JPS635094A - 新規なホスフイノピロリジン化合物 - Google Patents

新規なホスフイノピロリジン化合物

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JPS635094A
JPS635094A JP62052177A JP5217787A JPS635094A JP S635094 A JPS635094 A JP S635094A JP 62052177 A JP62052177 A JP 62052177A JP 5217787 A JP5217787 A JP 5217787A JP S635094 A JPS635094 A JP S635094A
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methanesulfonyl
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Kazuo Achinami
阿知波　一雄
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms, attached to ring carbon atoms
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本９発明は、新規なホスフィノピロリジン化合物に関す
る。
さらに詳しく云えば、本発明は、炭素−炭素二重結合構
造、炭素−窒素二重結合構造および（又は）炭素−酸素
二重結合構造を有する化合物を接触還元することにより
不斉炭素原子を有する化合物を生成せしめる反応を行う
にあたり、触媒として使用する金属錯体化合物における
配位子として用いられる一般式、 又は （式中、Ｒ１は、水素原子、−Ｃｏ−Ｒ′、−ＣＯＯＲ
′、−ＣＯＮＨＲ″’又は−Ｓ　Ｏ！　−Ｒ″”であり
、Ｒ′、Ｒ′、Ｒ′およびＲ″″は、それぞれアルキル
基又はアリール基を表わし、Ｒ２およびＲ３は、それぞ
れ置換基を有することのある同一もしくは異なった芳香
族の基であり、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ、置換基を有す
ることのある同一らしくは異なった脂肪族又は指環式の
炭化水素基である） で表わされる新規なホスフィノピロリジン化合物に関す
る。
従来、合成化学の分野において光学活性化合物を直接合
成することのできる不斉還元反応に関する幾多の研究が
なされている。その一つとして、多くのビスホスフィン
配位子が合成されて、その配位子と各種の金属との組合
せを用いて不斉還元反応が試みられているが、不斉収率
（光学収率）及び反応効率（註：反応速度に関して、反
応速度が遅いと使用量が多くなるため、その関係を示す
方法の一つとして、基質と配位子のモル比で表わしたも
の）を同時に満足させる配位子はまだ見出されていない
。（Ｂ、Ｂｏｓｎｉｃｈ著「アシンメトリツク・カタリ
シスＪ　ＭａｒｔｉｎｕｓＮｉｊｈｏｆｆ　Ｐｕｂｌｉ
ｓｈｅｒｓ　Ｂｏｓｔｏｎ　１９ｇ６年、Ｉ９頁〜３１
頁〕 本発明者は、不斉還元反応において、不斉収率と反応効
率の両者を同時に満足し得る不斉合成法の開発を課題と
して鋭意研究を行ったところ、本発明により、上記課題
を解決し得る浸れた配位子としての新規なホスフィノピ
ロリジン化合物を提供することに成功した。
以下に、本発明の詳細な説明する。
本発明者は、従来に例を見ない全く新規な技術思想に基
づく不斉合成法を提供することに成功したが本発明に係
る新規なホスフィノピロリジン化合物は、この不斉合成
法において極めて優れた配位子として使用される化合物
である。
すなわち、本発明者によるビスホスフィン系の配位子の
反応機構の詳細な研究結果から、配位子の分子構造の中
に不斉収率を向上させる部位と反応効率を向上させる部
位とが存在することが明らかにされたが、前記−般式（
Ｉ）又は（■′）で表わされるホスフィノピロリジン化
合物は、この配位子として極めて優れた性質を示す。こ
れについてさらに詳細に説明すれば、前斉収率を向上さ
せることに影響する部位であり、向上させることに影響
する部位であることが本発明の研究の結果判明した。Ｒ
２、Ｒ３が芳香族の基である場合でＲ４、Ｒ５が脂肪族
又は脂環式の炭化水素基である場合に不斉収率と反応効
率の両者を満足させる結果が得られることも判った。
不斉ビスホスフィンと金属錯体を触媒とする不斉還元反
応機構に関して、例えば、ビスホスフインーロジウム錯
体の配位構造についての考察によると、イタコン酸を基
質としたＢＰＰＭ（（２Ｓ。
４Ｓ）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトオキシカルボニル−４−ジ
フェニルホスフィノ−２−ジフェニルホスフィノメチル
ピロリジン）−ロジウムでの不斉還元反応の重要な中間
体の構造は下記の様に表示することができる。
Ｓ−Ｐｒｏｄｕｃｔ 即ち、不斉還元されるオレフィンのシス位のジフェニル
ホスフィン基、（Ｐ、）は新しく形成される不斉誘起の
不斉場の形成に役立ち、−方、ジフェニルホスフィン基
