JPS6351481B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6351481B2 JPS6351481B2 JP17537081A JP17537081A JPS6351481B2 JP S6351481 B2 JPS6351481 B2 JP S6351481B2 JP 17537081 A JP17537081 A JP 17537081A JP 17537081 A JP17537081 A JP 17537081A JP S6351481 B2 JPS6351481 B2 JP S6351481B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- sliced veneer
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- signal
- circuit
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- Expired
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 9
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/25—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacture Of Wood Veneers (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスライサの刃こぼれや異物のつまり等
によつてスライス単板表面に生じるナイフマーク
を検出するためのナイフマーク検査機に関するも
のである。
によつてスライス単板表面に生じるナイフマーク
を検出するためのナイフマーク検査機に関するも
のである。
第1図は発明者が発明した前提となるナイフマ
ーク検査機を示し、スライス単板1の移送路上
に、帯状の投光をスライス単板1に対し浅い角度
で照射するように投光器2を配置するとともに、
この投光器2からの帯状の投光がスライス単板1
表面に入射する部分の直上方に、ライン状の受光
部を有する受光器3を配置してある。またこの投
光器2からの帯状投光がスライス単板1に入射す
る入射部に垂直な面を中心として上記投光器2と
面対称に別の投光器2Aを配置し、スライス単板
1移送方向の受光器3に対する前方及び後方に
夫々投光器2及び2Aが配置されている。ここで
受光器3は第1スリツト板4とシリンドリカルレ
ンズ5と第2スリツト板6と光電増倍管のような
受光素子7とから構成され、帯状投光がスライス
単板1に入射するライン状の入射部からの反射光
がその全長に亘つて受光素子7に入射されるよう
にしてある。両投光器2,2Aからの帯状投光の
スライス単板1表面での反射光は単一の受光器3
で受光できるようにしてある。
ーク検査機を示し、スライス単板1の移送路上
に、帯状の投光をスライス単板1に対し浅い角度
で照射するように投光器2を配置するとともに、
この投光器2からの帯状の投光がスライス単板1
表面に入射する部分の直上方に、ライン状の受光
部を有する受光器3を配置してある。またこの投
光器2からの帯状投光がスライス単板1に入射す
る入射部に垂直な面を中心として上記投光器2と
面対称に別の投光器2Aを配置し、スライス単板
1移送方向の受光器3に対する前方及び後方に
夫々投光器2及び2Aが配置されている。ここで
受光器3は第1スリツト板4とシリンドリカルレ
ンズ5と第2スリツト板6と光電増倍管のような
受光素子7とから構成され、帯状投光がスライス
単板1に入射するライン状の入射部からの反射光
がその全長に亘つて受光素子7に入射されるよう
にしてある。両投光器2,2Aからの帯状投光の
スライス単板1表面での反射光は単一の受光器3
で受光できるようにしてある。
かくてこのナイフマーク検査機にあつては、連
続して順次送られてくる各スライス単板1に対し
上記両投光器2,2Aからの投光を交互に行なう
うようにし、この投光による反射光を受光器3で
受光検出してナイフマークXの検出を行なうので
ある。ここで一般に一枚のスライス単板1にナイ
フマークXが発生すると、これに続く次のスライ
ス単板1にも同一形状のナイフマークXが発生す
るものであるから、仮にナイフマークXがある一
枚目のスライス単板1において投光器2又は2A
からの帯状投光の投光方向とスライス単板1上の
ナイフマークXの断面形状とが合致せず、ナイフ
マークXの検出ミスを生じた場合においても、次
に移送されてきたスライス単板1においては投光
状態の投光器2,2Aが切り換り、投光器2A又
は2からの帯状投光とナイフマークXの断面形状
とが合致し、ナイフマークXの検出を行なうこと
が可能になるのである。従つて受光器3の出力を
ハイパスフイルタ8を介して2値化回路9に入力
することにより、この2値化回路9出力としてナ
イフマークXの有無についてのデータを得ること
ができるのであるが、スライス単板1が移動状態
のままでナイフマークXの検出が行なわれるた
