JPS6348704A - 導電被膜形成用組成物 - Google Patents

導電被膜形成用組成物

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Publication number
JPS6348704A
JPS6348704A JP19197986A JP19197986A JPS6348704A JP S6348704 A JPS6348704 A JP S6348704A JP 19197986 A JP19197986 A JP 19197986A JP 19197986 A JP19197986 A JP 19197986A JP S6348704 A JPS6348704 A JP S6348704A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
composition
conductive film
weight
alumina substrate
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP19197986A
Other languages
English (en)
Inventor
関原 修
関谷 茂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Publication of JPS6348704A publication Critical patent/JPS6348704A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/10251Elemental semiconductors, i.e. Group IV
    • H01L2924/10253Silicon [Si]

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はアルミナ基板との接合力が1′■nたSiチッ
プ接合用の導電被膜を形成するためのペースト組成物に
関する。
〔従来の技術: シリコン半可体素子(以下Siチップという)をアルミ
ナ基板に固着する場合、該アルミナ基板上の所望の個所
に予めメタライズ層が形成されている必要がある。この
メタライズ層の形成用に従来、金、銀、白金、パラジウ
ム等を少なくとも1種、金属粉又は合金粉で80〜95
重t%と、軟化点430〜600℃、熱膨張係数40〜
100XIO−’/℃程度の硼珪酸鉛系ガラス粉末5〜
20重n%とを有機質ビヒクルと共に混練したペースト
m酸物が用いられてきた。この組成物をアルミナ基板に
塗布し、750〜950°Cで焼成すれば、上記ガラス
粉末が熔融して一体化すると共にその一部がアルミナ基
板の表面の凹凸に入り込み(これをアンカー効果と称す
る)、一方貴金属粒子同志は焼結し、これを冷却すれば
導電被膜がガラス層を介してアルミナ基板に固着した状
Cのメタライズ層が形成される。
この導電被膜上にSiチップがろう材を介して(該被膜
が金である場合はろう材を用いないこともある〉接合さ
れるのであるが、従来の組成物による被膜についてSi
チップの剥離試験を行なうと、アルミナ基板とガラス層
の間で剥離することがあった。このような剥離はSiチ
ップ接合の信頼性の点から好ましくなく、アルミナ基板
とガラス層の接合力を更に改善することが要請されてい
た。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的は、アルミナ基板に対する接合力が優れた
Siチップ接合用の導電被膜を形成するための組成物を
提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
この目的を達成するため本発明の組成物は、ガラス粉末
として、PbOを61〜64重量%、ZnOを5〜22
重世%、B20.を10〜17重量%含有し、5iOz
をPbOZnOz重量比で7〜17、ZnO/SiO2
重量比で2.5〜4.5となるように含有するものを用
いた点に特徴がある。
〔作 用〕
ZnOはガラスに溶解し得ると共に、アルミナ(A12
03)と反応してスピネル構造のZnA e zOaを
生成するので、ガラス層とアルミナ基板との接合力を改
善できると考えられている。しかしながらZnOは貴金
属、ガラスに比べて比重が小さく、単独でペースト中に
添加すると焼成の過程で被膜の上方に集り易<、基板と
ガラス層との接合力の改善に有効に作用しないだけでな
く、s+チップの接合を妨げる原因になる。このためZ
nOはガラス中に溶解含有せしめることとした。このガ
ラス組成はPbOZnOB2O25iOzを主成分とす
る。pb。
はガラスの比重をある程度大きくするため、B2O3は
ガラス化を容易にするために用いられるが、PbO及び
B2O3があまり多いとガラスの軟化点が低下し過ぎて
流動性が高くなり過ぎ、又、少な過ぎると軟化点が高く
なって流動性が不足する。このためPbO,BzO:+
をそれぞれ61〜64重量%、10〜17重量%の範囲
にする必要がある。ZnOは5重量%未満ではアルミナ
基板との接合や改善の効果があまり無く、22重量ン6
を超えると安定したガラスにならないので5〜22重四
%とする必要がある。
5iOzはガラスを安定化するために必要であるが、P