（Ｐ、）はオレフィン基に対してトランス位にある構造
を持っている。
具体例としてケトパントラクトンの不斉還元反応による
Ｒ　−（−）−パントラクトンの合成法について考察す
るとこの合成法においては下記式で示される重要な中間
体が考えられる。
■ Ｒ−Ｐｒｏｄｕｃｔ （テトラヘドロン・レターズ　４４３１頁（１９７７）
、ケミカルズ・レターズ２９７頁（１９７８））本発明
者は不斉ビスホスフィンとして、まず、先に述べたＢＰ
ＰＭを合成し、ロジウム−１，５−シクロオクタジエン
−クロル錯体との組合せにより、Ｒ−（−）−パントラ
クトンを不斉収率８０．５％、反応効率、基質／Ｒｈ＝
１０’（モル比）で不斉還元を行ったが不斉収率は比較
的良いものの反応効率の面において工業的に必ずしも満
足できるものではないことが判った。又、−方、谷等（
Ｊ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　Ｃｈｅｍ、　Ｃｏｍｍｕ
ｎ、　１６４１頁（１９８４）　）は、２個のジシクロ
へキシルホスフィン基を持つ対称不斉ビスホスフィン配
位子（２Ｓ、４Ｓ）−Ｎ−アシル−４−ジンクロヘキシ
ルナ。スフイノ−２−ジシクロへキシルホスフィノメチ
ルピロリジン（ＢＣＣＰ）　）を合成して、ＢＰＰＭの
場合と同様に不斉還元してＲ−（−）−パントラクトン
を不斉収率６６％、反応効率、基質／Ｒｈ＝　２Ｘ　１
０’　（モル比）でｔ’／ｚ＝２０分で得たことを報告
している。これは先のＢＰＰＭの場合とは、逆に、反応
効率においてやや改善されているものの不斉収率におい
て非常に劣り、これも工業的に用いるには不充分である
。
本発明者は、ビスホスフィン−ロジウム錯体の配位構造
についての先に述べた考察より、不斉反応を受ける官能
基のシス位に配位するホスフィン基（Ｐ、）は不斉収率
を支配し、−方トランス位に配位するホスフィン基（Ｐ
ｌ）はその官能基の反応効率（反応速度）を支配し得る
と考え、前記−般式（１）又は（Ｉ′）で表わされる各
種のホスフィンピロリジン化合物を合成した。そのピロ
リジン化合物とロジウム−１，５−シクロオクタンエン
−クロル錯体との組合せにより、ケトパントラクトンの
不斉還元を行い、例えば、Ｒ−（−）−パントラクトン
の場合について言えば、不斉収率９１〜９５％、反応効
率、基質／Ｒｈ−＝ｌＯ’（モル比）で進行し、その還
元反応が不斉収率、反応効率の両面において、工業的に
実施する上に極めて優れたものであることを見出した。
また、下記の表１に示したように、表１の下の式■で示
されるＢＣＰＰを合成し、ＢＰＰＭ　（表１の下の式■
）　、ＢＣＰＭ（表１の下の式■）　、ＢＣＣＰ（表１
の下の式■）の各化合物との比較実験を行った結果、Ｂ
ＣＰＭが他の王者に比較して、優れた結果をもたらすこ
とが認められた。
前記−般式（１）又は（Ｉ′）で表わされるホスフィノ
ピロリジン化合物において、式中のＲ′、Ｒ″、Ｒ″′
、Ｒ”″の各アルキル基の例としては、０１〜Ｃ，のア
ルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ、　−ブチル、ｔｅｒｔ−
ブチル等があげられ、アリール基の例として、フェニル
基があげられる。これらのアルキル基又はアリール基は
、置換基としてハロゲン原子、水酸基、アルキル基、ア
ルコキノ基などを有することができる。
Ｒ１はアルキル基、アリールアルキル基であり、例えば
、メチル基、エチル基、ベンジル基等である。
Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、置換基を有することのある
同一もしくは異なった芳香族の基であり、芳香族の基と
しては炭素環式芳香族基、複素環式芳香族基があげられ
、炭素環式芳香族基の環としては、例えばベンゼン１．
ナフタレン等があり、又複素環式芳香族基の環としては
、フラン、ピロール、チオフェン、ピリジン、ピリミジ
ン、キノリン等があげられる。又、これらの芳香族基が
置換基を有する場合には、その置換基としては、ハロゲ
ン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、等があげ
られる。Ｒ４およびＲ５はそれぞれ置換基の有すること
のある同一もしくは異なった脂肪族又は脂環式の炭化水
素基であり、脂肪族の炭化水素基としてはＣ５〜Ｃ８の
アルキル基例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基
、イソアミル基など、脂環式炭化水素基としては０５〜
ＣＢのシクロアルキル基例えばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基などがあげられる。又、これらの脂肪族炭
化水素基、脂環式炭化水素基が置換基を有する場合には
、その置換基の例としてはハロゲン原子、水酸基、アル
キル基、アルコキシ基、等があげられる。又、これらの
置換基を有する脂肪族炭化水素基あるいは、指環式炭化
水素基中には、二重結合あるいは三重結合が存在してい
てもよい。
本発明の新規なホスフィノピロリジン化合物を配位子と
して用いた不斉合成法において、接触還元反応を行う方