め、投光器2又は2Aからの投光方向がスライス
単板1の移送方向に対して同方向か反対方向かに
より、第2図、第3図に示すように同一断面形状
のナイフマークXであつてもハイパスフイルタ8
の出力の極性に正負の差異を生じる。即ち第2図
及び第3図においてaはスライス単板1の断面形
状、bは受光器2出力、cはハイパスフイルタ8
の出力を夫々示すものであるが、スライス単板1
表面での反射光による誤動作成分を除去するため
のハイパスフイルタ8の出力は、投光方向がスラ
イス単板1の移送方向と同方向のとき第2図cの
ように正方向にピークを持つて大きく変化し、逆
に投光方向がスライス単板1の移送方向と逆方向
のとき、第3図cに示すように負方向にピークを
持つて大きく変化する。従つてこのハイパスフイ
ルタ8の出力をそのまま2値化回路9に入力する
と、投光器2による検出動作時と投光器2Aによ
る検出動作時とではその検出動作レベルに差異が
生じ、条件によつては検出ミスを生じる場合もあ
るという問題がある。そこでこのナイフマーク検
査機にあつては、第4図に示すようにハイパスフ
イルタ8の出力を振分け回路10に入力して投光
器2の場合の出力信号と投光器2Aの場合の出力
信号とに振り分け、投光器2による投光を使用し
たときのハイパスフイルタ8の出力信号の場合に
は振分け回路10よりそのまま〔正転して〕2値
化回路9に入力し、投光器2Aによる投光を使用
したときのハイパスフイルタ8の出力信号の場合
には振分け回路10より反転回路11に入力し、
反転回路11で正負逆転した信号を2値化回路9
に入力することになるものである。従つて2値化
回路9には投光器2,2Aいずれかを使用してい
る場合のも、同一レベルの信号が入力することに
なり、検出ミスを生じるおそれを大巾に低減でき
るものである。しかしながらかかる場合において
は、振分け回路10や反転回路11等の回路構成
が複雑になり部品点数が多くなるという問題があ
つた。
続して順次送られてくる各スライス単板1に対し
上記両投光器2,2Aからの投光を交互に行なう
うようにし、この投光による反射光を受光器3で
受光検出してナイフマークXの検出を行なうので
ある。ここで一般に一枚のスライス単板1にナイ
フマークXが発生すると、これに続く次のスライ
ス単板1にも同一形状のナイフマークXが発生す
るものであるから、仮にナイフマークXがある一
枚目のスライス単板1において投光器2又は2A
からの帯状投光の投光方向とスライス単板1上の
ナイフマークXの断面形状とが合致せず、ナイフ
マークXの検出ミスを生じた場合においても、次
に移送されてきたスライス単板1においては投光
状態の投光器2,2Aが切り換り、投光器2A又
は2からの帯状投光とナイフマークXの断面形状
とが合致し、ナイフマークXの検出を行なうこと
が可能になるのである。従つて受光器3の出力を
ハイパスフイルタ8を介して2値化回路9に入力
することにより、この2値化回路9出力としてナ
イフマークXの有無についてのデータを得ること
ができるのであるが、スライス単板1が移動状態
のままでナイフマークXの検出が行なわれるた
め、投光器2又は2Aからの投光方向がスライス
単板1の移送方向に対して同方向か反対方向かに
より、第2図、第3図に示すように同一断面形状
のナイフマークXであつてもハイパスフイルタ8
の出力の極性に正負の差異を生じる。即ち第2図
及び第3図においてaはスライス単板1の断面形
状、bは受光器2出力、cはハイパスフイルタ8
の出力を夫々示すものであるが、スライス単板1
表面での反射光による誤動作成分を除去するため
のハイパスフイルタ8の出力は、投光方向がスラ
イス単板1の移送方向と同方向のとき第2図cの
ように正方向にピークを持つて大きく変化し、逆
に投光方向がスライス単板1の移送方向と逆方向
のとき、第3図cに示すように負方向にピークを
持つて大きく変化する。従つてこのハイパスフイ
ルタ8の出力をそのまま2値化回路9に入力する
と、投光器2による検出動作時と投光器2Aによ
る検出動作時とではその検出動作レベルに差異が
生じ、条件によつては検出ミスを生じる場合もあ
るという問題がある。そこでこのナイフマーク検
査機にあつては、第4図に示すようにハイパスフ
イルタ8の出力を振分け回路10に入力して投光
器2の場合の出力信号と投光器2Aの場合の出力
信号とに振り分け、投光器2による投光を使用し
たときのハイパスフイルタ8の出力信号の場合に
は振分け回路10よりそのまま〔正転して〕2値
化回路9に入力し、投光器2Aによる投光を使用
したときのハイパスフイルタ8の出力信号の場合
には振分け回路10より反転回路11に入力し、
反転回路11で正負逆転した信号を2値化回路9
に入力することになるものである。従つて2値化
回路9には投光器2,2Aいずれかを使用してい
る場合のも、同一レベルの信号が入力することに
なり、検出ミスを生じるおそれを大巾に低減でき
るものである。しかしながらかかる場合において
は、振分け回路10や反転回路11等の回路構成
が複雑になり部品点数が多くなるという問題があ
つた。
本発明は上述の点に鑑みて提供したものであつ
て、ナイフマークを検査する際における投光器か