bO,B2o、に対する比が大きくなると軟化点が間く
なり、流動性が低下してアルミナ基板に対する固着力が
低下する。又、5iOzはZnOと結合し易いので、S
iO□の含有率が少ない場合ガラス形成成分として有効
に機能せず、PbO,B2O3に対する比が実質上極め
て小さいものとなって流動性が高くなり過ぎ、導電被膜
上にシミ出してチップ付性を悪化する。このため5iO
z含有率を一驚範囲にする必要があり、実験の結果Pb
O/5iOz重量比で7〜17、ZnO/SiO2重量
比で2.5〜4.5とすれば良いことが判明した。
本発明に用いるガラス粉末は上記のようにPbOZnO
Bz03SiOzを主成分とするが、このガラス中にF
ezO:1. Ti0z、 Zr0z、 A l zO
s等の酸化物を1種以上合計で10重量%以内の範囲で
添加しても差し支えない。
〔実施例」 ガラス形成成分を第1表に示す割合で調合し、熔融汲水
中に投入して破砕し、次いでボールミルで200メツシ
ユ以下に粉砕し、ペーストに使用した。ペーストは、貴
金属粉又はその合金粉と上記ガラス粉末を所定の81合
で調合し、エチルセルローズのターピネオール溶液と共
に混練して調製した。該ペーストを1インチ角のアルミ
ナ基板の中央部に5 mm角のパターンでスクリーン印
刷し、乾燥後ピーク温度900℃、ピーク時間8分、全
焼成サイクル60分のベルト式焼成炉を用いて焼成し、
焼成導電被膜にSiチップを接合し、接合後Q1離試験
を行ない適否を判定した。ペースト中の固形分の調合割
合、焼成膜の特性、判定結果を第2表にまとめて示す。
試験方法、判定基準は以下の通りである。
21鹿角、厚さ0.3 xmのSiチップをダイボンダ
ーにより厚さ0.03 重量のAu  Si共共合台金
う材を介して焼成膜上に一定条件で接合した後、NIL
 5TD883B 、試験方法1011、試験条件Aに
従って熱衝撃試験を行なった。次いでSiチップの1辺
に横方向から治具で力を加え、Siチップを剥離乃至破
壊せしめる剥離試験を行なった。剥離乃至破壊後、剥離
面を観察し、試供品50個についてアルミナ基板が露出
している数を調べ、この露出の数が1個以上あれば否と
判定した。
第2表かちペースト嵐1〜3は何れもアルミナ基板に強
固に接合するが、寛9はSiO□が多過ぎてガラスの流
動性が低く、アンカー効果が充分発揮されないために接
合力が弱く、潤10は流動性は充分であるがZnOが幾
分少ないために接合力が未だ充分でないことが分る。又
、障11はSiチップが焼成膜面から剥離したことから
見て、SiO□が少な過き゛てガラスの流動性が増し、
焼成股上にガラスがかなりシミ出したためと准ff1l
Jされる。
〔発明の効果〕
本発明の組成物によればアルミナ基板に強固に固着した
導電被膜が得られ、Siチップの接合の信転性向上に寄
与することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 金、銀、白金、パラジウム等の貴金属を少なくとも1種
    、単体粉末又は合金粉末として含有し、ガラス粉末と共
    に有機質ビヒクルに分散せしめた導電被膜形成用組成物
    において、前記ガラス粉末はPbOを61〜64重量%
    、ZnOを5〜22重量%、B_2O_3を10〜17
    重量%含有し、SiO_2をPbO/SiO_2重量比
    で7〜17、ZnO/SiO_2重量比で2.5〜4.
    5となるように含有することを特徴とする導電被膜形成
    用組成物。
JP19197986A 1986-08-19 1986-08-19 導電被膜形成用組成物 Withdrawn JPS6348704A (ja)

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JPS6348704A true JPS6348704A (ja) 1988-03-01

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JP (1) JPS6348704A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0322306A (ja) * 1989-06-19 1991-01-30 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 接着性良好な金属ペースト
US5673809A (en) * 1994-02-23 1997-10-07 Japan Crown Cork Co., Ltd. Container closure with a plastic liner having projections extending into depressions in the plastic shell

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0322306A (ja) * 1989-06-19 1991-01-30 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 接着性良好な金属ペースト
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