法につき、ケトパントラクトンよりバントラクトンを生
成せしめる場合を例にとって説明すると、接触還元反応
を行う際の一般的溶媒、例えば、水、メタノール、エタ
ノール、イヒプロピルアルコール、酢酸、酢酸エチル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン
等を溶媒として用い、その５０ｘＱ中にケトパントラク
トンＩＯθミリモルおよび配位子としてのホスフィノピ
ロリジン化合物０．０１　ミリモル〜ｏ、ｏｏｔミリモ
ルを溶解する。
これにロジウム金属錯体化合物、例えばロジウム−１，
５−へキサジエン−クロル錯化合物あるいはロジウム−
１，５−オクタジエン−クロル錯化合物など０．００５
ミリモル〜０．０００５ミリモルを加え、常圧もしくは
加圧下で、反応温度、好ましくは２０℃位で、水素添加
反応を行う。反応終了後、溶媒を留去し、残留物を適宜
、処理すると反応生成物としてＤ−バントラクトンが高
収率で得られる。
本発明に係る前記−般式（Ｉ）又は（Ｉ′）で表わされ
るホスフィノピロリジン化合物は、下記の図（スキーム
ｌ、スキーム２）に示す工程により製造することができ
る。（前記−般式において、式中のＲ１＝Ｒ３＝（ラ　
、Ｒ４＝Ｒ５＝に◇である場合の化合物、を例にとって
説明する）Ｒ＝ＩＩ　　　　　（ＣＰＭ）　　　　　　
　Ｒ＝ＣＯＮＩＣ１１，（ＭＣＣＰＭ）Ｒ＝ＳＯ，Ｃ１
１３（ＭＳＣＰＭ）　　　　　　Ｒ”ＣＯＮｌｌｔ−Ｂ
ｕ（ＢＣＣＰＭ）ＲＣｏＮｌｌｔ−Ｂｕ（ＢＣＣＰ　　
　　　　Ｒ＝ＣＯＮＩＩＰｈ　　（ＰＣＣＰＭ）Ｒ＝Ｃ
Ｏ２Ｃ１１３（ＩＩＩｃＰ！１１）　　　　　　Ｒ＝Ｃ
ＯＣＨ３（ＡＣＰＭ）Ｒ＝ＣＯ，Ｐ、ｈ　　（ＰＣＰＭ
）　　　　　　Ｒ＝ＣＯｔ−Ｂｕ　　（ＰＶＣＰＭ）Ｒ
＝ＣＯＰｈ　　　　（ＢＺＣＰＭ） スキーム１について説明すると、Ｌ−４−ヒドロキシプ
ロリンを常法に従ってエチルエステル（ｎ）となし、こ
れをメタンスルホニルクロリドで反応させＣＩ）を得る
。（［［）をリチウムアルミニウムヒドリドで還元して
（ＩＶ）とし、これにｔ−ブチルジメチルシリルクロリ
ド、次いでメタンスルホン酸クロリドを反応させ〔■〕
を得る。
〔Ｖ）をクロロジフェニルホスフィンと反応させＣＶＩ
）とする。ＣＶｆ）におけるリンを過酸化水素にて酸化
し、次いでロジウム触媒にてベンゼン環を接触還元して
〔■〕を得る。これにメタンスルホニルクロリドを反応
させた後、クロロジフェニルホスフィンを用いて（ＩＸ
）を得る。［：ＩＸ）から各種の（１］又は〔ド〕で表
わされるピロリジン化合物が得られる。例えば、（ＩＸ
）をトリクロロシランで還元することによりＭＳＣＰＭ
が得られ、また、（ＩＸ）を４８％臭化水素酸で処理し
て（Ｘ）とした後、トリクロロシランで還元するとＣＰ
Ｍが得られる。このＣＰＭに、更にカルボン酸のハロゲ
ン化物又は無水物又はイソシアネートを作用せしめるこ
とにより容易に各種の〔Ｉ〕を得ることができる。〔■
′〕はＤ−４−ヒドロキシプロリンを出発原料として同
様の方法で製造することができる。
スキーム２について説明すると、Ｌ−４−ヒドロキソプ
ロリンよりＪ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、、４６巻２９５４頁
（１９８１年）に記載の方法に従い、アロー４−ヒドロ
キノ−Ｄ−プロリンエチルエステル塩酸塩を合成する。
これをメタンスルホニルクロリドを用いて（２Ｒ，４１
Ｄ−Ｎ−メタンスルホニル−４−メタンスルホニルオキ
シプロリンエチルエステルとする。これをテトラエチル
アンモニウムアセテートと反応させ（２Ｒ，４３）−Ｎ
−メタンスルホニル−４−アセトキシプロリンエチルエ
ステル七する。これをリチウムアルミニウムヒドリドで
還元しく２Ｒ，４Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−ヒ
ドロキシ−２−ヒドロキシメチルピロリジン〔■′〕を
得る。
〔■′〕は匍述のスキーム１における（２Ｓ、　４１ｉ
）　−Ｎ−メタンスルホニル−４−ヒドロキシ−２−ヒ
ドロキシメチルピロリジンＣＩＶ）から〔ＩＸ）、（ｒ
）へと導びく反応と同様にしてｆ：ｌＸ”］、（ド〕へ
と導びくことができる。
以下に、本発明に係る化合物およびその製造例を示す。
各化合物の分析データは後記表２に示す。
例１　（ＭＳＣＰＭの製造） ａ）　　（２Ｓ、４Ｒ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−
ヒドロキシプロリンエチルエステル〔ＩＩＩ〕の製法 （２Ｓ、４Ｒ）−４−ヒドロキシプロリンエチルエステ
ル塩酸塩１９．５６９（０，１モル）をピリジン２００
Ｈに入れ撹拌し、水冷下メタンスルホニルクロリド１２
．０３９（０，１０５モル）をゆっくり滴下する。水冷
下６時間撹拌した後室温で一夜撹拌する。ピリジンを減
圧下で留去した後、水冷下１０％塩酸を加え、酢酸エチ
ル２００綬で３回抽出する。抽出した酢酸エチル部は飽
和食塩水４０頬で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する６