らの投光方向の違いによるナイフマーク検出信号
の出力差を吸収処理する回路を簡便にするととも
にナイフマークの検出漏れを防止することを目的
としたナイフマーク検査機を提供するものであ
る。
て、ナイフマークを検査する際における投光器か
らの投光方向の違いによるナイフマーク検出信号
の出力差を吸収処理する回路を簡便にするととも
にナイフマークの検出漏れを防止することを目的
としたナイフマーク検査機を提供するものであ
る。
以下本発明の一実施例を図面により詳述する。
投光器2,2Aや受光器3の構成は前述と同様に
してあり、受光素子7からの出力信号を処理する
ブロツク図を第5図に示す。即ち、前述の第4図
における振分け回路10と反転回路11との代わ
りに1回路からなる絶対値回路15を挿入接続し
たものである。両投光器2,2Aから投光されて
スライス単板の表面にて反射された反射光は、ナ
イフマークXを検出すると夫々正方向、負方向に
大きなピークを持つてハイパスフイルタ8から電
気信号が出力される。この正方向、負方向のピー
クを持つた信号は絶対値回路15で夫々絶対値で
もつて信号が出力され、次段の2値化回路9へ入
力される。従つて2値化回路9には投光器2,2
Aいずれを使用している場合にも、同一レベルの
信号が入力することになり、検出ミスを生じるお
それを大巾に低減できるものである。しかも投光
方向の違いによる出力差を1個の絶対値回路15
で吸収処理できて構成が簡便となるものである。
投光器2,2Aや受光器3の構成は前述と同様に
してあり、受光素子7からの出力信号を処理する
ブロツク図を第5図に示す。即ち、前述の第4図
における振分け回路10と反転回路11との代わ
りに1回路からなる絶対値回路15を挿入接続し
たものである。両投光器2,2Aから投光されて
スライス単板の表面にて反射された反射光は、ナ
イフマークXを検出すると夫々正方向、負方向に
大きなピークを持つてハイパスフイルタ8から電
気信号が出力される。この正方向、負方向のピー
クを持つた信号は絶対値回路15で夫々絶対値で
もつて信号が出力され、次段の2値化回路9へ入
力される。従つて2値化回路9には投光器2,2
Aいずれを使用している場合にも、同一レベルの
信号が入力することになり、検出ミスを生じるお
それを大巾に低減できるものである。しかも投光
方向の違いによる出力差を1個の絶対値回路15
で吸収処理できて構成が簡便となるものである。
第6図は他の実施例を示し、第4図実施例のも
のにおいてハイパスフイルタ8の出力を絶対値化
した信号を2値化回路9に入力するに際し、スラ
イス単板1の表面状態に応じた正規化のための割
算部12を介して入力するようにしたものであ
る。かくて割算部12は絶対値回路15側からの
入力をxとし、ローパスフイルタ13からの入力
をyとしたとき、x/yの演算動作を行なうもの
であり、ローパスフイルタ13はスライス単板1
の全体的な表面状態についての情報を出力してく
るため、上記x/yの演算動作によりスライス単
板1の模様や色調等による表面状態に応じて検出
信号の正規化が行なわれることになり、スライス
単板1の表面状態が変化しても常に一定のレベル
の信号が2値化回路9に送られ、ナイフマークX
の有無を判別する2値化信号が出力されることに
なる。従つて上述の絶対値化された出力信号をス
ライス単板1の地肌の違いにより正規化処理した
ものであるから、スライス単板1の表面状態が多
種にわたるような場合においても常に一定のレベ
ルでナイフマークXの検出判別を行なうことがで
きるものである。
のにおいてハイパスフイルタ8の出力を絶対値化
した信号を2値化回路9に入力するに際し、スラ
イス単板1の表面状態に応じた正規化のための割
算部12を介して入力するようにしたものであ
る。かくて割算部12は絶対値回路15側からの
入力をxとし、ローパスフイルタ13からの入力
をyとしたとき、x/yの演算動作を行なうもの
であり、ローパスフイルタ13はスライス単板1
の全体的な表面状態についての情報を出力してく
るため、上記x/yの演算動作によりスライス単
板1の模様や色調等による表面状態に応じて検出
信号の正規化が行なわれることになり、スライス
単板1の表面状態が変化しても常に一定のレベル
の信号が2値化回路9に送られ、ナイフマークX
の有無を判別する2値化信号が出力されることに
なる。従つて上述の絶対値化された出力信号をス
ライス単板1の地肌の違いにより正規化処理した
ものであるから、スライス単板1の表面状態が多
種にわたるような場合においても常に一定のレベ
ルでナイフマークXの検出判別を行なうことがで
きるものである。
本発明は上述のように、投光器から交互に投光
されてその反射光の受光器における光量変化に対
応する出力信号を絶対値化する絶対値回路を形成
し、この絶対値回路からの信号を2値化するよう
にしたので、投光方向の違いによる反射光の受光
器からの出力信号を、正方向、負方向に夫々ピー
クを持つていたのを振分け回路と反転回路とで吸
収処理していた場合と比べ、1個の絶対値回路で
構成してあるから、部品点数が少なく、回路を複
雑にすることなく投光方向によるナイフマークの
