ja) 1981-10-31 1981-10-31 ナイフマ−ク検査機

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JP17537281A JPS5876709A (ja) 1981-10-31 1981-10-31 ナイフマ−ク検査機

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JPS5876709A JPS5876709A (ja) 1983-05-09
JPS6351482B2 true JPS6351482B2 (ja) 1988-10-14

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ID=15994939

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59167866A (ja) * 1983-03-11 1984-09-21 Mitsubishi Electric Corp 磁気録画再生装置のテ−プ停止位置検知装置
JPS59167865A (ja) * 1983-03-11 1984-09-21 Mitsubishi Electric Corp 磁気録画再生装置のテ−プ停止位置検知装置
JPS59201258A (ja) * 1983-04-29 1984-11-14 Mitsubishi Electric Corp 磁気テ−プ停止位置検知装置

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JPS5876709A (ja) 1983-05-09

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