減圧濃縮し乾燥する。１８．７ｇ（７８，９％）融点１
１１〜１１３°Ｃ１酢酸エチルで再結晶すると融点１１
８〜１２０℃である。
ｂ）　　（２Ｓ、４Ｒ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−
ヒドロキシ−２−ヒドロキシメチルピロリジン（ＩＶ）
の製造 リチウムアルミニウムヒドリド３．９８９（０，１０５
モル）をテトラヒドロフラン３６０ｄに加え撹拌する。
これにテトラヒドロフラン２　ｏ　ｏ　ｚ（に（２Ｓ、
４Ｒ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−ヒドロキシプロリ
ンエチルエステル（Ｉｎ　〕１６．６９（０，０７モル
）を溶解した液を水冷下にゆっくり滴下する。
この懸濁液をＯ℃３時間、次いで室温で３時間撹拌後、
水冷下水１４ａ＋ｆ２を少量ずつ滴下し３０分撹拌する
。不溶物を除去し減圧ａ縮乾固し、油状物１１．９ｙ　
（８７％）を得る。
ｃ）　　（２Ｓ、４Ｒ）−Ｎ−メタンスルホニル−２−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル＝４−メ
タンスルホニルオキシピロリジンＣｖ）の製造 （２Ｓ、　４Ｒ）　−Ｎ−メタンスルホニル−４−ヒド
ロキノ−２−ヒドロキシメチルピロリジン（ＩＶ〕？’
、８１ｇ（０，０４モル）、４−ジメチルアミノピリジ
ン１９５ＩＩ＋９（１，６ミリモル）、トリエチルアミ
ン４．８６９（０’、０４８モル）をテトラヒドロフラ
ンＬ　６０　ｍＱに加え、撹拌する。これにｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルクロリド６．８３９（０，０４４
モル）を加え、室温で一夜撹拌する。減圧濃縮後、残留
物に水４０頭を加え、酢酸エチル１２０　ｘＱで３回抽
出後、飽和食塩水４０ｘｆ２で洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮乾固する。これをピリジンｌｏｏｍ
（に溶かし水冷下撹拌しながらメタンスルホニルクロリ
ド５．０５９Ｃ０，０４４モル）をゆ・つくり滴下する
。室温で一夜放置した後水冷下、１０％塩酸４００ｚ（
！を加え、酢酸エチル１５０Ｊ１１２で３回抽出する。
水１５０　ｄ、飽和炭酸水素ナトリウム７５２Ｑ、飽和
食塩水７５雇で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧ａ１轟乾固し、油状物１２．５６９（８１％）イソプ
ロピルエーテルとｎ−ヘキサンの混合溶媒より結晶化す
ればｍ、ｐ。
５１．５〜５２５℃の結晶が得られる。〔α詰−−２８
．５７°（ｃ＝　ｌ　、　ＥｔＯＨ）ｄ）　　（２Ｓ、
４Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−２−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシメチル＝４−ノフェニルホスフイ
ノピロリジン（Ｖｌ）の製造 クロロジフェニルホスフィン１１．３９９（０，０５２
モル）とナトリウム２．６９（０，１１４モル）をジオ
キサン１５０　ｍ１２に加える。窒素雰囲気で４時間還
流させる。放冷後、テトラヒドロフラン５０１Ｃを加え
、水冷下テトラヒドロフランｌ　００　ｘＱに（２Ｓ、
４Ｒ）−Ｎ−メタンスルホニル−２−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシメチル−４−メタンスルホニルオ
キシピロリジン（Ｖ　）１０．４５９　（０，０２７モ
ル）を溶かした液を空気が入らない様にして滴下する。
窒素雰囲気で、０℃、２時間、次いで室温で一夜撹拌し
た後不溶物を除去する。減圧濃縮しシリカゲルクロマト
で精製する。油状物７．９３ｇ（６２％） ｅ）　　（２Ｓ、４Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−
ジ、フェニルホスフィニル−２−ヒドロキシメチルピロ
リジン〔■〕の製造 ）り／−）１．．１８０１１２＋、：（２Ｓ、４Ｓ）−
Ｎ−メタンスルホニル−２−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリルオキシメチル−４−ジフェニルホスフィノピロリ
ジン（Ｖｌ　）８．３９９（０，０Ｌ７６モル）を溶か
し、水冷下１０％過酸化水素１１．８５ｇ（０，０３４
８モル）を滴下する。０℃１時間次いで室温１時間撹拌
後、３５％塩酸８．６ｇ、水５２．７９、メタノール３
８．７９の混合液をゆっくり滴下する。室温で２時間撹
拌後、不溶物を除去し減圧濃縮する。濃縮物を水５０ｘ
１２に溶かし、メチレンクロリド１００３１１２で３回
抽出後、飽和炭酸水素ナトリウムで洗浄し硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。減圧濃縮後白色の結晶を得る。エタノ
ール−イソプロピルエーテルの混合溶媒で再結晶する。
５．３ｇ（８０％）融点１３８〜１３９℃ ｆ）　　（２Ｓ、４Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−