見逃しを解消することができる効果を奏する。
されてその反射光の受光器における光量変化に対
応する出力信号を絶対値化する絶対値回路を形成
し、この絶対値回路からの信号を2値化するよう
にしたので、投光方向の違いによる反射光の受光
器からの出力信号を、正方向、負方向に夫々ピー
クを持つていたのを振分け回路と反転回路とで吸
収処理していた場合と比べ、1個の絶対値回路で
構成してあるから、部品点数が少なく、回路を複
雑にすることなく投光方向によるナイフマークの
見逃しを解消することができる効果を奏する。
第1図は前提となるナイフマーク検査機の斜視
図、第2図及び第3図a〜cは同上の投光方向が
互いに異なる場合の動作説明図であつて夫々aは
ナイフマーク断面に対する投光状態の説明図、b
は受光素子の出力特性図、cはハイパスフイルタ
の出力特性図、第4図は同上の改良したブロツク
図、第5図は本発明の一実施例のブロツク図、第
6図は同上の他の実施例のブロツク図で、1はス
ライス単板、2,2Aは投光器、3は受光器、1
5は絶対値回路、Xはナイフマークである。
図、第2図及び第3図a〜cは同上の投光方向が
互いに異なる場合の動作説明図であつて夫々aは
ナイフマーク断面に対する投光状態の説明図、b
は受光素子の出力特性図、cはハイパスフイルタ
の出力特性図、第4図は同上の改良したブロツク
図、第5図は本発明の一実施例のブロツク図、第
6図は同上の他の実施例のブロツク図で、1はス
ライス単板、2,2Aは投光器、3は受光器、1
5は絶対値回路、Xはナイフマークである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 スライス単板の移送路上に投光器を配置して
帯状の投光をスライス単板に対し浅い角度で照射
し、上記帯状の投光のスライス単板への入射部の
直上方にライン状の受光器を配置し、受光器配設
部に対しスライス単板移送方向の前方及び後方に
夫々投光器を配置し、順次送られてくるスライス
単板毎に上記両投光器より交互に投光を行ない、
この投光の反射光に対応する受光器への入射光量
の変化によりナイフマークを検出するようにした
ナイフマーク検査機において、投光器からの交互
に投光されてその反射光の光量変化に対応する出
力信号を絶対値化する絶対値回路を形成し、この
絶対値回路からの信号を2値化して成ることを特
徴とするナイフマーク検査機。 2 絶対値回路からの信号を、スライス単板の地
肌の違いにより正規化処理し、この正規化処理さ
れた信号を2値化して成ることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のナイフマーク検査機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17537081A JPS5876708A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | ナイフマ−ク検査機 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17537081A JPS5876708A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | ナイフマ−ク検査機 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5876708A JPS5876708A (ja) | 1983-05-09 |
JPS6351481B2 true JPS6351481B2 (ja) | 1988-10-14 |
Family
ID=15994901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17537081A Granted JPS5876708A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | ナイフマ−ク検査機 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5876708A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04282888A (ja) * | 1991-03-11 | 1992-10-07 | Nec Toyama Ltd | 印刷配線板の製造方法 |
-
1981
- 1981-10-31 JP JP17537081A patent/JPS5876708A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04282888A (ja) * | 1991-03-11 | 1992-10-07 | Nec Toyama Ltd | 印刷配線板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5876708A (ja) | 1983-05-09 |
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