ジシクロへキシルホスフィニル−２−ヒドロキシメチル
ピロリジン〔■〕の製造 オートクレーブに（２Ｓ、４Ｓ）　　Ｎ−メタンスルホ
ニル−４−ジフェニルホスフィニル−２−ヒドロキシメ
チルピロリジン〔■）Ｌ、７０ｇ（４，５ミリモル）と
５％Ｒｈ／　Ａ（！ｔｏｓ　８５０　ｍｇをメタノール
２０１１２に加え、１５０℃、水素圧１５０気圧で２日
間撹拌する。反応液は精密濾過し、濾液を濃縮後、シリ
カゲルクロマト（溶媒エタノール）にかけ有機溶媒に溶
けない部分と分離する。溶出液は減圧濃縮後乾固する。
結晶１．５０９（８４％）が得られる。
ｇ）　　（２Ｓ、４Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−
シクロへキシルホスフィニル−２−ジフェニルホスフィ
ニルメチルピロリジン（ＩＸ）の製造 （２Ｓ、４Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−ジシクロ
へキシルホスフィニル−２−ヒドロキシメチルピロリジ
ン〔■）１．４ｇ（３，６ミリモル）をピリジン２０顧
に溶かし水冷下、メタンスルホニルクロリド０．８２１
ｉ’（７，２ミリモル）を滴下する。０℃で３時間次い
で室温で一夜撹拌した後水冷下にｌＯ％ＨＣＱ７０ｚＱ
を加える。これを酢酸エチル８０顧で３回抽出後、飽和
炭酸水素ナトリウム水３０綬、水３０ｍＱで洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。減圧濃縮し白色結晶１．２
４９（７４％）ヲ得る。次にクロロジフェニルホスフィ
ン１．８８？（８，５２ミリモル）と金属ナトリウム３
９２β９　（１７，０４ミリモル）をジオキサン２０ｍ
１に加え、窒素雰囲気で３時間還流する。放冷後、テト
ラヒドロフラン２０祿を加え、−２０〜−３０℃でジメ
チルホルムアミド２０Ｊ！１２に先に得た結晶（２Ｓ、
４Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−ジシクロへキシル
ホスフィニル−２−メタンスルホニルオキシメチルピロ
リジンを溶かした液を空気が入らない様にして滴下する
。窒素雰囲気で−２０〜−３０℃−夜撹拌後、不溶物を
除去し減圧濃縮する。酢酸エチル５０蛯で３回抽出後、
水５０綬で洗浄し、減圧濃縮する。次いで１０％過酸化
水素２．４５９Ｃ１，２ミリモル）を用い製造例１のｅ
）と同様にして操作を行い結晶を得る。９８２　ＪＩ９
（８０％） ｈ）　　（２Ｓ、４Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−
ジシクロへキシルホスフィノ−２−ジフェニルホスフィ
ノメチルピロリジン（ＭＳＣＰＭ）の製造 （２Ｓ、４Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−ジシクロ
ホスフィニル−２−ジフェニルホスフィニルメチルピロ
リジン（ＩＸ　）　１１５　ｘｇ　（０，２ミリモル）
とトリエチルアミン８５２９（０，８４ミリモル）をア
セトニトリル８　ｘＱに溶かし、充分に窒素置換を行う
。水冷下アセトニトリル２　ｘ（ｌに溶かしたトリクロ
ロシラン１０８１０８ｌ、８ミリモル）を滴下する。
３時間還流後、反応液を室温に戻し減圧ａ縮する。得ら
れた生成物をベンゼン１５祿に溶かし水冷下３０％苛性
ソーダｌＯＪ！１２を加え、窒素下に５０〜６０℃で３
０分撹拌する。ベンゼン層を分岐し、更に水層をベンゼ
ン１０Ｍ（！で抽出する。ベンゼン層は合せて１０ｄの
水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧ａ縮する
。残留物にエタノール−ｎ−ヘキサンを加えて結晶化さ
せる。８７ｚ９（８０％）融点１３９〜１４２℃〔α〕
。＝　−５７，９°　（ｃ＝　１．０、ベンゼン）ＩＲ
；　１３４３ｃｚ−’（Ｓｏｔ）、　１１５０ｃ！Ｍ−
’（Ｓｏｗ）ＮＭＲ（ＣＤＣｆ２３）　、δ ０．８３−１゜９ｓ（２２ｎ、ｍ、（ｃｓｕ＋１）ｔ）
１．９７　２．４８（３Ｈ，ｍ、ＣＣＨｚＣ，ＣＨ，ａ
ＨｂＰ、Ｈａ又はＨｂ）２．７６（３Ｈ，ｓ、５０２Ｃ
Ｈｔ） ２．９Ｏ−３Ｊ６（２Ｈ，ｍ、Ｈ，又はＨｂ、ＣＨｃ！
（、Ｎ　１１．、又はＨ，）３．４４−４．０４（２Ｈ
，ｍ、Ｈｃ又はＨｄ、ＮＣ１１）？、１２　７．６４（
ＩＯＨ，ｍ’、（ＣｓＨｓ）ｔ）例２　（ＣＰＭの製造
） ａ）　　（２Ｓ、４Ｓ）−４−ジシクロへキシルホスフ
ィニル−２−ジフェニルホスフィニルメチルピロリジン
〔Ｘ〕の製造 （２Ｓ、４Ｓ）　　Ｎ−メタンスルホニル−４−ジシク
ロへキシルホスフィニル−２−ジフェニルホスフィニル
メチルピロリジン（ｌＸＥ３５０＋ｙ、フェノール７０
０　Ｎ、４８％臭化水素酸５．３祿を混合溶解し、窒素
雰囲気で８〜ＩＯ時間還流する。反応終了後、３０％苛
性ソーダでアルカリ性とし、酢酸エチル２０綬で３回抽
出する。水２０綬、飽和食塩水２０祿で洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥し減圧濃縮する。シリカゲルクロマト
で精製し結晶を得る。１９６ｚ９（６５％）ｂ）　　（
２Ｓ、４Ｓ）−４−シンクロへキシルホスフィノ−２−
ジフェニルホスフィノメチルピロリジン（ＣＰＭ）の製
造 （２Ｓ、４Ｓ）−４−シンクロへキシルホスフィニル−
２−ジフェニルホスフィニルメチルピロリノン〔Ｘ〕５
０πｇ（０１ミリモル）とトリエチルアミン４２ａｇ（
０，４２ミリモル）をアセトニトリル４．７１７２に溶
かし充分に窒素置換を行う。水冷下、トリクロロシラン
５４ｍｇ（０，４ミリモル）をアセトニトリルＩ　ｘ（
ｌに溶かし滴下する。３時間還流後、低温で減圧濃縮す
る。生成物をベンゼン１５１Ｑに溶かし水冷下３０％苛
性ソーダｌＯｄを加え、窒素雰囲気で５０〜６０℃で３
０分撹拌する。
ベンゼン層を分岐し、更に水層をベンゼン１Ｏｘ（ｌで
抽出する。ベンゼン層は合せて１０ｏ２の水で洗浄後、
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し、生成物４４２
９（９５％）を得る。
例３ （２Ｓ、　４Ｓ）　−Ｎ−フェニルカルバモイル−４−
ジシクロへキシルホスフィノ−２−ジフェニルホスフィ
ノメチルピロリジン（ＰＣＣＰＭ）の製造例２で得たＣ
ＰＭ　４６η（０，１ミリモル）をメチレンクロリド１
　ｔｔｔＱに溶かす。これにメチレンクロリド２戚に溶
解したフェニルイソシアネート１３　ＪＩ９（０，１１
ミリモル）を滴下し窒素雰囲気で室温で２〜３時間撹拌
する。反応液を減圧濃縮し白色結晶を得る。５０Ｊ！９
（８６％）例４ （２Ｓ、　４Ｓ）　−Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニル−４−ジシクロへキシルホスフィノ−２−ジフェニ
ルホスフィノメチルピロリジン（ＢＣＰＭ）の製造 例３において、フェニルイソシアネートの代りにトリエ
チルアミンｌｉｍｇ（０，１１ミリモル）とメチレンク
ロライド２．ｔｔｒ（ｌに溶かしたジターシャリブチル
ジカーボネート２４ｘ９（０，１１ミリモル）を用い、
他は同様の操作を行って白色結晶を得る。４８ａｖ９（
８５％） 例５ （２Ｓ、４Ｓ）−Ｎ〜ルアセチル４−ジシクロ・＼キシ
ルポスフイノー２−ノフェニルホスフイノメチルビロリ
ンン（ＡＣＰＭ）の製造 例３において、フェニルイソシアネートの代りに、トリ
エチルアミン２２　ｖｔｇ（０，２２ミリモル）と無水
酢酸１１　ｍｇ（０，ｌｌミリモル）を用い、他は同様
の操作を行って白色結晶を得る。４５ｘ９（８８％） 例６ （２３，４Ｓ）−Ｎ−メトキシカルボニル−４−ジシク
ロへキンルホスフイノ〜２−ジフェニルポスフイノメチ
ルピロリジン（ＭＣＰＭ）の製造例３において、フェニ
ルイソシアネートの代りに、トリエチルアミン２４　ｍ
ｇ（０，２４ミリモル）、クロル炭酸メチルエステルｌ
　ｌ　ｍＷ　（０，１２ミリモル）を用い、他は同様の
操作を行って白色結晶を得る。４３肩９（８３％） 例７ （２Ｓ、　４Ｓ）　−Ｎ−メチルカルバモイル−４−ツ
ノクロへキン用ホスフィノ−２−ジフェニルホスフィノ
メチルピロリジン（ＭＣＣＰＭ）の製造（２Ｓ、　４Ｓ
）　−４−ジシクロへキシルホスフィニル−２−ジフェ
ニルホスフィニルメチル−ピロリジン３００ｍｇ（０，
６０ミリモル）、を例２−ｂ）と同様に反応、後処理を
行いＣＰＭを得る。これをメチレンクロリド８　ｍＱに
溶解し、水冷下メチルイソシアネー）−３８ｍ９（０，
６６ミリモル）をゆっくり滴下する。アルゴン気流下室
温で２時間撹拌した。
反応液を低温で減圧ａ縮後、乾燥した。生成物をメタノ
ールで再結晶し白色結晶のＭＣＣＰＭを２９２仄９得た
。（収率９６％） 例８ （２Ｓ、　４Ｓ）　−Ｎ−フェノキシカルボニル−４−
ジシクロへキシルホスフィノ−２−ジフェニルホスフィ
ノメチルピロリジン（ＰＣＰＭ）の製造例７と同様にし
て得たＣＰＭをベンゼン８顧に溶解し、トリエチルアミ
ン１４６；ｘｇ　（１，３９ミリモル）を加える。水冷
下、クロル炭酸フェニル１０３　ＪＩ９　（０，６６ミ
リモル）をゆっくり滴下する。
滴下後室温で２時間撹拌する。重曹水で洗浄、ＭｇＳＯ
４で乾燥した後濃縮乾固し、生成物を工、タノールで再
結晶すると黄白色結晶のＰＣＰＭ２５２ｍｇ（７２％）
を得た。
例９ （２Ｓ、４Ｓ）　　Ｎ−ベンゾイル−４７ジシクロへキ
シルホスフィノ−２−ジフェニルホスフィノメチルピロ
リジン（ＢＺＣＰＭ）の製造 例８においてクロル炭酸フェニルの代わりに塩化ベンゾ
イルを用い他は同様の操作を行って、生成物をエタノー
ルで再結晶すると白色結晶のＢＺＣＰＭ　２８１　ｕ９
（８２％）を得た。
例１０ （２Ｓ、　４Ｓ）　−Ｎ−ピバロイル−４−ジシクロへ
キシルホスフィノ−２−ジフェニルホスフィノメチルピ
ロリノン（ＰＶＣＰＭ）の製造 、例８においてクロル炭酸エチルの代わりに塩化ピバロ
イル８０ｍｇ（０，６６ミリモル）を用い他は同様の操
作を行い、生成物をエタノールで再結晶すると白色結晶
のＰＶＣＰＭ　　２７１ｘｙを得た。（８２％） 例１１ （２Ｓ、　４Ｓ）　−Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモ
イル−４−ジシクロへキシルホスフィノ−２−ジフェニ
ルホスフィノメチルピロリジン（ＢＣＣＰＭ）の製造例
７において、メチルイソンアネートの代りにｔｅｒｔ−
プチルイソンアネートを用い、他は同様の操作を行い、
生成物をエタノールで再結晶すると白色結晶のＢＣＣＰ
ＮＩ　２４０　ｙｔ９（７１％）を得た。
例１２ （２Ｒ，４Ｒ）　−Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル−４−ジシクロへキノルホスフイノー２−ジフェニル
ホスフィノメチルピロリジン（Ｒ−ＢＣＰＭ）の製造 Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、、　４６２９５４（１９８１）
に記載の方法で製造したアロー４−ヒドロキン−Ｄ−プ
ロリンエチルエステル塩酸塩１１．７４ｇ（０，０６モ
ル）をピリジン１２０ｚＱに入れ撹拌し、水冷下、これ
に、メタンスルホニルクロリド１７．２９　（０，１５
モル）をゆっくり滴下する。室温で一夜撹拌する。ピリ
ジンを減圧下で留去した後水冷下にｌＯか塩酸を加え、
酢酸エチル１２０　：ｐＱで３回抽出する。
抽出した酢酸エチル部を飽和食塩水で洗い硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧濃縮し、（２Ｒ９４Ｒ）−Ｎ−
メタンスルホニル−４−メタンスルホニルオキシプロリ
ンエチルエステルのシラツブ１８．２６９を得た。これ
を、テトラエチルアンモニウムアセテート・４水塩１７
．３ｇ（０，０６６モル）をベンゼン１５０　ｄに加え
水分離装置を付けて一夜還流煮沸した溶液中に加える。
還流煮沸を１時間行った後。冷却する。反応生成物に酢
酸エチルｌ　５０　ｍＱおよび水６０綬を加え、分液す
る。
酢酸エチル部を、飽和食塩水で洗い硫酸マグネシウムで
乾燥した後、減圧濃縮しシラツブを得る。これをシリカ
ゲル３００９、酢酸エチル／ベンゼン＝ｌ／４〜１／２
にてカラムクロマト精製を行い、（２Ｒ，４Ｓ）−Ｎ−
メタンスルホニル−１１−アセトキシプロリンエチルエ
ステルのシラツブ１１．９７ｇを得た。これをＴＩ（Ｆ
　１００　ｍ（ｌに溶解し、ＴＨＦ５００＋ｖρに窒素
雰囲気下で０°Ｃで水素化リチウムアルミニウム４．０
７９（０，１０７モル）を加えた懸濁液中に滴下する。
水冷下３時間、室温で３時間撹拌した後、再び水冷し水
２０靜を滴下する。室温で３０分撹拌した後、不溶物を
除去し減圧濃縮し、（２Ｒ，４Ｓ）　　Ｎ−メタンスル
ホニル−４−ヒドロキシ−２−ヒドロキソメチルピロリ
ジン〔■′〕のシラツブ８．４３９を得た。これを用い
、例１のＣ）、と同様に反応を行い、（２Ｒ，４Ｓ）−
Ｎ−メタンスルホニル−２−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリルオキツメチル−４−メタンスルホニルオキンピロ
リジン〔Ｖ′〕結晶を得た。ｍ、ｐ、　５５〜５６５℃
、〔α席＝　＋　２５．８°（ｃ　＝　ｌ　。
ＥｔＯＨ） 化合物（Ｖ′〕１１．６３９（０，０３モル）を用い、
例１のｄ）、ｅ）、ｆ）、ｇ）、と同様に操作を行い（
２Ｒ，４Ｒ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−ジノクロへ
キノルナスフイニル−２−ジフエニルホメフイニルメチ
ルピロリジン〔ＩＸ′〕の結晶７．５１９（０，０１３
モル）を得た。
（２Ｒ，４Ｒ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−ジシクロ
へキシルホスフィニル−２−ノフェニルホスフイニルメ
チルピロリジンＣｆＸ’）２００ｘｇを用いて、例２、
例４と同様に操作を行い（２Ｒ，４Ｒ）−Ｎ　−ｔｅｒ
ｔ−ブトキンカルボニル−４−ジシクロへキシルホスフ
ィノ−２−ジフェニルホスフィノメチルピロリジン（Ｒ
−ＢＣＰＭ）の結晶を得た。
ｍ、ｐ、　１７４〜１７７℃、（ａ　）’、’　＝　＋
　３８．９°（ｃ　＝　１　、ベンゼン） 以下に本発明に係る光学活性なホスフィノピロリジン化
合物を配位子として用いた不斉水素化反応に関する参考
例を掲げる。
参考例　ｌ ケトパントラクトンの不斉接触還元 テトラヒドロフラン５０ｍ＋２中にケトパントラクトン
Ｌ２．８９　（１００ミリモル）、ロジウム−１，５−
シクロオクタジエン−クロル錯化合物１ｊ！９（０，０
０２５ミリモル）と製造例４で得られた（２Ｓ、４Ｓ）
−Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ジシクロ
へキシルホスフィノ−２−ジフェニルホスフィノメチル
ピロリジン（ＢＣＰＭ）３．１ｙ　（０，００５５ミリ
モル）を加え、オートクレーブに入れる。水素気流中、
初圧５０気圧、室温で撹拌振盪する。
反応終了後溶媒を留去した後、生成したＤ−バントラク
トンを減圧蒸留にて得る。１２．６ｙ（９７％）〔α〕
。＝　−４８，１°（不斉収率９４．３％）参考例　２ ケトパントラクトンの不斉接触還元 ベンゼン５０ａ＋ｄ中にケトパントラクトン１２．８　
。
（９６，２％）Ｃａ　〕、＝　＋　１０．５’　（’：
Ｘ　Ｍ　Ｒｍ　Ｒ７’Ｋ　）９　（１００ミリモル）、
ロジウム−１，５−へキサジエン−クロル錯化合物１　
ｍｇ　（０，００２５ミリモル）と製造例１−ｈ）で得
られた（２Ｓ、４Ｓ）−Ｎ−メタンスルホニル−４−ジ
シクロへキシルホスフィノ−２−ジフェニルホスフィノ
メチルピロリジン（ＭＳＣＰＭ）３．０ｍｇ（０，００
５５ミ’Ｊ　−ｆ−ル）を加エテ、オートクレーブに入
れる。以後実施例１と同様に操作し、Ｄ−パントラクト
ン１２．４ｇ（９５％）を得た。
〔α）、＝−４２，１°（不斉収率８２．５％）　　　
′参考例　３ ピルビン酸プロピルエステルの不斉還元反応ベンゼン５
０ｄにピルビン酸プロピルエステルｔ３．ｏｇ（１００
ミリモル）、ロジウム−１，５−シクロオクタジエン−
クロル錯体１　ｍｇと製造例４で得られた（２Ｓ、４Ｓ
）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトオキシカルボニル−４−ジシク
ロへキシルホスフィノ−２−ジフェニルホスフィノメチ
ルピロリジン（’ＢＣＰＭ）３．１肩９　（０，００５
５ミリモル）を加え、オートクレーブに入れる。以後、
実施例１と同様に操作し、乳酸プロピルエステルを得た
。１２．７９特許出願人　　阿　知　波　　−雄 −８４：

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 又は ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ′） （式中、Ｒ＾１は、水素原子、−ＣＯ−Ｒ′、−ＣＯＯ
    Ｒ″、−ＣＯＮＨＲ′″又は−ＳＯ＿２−Ｒ″″−であ
    り、Ｒ′、Ｒ″、Ｒ′″およびＲ″″は、それぞれアル
    キル基又はアリール基を表わし、Ｒ＾２およびＲ＾３は
    、それぞれ、置換基を有することのある同一もしくは異
    なった芳香族の基であり、Ｒ＾４およびＲ＾５は、それ
    ぞれ、置換基を有することのある同一もしくは異なった
    脂肪族又は脂環式の炭化水素基である） で表わされるホスライタピロリジン化合物。 ２）前記一般式（ I ）又は（ I ′）において、Ｒ＾２
    、Ｒ＾３が置換基を有することのあるフェニル基であり
    、Ｒ＾４、Ｒ＾５が置換基を有することのあるシクロヘ
    キシル基である特許請求の範囲第１項記載のホスフイノ
    ピロリジン化合物。 ３）前記一般式（ I ）又は（ I ′）において、Ｒ＾２
    、Ｒ＾３がフェニル基であり、Ｒ＾４、Ｒ＾５がシクロ
    ヘキシル基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。
JP62052177A 1986-06-25 1987-03-09 新規なホスフイノピロリジン化合物 Pending JPS635094A (ja)

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DE8787109039T DE3783084T2 (de) 1986-06-25 1987-06-24 Chirale phosphinopyrrolidin-verbindungen und ihre verwendung fuer asymetrische synthese optisch aktiver verbindungen.
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ES87109039T ES2052515T3 (es) 1986-06-25 1987-06-24 Nuevos compuestos quirales de fosfinopirrolidina y su uso para sintesis asimetrica de compuestos opticamente activos.
US07/066,251 US4879389A (en) 1986-06-25 1987-06-25 Chiral phosphinopyrrolidine compounds and their use for asymmetric synthesis of optically active compounds
CA000540560A CA1337298C (en) 1986-06-25 1987-06-25 Chiral phosphinopyrrolidine compounds and their use for asymmetric synthesis of optically active compounds
KR1019870006988A KR890004125B1 (ko) 1987-03-09 1987-07-01 신규한 포스피노 피롤리딘 화합물

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JPH02131493A (ja) * 1988-11-11 1990-05-21 Fuji Yakuhin Kogyo Kk 新規なホスフィノピロリジン化合物およびそれを用いる不斉合成法

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